JP5189909B2 - リフトオフ用ポジ型レジスト組成物 - Google Patents

Description

本発明は、リフトオフ用ポジ型レジスト組成物に関する。

従来より、半導体等の基板上にアルミニウム、銅、タンタル等の種々の金属配線パターンを形成する手段として、リフトオフ法が知られている。

リフトオフ法は、例えば、基板上にレジスト組成物を塗布してレジスト膜を設け、マスクを介して露光・現像して基板上にレジストパターンを形成した後、スパッタリング法、蒸着法等により、当該レジストパターンと基板との上に金属層を形成し、次いでレジストパターンと当該レジストパターン上の金属層を共に剥離して、基板上に金属配線パターンを形成するものである。

リフトオフ法においては、レジストパターンをマスクとして金属配線パターンを形成することから、金属配線パターンの精度がレジストパターンの形状により左右されることとなる。そのため、特に微細な金属配線パターンを精度よく形成しうる、リフトオフ法に適したレジスト組成物が望まれている。

リフトオフ法において望ましいレジストパターン形状としては、レジストパターンの下部（基板との接触部分）が内側に食い込んだ形状であるとされる（非特許文献１参照）。このような形状はマイクログルーブと呼ばれ、金属層形成時において、レジストパターン間に金属層が入り込みやすくなり、基板に対する接着性が良好な、矩形ないしテーパー型の金属配線パターンが形成できること、レジストパターンが基板から剥離しやすいこと、また、そのためレジストパターン剥離時に金属配線パターンの形状に悪影響を及ぼさないこと等の理由から、好ましいものとされている。

ここで、マイクログルーブを形成可能なレジスト組成物としては、特許文献１に（１）アルカリ可溶性樹脂として、ポリスチレン換算質量平均分子量が２０００から１００００である所定のノボラック樹脂、（２）溶解促進剤としてフェノール性水酸基を有し、且つベンゼン環の数が２個から５個である所定の低核体、（３）感光剤として所定の１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基を分子中に有し、エステル化率６５％以上の化合物、を配合してなることを特徴とするリフトオフ用ポジ型レジスト組成物が開示されている。
特開平８−０６９１１１号公報 Ｒｉｔｕｓｋｏ Ｎａｋａｎｏ ｅｔ ａｌ．，Ｊａｐａｎｅａｓｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ，ｖｏｌ．３０，Ｎｏ．１１Ｂ，Ｎｏｖｅｍｂｅｒ，１９９１，ｐｐ．３１２１−３１２４．

しかしながら、特許文献１のリフトオフ用ポジ型レジスト組成物を用いて形成されるレジストパターンにおけるマイクログルーブにおいては、必ずしも十分な食い込みが得られるわけではなく、更に食い込みの程度の大きいマイクログルーブを形成することが可能なポジ型レジスト組成物の開発が望まれていた。

従って、本発明は、従来のものより食い込みの程度が大きいマイクログルーブを形成可能であり、リフトオフ法による金属配線パターンの形成に好適なリフトオフ用ポジ型レジスト組成物を提供することを目的とする。

本発明者らは、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、感光剤（Ｂ）と、増感剤（Ｃ）と、を含有するリフトオフ用ポジ型レジスト組成物において、（Ｃ）成分として所定の増感剤を用い、更に所定の含有量としたとき、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

具体的には、本発明は以下のものを提供する。

本発明の第一の態様は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、感光剤（Ｂ）と、増感剤（Ｃ）と、を含有するリフトオフ用ポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分に対して、前記（Ｃ）成分の含有量が４０質量％以上８０質量％以下であり、前記（Ｃ）成分が下記化学式（１）又は（２）で表されるものであるリフトオフ用ポジ型レジスト組成物である。

本発明のリフトオフ用ポジ型レジスト組成物は、所定の増感剤（Ｃ）を（Ａ）成分に対して、４０質量％以上８０質量％以下含有するので、レジストパターンを形成したときに、食い込みの程度の大きなマイクログルーブを形成することができ、リフトオフ法による金属配線パターンの形成を好適に行うことができる。

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。

＜リフトオフ用ポジ型レジスト組成物＞
本発明のリフトオフ用ポジ型レジスト組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、感光剤（Ｂ）と、増感剤（Ｃ）と、を含有する。

［アルカリ可溶性樹脂（Ａ）］
本発明のリフトオフ用ポジ型レジスト組成物が含有するアルカリ可溶性樹脂としては、ポジ型レジスト組成物の被膜形成用樹脂として知られているフェノール樹脂、アクリル樹脂、スチレンとアクリル酸との共重合体、ヒドロキシスチレンの重合体、ポリビニルフェノール、ポリα−メチルビニルフェノール等を挙げることができる。これらの中でも特にフェノール樹脂が好ましく、フェノール樹脂の中でも、膨潤することなくアルカリ水溶液に容易に溶解し現像性に優れるノボラック樹脂が好適である。

フェノール樹脂としては、フェノール類とアルデヒド類との縮合反応生成物、フェノール類とケトン類との縮合反応生成物、ビニルフェノール系重合体、イソプロペニルフェノール系重合体、これらのフェノール樹脂の水素添加反応生成物等を挙げることができる。

前記フェノール樹脂を形成するフェノール類としては、例えばフェノール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−クレゾール、２，３−キシレノール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、３，４−キシレノール等のキシレノール類；ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−エチルフェノール、２，３，５−トリメチルフェノール、２，３，５−トリエチルフェノール、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、３−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール等のアルキルフェノール類；ｐ−メトキシフェノール、ｍ−メトキシフェノール、ｐ−エトキシフェノール、ｍ−エトキシフェノール、ｐ−プロポキシフェノール、ｍ−プロポキシフェノール等のアルコキシフェノール類；ｏ−イソプロペニルフェノール、ｐ−イソプロペニルフェノール、２−メチル−４−イソプロペニルフェノール、２−エチル−４−イソプロペニルフェノール等のイソプロペニルフェノール類；及びフェニルフェノール等のアリールフェノール類；４，４’−ジヒドロキシビフェニル、ビスフェノールＡ、レゾルシノール、ヒドロキノン、ピロガロール等のポリヒドロキシフェノール類等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらのフェノール類の中では、特にｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、及び２，３，５−トリメチルフェノールが好ましい。

前記アルデヒド類としては、例えばホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、トリオキサン、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、トリメチルアセトアルデヒド、アクロレイン、クロトンアルデヒド、シクロヘキサンアルデヒド、フルフラール、フリルアクロレイン、ベンズアルデヒド、テレフタルアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、α−フェニルプロピルアルデヒド、β−フェニルプロピルアルデヒド、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｏ−メチルベンズアルデヒド、ｍ−メチルベンズアルデヒド、ｐ−メチルベンズアルデヒド、ｏ−クロロベンズアルデヒド、ｍ−クロロベンズアルデヒド、ｐ−クロロベンズアルデヒド、ケイ皮アルデヒド等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらのアルデヒド類の中では、入手のしやすさからホルムアルデヒドが好ましいが、特に耐熱性を向上させるためにはヒドロキシベンズアルデヒド類とホルムアルデヒドを組み合わせて用いることが好ましい。

前記ケトン類としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジフェニルケトン等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。フェノール類とケトン類との組み合わせにおいては、ピロガロールとアセトンとの組み合わせが特に好ましい。

フェノール類とアルデヒド類又はケトン類との縮合反応生成物は、酸性触媒の存在下、公知の方法で製造することができる。その際の酸性触媒としては、塩酸、硫酸、ギ酸、シュウ酸、パラトルエンスルホン酸等を使用することができる。このようにして得られた縮合生成物は、分別等の処理を施すことによって低分子領域をカットしたものが耐熱性に優れているので好ましい。分別等の処理は、縮合反応により得られた樹脂を良溶媒、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、及びテトラヒドロフラン等に溶解し、次いで水中に注ぎ沈殿させる等の方法により行われる。

本発明においては、上記した中でも、特にｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、及び２，３，５−トリメチルフェノールのフェノール類から選ばれる数種の混合フェノールとホルムアルデヒドとの縮合によって得られるノボラック樹脂が好適である。

前記ビニルフェノール系重合体としては、例えばビニルフェノールの単独重合体、ビニルフェノールと該ビニルフェノールと共重合し得るコモノマーとの共重合体等を挙げることができる。このコモノマーとしては、例えばアクリル酸誘導体、アクリロニトリル、メタクリル酸誘導体、メタクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−クロロスチレン等のスチレン誘導体の他、無水マレイン酸、酢酸ビニル、アクリロニトリル等を挙げることができる。

前記イソプロペニルフェノール系重合体としては、例えばイソプロペニルフェノールの単独重合体、イソプロペニルフェノールと該イソプロペニルフェノールと共重合し得るコモノマーとの共重合体等を挙げることができる。このコモノマーとしては、例えばアクリル酸誘導体、アクリロニトリル、メタクリル酸誘導体、メタクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−クロロスチレン等のスチレン誘導体の他、無水マレイン酸、酢酸ビニル、アクリロニトリル等を挙げることができる。

前記フェノール樹脂の水素添加反応生成物は、フェノール樹脂を有機溶剤に溶解し、均一系又は不均一系で、水素添加触媒の存在下、水素を導入して製造される。

上記アルカリ可溶性樹脂は、低分子領域をカットした、質量平均分子量（Ｍｗ）２，０００以上２０，０００以下の範囲で選ぶことが好ましく、５，０００以上１５，０００以下の範囲で選ぶことが更に好ましい。ここで質量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算値である。質量平均分子量（Ｍｗ）が小さすぎると現像後の膜減りが大きくなる傾向がみられ、質量平均分子量（Ｍｗ）が大きすぎると現像速度が低下する傾向がみられる。

［感光剤（Ｂ）］
本発明のリフトオフ用ポジ型レジスト組成物が含有する感光剤としては、特に制限はなく、従来、ポジ型レジスト組成物の感光性成分として用いられていたものを挙げることができる。例えば、ナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸エステル化合物、オルトベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、オルトアントラキノンジアジドスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらの中でも、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロライド、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロライド、ナフトキノン−１，２−ジアジド−６−スルホニルクロライド等のナフトキノン−１，２−ジアジドスルホニルハライドと、ヒドロキシ化合物とのエステル化物を用いることが好ましい。

上記態様におけるヒドロキシ化合物としては、例えば以下に示す（ｉ）から（ｉｉｉ）の化合物を挙げることができる。

（ｉ）２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４，４’，６−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，４’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，５’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４，５，５’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，３，３’，４，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等のポリヒドロキシベンゾフェノン類；

（ｉｉ）下記一般式（Ｉ）で表されるヒドロキシアリール類；

［式中、Ｒ^１からＲ^８はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシル基、又はシクロアルキル基を表し；Ｒ^９〜Ｒ^１１はそれぞれ独立に水素原子又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基を表し；Ｑは水素原子、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、Ｒ^９と結合して形成される炭素原子鎖３以上６以下のシクロ環、又は下記の化学式で表される残基（ＩＩ）を表し；ａ、ｂは１以上３以下の整数を表し；ｄは０以上３以下の整数を表し；ｎは０以上３以下を表す。］

［式中、Ｒ^１２及びＲ^１３はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシル基、又はシクロアルキル基を表し；ｃは１以上３以下の整数を表す。］

（ｉｉｉ）フェノール、ｐ−メトキシフェノール、ジメチルフェノール、ヒドロキノン、ビスフェノールＡ、ナフトール、ピロカテコール、ピロガロールモノメチルエーテル、ピロガロール−１，３−ジメチルエーテル、没食子酸、部分エステル化又は部分エーテル化没食子酸等のフェノール類等が挙げられる。

なお、上記態様においては、例えば上記ナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸ハライドと前記したヒドロキシ化合物とを縮合反応させ、完全エステル化又は部分エステル化を行うことができる。この縮合反応は、通常例えばジオキサン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド等の有機溶媒中、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、炭酸アルカリ、及び炭酸水素アルカリのような塩基性縮合剤の存在下で行うのが好ましい。この際、ヒドロキシ化合物の水酸基の合計モル数に対し５０％以上、好ましくは６０％以上のモル数の例えばナフトキノン−１，２−ジアジド−４（又は５）−スルホニルハライドを縮合させたエステル（すなわち、エステル化率が５０％以上、好ましくは６０％以上のエステル）を用いるとより優れた高解像性を得ることができるので好ましい。

なお、ヒドロキシ化合物の水酸基の一部が、特開平９−４３８４１号公報に記載のように、ナフトキノンジアジドスルホン酸ハロゲン化物以外のスルホン酸ハロゲン化物でエステル化されていてもよい。すなわち、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物及びナフトキノンジアジドスルホン酸ハロゲン化物とヒドロキシ化合物とのエステル化物も好適に用いることができる。

［式中、Ｒ^１４はアルキル基、置換基を有するアルキル基、アルケニル基、アリール基、又は置換基を有するアリール基を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。］

具体的にはメタンスルホン酸クロライド、メタンスルホン酸フルオライド、エタンスルホン酸クロライド、ｎ−プロパンスルホン酸クロライド、ｎ−ブタンスルホン酸クロライド、ペンタンスルホン酸クロライド、ドデカンスルホン酸クロライド等の炭素原子数１以上１２以下のアルカンスルホン酸ハライド類；クロロメチルスルホン酸クロライド、ジクロロメチルスルホン酸クロライド、トリクロロメチルスルホン酸クロライド、２−クロロエチルスルホン酸クロライド等の炭素原子数１以上１２以下の置換アルカンスルホン酸ハライド類；エチレンスルホン酸クロライド、１−プロペン−１−スルホン酸クロライド等の炭素原子数２以上３以下のアルケンスルホン酸ハライド類；ベンゼンスルホン酸クロライド、ベンゼンスルホン酸フルオライド、ベンジルスルホン酸クロライド、１−ナフタレンスルホン酸クロライド等のアリールスルホン酸ハライド類；ｐ−トルエンスルホン酸クロライド、ｐ−エチルベンゼンスルホン酸クロライド、ｐ−スチレンスルホン酸クロライド、ｐ−メトキシベンゼンスルホン酸クロライド等のアルキル−、アルケニル−、アルコキシ−置換アリールスルホン酸ハライド類等及びナフトキノンジアジドスルホンハロゲン化物と、ヒドロキシ化合物とのエステル化物が挙げられる。

上記のエステル化物の中でも、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−６−メチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタン、１−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン、ビス［２，５−ジメチル−３−（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−ヒドロキシフェニル］メタン等のナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸エステル化物を用いることが好ましい。

感光剤の配合量は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と増感剤（Ｃ）との合計量に対して、２０質量％以上５０質量％以下の範囲内であることが好ましく、２５質量％以上４０質量％以下の範囲内であることが更に好ましい。感光剤の含有量が５０質量％以下であることにより感度に優れるポジ型レジスト組成物を得ることができ、２０質量％以上であることにより未露光部の膜減りや、解像性の劣化が生じることがなく、パターンに忠実な画像が得られる。

［増感剤（Ｃ）］
本発明のリフトオフ用ポジ型レジスト組成物は、下記化学式（１）又は（２）で表される増感剤を含有する。リフトオフ用ポジ型レジスト組成物がこれらの増感剤を含有することにより、食い込みの程度の大きなマイクログルーブを有するレジストパターンを形成することができ、リフトオフ法による金属配線パターンの形成を好適に行うことができる。

増感剤の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）に対して、４０質量％以上８０質量％以下であり、５０質量％以上６０質量％以下であることが好ましい。増感剤の含有量が、上記範囲内にあることにより、食い込みの程度の大きなマイクログルーブを有するレジストパターンを好適に形成することができる。

［その他の成分］
本発明のリフトオフ用ポジ型レジスト組成物には、解像度、露光余裕度、及び残膜率の向上を目的として各種添加剤を添加してもよい。例えばｐ−トルエンスルホン酸クロライド（ＰＴＳＣ）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、１，４−ビス〔１−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）イソプロピル〕ベンゼン、１，３−ビス〔１−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）イソプロピル〕ベンゼン等を、リフトオフ用ポジ型レジスト組成物の全量に対して、それぞれ０．０１質量％から１０質量％程度の範囲内で添加してもよい。

本発明のポジ型ホトレジスト組成物には、更に必要に応じて、相溶性のある添加物、例えばハレーション防止のための紫外線吸収剤、例えば４−ジメチルアミノ−２’，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、５−アミノ−３−メチル−１−フェニル−４−（４−ヒドロキシフェニルアゾ）ピラゾール、４−ジメチルアミノ−４’−ヒドロキシアゾベンゼン、４−ジエチルアミノ−４’−エトキシアゾベンゼン、４，４’−ジエチルアミノアゾベンゼン、クルクミン等や、またストリエーション防止のための界面活性剤、例えばフロラードＦＣ−４３０、及びＦＣ４３１（商品名、住友スリーエム株式会社製）；並びにエフトップＥＦ１２２Ａ、ＥＦ１２２Ｂ、ＥＦ１２２Ｃ、ＥＦ１２６（商品名、トーケムプロダクツ株式会社製）等のフッ素系界面活性剤等を本発明の目的に支障のない範囲で添加して含有させることができる。

また本発明のポジ型ホトレジスト組成物は、上記した各成分を適当な溶剤に溶解して溶液の形で用いることが好ましい。このような溶剤の例としては、従来のポジ型ホトレジスト組成物に用いられる溶剤を挙げることができ、例えばアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソアミルケトン、２−ヘプタノン等のケトン類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート、及びこれらのモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル、モノフェニルエーテル等の多価アルコール類、並びにその誘導体；ジオキサンのような環式エーテル類；並びに乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。とくにアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソアミルケトン、２−ヘプタノン等のケトン類；及び乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類を用いることが好ましい。

＜リフトオフ用レジストパターンの形成方法＞
本発明のリフトオフ用ポジ型レジスト組成物を用いたリフトオフ用レジストパターンの形成方法においては、基板上に本発明のリフトオフ用ポジ型レジスト組成物を塗布し、レジスト層を形成する工程と、レジスト層を露光する工程と、露光後のレジスト層を現像してレジストパターンを形成する工程を含む。

具体的には、まず、シリコンウェハーやガラス等の支持体上に、本発明のリフトオフ用ポジ型レジスト組成物をスピンナー等で塗布し、乾燥してレジスト層を形成させ、次いでマスクパターンを介して、可視光線、紫外線、エキシマレーザー、Ｘ線等の電磁波、特に３００ｎｍから５００ｎｍの波長の光を照射し、１００℃から１４０℃で１秒から９０秒加熱処理する。１００℃から１４０℃で加熱処理することにより良好なマイクログルーブの形成を促進することができる。

次に、露光後のレジスト層を例えば１質量％から１０質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液のようなアルカリ水溶液に浸漬し、露光部を選択的に溶解除去する。これにより、マイクログルーブを有し、マスクパターンに忠実なレジストパターンを得ることができる。

なお、現像後のレジストパターンは、必要に応じてリンス液で洗浄することが好ましい。このようなリンス液としては、特に限定されるものではないが、例えば水及び界面活性剤を含有するリンス液を使用することができる。この場合、界面活性剤としては、アミンオキシド系界面活性剤を使用することが好ましく、界面活性剤の含有量は、１００質量ｐｐｍ以上３質量％以下であることが好ましい。

形成されたレジストパターンに対しては、蒸着、スパッタリング等の方法により当該レジストパターンを有する基板表面の全面にアルミニウム、銅、タンタル等の金属層を形成し、その後、レジストパターンをその上部に形成された金属層と一緒に剥離液により剥離することにより、レジストパターン以外の基板表面上に金属配線パターンを形成することが出来る。得られた金属配線パターンは、矩形ないしはテーパー型の精度のよいパターンとなる。

以下、本発明の実施例について詳細に説明する。なお、本発明は、以下に示す実施例に何ら限定されるものではない。

＜実施例１＞
ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、及び３，５−キシレノールをモル比で５：３：２となるように混合し、この混合物をシュウ酸触媒を用いてホルマリンで常法により縮合させて、質量平均分子量６０００のアルカリ可溶性樹脂を得た。このアルカリ可溶性樹脂１００質量部に対し、没食子酸イソアミルと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロライドとの３モルエステル化物４７質量部、上記化学式（２）で示す増感剤６０質量部、メチルアミルケトン３８０質量部を添加して、均一に混合し、リフトオフ用ポジ型レジスト組成物を得た。

＜実施例２＞
ｍ−クレゾール、及びｐ−クレゾールをモル比で３６：６４となるように混合し、この混合物をシュウ酸触媒を用いてホルマリンで常法により縮合させて、質量平均分子量５０００のアルカリ可溶性ノボラック樹脂を得た。このアルカリ可溶性ノボラック樹脂１００質量部に対し、没食子酸イソアミルと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロライドとの３モルエステル化物２３．５質量部、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロライドとの２．５モルエステル化物２３．５質量部、上記化学式（１）で示す増感剤６０質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル４８０質量部を添加して、均一に混合し、リフトオフ用ポジ型レジスト組成物を得た。

＜実施例３＞
ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、及び３，５−キシレノールをモル比で５：３：２となるように混合し、この混合物をシュウ酸触媒を用いてホルマリンで常法により縮合させて、質量平均分子量６０００のアルカリ可溶性樹脂を得た。このアルカリ可溶性樹脂１００質量部に対し、没食子酸イソアミルと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロライドとの３モルエステル化物３４質量部、上記化学式（２）で示す増感剤１５．６質量部、メチルアミルケトン２９０質量部を添加して、均一に混合し、リフトオフ用ポジ型レジスト組成物を得た。

＜比較例１＞
ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、及び３，５−キシレノールをモル比で５：３：２となるように混合し、この混合物をシュウ酸触媒を用いてホルマリンで常法により縮合させて、質量平均分子量６０００のアルカリ可溶性樹脂を得た。このアルカリ可溶性樹脂１００質量部に対し、没食子酸イソアミルと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロライドとの３モルエステル化物２０質量部、下記化学式（３）で示す増感剤（４，６−ビス［２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）イソプロピリデン］レゾルシノール）４０質量部、メチルアミルケトン３００質量部を添加して、均一に混合し、リフトオフ用ポジ型レジスト組成物を得た。

［評価］
実施例１から３、並びに比較例１で調製したリフトオフ用ポジ型レジスト組成物を、スピンナーを用いてシリコンウェハー上に塗布し、ホットプレートで９０℃、９０秒間乾燥して、膜厚２μｍのレジスト膜を得た。この膜に縮小投影露光装置を用いて、３６５ｎｍのｉ線を、５．０μｍのマスクパターンで、０．１５秒から０．５秒露光し、次いで１１０℃で９０秒間加熱した後、２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で６０秒間現像し、０．０５質量％のアルキルジメチルアミンオキシドを含有するリンス液で２０秒間洗浄した。得られたレジストパターンを走査型電子顕微鏡で観察し、マイクログルーブにおける食い込みの程度を評価した。結果を表１に示す。なお、実施例１については、現像後の洗浄においてアルキルジメチルアミンオキシドを含まないリンス液により２０秒間洗浄した場合における評価も行った。これを表１中、括弧書きで示した。

表１より、上記化学式（１）及び（２）で表される増感剤を用いたリフトオフ用ポジ型レジスト組成物では、食い込みの程度の大きなマイクログルーブを有するレジストパターンが得られているのに対し、上記化学式（３）で表される増感剤を用いたリフトオフ用ポジ型レジスト組成物では、マイクログルーブを有するレジストパターンは得られていないことが分かる。以上より、本発明のリフトオフ用ポジ型レジスト組成物を用いることにより、食い込みの程度の大きなマイクログルーブを有するレジストパターンを得られることが分かる。

Claims (2)

1. アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、感光剤（Ｂ）と、増感剤（Ｃ）と、を含有するリフトオフ用ポジ型レジスト組成物であって、
   前記（Ａ）成分に対して、前記（Ｃ）成分の含有量が４０質量％以上８０質量％以下であり、
   前記（Ｃ）成分が下記化学式（１）又は（２）で表されるものであるリフトオフ用ポジ型レジスト組成物。
   

   
2. 前記（Ａ）成分と（Ｃ）成分との合計１００質量部に対して、前記（Ｂ）成分を２０質量部以上５０質量部以下含有する請求項１に記載のリフトオフ用ポジ型レジスト組成物。