JP5219451B2 - 新規フルオレン化合物 - Google Patents
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Description
前記式(1)において、Xは、特にメチレン基であってもよい。また、前記式(1)において、代表的には、Zがベンゼン環又はナフタレン環であり、kが0又は1であり、mが0又は1であり、nが1〜3であってもよい。
なお、本明細書において、化合物名などの「類」とは、「置換基を有さない」場合と「置換基を有する」場合とを含み、「置換基を有していてもよい」ことを意味する場合がある。
本発明の化合物は、下記式(1)で表される。
上記式(1)のXにおいて、アルキリデン基としては、例えば、メチレン基、エチリデン基、プロピリデン基、プロパン−2,2−ジイル基などのC1−10アルキリデン基、好ましくはC1−6アルキリデン基、さらに好ましくはC1−4アルキリデン基などが挙げられる。また、Xにおいて、アルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基などのC2−10アルキレン基、好ましくはC2−6アルキレン基、さらに好ましくはC2−4アルキレン基などが挙げられる。好ましいXは、直接結合、C1−4アルキリデン基(特にメチレン基)である。なお、フルオレン(又はフルオレン骨格)の9位と環Zとを連結する2つの基Xは、同一であってもよく、異なっていてもよい。通常、2つのXは同一である場合が多い。
9,9−ビス(ヒドロキシアリールアルキル)フルオレン類としては、例えば、9,9−ビス(ヒドロキシベンジル)フルオレン類{例えば、9,9−ビス(ヒドロキシベンジル)フルオレン[9,9−ビス(4−ヒドロキシベンジル)フルオレンなど]、9,9−ビス(ヒドロキシ−アルキルベンジル)フルオレン[9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルベンジル)フルオレンなどの9,9−ビス(ヒドロキシ−C1−4アルキルベンジル)フルオレンなど]など}、9,9−ビス(ヒドロキシナフチルメチル)フルオレン類{これらの9,9−ビス(ヒドロキシベンジル)フルオレン類に対応する化合物、例えば、9,9−ビス[1−(5−ヒドロキシナフチル)メチル]フルオレン、9,9−ビス[2−(6−ヒドロキシナフチル)メチル]フルオレンなどの9,9−ビス(ヒドロキシナフチルメチル)フルオレン}、9,9−ビス(ヒドロキシフェネチル)フルオレン類{前記9,9−ビス(ヒドロキシベンジル)フルオレン類に対応する化合物、例えば、9,9−ビス(ヒドロキシフェネチル)フルオレン[9,9−ビス(4−ヒドロキシフェネチル)フルオレンなど]など}などの9,9−ビス(ヒドロキシアリールC1−4アルキル)フルオレン類[例えば、9,9−ビス(ヒドロキシC6−10アリールC1−4アルキル)フルオレン類など]などが挙げられる。
9,9−ビス(メルカプトアリールアルキル)フルオレン類としては、例えば、9,9−ビス(メルカプトベンジル)フルオレン類{例えば、9,9−ビス(メルカプトベンジル)フルオレン[9,9−ビス(4−メルカプトベンジル)フルオレンなど]、9,9−ビス(メルカプト−アルキルベンジル)フルオレン[9,9−ビス(4−メルカプト−3−メチルベンジル)フルオレンなどの9,9−ビス(メルカプト−C1−4アルキルベンジル)フルオレンなど]など}9,9−ビス(メルカプトナフチルメチル)フルオレン類{これらの9,9−ビス(メルカプトベンジル)フルオレン類に対応する化合物、例えば、9,9−ビス[1−(5−メルカプトナフチル)メチル]フルオレン、9,9−ビス[2−(6−メルカプトナフチル)メチル]フルオレンなどの9,9−ビス(メルカプトナフチルメチル)フルオレン}、9,9−ビス(メルカプトフェネチル)フルオレン類{前記9,9−ビス(メルカプトベンジル)フルオレン類に対応する化合物、例えば、9,9−ビス(メルカプトフェネチル)フルオレン[9,9−ビス(4−メルカプトフェネチル)フルオレンなど]など}などの9,9−ビス(メルカプトアリールC1−4アルキル)フルオレン類[例えば、9,9−ビス(メルカプトC6−10アリールC1−4アルキル)フルオレン類などなどが挙げられる。
9,9−ビス(カルボキシアリールアルキル)フルオレン類としては、例えば、9,9−ビス(カルボキシベンジル)フルオレン類{例えば、9,9−ビス(カルボキシベンジル)フルオレン[9,9−ビス(4−カルボキシベンジル)フルオレンなど]、9,9−ビス(カルボキシ−アルキルベンジル)フルオレン[9,9−ビス(4−カルボキシ−3−メチルベンジル)フルオレンなどの9,9−ビス(カルボキシ−C1−4アルキルベンジル)フルオレンなど]など}、9,9−ビス(カルボキシナフチルメチル)フルオレン類{これらの9,9−ビス(カルボキシベンジル)フルオレン類に対応する化合物、例えば、9,9−ビス[1−(5−カルボキシナフチル)メチル]フルオレン、9,9−ビス[2−(6−カルボキシナフチル)メチル]フルオレンなどの9,9−ビス(カルボキシナフチルメチル)フルオレン}、9,9−ビス(カルボキシフェネチル)フルオレン類{前記9,9−ビス(カルボキシベンジル)フルオレン類に対応する化合物、例えば、9,9−ビス(カルボキシフェネチル)フルオレン[9,9−ビス(4−カルボキシフェネチル)フルオレンなど]など}などの9,9−ビス(カルボキシアリールC1−4アルキル)フルオレン類[例えば、9−ビス(カルボキシC6−10アリールC1−4アルキル)フルオレン類など]などが挙げられる。
9,9−ビス(アミノアリールアルキル)フルオレン類としては、例えば、9,9−ビス(アミノベンジル)フルオレン類{例えば、9,9−ビス(アミノベンジル)フルオレン[9,9−ビス(4−アミノベンジル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アミノ−アルキルベンジル)フルオレン[9,9−ビス(4−アミノ−3−メチルベンジル)フルオレンなどの9,9−ビス(アミノ−C1−4アルキルベンジル)フルオレンなど]など}9,9−ビス(アミノナフチルメチル)フルオレン類{これらの9,9−ビス(アミノベンジル)フルオレン類に対応する化合物、例えば、9,9−ビス[1−(5−アミノナフチル)メチル]フルオレン、9,9−ビス[2−(6−アミノナフチル)メチル]フルオレンなどの9,9−ビス(アミノナフチルメチル)フルオレン}、9,9−ビス(アミノフェネチル)フルオレン類{前記9,9−ビス(アミノベンジル)フルオレン類に対応する化合物、例えば、9,9−ビス(アミノフェネチル)フルオレン[9,9−ビス(4−アミノフェネチル)フルオレンなど]など}などの9,9−ビス(アミノアリールC1−4アルキル)フルオレン類[例えば、9,9−ビス(アミノC6−10アリールC1−4アルキル)フルオレン類など]などが挙げられる。
上記方法において、上記式(2)で表される化合物としては、フルオレン類(例えば、フルオレン)などが挙げられる。なお、式(2)で表される化合物(フルオレン類)の純度は、通常、95重量%以上、好ましくは99重量%以上であってもよい。
本発明のフルオレン化合物(式(1)で表される化合物)は、フルオレン骨格を有しているとともに、芳香族炭化水素骨格(ベンゼン骨格、ナフタレン骨格など)を有しており、種々の特性(光学特性、耐熱性、耐水性、耐湿性、耐薬品性、電気特性、機械特性、寸法安定性など)に優れており、種々の用途においてこれらの特性を向上又は改善するのに有用である。また、前記骨格により、高い屈折率も有している。特に、本発明の化合物は、従来のフルオレン骨格を有する化合物(ビスフェノールフルオレンなど)に比べて、柔軟性の向上、溶液粘度の低減、炭素密度の向上などを実現でき、各種用途においてさらなる特性の向上が期待できる。例えば、炭素密度の向上により、レジスト用途などに用いると、エッチング耐性の向上などを実現できる。このため、このような本発明のフルオレン化合物は、機能性材料[例えば、添加剤(レジスト用添加剤など)、試薬(医薬、農薬など)の原料又は中間体など](又はその原料又は中間体)、樹脂原料(モノマーなど)などとして好適に用いることができ、前記のような優れた特性を効率よく付与するための化合物として用いることができる。
添加剤としては、樹脂用添加剤(又は樹脂添加剤)、硬化剤(樹脂用硬化剤など)などが挙げられる。添加剤として用いる場合、樹脂および前記フルオレン化合物(例えば、9,9−ビス(ヒドロキシベンジル)フルオレン、9,9−ビス(カルボキシベンジル)フルオレン類など)を含む樹脂組成物(熱可塑性樹脂組成物、熱又は光硬化性樹脂組成物)を構成できる。このような樹脂組成物において、樹脂としては、特に限定されず、幅広い範囲の樹脂(熱可塑性樹脂、熱又は光硬化性樹脂など)を使用できる。
本発明のフルオレン化合物は、樹脂原料として用いることができる。例えば、本発明のフルオレン化合物は、官能基として、複数の官能基(ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、カルボキシル基など)を有しているため、熱可塑性樹脂のモノマー成分や熱硬化性樹脂(又はその前駆体)として用いることができる。すなわち、このような樹脂は、前記フルオレン化合物(又はその誘導体)を重合成分とする樹脂である。
また、本発明の化合物は、低分子化合物であるにもかかわらず、膜(分子膜)を形成可能である。そのため、本発明の化合物は、分子膜を形成するための化合物としても有用である。
このような分子膜は、前記式(1)で表される化合物により形成されていれば、その膜形成の態様は限定されないが、特に、前記式(1)で表される化合物の自己組織化により形成された分子膜(前記式(1)で表される化合物の自己組織化分子膜)である。
300mLの三口フラスコに、フルオレン(大阪ガスケミカル(株)製)0.83g(5.00mmol)およびカリウムブトキシド(ナカライテスク製)1.68g(15.0mmol)を入れ、溶媒としてのジメチルスルホキシド(DMSO)(ナカライテスク製)35.0mLを混合し、50℃で10分撹拌した。撹拌しながら、4−カルボキシルベンジルブロミド(アルドリッチ製)2.58g(12.0mmol)を0.43gずつ6回に分割して10分おきに加えた。その後、50℃で19時間撹拌した。反応後、溶液を氷中に注いでクエンチし、得られた固体にジエチルエーテル(ナカライテスク製)15.0gを加え3回抽出した。硫酸ナトリウム(ナカライテスク製)8.00gで乾燥後、エバポレータにて溶媒を留去したところ、2.72gのサンプルが得られた。
(実施例2)
4−カルボキシルベンジルブロミドに変えて4−ヒドロキシベンジルブロミドを用いた以外は実施例1と同様に合成した結果、9,9−ビス(4−ヒドロキシベンジル)フルオレン(下記式)が得られた。
4−カルボキシルベンジルブロミドに変えて4−アミノベンジルブロミドを用いた以外は実施例1と同様に合成した結果、9,9−ビス(4−アミノベンジル)フルオレン(下記式)が得られた。
実施例1で得られた9,9−ビス(4−カルボキシベンジル)フルオレン(純度約50%)をテトラヒドロフランに溶解し、固形分濃度40重量%の溶液を得た。この溶液を、シリコンウェハーに、回転塗布機を用いて、回転速度1000rpmで20秒間塗布した後、ホットプレート上で100℃、2分間プリべークすると、膜が形成された。なお、乾燥後の膜を取り出してシリコンウェハーを逆さにしたところ、膜が剥離しないことを確認した。
9,9−ビス(4−カルボキシベンジル)フルオレンに変えて、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン(大阪ガスケミカル(株)製、純度99.3%)を使用した以外は、実施例4と同様にして溶液を調製し、膜の形成を試みたが、自己組織化した膜は形成されなかった。
9,9−ビス(4−カルボキシベンジル)フルオレンに変えて、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(大阪ガスケミカル(株)製、純度98.5%)を使用した以外は、実施例4と同様にして溶液を調製し、膜の形成を試みたが、自己組織化した膜は形成されなかった。
9,9−ビス(4−カルボキシベンジル)フルオレンに変えて、9,9−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)フルオレン(大阪ガスケミカル(株)製、純度99.3%)を使用した以外は、実施例4と同様にして溶液を調製し、膜の形成を試みたが、自己組織化した膜は形成されなかった。
9,9−ビス(4−カルボキシベンジル)フルオレンに変えて、9,9−ビス(2−ヒドロキシエトキシフェニル)フルオレン(大阪ガスケミカル(株)製、純度99.3%)を使用した以外は、実施例4と同様にして溶液を調製し、膜の形成を試みたが、自己組織化した膜は形成されなかった。
Claims (6)
- 下記式(1)で表される化合物。
- Xがメチレン基である請求項1記載の化合物。
- Zがベンゼン環又はナフタレン環であり、kが0又は1であり、mが0又は1であり、nが1〜3である請求項1又は2に記載の化合物。
- 式(1)で表される化合物が、9,9−ビス(カルボキシベンジル)フルオレンである請求項1記載の化合物。
- 自己組織化により分子膜を形成可能である請求項1記載の化合物。
- 塩基触媒の存在下、下記式(2)で表される化合物と、下記式(3)で表される化合物とを反応させることにより、請求項1〜5のいずれかに記載の化合物を製造する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007272333A JP5219451B2 (ja) | 2007-10-19 | 2007-10-19 | 新規フルオレン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007272333A JP5219451B2 (ja) | 2007-10-19 | 2007-10-19 | 新規フルオレン化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009096784A JP2009096784A (ja) | 2009-05-07 |
JP5219451B2 true JP5219451B2 (ja) | 2013-06-26 |
Family
ID=40700120
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007272333A Active JP5219451B2 (ja) | 2007-10-19 | 2007-10-19 | 新規フルオレン化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5219451B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5308005B2 (ja) * | 2007-10-19 | 2013-10-09 | 大阪瓦斯株式会社 | 新規フルオレン化合物 |
JP5219450B2 (ja) * | 2007-10-19 | 2013-06-26 | 大阪瓦斯株式会社 | フルオレン誘導体を用いた分子膜 |
JP5578710B2 (ja) * | 2010-05-19 | 2014-08-27 | 田岡化学工業株式会社 | 高透明性9,9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレン及びその製造法 |
CN104428135B (zh) * | 2012-07-10 | 2016-11-16 | 日本曹达株式会社 | 具有自组织化膜的薄膜层合体 |
JP6377367B2 (ja) * | 2013-03-28 | 2018-08-22 | 大阪ガスケミカル株式会社 | フルオレン骨格を有するポリアミド樹脂及びその用途 |
JP6383543B2 (ja) * | 2013-03-29 | 2018-08-29 | 大阪ガスケミカル株式会社 | フルオレン骨格を有するポリアミド樹脂及びその用途 |
JP7032194B2 (ja) * | 2018-03-27 | 2022-03-08 | 大阪ガスケミカル株式会社 | フルオレンジオール化合物およびその製造方法ならびにポリエステル樹脂 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0980792A (ja) * | 1995-09-14 | 1997-03-28 | Canon Inc | 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカ−トリッジ及び電子写真装置 |
JP2002363154A (ja) * | 2001-06-04 | 2002-12-18 | Dojindo Laboratories | 保護チオール化合物及び保護ジスルフィド化合物 |
JP5219450B2 (ja) * | 2007-10-19 | 2013-06-26 | 大阪瓦斯株式会社 | フルオレン誘導体を用いた分子膜 |
-
2007
- 2007-10-19 JP JP2007272333A patent/JP5219451B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009096784A (ja) | 2009-05-07 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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