JP5604857B2 - 印刷用凸版並びにそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
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Description
凸版印刷法によって有機エレクトロルミネッセンス素子を印刷する場合、有機エレクトロルミネッセンス表示素子の画素領域に対応して印刷用凸版の凸パターン203を形成する必要があり、画素パターンによって印刷用凸版のパターンも大きく左右される。
そのため、凸パターン203は凹部206が形成され、凹部206上にはインキは供給されないが、凹部206は非転写領域とはならず、凸パターン203の幅の印刷パターンを形成することができる。
また、複数の印刷適正な幅の凸部205によって印刷されるため、幅広なパターンを印刷する場合でも従来の印刷用凸版で生じる中抜け現象やマージナル現象といった不具合を抑えることができ、従来の凸版印刷法では形成することのできなかった幅広な線幅のパターンを凸版印刷法により形成することができる。さらに、高粘度インキを使用する場合にも印刷欠陥が生じることがない。
また、凸パターン203の厚さは、用いる凸パターンの材料や印刷時の応圧などの印刷条件によって異なるが、20〜100μmであれば良い。
逆に、凹部206の開口幅が大き過ぎる場合は、凸部205の幅やインキの粘度によっては、インキを基板に転写しても基板上で一つにつながらずにレベリングされないため、印刷不良となる。凸部205の幅を印刷適正な幅とした場合には、凹部206の開口幅が40μm以下であれば転写の際に一つにつながってレベリングされるため望ましい。ただし、インキの粘度や凸部205の幅等の印刷条件によって上記の問題が生じない場合には、凹部206の開口率が10μm未満でも40μmより大きくてもよい。なお、ここでいう開口幅とは凹部206の幅、即ち凹部206の短尺方向の長さのことをいう。
形成する凸パターン203の高さによって異なるが、凸パターン203及び凸部205が印刷工程に必要な強度を保つ目的で凸部205同士が凸パターン203の底部で接続されるように、凹部206の深さは凹部の底面が基材204に達しないことが望ましい。
複数の凹部206の開口幅は、上記の開口幅の範囲であればそれぞれが同一の幅であっても異なる幅であっても良く、同様に複数の凸部205の幅は、それぞれが同一の幅であっても異なる幅であっても良い。
脂を使用した場合は、加熱したロールで圧着した後、さらに硬化温度で加熱硬化を行うことが好ましい。光硬化性接着樹脂を使用した場合は、ロールで圧着した後、さらに光を照射することで硬化を行うことができる。なお、ここでは封止材上に樹脂層を形成したが、基板上に樹脂層を形成して封止材と貼りあわせることも可能である。
(感光性樹脂凸版104の作製)
厚さ250μmの42ニッケル材を基材204とし、この基材204の上に黒色顔料を混錬したアクリルバインダー樹脂溶液を乾燥膜厚が10μmになるように塗布して乾燥し、反射防止層を形成した。
被印刷基板106として、支持体上に設けられたスイッチング素子として機能する薄膜トランジスタと、その情報に形成された平坦化層と、平坦化層状にコンタクトホールによって前期薄膜トランジスタと導通が図られている画素電極とを備えたアクティブマトリクス基板を用いた。画素サイズは、130μm×450μmである。
赤色、緑色、青色(R、G、B)の3色からなる以下の有機発光インキは、キシレンに溶解し調整した。赤色発光インキ(R)は、ポリフルオレン系誘導体のトルエン溶液(住友化学社製赤色発光材料、商品名Red1100)である。緑色発光インキ(G)は、ポリフルオレン系誘導体のトルエン溶液(住友化学社製緑色発光材料、商品名Green1300)である。青色発光インキ(B)は、ポリフルオレン系誘導体のトルエン溶液(住友化学社製青色発光材料、商品名Blue1100)である。それぞれのインキ溶液の粘度は、50mPa・sである。
感光性樹脂凸版104を枚葉式の凸版印刷機の版胴105に固定した。次に、上記の有機発光インキを突版印刷機のインキタンクに供給し、インキ吐出部から600ライン/インチのハニカムアニロックスロール103に塗工し、ドクター102でかき取られた後、感光性樹脂凸版104の凸部205のラインパターンをインキングした。さらにインキングされた感光性樹脂凸版104は被印刷基板106に押し当てて転動され被印刷基板106の上にストライプパターンを印刷した。この工程を赤色有機発光層、緑色有機発光層、青色有機発光層それぞれに繰り返すことで有機発光層パターンを得た。
各色について印刷をおこなった後、オーブン内にて130℃で1時間乾燥を行った。
実施例2として、作製した凸パターン203の幅は60μmであること、画素サイズは80μm×150μmであること、使用した有機発光インキの粘度が120mPa・sであること、印刷工程において20枚の基板を連続に印刷を行った以外は、実施例1と同様に素子を作製した。
比較例1として、感光性樹脂凸版104の凸パターン203頂部に凹部を設けなかったこと以外は、実施例1と同様に素子を作製した。
比較例2として、感光性樹脂凸版104の凸パターン203頂部に設けた凹部の幅が50μmであること以外は、実施例1と同様に素子を作製した。
比較例3として、感光性樹脂凸版104の凸パターン203頂部に設けた凹部の深さが5μmであること以外は、実施例1と同様に素子を作製した。
比較例4として、凸パターン203頂部に凹部を設けなかったこと以外は、実施例2と同様に素子を作製した。
また、実施例2及び比較例4で作製される素子について、凸版印刷法で1枚目に印刷された素子と20枚目に印刷された素子について、蛍光顕微鏡を用いて画素内観察を行った結果と点灯表示確認を行い発光状態の観察を行った結果を表2に示す。
また、実施例1と比較例2との比較から、凸パターン上に設ける凹部の幅が40μmを超えると、印刷不良が発生することがわかる。
また、実施例1と比較例3との比較から、凸パターン上に設ける凹部の深さが10μm未満だと、印刷不良が発生することがわかる。
2・・・・・第一電極
3・・・・・正孔輸送層
41・・・・赤色有機発光層
42・・・・緑色有機発光層
43・・・・青色有機発光層
5・・・・・第二電極
7・・・・・隔壁
8・・・・・ガラスキャップ
9・・・・・接着剤
10・・・・被転写パターン
101・・・インキ補充装置
102・・・ドクター
103・・・アニロックスロール
104・・・印刷用凸版
105・・・版胴
106・・・被印刷基板
107・・・ステージ
108・・・インキ
108a・・インキパターン
111・・・支持体
112・・・活性層
113・・・ゲート絶縁膜
114・・・ゲート電極
116・・・ドレイン電極
117・・・平坦化層
118・・・コンタクトホール
120・・・TFT
201・・・被転写基板
202・・・インキ
203・・・凸パターン
204・・・基材
205・・・凸部
206・・・凹部
Claims (7)
- 基材上に複数の凸パターンを有し、前記凸パターンの突出方向の先端は被転写基板と接触してインキを転写する転写面として形成され、インキ供給手段によって前記転写面に供給されたインキを被転写基板に転写することで前記被転写基板上に被転写部を形成する、印刷用凸版を用いた凸版印刷法であって、
前記凸パターンの前記転写面には少なくとも一つ以上の凹部を有し、かつ前記インキ供給手段において前記凹部を除く前記転写面にインキを供給し、被転写基板に転写することを特徴とする凸版印刷法。 - 前記印刷用凸版の凹部の深さが10μm以上であることを特徴とする請求項1に記載の凸版印刷法。
- 前記印刷用凸版の凹部の開口幅が10以上40μm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の凸版印刷法。
- 前記印刷用凸版の凸パターンの幅が60μm以上500μm以下であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項記載の凸版印刷法。
- 凸版印刷法により発光媒体材料と溶剤とを含むインキを電極基板上に塗工し、発光媒体層を形成する有機EL素子の製造方法であって、
前記インキを電極基板上に塗工する工程は、
前記インキを請求項1乃至4の何れか1項に記載の凸版印刷法にて前記電極基板上に塗工する工程と、
からなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 前記インキの粘度が5mPa・s以上120mPa・s以下であることを特徴とする請求項5記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 請求項6に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法により製造されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
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