JP5217133B2 - 印刷用凸版の製造方法 - Google Patents
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Description
図1に本発明の印刷用凸版の一例を図1に示す。
次に本発明の凸版の製造方法を図2に基づいて説明する。
次に、本発明の印刷用凸版を用い、凸版印刷法により被印刷基板表面にインキパターンを形成する印刷物の製造方法について示す。図3に本発明の印刷物の製造に用いられる凸版印刷装置の概略図を示した。ステージ300には被印刷基板301が固定されており、印刷用凸版302は版胴303に固定され、印刷用凸版はインキ供給体であるアニロックスロール304と接しており、アニロックスロールはインキ補充装置305とドクター306を備えている。
次に、本発明での凸版を用いた印刷物の製造方法の一例として、有機EL素子の製造方法について説明する。図4に有機EL素子の一例を示した。有機EL素子の駆動方法としては、パッシブマトリックス方式とアクティブマトリックス方式があるが、本発明の製造方法はパッシブマトリックス方式の有機EL素子、アクティブマトリックス方式の有機EL素子のどちらにも適用可能である。
リン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との混合物などの高分子正孔輸送材料、チオフェンオリゴマー材料、その他既存の正孔輸送材料の中から選ぶことができる。
過率は、10−6g/m2/day以下であることが好ましい。
(被印刷基板の作製)
ガラス基板上に、スパッタ法を用いてITO膜を形成し、フォトリソ法と酸溶液によるエッチングでITO膜をストライプ状にパターニングした。陽極であるITOのラインパターンは、線幅25μm、スペース25μmで、ラインが192ラインで形成されるパターンした。次に感光性のポリイミド樹脂(厚2μm)を用いて、陽極ラインの端部を被覆することにより、被印刷基板を作製した。
0.3mm厚のインバー材の片面にポリエステル保護フィルムを貼り、もう片面には第一感光性樹脂としてアクリル系ネガ型のドライフィルム(日立化成HM4056:56μm厚)をラミネートした。フォトリソ法を用いて、被印刷基板のITOラインパターンのネガパターンとなるストライプ凸状パターンを形成した。次に凸状パターンの凹部に、電鋳法を用いて銅を第一感光性樹脂とほぼ同等の高さまで形成した後に、さらに凸状パターンの上部も被覆するように銅膜を積層し、約10μm厚の金属ベース膜を形成した。
上記高精細印刷用凸版を枚葉式の印刷機のシリンダーに固定した。正孔輸送層の材料として、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との混合物を水系の溶媒に分散させたインキを、印刷用凸版の第二感光性樹脂層の表面にインキングし、これを被印刷基板に転写させ、192ライン一括でストライプ状に印刷した。印刷後に200℃で30分乾燥させた。この時形成した正孔輸送パターンの乾燥後の膜厚は50nmであった。この正孔輸送層の上に、スピンコート法を用いて、ポリフルオレン系の緑色発光インキを塗布した後に、窒素雰囲気下で130℃15分加熱を行った。この時形成した発光層の膜厚は80nmであった。次に、発光層上に第二電極として、第一電極と垂直方向にラインを形成した。陰極材料ついては、カルシウム(10nm)と銀(150nm)の積層膜を真空蒸着法で形成した。最後にガラスキャップを用い封止をおこない本発明の有機EL素子を作製した。この有機EL素子の発光特性を見たところ、パターン箇所内全面において5Vで1000cd/m2の均一な発光が得られた。また、凸版印刷法で形成した正孔輸送層が隣接ラインと接することがなかったため、ライン間のリークが生じず、良好な192×192ドットマトリクスディスプレイを作製できた。
比較例1として、水系インキの印刷に用いることができる市販のフレキソ版(旭化成AWP版)を用いて、L/S=25/25μmの印刷用凸版を形成した。その結果、凸版の版深の深さは5μm程度であった。この版を用いた以外は実施例1と同様の製造工程で、有機EL素子を作製した。その結果、正孔輸送インキのほとんどが印刷凸版上ではなく凹版内に流れこんでしまいこのインキが被印刷基板に転写されたために、パターン形成ができず、さらに192ライン全てにおいて短絡箇所が生じていた。また正孔輸送層の膜厚均一性は±30%と不均一であった。5Vで100〜500cd/m2程度であり、発光は不均一で発光ムラは±30%以上であった。
比較例2として、基材上にアクリル系ネガ型感光性樹脂をスリットコート法を用いて塗布し、第一感光性樹脂膜とした以外は実施例1と同様の工程で印刷用凸版を作製した。これにより金属基材上に、金属凸状パターンとその頭頂部の樹脂層からなり、版深が20μm、パターン幅が25μmの印刷用凸版を作製できた。
比較例3として、0.3mm厚のインバー材上に第一感光性樹脂としてアクリル系ネガ型のドライフィルム(日立化成HM4056:56μm厚)をラミネートした。フォトリソ法を用いて、被印刷基板のITOラインパターンと同じパターンの凸状ストライプパターンを形成し、版深56μm、パターン幅が25μmの印刷用凸版を作製した。実施例1と同様の工程で有機ELを作製したところ、版の著しい変形及び損傷によって、全てのラインが印刷不良となり、ほとんどのパターンは有機EL素子として形成することができなかった。
101:版面凹部
102:基材
103:凸状パターン
104:樹脂層
200:基材
201:第一感光性樹脂層
202:第一感光性樹脂パターン
203:金属
204:金属ベース膜
205:第二感光性樹脂層
206:第二感光性樹脂パターン
207:金属部
208:樹脂層
300:ステージ
301:被印刷基板
302:印刷用凸版
303:版銅
304:アニロックスロール
305:インキ補充装置
306:ドクター
307:インキ
308:インキパターン
401:基板
402:隔壁
403:第一電極
404:正孔輸送層
405:有機発光層
406:第二電極
Claims (6)
- 高精細パターンの印刷に用いる凸版の製造方法において、基材上に第一の感光性樹脂の層を形成する工程と、フォトリソグラフィー法を用いて第一の感光性樹脂の凸状パターンを形成する工程と、前記第一の感光性樹脂のパターンの間隙に金属パターンを堆積させる工程と、前記金属パターン及び第一の感光性樹脂上に金属層を形成する工程と、前記金属層上に第二の感光性樹脂の層を形成する工程と、フォトリソグラフィー法により前記金属パターンの直上部にのみ前期第二の感光性樹脂を残し、第二感光性樹脂パターンを形成する工程と、前記第二の感光性樹脂パターンによって保護された部分以外の前記金属層を除去する工程と、前記第一の感光性樹脂のパターンを除去する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする印刷用凸版の製造方法。
- 高精細パターンの印刷に用いる凸版の製造方法において、基材上に第一の感光性樹脂の層を形成する工程と、フォトリソグラフィー法を用いて第一の感光性樹脂の凸状パターンを形成する工程と、前記第一の感光性樹脂のパターンの間隙に金属パターンを堆積させる工程と、前記金属パターン及び第一の感光性樹脂上に金属層を形成する工程と、前記金属層上に第二の感光性樹脂の層を形成する工程と、フォトリソグラフィー法により前記金属パターンの直上部にのみ前期第二の感光性樹脂を残し、第二感光性樹脂パターンを形成する工程と、第三の感光性樹脂の層を前記第二感光性樹脂パターン上に形成する工程と、前記第三の感光性樹脂のパターンによって保護された部分以外の前記金属層を除去する工程と、前記第一の感光性樹脂のパターン及び前記第三の感光性樹脂のパターンを除去する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする印刷用凸版の製造方法。
- 前記第一の感光性樹脂のパターンを除去した後、金属からなる凸状パターン側面の金属表面ないし前記基材表面の露出部に樹脂膜を被覆する工程を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の印刷用凸版の製造方法。
- 請求項3に記載の凸版製造法であって、凸状パターン側面の金属表面ないし基材表面の露出部に樹脂膜を被覆する工程に電着法を用いることを特徴とする印刷用凸版の製造方法。
- 基材上に金属層を形成する工程に電鋳法を用いることを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載の印刷用凸版の製造方法。
- 前記第二の感光性樹脂の層を形成する工程において、前記第二の感光性樹脂の塗工液を塗布することによって前記層を形成し、前記塗工液に、フィルタリング処理と、脱泡処理と、を施すことを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の印刷用凸版の製造方法。
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