JP5199741B2 - 超電導電磁石装置 - Google Patents
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Description
上記断熱絶縁材料は、複数層に巻かれたスーパーインシュレーションであり、上記スーパーインシュレーションの各層は両端を突き合わせた合わせ目を有し、上記合わせ目は、1層ごとまたは複数層ごとに下層の上記合わせ目がない位置にずらして配置されるものである。
上記断熱絶縁材料は、複数層に巻かれたスーパーインシュレーションであり、上記スーパーインシュレーションの各層は両端を突き合わせた合わせ目を有し、上記合わせ目は、1層ごとまたは複数層ごとに下層の上記合わせ目がない位置にずらして配置されるものであるので、上記磁性体シムの磁化率の変化を少なくすることができ、超電導電磁石装置の磁場均一度の悪化を抑制できる。
図1は、本発明に係る超電導電磁石装置の実施の形態1を示す断面図であり、図1(b)は図1(a)のA−A断面図である。
図1に示したように、本実施の形態1の超電導電磁石装置は、液体ヘリウム4が封入された円筒状の低温容器1と、低温容器1内に配置されて磁場を発生させる複数の超電導コイル3と、低温容器1が収納された円筒状の真空断熱容器2と、低温容器1の外壁面を取り囲むように配置された一つまたは複数の輻射熱シールド5と、真空断熱容器2の内周側外壁面に配置された鉄等からなる磁性体シム8と、磁性体シム8の内周側に配置され、画像処理のためのパルス磁場を発生させる傾斜磁場コイル7と、磁性体シム8と傾斜磁場コイル7との間に配置され傾斜磁場コイル7の熱が磁性体シム8に進入するのを抑制する複数層に巻かれたスーパーインシュレーション11等の断熱絶縁材とを備えている。MRI装置において、真空断熱容器2の内側空間6が被検者が入るための空間である。磁性体シム8は、内側空間6の中心部近傍に作られる均一磁場空間の磁場均一度を向上させている。
図2は、本発明に係る超電導電磁石装置の実施の形態2を示す断面図であり、図1と同一符号は、同一部分または相当部分を示す。
図3は、本発明に係る超電導電磁石装置の実施の形態3を示す断面図であり、図1と同一符号は、同一部分または相当部分を示す。
図4は、本発明に係る超電導電磁石装置の実施の形態4を示す断面図であり、図1と同一符号は、同一部分または相当部分を示す。
図5は、本発明に係る超電導電磁石装置の実施の形態5を示す断面図であり、図1と同一符号は、同一部分または相当部分を示す。
図6は、本発明に係る超電導電磁石装置の実施の形態6を示す断面図であり、図1と同一符号は、同一部分または相当部分を示す。
図7は、本発明に係る超電導電磁石装置の実施の形態7を示す断面図であり、図1と同一符号は、同一部分または相当部分を示す。
6 真空断熱容器の内側空間、7 傾斜磁場コイル、8 磁性体シム、
5 輻射熱シールド、11 スーパーインシュレーション、
12 スーパーインシュレーションの合わせ目、21 輻射熱断熱材、31 熱良導体、
31a 熱量導体板、41 絶縁シート。
Claims (6)
- 液体ヘリウムが封入された円筒状の低温容器と、上記低温容器内に配置されて磁場を発生させる複数の超電導コイルと、上記低温容器が収納された円筒状の真空断熱容器と、上記低温容器の外壁面を取り囲むように配置された輻射熱シールドと、上記真空断熱容器の内周側外壁面に取り付けられ上記真空断熱容器の内側空間の中心部近傍に上記超電導コイルによって作られる均一磁場空間の磁場均一度を向上させる複数個の磁性体シムと、上記磁性体シムの内周側に配置され画像処理のためのパルス磁場を発生させる傾斜磁場コイルと、上記磁性体シムと上記傾斜磁場コイルとの間に配置され上記傾斜磁場コイルの熱が上記磁性体シムに侵入するのを抑制する断熱絶縁材料とを備え、
上記断熱絶縁材料は、複数層に巻かれたスーパーインシュレーションであり、上記スーパーインシュレーションの各層は両端を突き合わせた合わせ目を有し、上記合わせ目は、1層ごとまたは複数層ごとに下層の上記合わせ目がない位置にずらして配置されることを特徴とする超電導電磁石装置。 - 上記磁性体シム同士を熱良導体で接続したことを特徴する請求項1に記載の超電導電磁石装置。
- 上記複数個の磁性体シム同士の内周面を接続する熱良導体の板を配置したことを特徴とする請求項1に記載の超電導電磁石装置。
- 上記磁性体シムの一部を上記真空断熱容器の内周側の内壁面に取り付けたことを特徴とする請求項1に記載の超電導電磁石装置。
- 上記磁性体シムの一部を上記低温容器の内周側外壁面に取り付けたことを特徴とする請求項1に記載の超電導電磁石装置。
- 上記スーパーインシュレーションの外周に絶縁シートを取り付けたことを特徴とする請求項1に記載の超電導電磁石装置。
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