JP5210052B2 - 半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
- G03F7/70433—Layout for increasing efficiency or for compensating imaging errors, e.g. layout of exposure fields for reducing focus errors; Use of mask features for increasing efficiency or for compensating imaging errors
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
1a 有効ウェハ領域
1b オリエンレーションフラット
2、2A、2B 第1ショット領域
2x 非有効チップパターン
2y 有効チップパターン
3A、3B 第2ショット領域
3x 非有効チップパターン
3y 有効チップパターン
12 第1ショット領域
12x 非有効チップパターン
12y 有効チップパターン
13A、13B 第2ショット領域
13x 非有効チップパターン
13y 有効チップパターン
20 ステッパ(縮小投影露光装置)
21 光照射部
22 レチクル
23 レチクルステージ
24 レンズ
25 ウェハステージ
26 制御部
Claims (7)
- リソグラフィ工程で半導体ウェハ上にチップパターンを露光する際の半導体デバイスの製造方法において、
前記半導体ウェハ上に一方向の第1ショット領域のチップパターンを露光する第1の工程と、
前記第1の工程で前記半導体ウェハ上の周縁部における前記第1ショット領域の全ての前記チップパターンが有効でない領域に対して、前記第1ショット領域を90°回転させた第2ショット領域のチップパターンを露光する第2の工程と、
を含むことを特徴とする半導体デバイスの製造方法。 - 前記第1の工程では、前記半導体ウェハにおける有効なチップパターンを形成可能な有効ウェハ領域にて、前記第1ショット領域の少なくとも1個のチップパターンが有効である場合のみ、前記第1ショット領域のチップパターンを露光することを特徴とする請求項1記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記第2の工程では、前記半導体ウェハにおける有効なチップパターンを形成可能な有効ウェハ領域にて、前記第2ショット領域の少なくとも1個のチップパターンが有効である場合のみ、前記第2ショット領域のチップパターンを露光することを特徴とする請求項1又は2記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記第2の工程では、前記チップパターンに係るマスクパターンを有するレチクルを固定したまま、ウェハステージに載置された前記半導体ウェハを90°回転させて前記第2ショット領域のチップパターンを露光することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記第2の工程では、前記半導体ウェハを回転させないで、前記チップパターンに係るマスクパターンを有するレチクルを90°回転させて前記第2ショット領域のチップパターンを露光することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記チップパターンは、アスペクト比が2以上の矩形状の領域内に形成されたパターンであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記チップパターンは、液晶用駆動ドライバの回路パターンであることを特徴とする請求項6記載の半導体デバイスの製造方法。
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