JP5221375B2 - マイクロレンズアレイ及び原型を作製する方法 - Google Patents
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Description
(a)光反応性組成物を提供する工程であって、前記光反応性組成物が
(1)酸又はラジカル開始化学反応を受けることが可能な少なくとも1つの反応性種及び
(2)少なくとも1つの多光子光開始剤系を含む工程と
(b)少なくとも前記組成物の一部を少なくとも2つの光子を同時に吸収させるのに十分な光に撮像的に暴露することにより少なくとも1つの酸又はラジカル開始化学反応を誘導する工程であって、前記組成物が、前記光に曝露され、前記撮像的暴露が、複数個のマイクロレンズの少なくとも表面を画定するのに有効なパターンで行われ、前記マイクロレンズのそれぞれが、主軸線及び焦点距離を有し、少なくとも1つのマイクロレンズが、非球形状である工程と、
(c)所望により、前記組成物の生じた暴露部分又は生じた非暴露部分を除くことにより前記組成物を現像する工程と、
(d)所望により、前記組成物の少なくとも一部を撮像的に暴露した後、前記組成物の少なくとも一部を任意の残りの未反応光反応性組成物の少なくとも一部の反応を行うのに十分な光に非撮像的に暴露する工程とを含む。
この特許出願で使用する時、
「アナモルフィック」(レンズに関して)は、レンズの主軸線と互いに直交する2つの方向の各々が異なる曲率半径を有する非球形状レンズを表し;
「非球形状」は、球形状以外又は円筒形状を表し;
「平均表面粗さ」は、マイクロレンズの実際の表面輪郭とその平均表面輪郭間の平均偏差を表わし;
「硬化」は、重合を行い及び/又は架橋を行うことを表し;
「電子励起状態」は、分子の電子基底状態よりエネルギーが高い分子の電子状態を表し、電磁線の吸収を介して利用でき、10−13秒を超える寿命を有し;
「曝露系」は、光学系に加えて光源を表し;
「フィルファクタ」(レンズアレイに関して)は、入射化学線を修正するアレイの面積の部分又は百分率を表し;
「f数」は、レンズの焦点距離とその直径の比率を表し;
「原型」は、複製用のツールを製造するために使用可能な当初製造された物品を表し;
「マイクロレンズ」は、約2ミリメートル未満の直径を有するレンズを表し;
「多光子吸収」は、2つ又はそれ以上の光子の同時吸収を表し、同じエネルギーの単一光子の吸収によりエネルギー的にアクセスできない反応性電子励起状態に到達する;
「開口数」は、レンズの直径とその焦点距離(又は1/f数)の比率を表し;
「光学系」は、光を制御するシステム、レンズなどの屈折光学素子、ミラーなどの反射光学素子及び回折格子などの回析光学素子から選択される少なくとも1つの要素を含むシステムを表し、光学素子は、拡散板、導波管及び光学技術で既知のその他の要素も含むこととする;
「光化学的有効量」(光開始剤系の構成成分の)は、選択された暴露条件下で(例えば、密度、粘度、色、pH、屈折率又はその他の物理的若しくは化学的特徴により明示されるような)反応性種が少なくとも部分的に反応を受けることが可能な十分な量を表わし;
「光増感剤」は、活性化のため光増感剤に必要なエネルギーより低いエネルギーの光を吸収し、光開始剤と相互作用してそれから光開始種を製造することにより光開始剤を活性化するのに必要なエネルギーを低下させる分子を表し、;
「主軸線」は、レンズのアペックスとその基部の中央を接続した直線を表し、主軸線は、それらが平行でない(むしろ交差又は歪んでいる)場合に異なり;
「たるみ」は、レンズの高さを表わし(及び本明細書では2つの用語が交換可能に使用される);
「同時に」は、10−14秒以下の時間内に生じる2つの事象を表わし、
「歪む」(直線又は主軸線に関して)は、交差又は平行以外であることを表し;
「十分な光」は、多光子吸収を行うのに十分な強度及び適切な波長の光を表し;並びに
「三次元光パターン」は、光学像を表し、そこでは、光エネルギーの分布は、体積又は多平面内に存在し、単一平面内には存在しない。
光反応性組成物に使用されるのに好適な反応性種としては、硬化性種及び非硬化性種の両方が挙げられる。硬化性種が、一般に好ましく、例えば付加重合モノマー類、オリゴマー類、及び付加架橋性ポリマー類(例えば、アクリレート類、メタクリレート類及びスチレン類などの特定のビニル化合物を含むフリーラジカル重合性又は架橋性エチレン性不飽和種など)並びにカチオン重合性モノマー類、オリゴマー類及びカチオン架橋性ポリマー類(その種は、最も一般的には酸で反応開始され、例えばエポキシ類、ビニルエーテル類、シアナートエステル類等が挙げられる)、その類及びそれらの混合物が挙げられる。
光開始剤系は、多光子光開始剤系であり、前記系を使用すると重合を光の集束ビームの焦点領域に制限又は限定できる。前記系は、好ましくは二又は三成分型系で、少なくとも1つの多光子光増感剤、少なくとも1つの光開始剤(又は電子受容体)及び所望により少なくとも1つの電子供与体を含む。そのような多成分型系は、強化増感性を付与でき、光反応を短期間で行うことが可能で、それにより試料及び/又は曝露系の1つ又はそれ以上の構成成分の移動による問題の可能性を減少させる。
光反応性組成物の多光子光開始剤系に使用されて好適な多光子光増感剤は、十分な光に暴露されたとき少なくとも2つの光子を同時に吸収できるものである。好ましくは、光増感剤は、フルオレセインよりもより大きい2光子吸収断面を有する(すなわち、3’,6’−ジヒドロキシスピロ[イソベンゾフラン−1(3H)、9’−[9H]キサンテン]3−オンのそれより大きい)。一般に、好ましい断面は、C.ズ(Xu)及びW.W.ウェブ(W. W. Webb)によりJ.Opt.Soc.Am.B、13巻、481頁(1996年)(それは、マーダー(Marder)及びペリー(Perry)によりPCT国際公開特許WO98/21521、85頁18〜22列に引用されている)に記載された方法で測定される約50×10−50cm4秒/光子を超えることができる。
光反応性組成物の多光子光開始剤系に有用な電子供与体化合物は、電子を光増感剤の電子励起状態に供与できるこれらの化合物(光増感剤自身以外)である。前記化合物は、所望により光開始剤系の多光子光増感性を増加させるために使用されてもよく、それにより光反応性組成物の光反応を行うのに必要な曝露を減少させる。電子供与体化合物は、好ましくはゼロを超え、p−ジメトキシベンゼンのそれ以下である酸化電位を有する。好ましくは、酸化電位は、標準飽和カロメル電極(「S.C.E.」)に対して約0.3と1ボルトの間である。
Ar3B−(n−C4H9)N+(C2H5)4
Ar3B−(n−C4H9)N+(CH3)4
Ar3B−(n−C4H9)N+(n−C4H9)4
Ar3B−(n−C4H9)Li+
Ar3B−(n−C4H9)N+(C6H13)4
Ar3B−−(C4H9)N+(CH3)3(CH2)2CO2(CH2)2CH3
Ar3B−−(C4H9)N+(CH3)3(CH2)2OCO(CH2)2CH3
Ar3B−−(sec−C4H9)N+(CH3)3(CH2)2CO2(CH2)2CH3
Ar3B−−(sec−C4H9)N+(C6H13)4
Ar3B−−(C4H9)N+(C8H17)4
Ar3B−−(C4H9)N+(CH3)4
(p−CH3O−C6H4)3B−(n−C4H9)N+(n−C4H9)4
Ar3B−−(C4H9)N+(CH3)3(CH2)2OH
ArB−(n−C4H9)3N+(CH3)4
ArB−(CH2H5)3N+(CH3)4
Ar2B−(n−C4H9)2N+(CH3)4
Ar3B−(C4H9)N+(C4H9)4
Ar4B−N+(C4H9)4
ArB−(CH3)3N+(CH3)4
(n−C4H9)4B−N+(CH3)4
Ar3B−(C4H9)P+(C4H9)4
(式中、Arは、フェニル、ナフチル、置換(好ましくは、フッ素置換)フェニル、置換ナフチル及び多数の縮合芳香環を有するその類の基)加えてテトラメチルアンモニウムn−ブチルトリフェニルホウ酸塩及びテトラブチルアンモニウムn−ヘキシル−トリス(3−フルオロフェニル)ホウ酸塩、並びにこれらの混合物が挙げられる。
光反応性組成物の反応性種に好適な光開始剤類(すなわち、電子受容体化合物)は、多光子光増感剤の電子励起状態から電子を受容することにより光増感され、少なくとも1つのフリーラジカル及び/又は酸を形成することができる。前記光開始剤類としては、ヨードニウム塩類(例えば、ジアリールヨードニウム塩類)、スルホニウム塩類(例えば、所望によりアルキル又はアルコキシ基で置換された及び所望によりアリール部分に隣接して架橋した2,2’オキシ基を有するトリアリールスルホニウム塩)、その類及びこれらの混合物が挙げられる。
トリフェニルスルホニウムテトラフルオロホウ酸塩
メチルジフェニルスルホニウムテトラフルオロホウ酸塩
ジメチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロリン酸塩
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロリン酸塩
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸塩
ジフェニルナフチルスルホニウムヘキサフルオロヒ酸塩
トリトリスルホニウムヘキサフルオロリン酸塩
アニシルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸塩
4−ブトキシフェニルスルホニウムテトラフルオロホウ酸塩
4−クロロフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロリン酸塩
トリ(4−フェノキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロリン酸塩
ジ(4−エトキシフェニル)メチルスルホニウムヘキサフルオロヒ酸塩
4−アセトニルフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロホウ酸塩
4−チオメトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロリン酸塩
ジ(メトキシスルフォニルフェニル)メチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸塩
ジ(ニトロフェニル)フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸塩
ジ(カルボメトキシフェニル)メチルスルホニウムヘキサフルオロリン酸塩
4−アセトアミドフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロホウ酸塩
ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロリン酸塩
トリフロオロメチルジフェニルスルホニウムテトラフルオロホウ酸塩
p−(フェニルチオフェニル)ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸塩
10−メチルフェノキサチイニウムヘキサフルオロリン酸塩
5−メチルチアントレニウムヘキサフルオロリン酸塩
10−フェニル−9,9−ジメチルチアントレニウムヘキサフルオロリン酸塩
10−フェニル−9−オキソチキサンテニウムテトラフルオロホウ酸塩
5−メチル−10−オキソチアントレニウムテトラフルオロホウ酸塩
5−メチル−10,10−ジオキソチアントレニウムヘキサフルオロリン酸塩が挙げられる。
反応性種、多光子光増感剤、電子供与体化合物及び光開始剤は、上記の方法又はその他の方法により調製でき、多くが、市販されている。これらの四成分型は、任意の順序及び方法の混合(所望によりかき回し又は攪拌により)を使用し「安全光」の条件下で混合されてもよいが、時として(貯蔵寿命及び熱安定性の観点から)光開始剤を最後(及び所望により他の構成成分の溶解を促進するために使用される全ての加熱工程の後)に添加するのが好ましい。所望により、溶媒が、組成物の構成成分と感知されるほどに反応しないように選択されるという条件で使用されてもよい。好適な溶媒としては、例えば、アセトン、ジクロロメタン及びアセトニトリルが挙げられる。反応性種自身も、時として他の構成成分の溶媒としての機能を果たすことができる。
発明の方法を実施するにあたり、光反応性組成物は、多光子吸収が行われる条件で光に暴露され、それにより暴露前の光反応性組成物と比べて異なる溶解度特性(例えば、特定の溶媒中でより小さい又はより大きい溶解度)の領域をもたらす。前記暴露は、十分な光の強度を得ることができる任意の既知の手段で達成できる。
発明の方法は、種々の寸法及び表面輪郭のマイクロレンズ(例えば、凸部及び凹部マイクロレンズの両方を含む)を備えるマイクロレンズアレイを柔軟に及び制御可能に提供するために使用することができる。しかし前記方法は、非球形状マイクロレンズ、比較的低f数を有するマイクロレンズのアレイ、高フィルファクタを有するマイクロレンズアレイ並びにアレイ全体にわたって主軸線及び/又は焦点距離が制御された空間変化を示すマイクロレンズアレイを提供するのに特に適切である場合がある。
「SR368」は、ペンシルベニア州エクストン(Exton)のサートマー社(Sartomer Co.,Inc.)から得られたトリス−(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレートを指す。
マイクロレンズアレイの製造
円形のシリコンウエファー(直径10.2cm(4インチ)、フロリダ州ウエストパームビーチ(West Palm Beach)のウエファーワールド社(Wafer World,Inc.)から入手)を、約10分間、濃硫酸と30重量%水性過酸化水素の3:1容量/容量(v/v)混合物に漬けることにより洗浄した。ウエファーを次に脱イオン水、続いてイソプロパノールですすぎ、その後、空気流下で乾燥した。次に、ウエファーを、酢酸で酸性(pH4〜5)にした190標準濃度エタノール中3−(トリメトキシシリル)プロピルメタクリレートの2重量%溶液に浸漬した。次に、ウエファーを無水エタノールですすぎ、続いて、130℃で10分間オーブン内で加熱した。
r2=a2x2+b2y2+c2z2 (1)
(式中、r=13.5、a=1、b=1.4及びc=0.66である)で記載することができる表面を有していた。もたらされた照射試料をPGMEAで現像した。18個の非球形状マイクロレンズのアレイをこの方法で製造し、光学顕微鏡法及び電子顕微鏡法で分析した。各レンズは、約25マイクロメートル(μm)のたるみを有し、アレイの中心から離れて傾斜してるのが見いだされた。
マイクロレンズアレイの製造
得られた円形のシリコンウエファー(直径10.2cm(4インチ)、フロリダ州ウエストパームビーチ(West Palm Beach)のウエファーワールド社(Wafer World,Inc.)から入手)を、約10分間、濃硫酸と30重量%水性過酸化水素の3:1容量/容量(v/v)混合物に漬けることにより洗浄した。次に、ウエファーを脱イオン水、続いてイソプロパノールですすぎ、その後、空気流下で乾燥した。次に、製造者により提供された指示によりウエファーをオムニコート(OMNICOAT)接着促進剤(マサチューセッツ州ニュートン(Newton)のマイクロケム社(MicroChem Corp.)から入手)でスピンコートした。ローダミンB(Rhodamine B)ヘキサフルオロアンチモン酸塩及びSR1012をそれぞれ最小容量のシクロペンタノンに溶解し、各溶液のアリコートをSU8R2150と混合し、固体全重量を基準として0.5重量%のローダミンB(Rhodamine B)ヘキサフルオロアンチモン酸塩及び1.0重量%のSR1012の混合物用意した。十分なシクロペンタノンを混合物に添加し、固形分濃度を約67重量%に調節した。この溶液を1μシリンジフィルターを通して濾過し、シリコンウエファー上にスピンコートし、それを次に終夜60℃、続いて10分間95℃で強制空気オーブン内で加熱した。その後、ウエファーを室温に冷却させた。乾燥コーティング厚さは、約30マイクロメートルであった。
異なる曲率のマイクロレンズのアレイの製造
コーティングされたシリコンウエファーを本質的に実施例2に記載したように調製した。ガルボスキャナーをプログラムし、パターンに照射し、それぞれが異なる曲率を有する3個のマイクロレンズのアレイ(アレイは、焦点距離の空間変化を有し、第1マイクロレンズは、式1(式中、r=27マイクロメートル(μm)、a=0.77、b=1及びc=0.66である)で記載される表面を有し、第2マイクロレンズは、式1(式中、r=36マイクロメートル(μm)、a=0.77、b=1及びc=0.66を有する)で記載される表面を有し、及び第3マイクロレンズは、式1(式中、r=45マイクロメートル(μm)、a=0.77、b=1及びc=0.66を有する)で記載される表面を有する)を提供することを除き乾燥コーティングの二光子光重合を本質的に実施例1に記載したように行った。光重合工程の後、もたらされた照射試料を一連のホットプレート上で75℃1分間、次に95℃5分間、続いて75℃1分間加熱した。試料を室温に冷却させた後、試料をPGMEA中で現像した。もたらされた3個の非球形状マイクロレンズのアレイを光学顕微鏡法及び電子顕微鏡法で分析した。
六角形実装マイクロレンズアレイの製造
約10.2cm(約4インチ)の直径を有する円形シリコンウエファーを洗浄し、単量体混合物が0.5重量%(固体の全重量を基準として)の光増感剤染料N,N,N−トリス(7−(2−ベンゾチアゾリル)−9,9−ジエチル−2−フルオレニル)アミン(米国特許番号第6,300,502号(カナン(Kannan)ら)の実施例20のその合成と共に記載されたローダミンB(Rhodamine B)ヘキサフルオロアンチモン酸塩のかわりに)及びCGI7460(固体の全重量を基準として0.5重量%)を含むことを除き本質的に実施例1に記載されたようにコーティングし、単量体混合物のコーティング厚さは、約20マイクロメートル(μm)であった。ウエファーのコーティングされていない側を2−プロパノールですすぎ、次にウエファーのコーティングされていない側がチャックと接触していない状態でウエファーをそれ自身が3点平坦化ベースに実装された多孔質炭素真空チャック上に実装した。平坦化ベースを適切な平坦化スクリュー又はベースの周辺近辺の3つの調節点で設定されたスクリューを調節することにより平坦化した。
傾斜マイクロレンズアレイの製造
円形(10.2cm(4インチ))直径シリコンウエファーを乾燥コーティング厚さが約300マイクロメートル(μm)であることを除き本質的に実施例1に記載したように洗浄及びコーティングした。ウエファーのコーティングされていない側を2−プロパノールですすぎ、次にウエファーのコーティングされていない側がチャックと接触していない状態でウエファーをそれ自身が3点平坦化ベースに実装された多孔質炭素真空チャック上に実装した。実施例4に記載した二光子光重合系は、次に実施例4に記載した共焦点境界面ロケータシステムを使用し、傾斜マイクロレンズ(560ナノメートルのスライス厚さ)の3×3アレイを調製した。図2a及び2bは、アレイの平面図及び側面図それぞれの走査電子顕微鏡写真を示す。
六角形実装マイクロレンズアレイの製造
コーティングされたシリコンウエファーを単量体混合物のコーティング厚さが約10マイクロメートルであることを除いて本質的に実施例5に記載されたように調製した。次に、ウエファーのコーティングされていない側がチャックと接触した状態でコーティングされたウエファーをそれ自身が3点平坦化ベースに実装された多孔質炭素真空チャック上に実装した。続いて、実施例4に記載した二光子光重合系を上記の共焦点境界面ロケータシステムを使用しウエファーの表面を平坦化した、その結果、本質的に実施例5に記載されたように、それは曝露系の光学平面の約500ナノメートル以内であった。
1. (a)光反応性組成物を提供する工程であって、前記光反応性組成物が、(1)酸又はラジカル開始化学反応を受けることが可能な少なくとも1つの反応性種と、(2)少なくとも1つの多光子光開始剤系とを含む光反応性組成物と、を提供する工程、及び(b)前記組成物の少なくとも一部を少なくとも2つの光子を同時に吸収させるのに十分な光に撮像的に暴露する工程を含むプロセスであって、これにより少なくとも1つの酸又はラジカル開始化学反応を誘導し、前記組成物が、前記光に曝露され、前記撮像的暴露が、複数個のマイクロレンズの少なくとも表面を画定するのに有効なパターンで行われ、前記マイクロレンズのそれぞれが、主軸線及び焦点距離を有し、少なくとも1つのマイクロレンズが非球形状である、撮像的暴露プロセス。
2. 前記プロセスが、前記組成物の生じた暴露部分又は生じた非暴露部分を除くことにより前記組成物を顕色する工程を更に含む、態様1に記載のプロセス。
3. 前記プロセスが、前記組成物の少なくとも一部を撮像的に暴露した後、前記組成物の少なくとも一部を任意の残りの未反応光反応性組成物の少なくとも一部が反応するのに十分な光に非撮像的に暴露する工程を更に含む、態様1に記載のプロセス。
4. 少なくとも1つの前記マイクロレンズの前記主軸線及び前記焦点距離の少なくとも1つが、少なくとも1つの他の前記マイクロレンズと異なる、態様1に記載のプロセス。
5. 前記マイクロレンズの少なくとも大部分が、非球形状である、態様1に記載のプロセス。
6. 前記マイクロレンズの少なくとも大部分が、1ミリメートル未満の直径と、10未満のf数と、作動波長の半分未満の平均表面粗さとを有する、態様1に記載のプロセス。
7. 前記複数個のマイクロレンズが、50〜100パーセントの範囲内のフィルファクタを有する、態様1に記載のプロセス。
8. 前記マイクロレンズの少なくとも大部分が、放射状に対称である、態様1に記載のプロセス。
9. 前記複数個のマイクロレンズが、前記主軸線の非対称変化を示す、態様4に記載のプロセス。
10. 前記複数個のマイクロレンズが、前記主軸線の対称変化を示す、態様4に記載のプロセス。
11. 少なくとも1つの前記マイクロレンズが、アナモルフィックである、態様1に記載のプロセス。
12. 前記反応性種が、硬化性種である、態様1に記載のプロセス。
13. 前記反応性種が、非硬化性種である、態様1に記載のプロセス。
14. 前記多光子光開始剤系が、光化学的有効量の(a)同時に少なくとも2つの光子を吸収できる少なくとも1つの多光子光増感剤と、(b)所望により前記光増感剤の電子励起状態に電子を供与できる前記多光子光増感剤と異なる少なくとも1つの電子供与体と、(c)前記光増感剤の電子励起状態から電子を受容することにより光増感され、少なくとも1つのフリーラジカル及び/又は酸を形成できる少なくとも1つの光開始剤と、を含む、態様1に記載のプロセス。
15. 前記プロセスが、前記光反応性組成物を基材に供給し、前記組成物と前記基材の間に境界面を位置決めする工程を含む、態様1に記載のプロセス。
16. 前記撮像的暴露が、所望の三次元マイクロレンズ構造体の複数個の平面スライスの少なくとも周辺を走査し、同時にスライス厚さ未満のマイクロレンズ表面粗さを実現するように前記スライス厚さを変化させることにより行われる、態様1に記載のプロセス。
17. 前記プロセスが、一光子法を使用して行われる非撮像的暴露を含む、態様1に記載のプロセス。
18. 前記複数個のマイクロレンズが、原型を含み、前記原型が、複製用のツールを製造するために使用される、態様1に記載のプロセス。
19. (a)光反応性組成物を提供する工程であって、前記光反応性組成物が、(1)酸又はラジカル開始化学反応を受けることが可能な少なくとも1つの硬化性種と、(2)光化学的有効量の(i)フルオレセインより大きい二光子吸収断面を有する多光子光増感剤、(ii)所望によりアルキルアリールホウ酸塩類、三級芳香族アルキルアミン類及びこれらの混合物から選択される少なくとも1つの電子供与体、及び(iii)ヨードニウム塩類、スルホニウム塩類及びこれらの混合物から選択される少なくとも1つの光開始剤、とを包含する少なくとも1つの多光子光開始剤系を含む、工程と、(b)前記組成物の少なくとも一部を少なくとも2つの光子を同時に吸収させるのに十分な光に撮像的に暴露する工程であって、これにより少なくとも1つの酸又はラジカル開始化学反応を誘導し、前記組成物が、前記光に曝露され、前記撮像的暴露が、少なくとも1つの非球形状マイクロレンズを含む複数個のマイクロレンズの少なくとも表面を画定するのに有効なパターンで行われ、前記マイクロレンズのそれぞれが、主軸線及び焦点距離を有し、少なくとも1つのマイクロレンズの前記主軸線及び前記焦点距離の少なくとも1つが、少なくとも1つの他の前記マイクロレンズと異なる、撮像的暴露工程と、(c)前記組成物の生じた非暴露部分の少なくとも一部を除くことにより前記組成物を顕色する工程と、を含むプロセス。
20. 前記組成物の少なくとも一部を撮像的に暴露し、前記組成物を顕色した後、前記プロセスが、前記組成物の少なくとも一部を前記光反応性組成物の任意の残りの非暴露部分の少なくとも一部の反応を行うのに十分な光に非撮像的に暴露する工程を含む、態様19に記載のプロセス。
21. 前記プロセスが、前記光反応性組成物を基材に供給する工程、及び前記組成物と前記基材の間に境界面を位置決めする工程を更に含み、前記撮像的暴露が、所望の三次元マイクロレンズ構造体の複数個の平面スライスの少なくとも周辺を走査し、同時にスライス厚さ未満のマイクロレンズ表面粗さを実現するように前記スライス厚さを変化させることにより行われる、態様19に記載のプロセス。
22. マイクロレンズの少なくとも1つが非球形状であり、前記マイクロレンズのそれぞれが主軸線を有し、少なくとも1つの前記マイクロレンズの前記主軸線が少なくとも1つの他の前記マイクロレンズと異なる、複数個のマイクロレンズ。
23. 前記マイクロレンズの少なくとも大部分が、非球形状である、態様22に記載の複数個のマイクロレンズ。
24. 前記マイクロレンズの少なくとも大部分が、1ミリメートル未満の直径を有する、態様22に記載の複数個のマイクロレンズ。
25. 前記マイクロレンズの少なくとも大部分が、10未満のf数を有する、態様22に記載の複数個のマイクロレンズ。
26. 前記マイクロレンズの少なくとも大部分が、操作波長の半分未満の平均表面粗さを有する、態様22に記載の複数個のマイクロレンズ。
27. 前記複数個のマイクロレンズが、50〜100パーセントの範囲内のフィルファクタを有する、態様22に記載の複数個のマイクロレンズ。
28. 前記複数個のマイクロレンズが、前記主軸線の非対称変化を示す、態様22に記載の複数個のマイクロレンズ。
29. 前記複数個のマイクロレンズが、前記主軸線の対称変化を示す、態様22に記載の複数個のマイクロレンズ。
30. 前記マイクロレンズの少なくとも1つが、アナモルフィックである、態様22に記載の複数個のマイクロレンズ。
31. 前記マイクロレンズの少なくとも大部分が、主軸線と、1ミリメートル未満の直径と、10未満のf数を有し、前記複数個のマイクロレンズが、50〜100パーセントの範囲内のフィルファクタを有し及び前記主軸線の対称変化を示す、複数個の非球形状マイクロレンズ。
本発明のこれら及びその他の特徴、態様及び利益は、次の説明、添付した請求項及び添付図面でよりよく理解されるであろう。
Claims (1)
- (a)光反応性組成物を提供する工程であって、前記光反応性組成物が、
(1)酸又はラジカル開始化学反応を受けることが可能な少なくとも1つの硬化性種と、
(2)光化学的有効量の
(i)フルオレセインより大きい二光子吸収断面を有する多光子光増感剤、
(ii)所望によりアルキルアリールホウ酸塩類、三級芳香族アルキルアミン類及びこれらの混合物から選択される少なくとも1つの電子供与体、及び
(iii)ヨードニウム塩類、スルホニウム塩類及びこれらの混合物から選択される少なくとも1つの光開始剤、とを包含する少なくとも1つの多光子光開始剤系を含む、工程と、
(b)前記組成物の少なくとも一部を少なくとも2つの光子を同時に吸収させるのに十分な光に撮像的に暴露する工程であって、これにより少なくとも1つの酸又はラジカル開始化学反応を誘導し、前記組成物が、前記光に曝露され、前記撮像的暴露が、少なくとも1つの非球形状マイクロレンズを含む複数個のマイクロレンズの少なくとも表面を画定するのに有効なパターンで行われ、前記マイクロレンズのそれぞれが、主軸線及び焦点距離を有し、少なくとも1つのマイクロレンズの前記主軸線及び前記焦点距離の少なくとも1つが、少なくとも1つの他の前記マイクロレンズと異なる、撮像的暴露工程と、
(c)前記組成物の生じた非暴露部分の少なくとも一部を除くことにより前記組成物を現像する工程と、を含むプロセス。
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