JP5186164B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、広視野角特性を有し、色再現性に優れた液晶表示装置に関する。

液晶表示素子（液晶表示パネルとも呼ばれる）やエレクトロルミネセンス素子（用いる蛍光材料により有機系、無機系に別れる、以下、ＥＬ素子）、電界放出素子（Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｅｖｉｃｅ、以下、ＦＥＤ素子）、電気泳動素子等を用いた表示装置は、ブラウン管（ＣＲＴ：Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）のように表示画面の裏側に電子線を２次元的に走査するための空間（真空筐体）を設けることなく画像表示を行う。従って、これらの表示装置は、ブラウン管に比べて、薄く軽量であること、消費電力が低いこと等の特徴を持つ。これらの表示装置は、その外観上の特徴からフラット・パネル・ディスプレイ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）と呼ばれることがある。

液晶表示素子、ＥＬ素子、又は電界放出素子等を用いた表示装置は、ブラウン管に対する上述の利点から、ノートパソコン、パソコン用モニターなどのＯＡ機器、携帯端末、テレビなど各種用途においてブラウン管を用いた表示装置に代わり広く普及しつつある。ブラウン管からフラット・パネル・ディスプレイへの置き換えが進んだ背景には、液晶表示素子やＥＬ素子等の視野角特性や表示色再現性領域の拡大等の画質向上といった技術革新がある。また最近はマルチメディアやインターネットの普及により、動画表示性能の向上もある。さらには電子ペーパーや大型の公共、広告用情報ディスプレイといったＣＲＴには実現できない分野への進出もある。

液晶表示装置は、通常、液晶セルと液晶セルに表示信号電圧を送る駆動回路、バックライト（背面光源）、入力画像信号を駆動回路に送る信号制御システムを含み、これらを合せて液晶モジュールと呼ぶ。
液晶セルは、通常、液晶分子、それを封入、挟持するための二枚の基板及び液晶分子に電圧を加えるための電極層からなり、さらにその外側に偏光板が配置される。偏光板は、通常、保護膜と偏光膜とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護膜にて積層して得られる。透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償シートを配置することもある。また、反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償シート及び偏光板の順に配置する。液晶セルは、液晶分子の配向状態の違いで、ＯＮ−ＯＦＦ表示を行い、透過型、反射型及び半透過型のいずれにも適用できる。

光の波長毎に最適な値に光学的性質が設計された光学補償シートを用いると、色変化の少ない広視野特性を有する液晶表示装置を提供することができる。これら従来の液晶表示装置では、光学補償フィルムのレターデーションの波長分散を制御することで、色変化を改善することが試みられている（特許文献１）。またカラーフィルタ各色の面内レターデーション値（Ｒｅ）を色ごとに変えることにより、表示色のバランスをとることも試みられている（特許文献２）。
特開平２００２−２２１６２２号公報 特開平５−１９６９３１号公報

しかし、前記従来の液晶表示装置では、全ての波長で改善することができず、また、斜め方向から観察した際の着色を十分には改善できない。
従って、本発明は、広い視野角において優れた色再現性を有する液晶表示装置を提供することを課題とする。
また、従来の液晶表示装置では、黒表示時に斜めから観察すると、青色や赤色に着色するいわゆるカラーシフトの問題が解決されていなかった。
従って、本発明は、黒表示時に斜めから観察した場合においても、カラーシフトが観察されない、又はカラーシフトが軽減された液晶表示装置を提供することを課題とする。

課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］ 少なくとも、液晶セルと、該液晶セルの外側の少なくとも一方に配置された偏光板（第１の偏光板）とを有し、前記液晶セルが、少なくとも、電極を一方に有する対向配置された一対の基板と、該基板間に挟持された液晶層とを有するとともに、少なくとも３つの絵素領域を含み、前記３つの絵素領域上に、透過率に波長選択性を有するカラーフィルタが配置され、それぞれの絵素領域に設けられたカラーフィルタの最大透過率をとる主波長を小さい方から順にλ₁、λ₂、及びλ₃（単位ｎｍ）、これらそれぞれの絵素領域における前記液晶層の厚さを順にｄ₁、ｄ₂、及びｄ₃（単位：ｎｍ）とした時、下記式（１）を満たすことを特徴とする液晶表示装置：
式（１）：ｄ₂ ＜ ｄ₃ 。
［２］ さらに、下記式（２）を満たすことを特徴とする［１］の液晶表示装置：
式（２）：ｄ₁ ＜ ｄ₂ ＜ ｄ₃ 。
［３］ 前記３つの絵素領域上に配置されたカラーフィルタの厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）のうち、少なくとも２つの絵素領域に配置されたカラーフィルタのＲｔｈが互いに異なることを特徴とする［１］又は［２］の液晶表示装置。
［４］ 前記カラーフィルタが、下記式（Ｉ）及び（ＩＩ）を満たすことを特徴とする［１］〜［３］のいずれかの液晶表示装置：
（Ｉ） ｜Ｒｅ（６３０）｜≦１０、かつ、｜Ｒｔｈ（６３０）｜≦４０
（ＩＩ） ｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦１０、かつ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦３５
上記式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーション値（ｎｍ）を表し、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーション値（ｎｍ）を表す。

［５］ 下記式（III）及び（IV）を満たす第１の光学異方性層と、面内に少なくとも一つの光軸を有する第２の光学異方性層とをさらに有することを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの液晶表示装置：
式（III） ０ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）≦３００ｎｍ
式（IV） Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）＞１０ 。
［６］ 前記第１の光学異方性層が、下記式（Ｖ）〜（VII）を満足することを特徴とする［５］の液晶表示装置：
式（Ｖ） Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≧１
式（VI） Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１
式（VII） −３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）≦０ｎｍ 。
［７］ 前記第２の光学異方性層が、下記式（VIII）及び（IX）を満足することを特徴とする［５］又は［６］の液晶表示装置：
式（VIII） ５５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３１５ｎｍ
式（IX） ０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２７５ｎｍ 。
［８］ 前記第１の偏光板と前記液晶セルとの間に光学異方性層Ａを有し、該光学異方性層Ａが、下記式（XV）及び（VXI）を満たし、及び該光学異方性層Ａの遅相軸を前記第１の偏光板の吸収軸と同一平面に投影したとき、該投影軸が前記吸収軸と平行となることを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの液晶表示装置：
（XV） ３０ｎｍ ≦ Ｒｅ（５５０）≦８０ｎｍ
（XVI） ７５ｎｍ ≦ Ｒｔｈ（５５０）≦１５５ｎｍ 。
［９］ 前記第１の偏光板とともに、前記液晶セルを挟んで配置され、且つ第１の偏光板の吸収軸と直交した吸収軸を有する第２の偏光板を有し、該第２の偏光板と前記液晶セルとの間に、光学異方性層Ｂを有し、該光学異方性層Ｂが、前記式（XV）及び（XVI）を満たし、及び該光学異方性層Ｂの遅相軸を前記第２の偏光板の吸収軸と同一平面に投影したとき、該投影軸が前記吸収軸と平行となることを特徴とする［８］の液晶表示装置。
［１０］ 前記光学異方性層Ａ及びＢのそれぞれの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）、及び液晶層のΔｎ（５５０）×ｄが、下記式（XVII）の関係を満たすことを特徴とする［９］の液晶表示装置：
（XVII） ０．７≦（２×Ｒｔｈ（５５０））／Δｎ（５５０）×ｄ≦１．３
ここで、Δｎ（５５０）は５５０ｎｍにおける液晶層の厚み方向の屈折率異方性、ｄは液晶層の平均厚さ（ｎｍ）を示す。

［１１］ 前記光学異方性層のうち少なくとも一方が、少なくとも一種のポリマーと、添加剤の少なくとも一種とを含有し、該添加剤の少なくとも一種が液晶性化合物であることを特徴とする［５］〜［１０］のいずれかの液晶表示装置。
［１２］ 少なくとも一種の液晶性化合物を、０．１〜３０質量％含有し、及び該液晶性化合物の全添加剤に対する質量比が４０〜１００質量％であることを特徴とする［１１］の液晶表示装置。
［１３］ 二種類以上の液晶性化合物を、０．１〜３０質量％含有し、該二種類以上の液晶性化合物の全添加剤に対する質量比が５０〜１００質量％であることを特徴とする［１１］又は［１２］の液晶表示装置。

［１４］ 前記液晶性化合物として、下記式（Ａ）で表される化合物及び下記式（ａ）で表される棒状化合物をそれぞれ少なくとも一種含有することを特徴とする［１１］〜［１３］のいずれかの液晶表示装置。

（式中、Ｌ¹及びＬ²は各々独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａ¹及びＡ²は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は各々独立に置換基を表す。
Ｘは６族、５族又は４族原子を表す。ｎは０から２までの整数を表す。）
一般式（ａ）：Ａｒ¹−Ｌ¹²−Ｘ−Ｌ¹³−Ａｒ²
上記一般式（ａ）において、Ａｒ¹及びＡｒ²はそれぞれ独立に、芳香族基であり；Ｌ¹²及びＬ¹³はそれぞれ独立に、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−基であり；Ｘは、１，４−シクロへキシレン基、ビニレン基又はエチニレン基である。

［１５］ 前記光学異方性層のうち少なくとも一方が、ノルボルネン系ポリマーフィルムからなることを特徴とする［５］〜［１４］のいずれかの液晶表示装置。
［１６］ 前記光学異方性層のうち少なくとも一方が、セルロースアシレート系フィルムからなることを特徴とする［５］〜［１４］のいずれかの液晶表示装置。
［１７］ 前記セルロースアシレートフィルム中に主成分として含まれるセルロースアシレートのアシル置換基が、アセチル、プロピオニル及びブチリルから選択される少なくとも一種であることを特徴とする［１６］の液晶表示装置。
［１８］ 前記光学異方性層のうち少なくとも一方が、Ｒｔｈ発現剤の少なくとも一種を含有することを特徴とする［５］〜［１７］のいずれかの液晶表示装置。
［１９］ 前記Ｒｔｈ発現剤が、２５０ｎｍ〜３８０ｎｍに吸収極大がある化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする［１８］の液晶表示装置。

［２０］ 前記Ｒｔｈ発現剤として、下記式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする［１８］又は［１９］の液晶表示装置。

（式中、Ｘ¹は、単結合、−ＮＲ⁴−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ²は、単結合、−ＮＲ⁵−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ³は、単結合、−ＮＲ⁶−、−Ｏ−又はＳ−である。また、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基であり；Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基である。）

［２１］ 前記式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を、０．１〜３０質量％含有することを特徴とする［２０］の液晶表示装置。
［２２］ 前記光学異方性層の厚みが、３０〜２００μｍであることを特徴とする［５］〜［２１］のいずれかの液晶表示装置。
［２３］ 電界の印加により、液晶分子の配向が基板面に垂直方向に変化し、液晶層の透過率が減少する、平行配向型ＥＣＢモードであることを特徴とする［１］〜［２２］のいずれかの液晶表示装置。
［２４］ ベンド配向表示モードであることを特徴とする［１］〜［２２］のいずれかの液晶表示装置。
［２５］ ＴＮ表示モードであることを特徴とする［１］〜［２２］のいずれかの液晶表示装置。
［２６］ ＶＡ表示モードであることを特徴とする［１］〜［２２］のいずれかの液晶表示装置。

本発明によれば、広い視野角において優れた色再現性を有する液晶表示装置を提供することができる。また、本発明によれば、黒表示時に斜めから観察した場合においても、カラーシフトが観察されない、又はカラーシフトが軽減された液晶表示装置を提供することができる。

発明の実施の形態

以下に本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
まず、本明細書で用いられる用語について、説明する。
（レターデーション、Ｒｅ、Ｒｔｈ）
本明細書において、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション（ｎｍ）及び厚さ方向のレターデーション（ｎｍ）を表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ｉ）及び式（II）よりＲｔｈを算出することもできる。

注記：
上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。また、式中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。

測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。

本明細書において、角度について、「＋」は反時計周り方向を意味し、「−」は時計周り方向を意味するものとする。また、液晶表示装置上方向を１２時方向、下方向を６時方向としたときに、角度方向の絶対値０°方向とは３時方向（画面右方向）を意味することとする。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「可視光領域」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのことをいう。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
また、各軸・方向間の角度について、「平行」、「垂直」、「４５°」等という場合には、「おおよそ平行」「おおよそ垂直」「おおよそ４５°」の意であり、厳密なものではない。それぞれの目的を達成する範囲内での、多少のズレは許容される。例えば「平行」とは、交差角がおおよそ０°ということであり、−１０°〜１０°、好ましくは−５°〜５°、より好ましくは−３°〜３°である。「垂直」とは、交差角がおおよそ９０°ということであり、８０°〜１００°、好ましくは８５°〜９５°、より好ましくは８７°〜９３°である。「４５°」とは、交差角がおおよそ４５°ということであり、３５°〜５５°、好ましくは４０°〜５０°、より好ましくは４２°〜４８°である。

また、本明細書では、「偏光膜（偏光フィルム）」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。

本発明は、それぞれの絵素領域に設けられたカラーフィルタの最大透過率をとる主波長を小さい方から順にλ₁、λ₂、及びλ₃（単位ｎｍ）、これらそれぞれの絵素領域における液晶層の厚さを順にｄ₁、ｄ₂、及びｄ₃（単位：ｎｍ）とした時、下記式（１）を満たすことを特徴とする液晶表示装置に関する。
式（１）：ｄ₂ ＜ ｄ₃ 。
すなわち、本発明は、液晶セルの液晶層の厚さを、各絵素領域ごとに異ならせることによって、黒表示時の着色、いわゆるカラーシフトの問題を改善するものである。
さらに発明においては、下記式（２）を満足することがより好ましい。
式（２）：ｄ₁ ＜ ｄ₂ ＜ ｄ₃ 。

以下、本発明について詳細に説明する。
光の波長毎に最適な値に光学的性質が設計された光学補償フィルムを用いると、色変化の少ない広視野特性を有する液晶表示装置を提供することができるが、このような理想の光学補償フィルムを作製することは工業的に難しい場合がある。本発明においては、従来の光学補償フィルムをそのまま用い、この従来の光学補償フィルムのレターデーション波長依存性に合わせて、液晶セルの液晶層の絵素領域ごとのレターデーションを設計するものである。
特に本発明の発明者らは、現行の光学補償フィルムの多くは、面内レターデーションは光の波長が短波長のほうが大きいことに鑑み、各絵素ごとの液晶層の厚みの間に、前記（１）式の関係が成立する場合に、好ましい効果を得ることができることを見出した。特に液晶表示装置の絵素領域は、少なくとも３絵素（例えば、Ｒ，Ｇ，Ｂの３絵素）に分かれており，各絵素の液晶層の厚さはカラーフィルタの厚さを調整することで、独立に制御が可能である。

以下、本発明をＥＣＢモードの液晶表示装置に適用した実施の形態について、図面を参照して説明する。
（ＥＣＢモード型液晶表示装置）
図１に示すＥＣＢモードの液晶表示装置は、液晶セルＬＣ（１〜５）と、液晶セルＬＣを挟持して配置される一対の上側偏光板Ｐ１及び下側偏光板Ｐ２を有する。
液晶セルＬＣの上側基板１のラビング方向２と、下側基板３のラビング方向４は平行に設定してあり、液晶層はツイスト構造を持たない平行配向となっている。上側基板１と下側基板３は、それぞれ、配向膜（図示せず）と電極層（図示せず）を有する。配向膜は液晶性分子５を配向させる機能を有する。電極層は液晶性分子５に電圧を印加する機能を有する。電極層は、通常透明なインヂウムチンオキサイド（ＩＴＯ）からなる。

平行モードの液晶層の一例として、上下基板間に誘電異方性Δεが＋８．５程度で、屈折率異方性Δｎ＝０．０８５４（５８９ｎｍ、２０°Ｃ）程度の液晶（例えば、メルク社製のＭＬＣ−９１００）からなる液晶層が挙げられる。液晶層の厚さｄは３．５μｍ程度に設定することができる。ここで厚さｄと屈折率異方性Δｎの積Δｎ・ｄの大きさにより白表示時の明るさが変化する。このため最大の明るさを得るために、好ましくは、０．２〜０．４μｍの範囲になるように設定するのが好ましい。

図１には詳細な構造を示さないが、液晶セルＬＣは３つの絵素領域を含み、各絵素領域における液晶層の厚みが互いに異なっている。液晶層の厚みを絵素領域間で変化させる方法については特に制限されない。例えば、液晶セルの対向面に形成される各層、例えば、配向層、電極層、光学異方性層、カラーフィルタ層等のいずれか１つ又は２以上の層について、各絵素領域に応じて、その厚みを変えることで、各絵素領域における液晶層の厚みを互いに異なる厚さとすることができる。特に、カラーフィルタ層の厚みを絵素領域ごとに異なる厚さにして、液晶層の厚みを変化させるのが好ましい。より具体的には、例えば、基板（１又は３）の対向面に、Ｒ層、Ｇ層及びＢ層の厚さが互いに異なるＲＧＢカラーフィルタを形成して、各絵素領域における液晶層の厚みを異ならせるのが好ましい。その他、基板１又は３として、その厚みが互いに異なる領域を複数有する基板を用いて、各絵素領域に対応する位置の液晶層を、互いに異なる厚みとしてもよい。また、基板の内面に形成される他の層、例えば、トップコート膜等の厚みを、各絵素領域の色に対応する位置ごとに厚みを変えることによって、上記式（１）、好ましくは上記式（２）を満足する液晶セルを作製してもよい。

図１において、液晶セルの外側に配置される上側偏光板Ｐ１は、偏光フィルム８ａと、偏光フィルム８ａの表面に配置される保護フィルム６ａ及び１０ａと、光学異方性層１２ａとを有する楕円偏光板である。同様に液晶セルの外側に配置される下側偏光板Ｐ２は、偏光フィルム８ｂと、偏光フィルム８ｂの表面に配置される保護フィルム６ｂ及び１０ｂと、光学異方性層１２ｂとを有する楕円偏光板である。偏光板の吸収軸９ａ及び９ｂは液晶セル配向方向（ラビング方向２及び４）と概略４５°交差し、かつ上下偏光板吸収軸９ａ及び９ｂの交差角は概略９０°の直交ニコルである。光学異方性層１２ａ及び１２ｂは、黒表示時に液晶層に残留するレターデーションを補償し、コントラストの向上に寄与する。光学異方性層１２ａ及び１２ｂは、例えば、液晶性化合物を含有する組成物から形成することができる。中でも、円盤状液晶性化合物を含有する組成物から形成するのが好ましい。例えば、円盤状液晶性化合物を含有する組成物を塗布液として調製し、１１ａ及び１１ｂの方向にラビング軸を有するラビング処理面に該塗布液を塗布し、円盤状化合物の分子をラビング軸１１ａ及び１１ｂに応じて配向させて、その配向状態に固定することで作製することができる。図１では、保護フィルム１０ａ及び１０ｂは、光学異方性層１２ａ及び１２ｂの支持体を兼ねている。勿論、光学異方性層とポリマーフィルム等からなる支持体とを有する光学補償シートを、偏光板とは別に配置してもよい。

下側偏光板Ｐ２の外側に配置されたバックライト（不図示）から光が入射する場合を考える。液晶セル基板１及び３のそれぞれの透明電極（不図示）に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶層中の液晶性分子５は、基板１及び３の面に対して概略平行に配向している。偏光フィルム８ｂによって所定の偏光状態となった光は、液晶性分子５の複屈折効果により偏光状態を変化させて、その結果、偏光膜８ａを通過する。この時透過光が最大となるように液晶層のΔｎ・ｄの値を上記範囲に設定する。これに対し、透明電極（不図示）に駆動電圧を印加した駆動状態では、印加した電圧の大きさに依存して液晶性分子５は基板１及び３の面に垂直に配向しようとする。しかし基板間の中央付近厚さでは基板面に対して概略垂直となるが、基板界面近傍では平行な方向に配向し、中央厚さに向かい連続的傾斜配向している。このような状態では完全な黒表示を得ることは困難である。また基板界面近傍の傾斜した液晶性分子の平均配向は観察する角度により変わり、視野角により透過率、明るさが変化する視野角依存性が生じる。そこで、図１の液晶表示装置では、光学異方性層１２ａ及び１２ｂを配置して、基板界面近傍の液晶層の残留位相差を補償し、完全な黒表示を得、正面コントラスト比を向上させている。さらに、図１の液晶表示装置では、液晶セルＬＣの各絵素領域の対応する厚みに差を持たせて、前記式（１）（好ましくは前記式（２））を満足しているので、斜め方向から入射したＢ光のみならず、Ｒ光及びＢ光についても、黒表示時の透過率が軽減されていて、色味付きがなく、色再現性がより改善されている。
さらに前述の特許文献１に記載のように、連続的傾斜配向した液晶層を補償する光学フィルムを配置することで視野角特性をさらに改善してもよい。

また、中間調表示時には液晶性分子５が傾斜しているので、傾斜方向とその逆方向では、斜めから観察した時の液晶性分子５の複屈折の大きさが異なり、輝度や色調に差が生じる。液晶表示装置の一画素を複数の領域に分割するマルチドメインと呼ばれる構造にすると、輝度や色調の視野角特性が平均化され改善される。具体的には、画素のそれぞれを液晶性分子の初期配向状態が互いに異なる２以上（好ましくは４又は８）の領域で構成して平均化することで、視野角に依存した輝度や色調の偏りを低減することができる。また、それぞれの画素を、電圧印加状態において液晶性分子の配向方向が連続的に変化する互いに異なる２以上の領域から構成しても同様の効果が得られる。

本発明は、ＶＡモードの液晶表示装置の態様においても有効である。ＶＡモードはＯＮ−ＯＦＦの白黒応答速度が速く、ラビングプロセスによる配向処理が不要な簡略構造である。ＶＡモードの液晶表示装置の好ましい一態様（以下、「第１の態様」という場合がある）として、下記式（III）及び（IV）を満たす第１の光学異方性層と、面内に少なくとも一つの光軸を有する第２の光学異方性層とを有するＶＡモードの液晶表示装置が挙げられる。
式（III） ０ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）≦３００ｎｍ
式（IV） Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）＞１０ 。
第２の光学異方性層は、一般的にＡプレートといわれる光学補償フィルム等であってもよく、その好ましい一例としては、下記式（VIII）及び（IX）を満足する光学異方性層である。
式（VIII） ５５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３１５ｎｍ
式（IX） ０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２７５ｎｍ 。

本態様のＶＡモード液晶表示装置では、第１の光学異方性層のＲｔｈによって、液晶セルの黒表示時の斜め方向に生じる複屈折性を補償するが、かかる補償機構においては、理想的な補償を実現するためには、第１の光学異方性層は、Ｒｔｈについて波長分散性が強い順分散性（ここでは、波長が長くなるほどＲｔｈが小さくなる傾向を「順分散性」というが、「強い順分散性」とは、その勾配である｜ΔＲｔｈ／Δλ｜が大きいことをいうものとする）を示すことが求められる。しかし、Ｒｔｈが強い順分散性を示す光学異方性層を形成するには、材料が限定されたり、及び／又は所望する程度までＲｔｈの波長分散性をコントロールするのが困難であったり、所望の特性の光学異方性層を形成するのは材料によっては不可能である場合がある。本発明では、液晶セルが、上記式（１）を満足しているので、第１の光学異方性層のＲｔｈの波長分散性が従来要求される程度まで強い順分散性を示していない場合であっても、液晶セルの厚み方向の複屈折が示す波長分散性によりそれを補い、理想的な光学補償を可能としている。

ＶＡモードの液晶表示装置の好ましい他の態様（以下、「第２の態様」という場合がある）として、下記式（XV）及び（XVI）を満たす光学異方性層をそれぞれ１ずつ、液晶セルと上下偏光膜との間に有し、各光学異方性層の遅相軸と、隣接する各偏光膜の吸収軸とを同一平面に投影したとき、それらが平行となる、態様が挙げられる。
（XV） ３０ｎｍ ≦ Ｒｅ（５５０）≦８０ｎｍ
（XVI） ７５ｎｍ ≦ Ｒｔｈ（５５０）≦１５５ｎｍ 。
さらに、液晶セルの上下に配置された光学異方性層のＲｔｈ（５５０）は液晶層との関係でそれぞれ、下記式（XVII）の関係を満たしているのが好ましい。
（XVII） ０．７≦（２×Ｒｔｈ（５５０））／Δｎ（５５０）×ｄ≦１．３
ここで、Δｎ（５５０）は５５０ｎｍにおける液晶層の厚み方向の屈折率異方性、ｄは液晶層の平均厚さ（ｎｍ）を示す。本発明では、液晶層の厚みが絵素領域に応じて異なっているので、式(XVII)中の厚さは、平均厚さとする。

第２の態様のＶＡモード液晶表示装置では、液晶セルを中心として対称的な位置に配置された２つの光学異方性層のＲｅ及びＲｔｈによって、液晶セルの黒表示時の斜め方向に生じる複屈折性を補償するが、かかる補償機構においては、理想的な補償を実現するためには、対称的に配置された２つの光学異方性層のＲｔｈの波長分散性が、液晶層の複屈折性の波長分散性をキャンセルできるように調整されていることが求められる。しかし、Ｒｔｈの波長分散性を所望の特性とするためには、光学異方性層の形成に用いる材料が限定されたり、及び／又は所望する程度までＲｔｈの波長分散性をコントロールするのが困難である場合がある。本発明では、液晶セルが、上記式（１）を満足しているので、液晶層の複屈折性の波長分散性が平坦化されている。従って、２つの光学異方性層のＲｔｈの波長分散性が従来要求される程度の波長分散性を示していない場合であっても、例えば、波長分散性をほぼ示さず、可視光においてほぼ均一なＲｔｈを示す光学異方性層を用いる場合であっても、理想的な光学補償が可能となる。

以下、図面を用いて、ＶＡモードの液晶表示装置の態様の作用及び効果を説明する。図２に、本発明をＶＡモードの液晶表示装置に適用した第１の態様の構成例を模式的に示す。図１と中の部材と同一の部材には同一の番号を付し、詳細な説明は省略する。なお、図２中、上を観察者側、下をバックライト側とする。
図２の液晶表示装置は、液晶セルＬＣ’（１、３、５’）と、液晶セルＬＣ’を挟持して配置される一対の上側偏光膜Ｐ１’及び下側偏光膜Ｐ２’とを有する。なお、偏光膜は、双方の表面に保護フィルムを有する偏光板として液晶表示装置に組み込まれるのが一般的であるが、図２では、図面の簡略化のため偏光膜の外側保護フィルムは省略した。
図２中、液晶セルＬＣ’はＶＡモードの液晶セルであり、黒表示時には、図２に示す通り、液晶層５’はホメオトロピック配向となる。上側基板１と下側基板３は、それぞれ内面に、配向膜（図示せず）と電極層（図示せず）を有するとともに、観察者側の基板１の内面には、カラーフィルタ層が形成されている。図２には詳細な構造を示さないが、基板１の内面に形成されたカラーフィルタは、Ｒ、Ｇ、Ｂ３つの絵素領域を含み、各絵素領域に対応する液晶層５’の厚みが互いに異なっている。例えば、図３（ａ）に示す通り、基板１の内面には、ＲＧＢカラーフィルタが形成されていて、Ｒ層の厚みが、Ｂ層及びＧ層の厚みと比較して薄くなっていて、それに対応する位置の液晶層の厚みについて、ｄ_G ＜ ｄ_R及びｄ_B ＜ ｄ_Rを満足している。より好ましい態様は、図３（ｂ）に示す通り、Ｂ層、Ｇ層及びＲ層の厚みがこの順に薄くなっていて、その結果、Ｂ層、Ｇ層及びＲ層のそれぞれに対応する位置の液晶層の厚みが、この順に大きくなり、前記式（２）を満たす態様である。

再び図２において、上側基板１と上側偏光膜８ａとの間には、上記式（III）及び（IV）を満足する第１の光学異方性層１４が、下側基板３と下側偏光膜８ｂとの間には、上記式（VIII）及び（IX）を満足する第２の光学異方性層１６が配置されている。第２の光学異方性層１６はその面内遅相軸１７を、下側偏光膜８ｂの吸収軸９ｂと直交にして配置されているのが好ましい。第２の光学異方性層１６及び第１の光学異方性層１４がポリマーフィルムからなる又はポリマーフィルム層を含む場合は、それぞれ偏光膜８ａ及び８ｂの保護フィルムを兼ねていてもよい。勿論、第２の光学異方性層１６及び第１の光学異方性層１４と、偏光膜８ａ及び８ｂとの間のそれぞれには、保護フィルムが別途配置されていてもよいが、保護フィルムを配置する場合は、例えば、特開２００５−１３８３７５号公報に記載のセルロースアシレートフィルム等の、レターデーションがほぼ０である等方性のフィルムを用いるのが好ましい。

次に、図２の液晶表示装置について、光学補償作用について説明する。図４〜図７は、それぞれポアンカレ球を、Ｓ２軸の正の方向から見た図である。ポアンカレ球は偏光状態を記述する三次元マップで、球の赤道上は楕円率が０の直線偏光の偏光状態を表している。図４中の点（ｉ）は、図２の液晶表示装置に黒表示時に斜め方向から入射した光が偏光膜８ｂを通過して直線偏光となった、その偏光状態を示している。偏光状態点（ｉ）が、Ｓ１軸上の消光点である偏光状態点（ii）に変換されれば、図２の液晶表示装置に斜め入射した際のコントラストの低下は抑制され、且つ色味つきは軽減される。従って、第２の光学異方性層１６、液晶層５’及び第１の光学異方性層１４を通過することによって、偏光状態が点（ｉ）から点（ii）に変換されるように、それぞれの複屈折性を調整すればよい。なお、位相差領域を通過することによる偏光状態の変化は、ポアンカレ球上では、該位相差領域の光学特性に応じて決定される特定の軸の回りに、特定の角度回転させることで表される。該回転角度の大きさは、通過した位相差領域の位相差に比例し、且つ入射光の波長の逆数に反比例する。

偏光膜８ｂを通過した後、上記式（VIII）及び（IX）を満足する第２の光学異方性層１６を通過することによって、図５中の矢印で示す通り、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光はそれぞれ消光点（ii）とＳ１座標がほぼ一致した偏光状態に変換される。

なお、上記した通り、ポアンカレ球上の回転角の大きさは、入射光の波長の逆数に比例するので、Ｒ光、Ｇ光、Ｂ光では、変換後の偏光状態に差が生じる。この差を軽減し、いずれについても消光点（ii）とＳ１座標が一致した偏光状態とするためには、第２の光学異方性層１６は、Ｒｅ及びＲｔｈの双方が逆分散性を示すのが好ましく、具体的には、下記式（Ｘ）〜（XIII）を満足するのがより好ましい。
式（Ｘ） ０．６≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０
式（XI） １．０≦Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）≦１．２５
式（XII） ０．６≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．０
式（XIII） １．０≦Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．２５

次に、黒表示時のホメオトロピック配向の液晶層５’を通過すると、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光の偏光状態は、図６（ａ）中の上から下への矢印５’で示す軌跡をたどり、Ｓ１軸周りの回転として表される。
ところで、Ｒ層、Ｇ層及びＢ層からなるカラーフィルタを有する態様では、３つの絵素領域はＲＧＢ領域となり、Ｒ領域、Ｇ領域、Ｂ領域の最大透過率をとる主波長λ_R、λ_G及びλ_Bは、小さい順にλ_B、λ_G及びλ_Rになる。Ｒ領域、Ｇ領域及びＢ領域における液晶層の厚さをそれぞれｄ_R、ｄ_G及びｄ_Bとし、且つ液晶層の波長λにおける厚み方向の屈折率異方性Δｎ（λ）とすると、通常の液晶表示装置においてはΔｎ（λ_B）＞Δｎ（λ_G）＞Δｎ（λ_R）であるため、例えば、カラーフィルタの色ごとの厚さに違いがなく、一様の厚さのカラーフィルタを用いた場合は、それぞれの液晶表示装置のそれぞれの絵素領域の厚み方向の位相差Δｎ（λ）の間にはΔｎ（λ_B）×ｄ_B ＞ Δｎ（λ_G）×ｄ_G ＞ Δｎ（λ_R）×ｄ_R の関係が成立する。この様な関係式を満足する液晶層を通過することによるＲ光、Ｇ光及びＢ光の偏光状態の回転角度（矢印の長さ）は、通過した位相差領域の位相差に比例し、且つそれぞれ波長の逆数に比例するので、かかる液晶層を通過することによって、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光の偏光状態は大きく分離することになる（図６（ｂ）参照）。

一方、本発明の態様では、液晶層５’は、カラーフィルタのＲ層、Ｇ層及びＢ層の厚さが、図３（ｂ）に示す通り異なっていて、その結果、式（２）に従ってｄ_B ＜ ｄ_G＜ ｄ_Rを満足している。従って、液晶層５’を通過することによる偏光状態の変換を、ポアンカレ球上の回転として表した場合に、回転角の大きさは、波長の逆数に比例するという点では、長波長であるほど小さくなるが、一方で、式（２）を満足しているので、各波長における位相差に比例するという点では、長波長であるほど大きくなり、その結果、波長に依存した回転角の大きさの差（矢印の長さの差）は、図６（ａ）に示す通り、軽減される。

次に、入射光は第１の光学異方性層１４を通過するが、第１の光学異方性層１４は、上記式（III）及び（IV）を満足しているので、液晶層５’を通過する際と同様、その偏光状態の変化は、図７（ａ）中下から上への矢印１４で示される、Ｓ１−Ｓ２面の法線方向への移動で表される。従来は、ホメオトロピック液晶層を通過することによって波長に依存して分離してしまった偏光状態をＳ１−Ｓ２面の法線方向への移動によって、図７（ｂ）に示す様に、いずれについてもＳ１軸上に移動させるのは困難であり、例えば、Ｇ光のみをＳ１軸上へ変換するように光学異方性層の設計を行ったり、又は第１の光学異方性層のＲｔｈを強い順分散性に調整するために、作製の際に用いる材料の選択の幅が狭められたり、又は製造条件を厳密に制御する必要があった。本態様では、図６（ａ）に示す通り、液晶層５’を通過することによる、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光の分離が軽減されているので、その後、第１の光学異方性層１４を通過することによる偏光状態の変換を、ポアンカレ球上の回転として表した場合に、回転角の大きさが波長の逆数に比例し、Ｂ光、Ｇ光及びＲ光の順により大きく移動することを利用するのみで、いずれについても、Ｓ１軸上に移動させることが可能である。

第１の態様では、液晶セルが前記式（２）を満足するとともに、第１の光学異方性層のＲｔｈが、ある程度の順分散性を示しているのがより好ましく、さらに、液晶セルが前記式（２）”を満足するとともに、第１の光学異方性層のＲｔｈの順分散性の程度が、下記式（Ｖ）〜(VII)を満足しているのがより好ましい。
式（Ｖ） Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≧１
式（VI） Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１
式（VII） −３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）≦０ｎｍ 。
Ｒｔｈが下記式（Ｖ）〜（VII）を満足する程度の順分散性を示すポリマーフィルムは、作製が容易であり、その結果、第１の光学異方性層として用いる材料の選択の幅を広げることができる。

なお、図４〜図７では、第２の光学異方性層１６→液晶セル５’→第１の光学異方性層１４の順に光が通過する態様について説明したが、第１の光学異方性層１４→液晶セル５’→第２の光学異方性層１６の順に光が通過する態様であっても、同一の効果が得られる。

図８に、本発明をＶＡモードの液晶表示装置に適用した第２の態様の構成例を模式的に示す。図１及び図２中の部材と同一の部材には同一の番号を付し、詳細な説明は省略する。なお、図８中、上を観察者側、下をバックライト側とする。
図８の液晶表示装置は、液晶セルＬＣ’（１、３、５’）と、液晶セルＬＣ’を挟持して配置される一対の上側偏光膜Ｐ１”及び下側偏光膜Ｐ２”とを有する。なお、偏光膜は、双方の表面に保護フィルムを有する偏光板として液晶表示装置に組み込まれるのが一般的であるが、図８では、図面の簡略化のため偏光膜の外側保護フィルムは省略した。
図８中、液晶セルＬＣ’については、図２中の液晶セルＬＣ’と同様であるので、説明は省略する。

上側基板１と上側偏光膜８ａとの間、及び下側基板３と下側偏光膜８ｂとの間には、光学異方性層２０ａ及び２０ｂがそれぞれ配置されている。光学異方性層２０ａ及び２０ｂは、上記式（XV）及び（XVI）をそれぞれ満足し、それぞれのＲｅ、Ｒｔｈが、互いに等しい同一の光学異方性層である。光学異方性層２０ａ、２０ｂは、その面内遅相軸２１ａ、２１ｂを、上側偏光膜８ａ及び下側偏光膜８ｂの吸収軸９ａ、９ｂと平行にして配置される。即ち、光学異方性層２０ａ及び２０ｂは、それぞれの遅相軸を直交にして配置される。光学異方性層２０ａ、２０ｂがポリマーフィルムからなる又はポリマーフィルム層を含む場合は、それぞれ偏光膜８ａ及び８ｂの保護フィルムを兼ねていてもよい。勿論、光学異方性層２０ａ及び２０ｂと、偏光膜８ａ及び８ｂとの間のそれぞれには、保護フィルムが別途配置されていてもよいが、保護フィルムを配置する場合は、例えば、特開２００５−１３８３７５号公報に記載のセルロースアシレートフィルム等の、レターデーションがほぼ０である等方性のフィルムを用いるのが好ましい。

本態様でも、第１の態様と同様に、液晶セルＬＣ’中、ＲＧＢカラーフィルタのＲ層の厚みが、Ｂ層及びＧ層の厚みと比較して薄くなっていて、それに対応する位置の液晶層の厚みについて、ｄ_G ＜ ｄ_R及びｄ_B ＜ ｄ_Rを満足していることにより、斜め方向において生じるカラーシフトの軽減効果を示す。

上記では、ＥＣＢモード及びＶＡモードの態様について説明したが、本発明の液晶表示装置はこのモードの液晶表示装置に限定されるものではない。液晶セルは電界により液晶の配向状態を変化させることで表示を行うが、電界無印加状態の配向状態の違いにより表示モードとして分類することができる。液晶分子が基板に平行な初期配向をとる平行配向型ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード、片側が垂直配向でもう一方が平行配向であるＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、基板近傍で液晶分子は平行配向しているが、基板の間の中間層では垂直配向をしているＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）モード、あるいはベンドモード、基板に平行配向しているが上下基板間で配向方向がことなり、ねじれ構造を有するＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、さらに通常のＴＮモードのねじれ角が０〜１００度の範囲であるのに対し、１８０〜２７０°ねじれたＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、２７０°〜のねじれ構造を有するコレステリック液晶モードがある。
また基板に平行配向し、かつ基板面に平行ないわゆる横電界により液晶配向が基板面内で変化するＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、基板面に垂直な電界でＩＰＳモードと同じに面内の配向方向の変化で表示を切り替えるＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）モードのような表示モードが提案されている。本発明の液晶表示装置は、上記いずれのモードであってもよい。

それぞれの表示モードには特徴があり、例えば、ＩＰＳ、ＦＬＣの各モードは視野角が広く、ＯＣＢモードは応答速度が全ての階調表示で早く、ＦＬＣやコレステリック液晶モードではメモリー性を付与することも可能であり、低消費電力化に有効である。ＴＮモードは透過率が高く、かつ製造プロセスが簡略である。
本発明の液晶表示装置は、ＥＣＢモードの他、ＴＮモード、ＶＡモード、ＩＰＳモード、ベンドモード、ＯＣＢモードの態様であるのが好ましい。

さらに上記した通り、いずれの表示モードの液晶表示装置においても、一画素を複数の領域に分割するマルチドメインと呼ばれる構造にすると上下左右の視野角特性が平均化され、表示品質が向上するので好ましい。

液晶表示装置は、駆動方法により、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）やＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ Ｍｅｔａｌ）のような３端子又は２端子反導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置と、時分割駆動と呼ばれるＳＴＮ型に代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置に適用した態様があり、本発明はいずれにおいても有効である。

以下、本発明の液晶表示装置に用いられる種々の部材について詳細に説明する。
［カラーフィルタ］
本発明の液晶表示装置の液晶セルの一対の基板の一方の対向面に、カラーフィルタを配置するのが好ましい。カラーフィルタについては特に制限されないが、例えば、少なくとも、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の各層を含むカラーフィルタを配置するのが好ましい。Ｒ、Ｇ及びＢからなるＲＧＢカラーフィルタ、及びさらに白（Ｗ）の層を含むＲＧＢＷカラーフィルタなどが好ましい。
前述のように本発明の液晶表示装置では、前記液晶セルが、３つの絵素領域を含み、これらのうち少なくとも２つの絵素領域における液晶層の厚さが異なる。この構成を達成する好ましい手段の一つは、前記３つの絵素領域上に配置されたカラーフィルタの厚さのうち、少なくとも２つの絵素領域に配置されたカラーフィルタの厚さを異なるものとすることである。
これによって前記３つの絵素領域上に配置されたカラーフィルタのＲｔｈのうち、少なくとも２つの絵素領域に配置されたカラーフィルタのＲｔｈを異なるものとすることができ、本発明の課題をより効果的に達成することができる。

カラーフィルタは、例えば、以下の方法で作製することができる。先ず、透明基板上に赤色、緑色、青色等の、目的に合せた着色画素を形成する。透明基板上に赤色、緑色、青色等の着色画素を形成する方法としては、前述した染色法、印刷法、又は着色感光性樹脂液をスピンコーター等で塗布後、フォトリソ工程でパターニングする着色レジスト法、さらにはラミネート法等が適宜利用できる。例えば、塗布工程を含む形成方法では、塗布量を調整することで、厚さの異なるＲＧＢ層を有するカラーフィルタを形成できる。また、ラミネート法を利用する場合は、厚さが異なる転写材料を用いることで、厚さの異なるＲＧＢ層からなるカラーフィルタを形成できる。

黒色感光性樹脂を用いてブラックマトリクスを形成する場合は、上記着色画素を形成した後にするのが好ましい。最初にブラックマトリクスを形成すると、光学濃度の高い黒色感光性樹脂では、樹脂表面しか硬化しないため、次いで行われる現像処理、特に着色画素を形成するため繰り返し行う現像処理により未硬化の樹脂が溶け出し（サイドエッチと称する）、極端な場合には形成されたマトリクスが剥がれてしまうこともあるからである。
これに対し、ブラックマトリクスを最後に形成すれば、ブラックマトリクスの周囲は着色画素で囲まれていて、断面からは現像液が浸透しにくいため、サイドエッチが起こりにくく、光学濃度の高いブラックマトリクスを形成できるという大きな利点がある。
更に、着色画素形成用の着色層の形成をラミネート法で行う場合は、先にブラックマトリクスを形成すると、着色画素が形成されるべき場所がブラックマトリクスでほぼ格子状に閉じられているため、ラミネート時に気泡を巻き込み易いという問題があるが、後にブラックマトリックスを形成すれば、かかる問題は生じないので好ましい。

黒色感光性樹脂の感光波長域に対する着色画素の光透過率が２％を超える場合は、予め着色画素の中に光吸収剤等を加え、その透過率を２％以下にすることが好ましい。この際使用する光吸収剤としては公知の種々の化合物を用いることができる。例えば、ベンゾフェノン誘導体（ミヒラーズケトン等）、メロシアニン系化合物、金属酸化物、ベンゾトリアゾール系化合物、クマリン系化合物等を挙げることができる。その中でも、光吸収性が良好で、かつ２００℃以上の熱処理の後でも２５％以上の光吸収性能を保持するものが好ましく、具体的には酸化チタン、酸化亜鉛、ベンゾトリアゾール系化合物、クマリン系化合物が挙げられる。これらの中では、クマリン系化合物が耐熱性、光吸収性の両観点から特に好ましい。尚、上述の２００℃以上の熱処理は、各画素を形成後、一層硬化させるために行われるものである。

次に、画素パターンを覆って透明基板全面に黒色感光性樹脂層を設けるが、これも黒色感光性樹脂液をスピンコーターやロールコーターで塗布する方法、また、予め黒色感光性樹脂液を仮支持体上に塗布することにより画像形成材料を作成し、画素パターン上にこの黒色感光性樹脂層を転写する方法等が利用できる。

次に、フォトマスクを介して黒色感光性樹脂層側から露光し、着色画素が存在しない遮光部（ブラックマトリックス）の黒色感光性樹脂層を硬化させる。着色画素は、露光機のアライメント誤差や基板の熱膨張の影響を受けて多少の位置ずれがあり、画素自体の太りや細りがあって、設計寸法通りの間隔や大きさで配置されてはいないのが普通である。特に大サイズの基板ではこの傾向が強くなる。したがって、設計画素間隔通りのフォトマスクで露光した場合、ブラックマトリックスが画素と重なる部分や、逆に画素との間に隙間ができる部分が発生する。重なった部分は突起になり、隙間ができた部分は光漏れになるので何れも好ましくない。

カラーフィルタが、下記条件を満たすものであるのが好ましい。
（Ｉ）０≦Ｒｅ（６３０）≦１０、かつ、｜Ｒｔｈ（６３０）｜≦２５
（ＩＩ）｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦１０、かつ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦３５
（上記式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、Ｒｅ₍λ₎は、波長λｎｍにおける面内レターデーション値（ｎｍ）を表し、Ｒｔｈ₍λ₎は、波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（ｎｍ）を表す。）
ここでＲｅは面内のレターデーションを表し、この数値は正面コントラスト比を低下させないためになるべく０に近いことが好ましい。また０でない場合でも、Ｒｅの遅相軸と偏光膜吸収軸と平行、あるいは直交させることが好ましい。
Ｒｔｈは厚み方向のレターデーションを表し、正面コントラスト比低下に影響を与えず、斜め方向の色調視野角改善に寄与する。カラーフィルタに上記条件のＲｔｈを付与することで、画素毎に視野角の光学補償をより完全に行うことができ、各表示モードの液晶表示装置の斜め方向での着色現象を改善する（軽減する）ことができる。

カラーフィルタのレターデーションは、例えば、カラーフィルタを転写材料を用いて作製する場合は、転写材料の構成層である感光層や着色層にレターデーション上昇剤や低下剤を添加することにより調整してもよい。
レターデーション上昇剤の代表例としては、下記式で表される化合物及びこれに類似する化合物が挙げられる。

レターデーション低下剤の例は、下記一般式（１３）で表される化合物がある。

上記一般式（１３）中、Ｒ¹¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹²及びＲ¹³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ¹¹、Ｒ¹²及びＲ¹³の炭素原子数の総和が１０以上であることが特に好ましい。Ｒ¹¹、Ｒ¹²及びＲ¹³は置換基を有していてもよく、置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔ−アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビシクロオクチル基、ノニル基、アダマンチル基、デシル基、ｔ−オクチル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、ジデシル基）が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、トリフェニルフェニル基）が特に好ましい。

［液晶セルΔｎｄ］
液晶セルのセルギャップと液晶層の屈折率異方性Δｎの積Δｎｄの大きさにより、液晶表示装置の明るさや、コントラスト、表示色の色調が変化する。そのため表示モード毎に最適なΔｎｄの大きさに調整している。ＥＣＢモードではΔｎ・ｄを０．１５〜０．３５μｍとする。Δｎ・ｄの最適値は０．２〜０．３μｍが最適値となる。これらの範囲では白表示輝度が高く、黒表示輝度が小さいことから、明るくコントラストの高い表示装置が得られる。なお、これらの最適値は透過モードの値であり、反射モードでは液晶セル内の光路が２倍になることから、最適Δｎｄの値は上記の１／２程度の値になる。その他の表示モード、ＩＰＳ、ＶＡモードではΔｎ・ｄを０．１５〜５μｍ、ＴＮモードでは０．２〜０．５μｍ、ＯＣＢモードでは０．４〜１．２μｍに設定すると良好な表示特性が得られる。

［バックライト］
液晶表示装置は液晶セルを通過する光のＯＮ、ＯＦＦ遮断で表示を行うが、透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することがで、明るく鮮やかな表示装置となる。
バックライトには、携帯端末やノートパソコンに使用される表示装置に使われるサイドエッジ型バックライトと、テレビなどの表示装置に使われる直下型バックライトがある。サイドエッジ型は導光板の端部に蛍光灯が１本あるいは２本配置された形状で、バックライトの装置厚さを小さくできる長所がある。一方直下型バックライトでは、必要輝度に応じて蛍光灯の数を増やすことが可能であり、高輝度を得やすい。
さらにバックライトの発光効率を高めるために、プリズム状やレンズ状の集光型輝度向上シート（フィルム）を積層したり、偏光板の吸収による光ロスを改善する偏光反射型の輝度向上シート（フィルム）をバックライトと液晶セルの間に積層したりしてもよい。また、バックライトの光源を均一化させるための拡散シート（フィルム）を積層してもよく、逆に光源に面内分布をもたせるための反射、拡散パターンを印刷などで形成したシート（フィルム）を積層してもよい。

［フィールドシーケンシャル］
液晶表示装置によるフルカラー表示の方式には、空間混合方式と時間差混合方式があり、後者はフィールドシーケンシャル方式と呼ばれている。
空間混合方式は赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の波長領域の光を重ねる加法混色を基本原理とし、ＬＣＤにおいて、Ｒ・Ｇ・Ｂにそれぞれ光る画素を近接して配置するとともに、各画素の輝度を変えることにより、これらの色を任意に混色して、任意の色光を得るものである。また、空間混合方式によるＬＣＤにおいては、一般的にカラーフィルタが用いられている。しかしカラーフィルタは光の吸収で色表示を行うため透過率が低く、消費電力の点ではフィールドシーケンシャルバックライトのほうが優れる。
フィールドシーケンシャル方式とは、「時分割」による混色を利用したカラー表示方式である。すなわち、二色以上の光を継続的に切り替えて発光させ、かつ、その切り替えの速さを人間の目の時間的分解能を越えた速さとした場合に、人間が上述の二色以上の色を混色して認識することを応用した方式である。
フィールドシーケンシャル方式のフルカラーＬＣＤにおいては、動画表示におけるフィールド毎に、それぞれ、バックライトをＲ・Ｇ・Ｂ三つの発光色のうち一つの発光色で発光可能とするとともに、フィールド毎に継続的にＲ・Ｇ・Ｂの発光色を切り替えて（時分割して）発光させ、その切り替えの速さを充分に速くすることにより任意の色光を得るようになっている。

［アプリケーション］
本発明の液晶表示装置には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。画像直視型にはノートパソコン、パソコン用モニターなどのＯＡ機器、テレビなどのマルチメディア用ディスプレイ、携帯電話や携帯端末の小型表示装置がある。さらにはアミューズメント機器の表示装置や会議用の縦置きや床置きの大型表示装置がある。
画像投影型はスクリーンに直接投影するフロントプロジェクター型とスクリーンの背面から投影するリヤプロジェクター型がある。またＬＥＤ光源等を用いた携帯型のプロジェクターにも有効である。
光変調型は、３次元ディスプレイや高臨場感型ディスプレイとよばれる表示装置に有効である。例えば液晶セルを２枚用いた３次元ディスプレイや複数のリヤプロジェクターからなる円筒型３次元ディスプレイに有効である。

［光学補償シート］
本発明の液晶表示装置は、光学補償シートを有していてもよい。光学補償シートは、画像着色の解消や視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。光学補償シートとしては、延伸複屈折ポリマーフィルムが従来から使用されていた。延伸複屈折フィルムからなる光学補償シートに代えて、透明支持体上に低分子あるいは高分子液晶性化合物から形成された光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。液晶性化合物には多様な配向形態があるため、液晶性化合物を用いることで、従来の延伸複屈折ポリマーフィルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になった。さらに偏光板の保護膜としても機能する。プラスチック基板において光学補償シートを兼ねることも可能である。

光学補償シートの光学的性質は、液晶セルの光学的性質、具体的には上記のような表示モードの違いに応じて決定する。液晶性化合物を用いると、液晶セルの様々な表示モードに対応する様々な光学的性質を有する光学補償シートを製造することができる。様々な表示モードに対応した棒状、回転楕円体状や円盤状の液晶性化合物を用いた光学補償シートが、既に種々提案されている。例えば、ＴＮモード液晶セル用光学補償シートは、電圧印加により液晶分子がねじれ構造が解消しつつ基板面に傾斜した配向状態の光学補償を行い、黒表示時の斜め方向の光漏れ防止によるコントラストの視角特性を向上させる。ＶＡモードやＩＰＳモード用光学補償シートは、偏光板の視野角依存性を補償して全方位で黒表示の輝度を低くしコントラストの視角特性を向上させる。
さらに光学補償シートの光学的性質は、光の波長毎に最適な値に設計することで、色変化の少ない広視野特性を有する液晶表示装置を提供する。特にマルチギャップやマルチドメインと組合せると有効である。
また視野角を拡大するのではなく、特定方向のみから表示が観察できるような狭視野角化も可能である。

光学補償シートの一例として、液晶性化合物を含有する組成物から形成された光学異方性層と、該光学異方性層を支持する支持体とを有する光学補償シートが挙げられる。以下、この態様の光学補償シートについて、詳細に説明する。

《光学異方性層》
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するように設計することが好ましい。黒表示における液晶セル中の液晶化合物の配向状態は、液晶表示装置のモードにより異なる。この液晶セル中の液晶化合物の配向状態に関しては、ＩＤＷ’００、ＦＭＣ７−２、Ｐ４１１〜４１４に記載されている。光学異方性層は、液晶性化合物を含有する組成物を表面、例えば、所定のラビング軸等に沿ってラビング処理された表面に配置して、該ラビング軸に応じて、液晶性化合物の分子を配向させ、その配向状態に固定して形成することができる。

光学異方性層の形成に用いる液晶性化合物の例には、棒状液晶性化合物及び円盤状液晶性化合物のいずれも含まれる。棒状液晶性化合物及び円盤状液晶性化合物は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。光学異方性層の作製に棒状液晶性化合物を用いた場合は、棒状液晶性分子を、その長軸を支持体面へ投影した軸の平均方向が、配向軸に対して平行になるように配向させ、その状態に固定して形成するのが好ましい。また、光学異方性層の作製に円盤状液晶性化合物を用いた場合は、円盤状液晶性分子を、その短軸を支持体面へ投影した軸の平均方向が配向軸に対して平行になるように配向させて、その状態に固定して形成するのが好ましい。また、棒状液晶性分子及び円盤状液晶性分子の基板面とのなす角度によって定義される配向状態は、水平（ホモジニアス）配向、垂直配向、均一傾斜配向のいずれであってもよいが、基板面とのなす角（傾斜角）が深さ方向に変化する、後述のハイブリッド配向が好ましい。

《棒状液晶性化合物》
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性分子は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶性化合物については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章及び第１１章、及び液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。

棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽基或はカチオン重合性基が好ましく、具体的には、例えば特開２００２−６２４２７号公報明細書中の段落番号［００６４］〜［００８６］記載の重合性基、重合性液晶化合物が挙げられる。

《円盤状液晶性化合物》
円盤状（ディスコティック）液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ、Ａ、７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．、１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。

円盤状液晶性化合物としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子又は分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。円盤状液晶性化合物を利用して形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる円盤状性分子が液晶性を示す必要はなく、例えば、低分子の円盤状液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合又は架橋し、高分子量化し液晶性を失っていてもよい。円盤状液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、円盤状液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。

円盤状液晶性分子を重合により固定するためには、円盤状液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基は、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことができる。例えば、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１５１］〜「０１６８」記載の化合物等が挙げられる。

ハイブリッド配向では、円盤状液晶性分子の円盤面と支持体の面との角度が、光学異方性層の深さ方向でかつ支持体の面からの距離の増加と共に増加又は減少している。角度は、距離の増加と共に増加することが好ましい。さらに、角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加及び減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度は、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加又は減少していればよい。さらに、角度は連続的に変化することが好ましい。

支持体側の円盤状液晶性分子の長軸の平均方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは配向膜の材料を選択することにより、又はラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）の円盤状液晶性分子の円盤面方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。

《光学異方性層中の他の添加物》
上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上することができる。液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。

重合性モノマーとしては、ラジカル重合性又はカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。

界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。

円盤状液晶性分子とともに使用するポリマーは、円盤状液晶性分子に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。円盤状液晶性分子のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。

《光学異方性層の形成》
光学異方性層は、液晶性化合物、及び必要に応じて重合性開始剤や任意の添加剤を含む組成物を、配向膜の上に配置し、形成することができる。組成物は、塗布液として調製してもよい。

塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１、２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。

光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。

《液晶性分子の配向状態の固定》
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定するのが好ましい。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組合せ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。

液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ²の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。

なお、保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。

《支持体》
光学補償シートの支持体は、透明であるのが好ましく、少なくとも一枚のポリマーフィルムからなるのが好ましい。複数のポリマーフィルムで透明支持体を構成してもよい。支持体の光学異方性は、具体的には、波長６３２．８ｎｍの光で測定したＲｅレターデーション値が１０〜７０ｎｍであり、かつ波長６３２．８ｎｍの光で測定したＲｔｈレターデーション値を５０〜４００ｎｍであるのが好ましい。なお、液晶表示装置にこのような光学異方性層のポリマーを二枚使用する場合は、一枚のフィルムのＲｔｈレターデーション値は、５０〜２００ｎｍであることが好ましい。液晶表示装置に一枚の光学異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレターデーション値は、７０〜４００ｎｍであることが好ましい。

ポリマーフィルムの遅相軸角度の平均値は３°以下であることが好ましく、２°以下であることがさらに好ましく、１°以下であることが最も好ましい。遅相軸角度の平均値の方向を遅相軸の平均方向と定義する。また、遅相軸角度の標準偏差は１．５°以下であることが好ましく、０．８°以下であることがさら好ましく、０．４°以下であることが最も好ましい。ポリマーフィルム面内における遅相軸の角度は、ポリマーフィルムの延伸方向を基準線（０°）とし、遅相軸と基準線のなす角度で定義する。ロール形態のフィルムを幅方向に延伸する時は幅方向を基準線とし、長手方向に延伸する時は長手方向を基準線とする。
ポリマーフィルムは、光透過率が８０％以上であることが好ましい。ポリマーフィルムは、６０×１０^-12ｍ²／Ｎ以下の光弾性係数を有することが好ましい。

光学補償シートを使用した透過型液晶表示装置において、通電後時間が経過すると画面周辺部に「額縁状の表示ムラ」が発生することがある。このムラは、画面周辺部の透過率の上昇によるものであり、特に黒表示時において顕著となる。透過型液晶表示装置では、バックライトから発熱しており、しかも液晶セル面内で温度分布が生じる。この温度分布により光学補償シートの光学特性（レターデーション値、遅相軸の角度）が変化することが「額縁状の表示ムラ」の発生原因である。光学補償シートの光学特性の変化は、温度上昇による光学補償シートの膨張又は収縮が液晶セル又は偏光板との粘着により抑制されるために、光学補償シートに弾性変形が生じることに起因する。
透過型液晶表示装置に生じる「額縁状の表示ムラ」を抑制するために、光学補償シートの透明支持体に熱伝導率が高いポリマーフィルムを使用することが好ましい。熱伝導率が高いポリマーの例には、セルロースアセテート（熱伝導率（以下同様）：０．２２Ｗ／（ｍ・Ｋ））のようなセルロース系ポリマー、ポリカーボネート（０．１９Ｗ／（ｍ・Ｋ））のようなポリエステル系ポリマー及びノルボルネン系ポリマー（０．２０Ｗ／（ｍ・Ｋ））のような環状オレフィンポリマーが含まれる。
市販のポリマー、例えば、市販のノルボルネン系ポリマー（アートン、ＪＳＲ（株）製；ゼオノア、日本ゼオン（株）製、ゼオネックス；日本ゼオン（株）製）を用いてもよい。ポリカーボネート系コポリマーについては、特開平１０−１７６０４６号及び特開２００１−２５３９６０号の各公報に記載がある。

光学補償シートの支持体として用いるポリマーフィルムは、セルロース系ポリマーのフィルムが好ましく、セルロースエステルのフィルムがより好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルのフィルムがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）又は４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
セルロースアセテート（セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）が特に好ましい。酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルローストリアセテートが最も好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。
ポリマーの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、ポリマーは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｍ／Ｍｎ（Ｍｍは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｍ／Ｍｎの値は、１．００〜１．７０であることが好ましく、１．３０〜１．６５であることがさらに好ましく、１．４０〜１．６０であることが最も好ましい。

ポリマーフィルムのレターデーションを調整するため、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することができる。
ポリマーフィルムとしてセルロースアシレートフィルムを用いる場合、芳香族化合物は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
レターデーション上昇剤の分子量は、３００〜８００であることが好ましい。
レターデーション上昇剤については、特開２０００−１１１９１４号、同２０００−２７５４３４号、同２００１−１６６１４４号の各公報及び国際公開第００／０２６１９号パンフレットに記載されている。

ソルベントキャスト法によりポリマーフィルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、ポリマーを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。有機溶媒は、炭素原子数が２〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が２〜１２のエステル及び炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
エーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性ヒドロキシル基のような他の官能基を有していてもよい。

エーテルの例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１、４−ジオキサン、１、３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが含まれる。ケトンの例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが含まれる。エステルの例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテートが含まれる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１又は２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
二種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。

一般的な方法でポリマー溶液（ドープ）を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温又は高温）で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。ポリマーの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。ポリマーの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温（０〜４０℃）でポリマーと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧及び加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、ポリマーと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、さらに好ましくは８０〜１１０℃である。

各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

ポリマー溶液（ドープ）の調製は、冷却溶解法に従い実施してもよい。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で有機溶媒中にポリマーを撹拌しながら徐々に添加される。複数の溶媒を用いる場合は、その添加順は特に限定されない。例えば、主溶媒中にポリマーを添加した後に、他の溶媒（例えばアルコールなどのゲル化溶媒など）を添加してもよいし、逆にゲル化溶媒を予めポリマーに湿らせた後の主溶媒を加えてもよく、不均一溶解の防止に有効である。ポリマーの量は、この混合物中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。
ポリマーの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。

次に、混合物は−１００〜−１０℃（好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却される。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、ポリマーと有機溶媒の混合物は固化する。冷却速度は、特に限定されないがバッチ式での冷却の場合は、冷却に伴いポリマー溶液の粘度が上がり、冷却効率が劣るために所定の冷却温度に達するために効率よい溶解釜とすることが必要である。
冷却溶解法においては、ポリマー溶液を膨潤させた後、所定の冷却温度にした冷却装置内を短時間で移送してもよい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。さらに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃）に加温すると、有機溶媒中にポリマーが流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。

以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧及び減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
なお、セルロースアシレート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保存する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアシレートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。

調製したポリマー溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりポリマーフィルムを製造する。またドープに、前記のレターデーション上昇剤を添加することが好ましい。
ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％、より好ましくは１５〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延及び乾燥方法については、米国特許第２３３６３１０号、同第２３６７６０３号、同第４９２０７８号、同第２４９２９７７号、同第２４９２９７８号、同第２６０７７０４号、同第２７３９０６９号、同第２７３９０７０号、英国特許第６４０７３１号、同第７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。ドープは、表面温度が４０℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラム又はバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラム又はバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。

複数のポリマー溶液を流延してもよい。
複数のポリマー溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からポリマーを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製することができる（特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、同１１−１９８２８５号の各公報記載）。また、２つの流延口からポリマー溶液を流延することによってもフィルムを製造できる（特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、同６１−９４７２４５号、同６１−１０４８１３号、同６１−１５８４１３号、特開平６−１３４９３３号の各公報記載）。さらに、高粘度ポリマー溶液の流れを低粘度のポリマー溶液で包み込み、その高・低粘度のポリマー溶液を同時に押出すポリマーフィルム流延方法（特開昭５６−１６２６１７号公報記載）も採用できる。
二個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成型したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行うことでより、フィルムを作製する方法（特公昭４４−２０２３５号公報記載）も実施できる。複数のポリマー溶液ポリマー溶液は、同一の溶液でもよい。複数のポリマー層に異なる機能を持たせるためには、その機能に応じたポリマー溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。

ポリマー溶液は、他の機能層（例、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層）の塗布液と同時に流延することもできる。
従来の単層液では、必要なフィルム厚さにするためには高濃度で高粘度のポリマー溶液を押出すことが必要である。その場合、ポリマー溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多かった。この解決として、複数のポリマー溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できる。さらに、濃厚なポリマー溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、さらに、フィルムの生産スピードを高めることができる。

ポリマーフィルムには、機械的物性を改良するため、又は乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステル又はカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）及びトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）及びジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）及びＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰ及びＤＰＰが特に好ましい。
可塑剤の添加量は、ポリマーの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。

ポリマーフィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤は、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）及びトリベンジルアミン（ＴＢＡ）である。

作製したポリマーフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３〜１００％であることが好ましい。延伸後のポリマーフィルムの厚さは、２０〜２００μｍであることが好ましく、３０〜１００μｍであることがさらに好ましい。延伸処理の条件を調整することにより、光学補償シートの遅相軸の角度の標準偏差を小さくすることができる。延伸処理は、テンターを用いて実施できる。ソルベントキャスト法により作製したフィルムに、テンターを用いて横延伸を実施する際に、延伸後のフィルムの状態を制御することにより、フィルム遅相軸角度の標準偏差を小さくすることができる。具体的には、テンターを用いてレターデーション値を調整する延伸処理を行い、そして延伸直後のポリマーフィルムを最大延伸倍率から最大延伸倍率の１／２の延伸倍率の間の延伸倍率で、フィルムのガラス転移温度近傍で保持することで、遅相軸角度の標準偏差を小さくすることができる。この保持の際のフィルムの温度をガラス転移温度よりも低い温度で行うと、標準偏差が大きくなってしまう。
また、ロール間にて縦延伸を行う際に、ロール間距離を広くすることによっても、遅相軸の標準偏差を小さくできる。

ポリマーフィルムを、光学補償シートの透明支持体としての機能に加えて、偏光膜の透明保護膜としても機能させる場合、ポリマーフィルムを表面処理することが好ましい。
表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理又は紫外線照射処理を実施する。酸処理又はアルカリ処理を実施することが好ましく、アルカリ処理を実施することがさらに好ましい。ポリマーがセルロースアシレートである場合、酸処理又はアルカリ処理は、セルロースアシレートに対するケン化処理として実施される。

《配向膜》
前記光学異方性層の形成には、配向膜を利用してもよい。配向膜は、光学異方性層中の液晶性化合物の分子を配向制御する。配向膜の表面は、ラビング処理されているのが好ましい。液晶性化合物を含有する塗布液をラビング処理面に塗布し、乾燥すると、液晶性分子はラビング処理面のラビング軸に応じて配向する。
但し、液晶性化合物の分子を配向させた後に、その配向状態を固定して光学異方性層を形成してしまえば、その後、配向膜は必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを支持体や、偏光フィルム上に転写してもよい。

配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。

配向膜は、ポリマー層の表面をラビング処理することにより形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性分子を配向させる機能のある分子構造を有する。本発明では、液晶性分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができし、これらの組合せを複数使用することができる。ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。

ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。

液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶性分子の種類及び必要とする配向状態に応じて決定する。例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性又はブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。

架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。

配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［０２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。

架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。が発生することがある。

配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行ってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。

配向膜の形成時に離用する塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法又はロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行うことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行うことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。

配向膜は、支持体上又は支持体上に形成された下塗層上に設けてもよい。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。

前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。

次に、配向膜を機能させて、配向膜の上に光学異方性層形成用の組成物（塗布液）を配置し、液晶性化合物の分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させてもよい。配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。

［ＶＡモード液晶表示装置の第１の態様に用いられる第１及び第２の光学異方性層］
上記した通り、本発明をＶＡモードの液晶表示装置に適用する場合は、上記式(III)及び（IV）を満足する、より好ましくは上記式（III）〜（VII）を満足する第１の光学異方性層、及び上記式（VIII）及び（IX）を満足する、より好ましくは上記式（Ｘ）〜（XIII）を満足する第２の光学異方性層を用いるのが好ましい。これらの第１及び第２の光学異方性層がポリマーフィルムであると、偏光子と貼り合わせることができる。また、単独の部材として、例えば、光学補償フィルムとして液晶表示装置に組み込むことができる。前記ポリマーフィルムの材料としては、光学性能、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるポリマーが好ましいが、上述の条件を満たす範囲であればどのような材料を用いてもよい。例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー等が挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、または前記ポリマーを混合したポリマーも例として挙げられる。

また、前記ポリマーフィルムを形成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることができる。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等が挙げられる。

また、前記ポリマーフィルムを形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきたセルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）を特に好ましく用いることができる。セルロースアシレートの代表例としては、トリアセチルセルロースが挙げられる。セルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば、丸澤、宇田著、「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、前記セルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。

第１及び第２の光学異方性層用のセルロースアシレートフィルムは、二種類以上の置換基を有するセルロースアシレートを含む組成物からなることが好ましい。かかるセルロースアシレートの好ましい例には、アシル化度が２〜２．９であり、アセチル基の炭素数が３〜４のアシル基を有する混合脂肪酸エステルが含まれる。前記混合脂肪酸エステルのアシル化度は２．２〜２．８５がさらに好ましく、２．４〜２．８がよりさらに好ましい。また、アセチル化度は２．５未満が好ましく、１．９未満がさらに好ましい。脂肪酸エステル残基において、脂肪族アシル基は炭素原子数が２〜２０であることが好ましい。具体的にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル、ステアロイル等が挙げられ、好ましくはアセチル、プロピオニル及びブチリルである。

前記セルロースアシレートは、脂肪酸アシル基と置換もしくは無置換の芳香族アシル基とを有する混合酸エステルであってもよい。
芳香族アシル基の置換度はセルロース脂肪酸モノエステルの場合、残存する水酸基に対して、好ましくは２．０以下、さらに好ましくは０．１〜２．０である。また、セルロース脂肪酸ジエステル（二酢酸セルロース）の場合、残存する水酸基に対して、好ましくは１．０以下、さらに好ましくは０．１〜１．０である。

前記セルロースアシレートは、３５０〜８００の質量平均重合度を有することが好ましく、３７０〜６００の質量平均重合度を有することがさらに好ましい。また本発明で用いられるセルロースアシレートは、７００００〜２３００００の数平均分子量を有することが好ましく、７５０００〜２３００００の数平均分子量を有することがさらに好ましく、７８０００〜１２００００の数平均分子量を有することがよりさらに好ましい。

前記セルロースアシレートは、アシル化剤として酸無水物や酸塩化物を用いて合成できる。工業的に最も一般的な合成方法では、綿花リンタや木材パルプなどから得たセルロースをアセチル基及び他のアシル基に対応する有機酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸）又はそれらの酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）を含む混合有機酸成分でエステル化してセルロースエステルを合成する。

前記セルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造されるのが好ましい。ソルベントキャスト法を利用したセルロースアシレートフィルムの製造例については、 米国特許第２，３３６，３１０号、同２，３６７，６０３号、同２，４９２，０７８号、同２，４９２，９７７号、同２，４９２，９７８号、同２，６０７，７０４号、同２，７３９，０６９号及び同２，７３９，０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号及び同７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号及び同６２−１１５０３５号等の記載を参考にすることができる。また、前記セルロースアシレートフィルムは、延伸処理を施されていてもよい。延伸処理の方法及び条件については、、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号 等に記載の例を参考にすることができる。

《Ｒｔｈ発現剤》
第１の光学異方性層としての条件を満足するセルロースアシレートフィルムを作製するために、セルロースアシレートフィルム中に、Ｒｔｈ発現剤を添加するのが好ましい。ここで、「Ｒｔｈ発現剤」とはフィルムの厚み方向に複屈折を発現する性質を有する化合物である。

前記Ｒｔｈ発現剤としては、２５０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する分極率異方性の大きい化合物が好ましい。前記Ｒｔｈ発現剤としては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を特に好ましく使用できる。

式中、Ｘ¹は、単結合、−ＮＲ⁴−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ²は、単結合、−ＮＲ⁵−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ³は、単結合、−ＮＲ⁶−、−Ｏ−又はＳ−である。また、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基であり；Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基である。

以下に前記一般式（Ｉ）で表される化合物の好ましい例（Ｉ−（１）〜ＩＶ−（１０））を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

前記Ｒｔｈ発現剤としては下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物も好ましい。以下に一般式（ＩＩＩ）の化合物に関して詳細に説明する

一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ¹¹、Ｒ¹³はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ¹、Ｌ²はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａｒ¹はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、Ａｒ²はアリール基又は芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ²、Ａｒ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ¹¹、Ｒ¹³は互いに異なっており、Ｒ¹³で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。

一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。前記置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。

一般式（ＩＩＩ）におけるＲ²として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基であり、最も好ましくは水素原子である。

一般式（ＩＩＩ）におけるＲ⁴として好ましくは、水素原子又は電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、特に好ましくは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基であり、最も好ましくは水素原子、メトキシ基である。

一般式（ＩＩＩ）におけるＲ⁵として好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。最も好ましくは水素原子である。

一般式（ＩＩＩ）におけるＲ¹¹、Ｒ¹³はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ¹¹、Ｒ¹³は互いに異なっており、Ｒ¹³で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。ここでヘテロ原子とは水素原子、炭素原子以外の原子のことを表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン、ケイ素、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ホウ素などが挙げられる。
Ｒ¹¹、Ｒ¹³で表されるアルキル基としては、直鎖、分岐、又は環状であって、置換もしくは無置換のアルキル基を表し、好ましくは置換もしくは無置換の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基（つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基。）、更に環構造が多いトリシクロ構造などが挙げられる。

Ｒ¹¹、Ｒ¹³で表されるアルキル基の好ましい例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、２−ヘキシルデシル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、２−ヘキセニル基、オレイル基、リノレイル基、リノレニル基等を挙げることができる。また、シクロアルキル基としては、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル、ビシクロアルキル基としては、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イルなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹として更に好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくはメチル基である。
Ｒ¹³として特に好ましくは、炭素原子２個以上を含むアルキル基であり、より好ましくは炭素原子３個以上を含むアルキル基である。分岐又は環状構造をもったものは特に好ましく用いられる。

以下にＲ¹³で表されるアルキル基の具体例（Ｏ−１〜Ｏ−２０）を挙げて説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。尚、下記具体例中、「＃」は酸素原子側を意味する。

一般式（ＩＩＩ）におけるＡｒ¹はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、繰り返し単位中のＡｒ¹は、すべて同一であっても異なっていてもよい。また、Ａｒ²はアリール基又は芳香族へテロ環を表す。
一般式（ＩＩＩ）中、Ａｒ¹で表されるアリーレン基として好ましくは炭素数６〜３０のアリーレン基であり、単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ａｒ¹で表されるアリーレン基としてより好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニレン基、ｐ−メチルフェニレン基、ナフチレン基などが挙げられる。
一般式（ＩＩＩ）中、Ａｒ²で表されるアリール基として好ましくは炭素数６〜３０のアリール基であり、単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ａｒ²で表されるアリール基としてより好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。

一般式（ＩＩＩ）中、Ａｒ¹、Ａｒ²で表される芳香族ヘテロ環は、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環であることができ、好ましくは５〜６員環の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環である。また、可能な場合にはさらに置換基を有してもよい。置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。

一般式（ＩＩＩ）中、Ａｒ¹、Ａｒ²で表される芳香族ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン、ピロロトリアゾール、ピラゾロトリアゾールなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましいものは、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾールである。

一般式（ＩＩＩ）中、Ｌ¹、Ｌ²はそれぞれ独立に単結合、又は２価の連結基を表す。Ｌ¹、Ｌ²は、同じであってもよく異なっていてもよい。また、繰り返し単位中のＬ²は、すべて同一であっても異なっていてもよい。
前記二価の連結基として好ましいものは、−Ｏ−、−ＮＲ―（Ｒは水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基又はアリール基をあらわす）、−ＣＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｓ−、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基及びこれらの二価の基を２つ以上組み合わせて得られる基であり、その内より好ましいものは−Ｏ−、−ＮＲ−、−ＣＯ−、−ＳＯ₂ＮＲ−、−ＮＲＳＯ₂−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−、−ＣＯＯ−、及びＯＣＯ−、アルキニレン基である。Ｒは好ましくは水素原子を表す。

本発明における一般式（ＩＩＩ）で表される化合物において、Ａｒ¹はＬ¹及びＬ²と結合するが、Ａｒ¹がフェニレン基である場合、Ｌ^1-Ａｒ¹−Ｌ²、及びＬ^2-Ａｒ¹−Ｌ²は互いにパラ位（１，４−位）の関係にあることが特に好ましい。

一般式（ＩＩＩ）中、ｎは３以上の整数を表し、好ましくは３〜７であり、より好ましくは３〜６であり、さらに好ましくは３〜５である。

前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物としては、下記一般式（ＩＶ）及び（Ｖ）で表される化合物を特に好ましく用いることができる。

一般式（ＩＶ）中、Ｒ²、Ｒ⁵は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ¹¹、Ｒ¹³は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ¹、Ｌ²は、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。Ａｒ¹はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、Ａｒ²はアリール基又は芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ²、Ａｒ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ¹¹、Ｒ¹³は互いに異なっており、Ｒ¹³で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。

一般式（ＩＶ）中、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ¹¹、Ｒ¹³は一般式（ＩＩＩ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。また、Ｌ¹、Ｌ²、Ａｒ¹、Ａｒ²についても一般式（ＩＩＩ）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。

一般式（Ｖ）中、Ｒ²、Ｒ⁵はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ¹¹、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ¹、Ｌ²はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａｒ¹はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、Ａｒ²はアリール基又は芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ²、Ａｒ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ¹¹、Ｒ¹³は互いに異なっており、Ｒ¹³で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。

一般式（Ｖ）中、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ¹¹、Ｒ¹³は一般式（ＩＩＩ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。また、Ｌ¹、Ｌ²、Ａｒ¹、Ａｒ²は一般式（ＩＩＩ）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（Ｖ）において、Ｒ¹⁴は水素原子又はアルキル基を表し、アルキル基としてはＲ¹¹、Ｒ¹³の好ましい例として示したアルキル基が好ましく用いられる。前記Ｒ¹⁴として好ましくは、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基である。Ｒ¹¹とＲ¹⁴とは同一であってもよいし異なっていてもよいが、ともにメチル基であることが特に好ましい。

また、前記一般式（Ｖ）で表される化合物としては、一般式（Ｖ―Ａ）もしくは一般式（Ｖ−Ｂ）で表される化合物も好ましい。

一般式（Ｖ−Ａ）中、Ｒ²、Ｒ⁵は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ¹¹、Ｒ¹³は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ¹、Ｌ²は、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。Ａｒ¹はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ²、Ａｒ²はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ¹¹、Ｒ¹³は互いに異なっており、Ｒ¹³で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。

一般式（Ｖ―Ａ）中、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ¹¹、Ｒ¹³、Ｌ¹、Ｌ²、Ａｒ¹、ｎは一般式（ＩＩＩ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。

一般式（Ｖ−Ｂ）中、Ｒ²、Ｒ⁵は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ¹¹、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ¹、Ｌ²は、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。Ａｒ¹はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ¹、Ａｒ²はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ¹¹、Ｒ¹³は互いに異なっており、Ｒ¹³で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。

一般式（Ｖ―Ｂ）中、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ¹¹、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｌ¹、Ｌ²、Ａｒ¹、ｎは一般式（ＩＩＩ）及び（Ｖ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。

以下に前述の置換基Ｔについて説明する。
置換基Ｔとして好ましくはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換又は無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、

シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、

アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、

スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換又は無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表わす。

上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、具体例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。

また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（Ｖ−Ａ）で表される化合物として好ましいものは、Ｒ¹¹がいずれもメチル基であり、Ｒ²、Ｒ⁵がいずれも水素原子であり、Ｒ¹³が炭素原子３個以上をもつアルキル基であり、Ｌ¹が、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−ＳＯ₂ＮＲ−、−ＮＲＳＯ₂−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−、−ＣＯＯ−、及びＯＣＯ−、アルキニレン基（Ｒは水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基を表す。好ましくは水素原子である。）であり、Ｌ²が−Ｏ−又はＮＲ−（Ｒは水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基を表す。好ましくは水素原子である。）であり、Ａｒ¹がアリーレン基であり、ｎが３〜６であるものを挙げることができる。

以下に一般式（Ｖ−Ａ）及び（Ｖ−Ｂ）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。

一般式（ＩＩＩ）で表される化合物はまず置換安息香酸を合成した後に、この置換安息香酸とフェノール誘導体もしくはアニリン誘導体との一般的なエステル反応もしくはアミド化反応によって合成でき、エステル結合、アミド結合形成反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノール誘導体もしくはアニリン誘導体と縮合する方法、縮合剤あるいは触媒を用いて置換安息香酸とフェノール誘導体もしくはアニリン誘導体を脱水縮合する方法などが挙げられる。
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の製造方法としては、製造プロセス等を考慮すると置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノール誘導体もしくはアニリン誘導体と縮合する方法が好ましい。

一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の製造方法においては、反応溶媒として、炭化水素系溶媒（好ましくはトルエン、キシレンが挙げられる。）、エーテル系溶媒（好ましくはジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられる）、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも数種を混合して用いてもよく、前記溶媒として好ましくはトルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである。

反応温度としては、好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは０〜１００℃、更に好ましくは０〜９０℃であり、特に好ましくは２０℃〜９０℃である。
また、本反応には塩基を用いないのが好ましい。塩基を用いる場合には有機塩基、無機塩基のどちらでもよく、好ましくは有機塩基であり、ピリジン、３級アルキルアミン（好ましくはトリエチルアミン、エチルジイソプルピルアミンなどが挙げられる）である。

一般式（Ｖ−Ａ）及び（Ｖ−Ｂ）で表される化合物は、公知の方法で合成することができ、例えば、ｎ＝４である化合物の場合、下記構造Ａを有する原料化合物と水酸基、アミノ基等の反応性部位を有する誘導体との反応により得られた下記中間体Ｂ ２分子を、下記化合物Ｃ １分子により連結することによって得ることができる。ただし、一般式（Ｖ−Ａ）及び（Ｖ−Ｂ）で表される化合物の合成法はこの例に限定されない。

式中、Ａは水酸基、ハロゲン原子等の反応性基を表し、Ｒ¹¹、Ｒ²、Ｒ¹³、及びＲ⁵は先に記載した通りであり、Ｒ⁴は水素原子もしくは前述のＯＲ¹⁴で表される置換基である。

式中、Ａ’はカルボキシル基等の反応性基を表し、Ｒ¹¹、Ｒ²、Ｒ¹³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ａｒ¹、及びＬ¹は先に記載した通りである。

式中、Ｂ及びＢ’は水酸基、アミノ基等の反応性基を表し、Ａｒ²及びＬ²は先に記載したＡｒ¹、Ｌ¹と同義である。

上記一般式（Ｉ）、（ＩＩＩ）〜（Ｖ）で表される本発明におけるＲｔｈ発現剤のセルロースアシレート１００質量部に対する含有量は０．１〜３０質量％が好ましく、１〜２５質量％がさらに好ましく、３〜１５質量％がよりさらに好ましい。
前記セルロースアシレートフィルムをソルベントキャスト法により製造する場合は、前記Ｒｔｈ発現剤をドープ中に添加してもよい。前記Ｒｔｈ発現剤を添加するタイミングについて特に制限はなく、アルコール、メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒にＲｔｈ発現剤を溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。

前記Ｒｔｈ発現剤として、前記一般式（Ｉ）、（ＩＩＩ）〜（Ｖ）で表される化合物の一種を単独で用いてもよいし、２種類以上混合して用いることができる。また、本発明においては、一般式（Ｉ）、（ＩＩＩ）〜（Ｖ）で表されるＲｔｈ発現剤の併用も好ましい。

前記第１の光学異方性層として使用されるセルロースアシレートフィルムは、紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤は、Ｒｔｈ発現剤としても機能し得る。前記紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。前記第１の光学異方性層として用いるセルロースアシレートフィルムには、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。

本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５”，６”−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６（何れもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を好ましく使用できる。

第１の光学異方性層としての条件を満足するセルロースアシレートフィルムを作製するために、セルロースアシレートフィルム中に、Ｒｔｈ発現剤を添加するのが好ましい。ここで、「Ｒｔｈ発現剤」とはフィルムの厚み方向に複屈折を発現する性質を有する化合物である。前記Ｒｔｈ発現剤としては、２５０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する分極率異方性の大きい化合物が好ましい。Ｒｔｈ発現剤のセルロースアシレート１００質量部に対する含有量は０．１〜３０質量％が好ましく、１〜２５質量％がさらに好ましく、３〜１５質量％がよりさらに好ましい。
なお、前記セルロースアシレートフィルムをソルベントキャスト法により製造する場合は、前記Ｒｔｈ発現剤をドープ中に添加してもよい。前記Ｒｔｈ発現剤を添加するタイミングについて特に制限はなく、アルコール、メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒にＲｔｈ発現剤を溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。

《波長分散調製剤》
また、第１の光学異方性層としての条件を満足するセルロースアシレートフィルムを作製するために、セルロースアシレートフィルム中に、紫外線吸収剤を添加してもよい。紫外線吸収剤は、波長分散調整剤としても機能し得る。前記紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。前記セルロースアシレートフィルムには、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。

《可塑剤》
前記第１及び第２の光学異方性層として用いられるセルロースアシレートフィルム中には、トリフェニルホスフェート、ビフェニルホスフェート等の可塑剤を添加してもよい。

前記第１の光学異方性層は、液晶組成物から形成された層であってもよいし、かかる層とポリマーフィルムとの積層体であってもよい。前記液晶組成物は少なくとも１種の液晶性化合物を含有する。該液晶性化合物は、分子構造が円盤状であるディスコティック液晶から選択されるのが好ましい。該ディスコティック液晶の好ましい化合物例及び液晶組成物を用いた光学異方性層の形成方法の例等については、上記光学補償シートの作製について説明したのと同様である。
なお、前記第１の光学異方性層を液晶組成物から形成する場合は、ポリマーフィルム等の支持体上に形成するのが一般的である。支持体であるポリマーフィルムの複屈折性を積極的に利用して、積層体として第１の光学異方性層に要求される光学特性を満足する態様であっても、また支持体にはレターデーションがほぼ０のフィルム（例えば、特開２００５−１３８３７５に記載のセルロースアシレートフィルム等）を用いて、前記硬化性液晶組成物からなる層のみで、第２の光学異方性層に要求される光学特性を満足する態様であってもよい。

《Ｒｅ発現剤》
第２の光学異方性層としての条件を満足するセルロースアシレートフィルムを作製するために、セルロースアシレートフィルム中に、Ｒｅ発現剤を添加するのが好ましい。ここで、「Ｒｅ発現剤」とはフィルム面内の複屈折を発現する性質を有する化合物である。

第２の光学異方性層として利用するセルロースアシレートフィルムは、Ｒｅ発現剤としては、下記一般式（Ａ）で表される液晶性化合物の少なくとも一種を含有していてもよい。

式中、Ｌ¹及びＬ²は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ¹及びＡ²は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表し（ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよい）；ｎは０〜２までのいずれかの整数を表す。

前記一般式（Ａ）で表される化合物の中でも、Ｒｅ発現剤としては、下記一般式（Ｂ）で表される化合物が好ましい。

一般式（Ｂ）中、Ｌ¹及びＬ²は各々独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａ¹及びＡ²は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す。）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は各々独立に置換基を表す。ｎは０〜２の整数を表す。

一般式（Ａ）又は（Ｂ）において、Ｌ¹及びＬ²が表す二価の連結基としては、好ましくは下記の例が挙げられる。

さらに好ましくは−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−である。

一般式（Ａ）又は（Ｂ）において、Ｒ¹は置換基であり、複数存在する場合は同じでも異なっていてもよく、環を形成してもよい。置換基の例としては下記のものが適用できる。

ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換又は無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換又は無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表わす。

上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。

Ｒ¹は好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基、アミノ基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基である。

Ｒ²、Ｒ³は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ¹の例があげられる。好ましくは置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のシクロヘキサン環である。より好ましくは置換基を有するベンゼン環、置換基を有するシクロヘキサン環であり、さらに好ましくは４位に置換基を有するベンゼン環、４位に置換基を有するシクロヘキサン環である。

Ｒ⁴、Ｒ⁵は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ¹の例があげられる。好ましくは、ハメットの置換基定数σ_p値が０より大きい電子吸引性の置換基であることが好ましく、σ_p値が０〜１．５の電子吸引性の置換基を有していることがさらに好ましい。このような置換基としてはトリフルオロメチル基、シアノ基、カルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。また、Ｒ⁴とＲ⁵とが結合して環を形成してもよい。
なお、ハメットの置換基定数のσ_p、σ_mに関しては、例えば、稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）、日本化学会編「新実験化学講座１４ 有機化合物の合成と反応Ｖ」２６０５頁（丸善）、仲谷忠雄著「理論有機化学解説」２１７頁（東京化学同人）、ケミカル レビュー，９１巻，１６５〜１９５頁（１９９１年）等の成書に詳しく解説されている。

Ａ¹及びＡ²は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。好ましくは−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは置換基を表し、例としては上記Ｒ¹の例が挙げられる）又はＳ−である。

Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表す。ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよい。Ｘは＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ、＝Ｃ（Ｒ）Ｒが好ましい（ここでＲは置換基を表し、例としては上記Ｒ¹の例が挙げられる）。
ｎは０〜２の整数を表し、好ましくは０、１である。

以下に、一般式（Ａ）又は（Ｂ）で表される化合物の具体例を示すが、前記Ｒｅ発現剤の例は以下の具体例に限定されるものではない。下記化合物に関しては、指定のない限り括弧（ ）内の数字にて例示化合物（Ｘ）と示す。

前記一般式（Ａ）又は（Ｂ）で表される化合物の合成は、既知の方法を参照して行うことができる。例えば、例示化合物（１）は、下記スキームに従って合成することができる。

前記スキーム中、化合物（１−Ａ）から化合物（１−Ｄ）までの合成は、“Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈｙ”（１９９７）；２７（９）；ｐ．５１５−５２６．に記載の方法を参照して行うことができる。
さらに、前記スキームに示したように、化合物（１−Ｅ）のテトラヒドロフラン溶液に、メタンスルホン酸クロライドを加え、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを滴下し攪拌した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを加え、化合物（１−Ｄ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下することで、例示化合物（１）を得ることができる。

また、特開２００４−５０５１６号公報の１１〜１４頁に記載の棒状芳香族化合物を、前記Ｒｅ発現剤として用いてもよい。
また、Ｒｅ発現剤として、一種の化合物を単独で、又は二種類以上の化合物を混合して用いることができる。Ｒｅ発現剤として互いに異なる二種類以上の化合物を用いると、レターデーションの調整範囲が広がり、容易に所望の範囲に調整できるので好ましい。
前記Ｒｅ発現剤の添加量はセルロースアシレート１００質量部に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％がさらに好ましい。前記セルロースアシレートフィルムをソルベントキャスト法で作製する場合は、前記Ｒｅ発現剤を、ドープ中に添加してもよい。添加はいずれのタイミングで行ってもよく、例えば、アルコール、メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒にＲｅ発現剤を溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加してもよいし、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。

また、前記第２の光学異方性層の作製に用いるＲｅ発現剤の好ましい組合せとしては、前記一般式（Ａ）で表される液晶性化合物と、下記一般式（ａ）で表される液晶性化合物との組み合わせが挙げられる。これらの液晶性化合物を用いると、Ｒｅについて、勾配の急な逆波長分散性（長波長ほどＲｅが大きくなる性質）の光学異方性層とすることができる。
一般式（ａ）：Ａｒ¹−Ｌ¹²−Ｘ−Ｌ¹³−Ａｒ²
上記一般式（ａ）において、Ａｒ¹及びＡｒ²はそれぞれ独立に、芳香族基であり；Ｌ¹²及びＬ¹³はそれぞれ独立に、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−基であり；Ｘは、１，４−シクロへキシレン基、ビニレン基又はエチニレン基である。
Ａｒ¹及びＡｒ²がそれぞれ表す芳香族基には、芳香族炭化水素環基及び芳香族へテロ環基の双方が含まれる。具体例には、フェニル基、ナフチル基が含まれる。前記芳香族へテロ環基は、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも一種のへトロ原子を環中に１以上有する。５〜７員環であるのが好ましく、５又は６員環であるのが好ましい。
Ａｒ¹及びＡｒ²がそれぞれ表す、芳香族基は可能であれば置換基を有していてもよい。置換基の具体例は、前記一般式（Ａ）式中のＲ¹が表す置換基の例と同様である。

前記一般式（ａ）で表される液晶性化合物の具体例としては、特開２００４−５０５１６号公報の１１〜１４頁の［００４０］〜［００４４］に記載の棒状芳香族化合物が挙げられる。

Ｒｅ発現剤として利用する前記液晶性化合物は、所望により添加される他の添加剤とともに、ポリマー組成物（好ましくはセルロースアシレート組成物）中に添加する。前記液晶性化合物の添加量は、０．１〜３０質量％であるのが好ましく、０．１〜２０質量％であるのがより好ましい。この範囲で液晶性化合物を添加すると、所望の光学特性を達成することができ、また過度の添加量が多すぎると懸念されるフィルム中からの化合物の泣き出し（ブリードアウト）抑制観点から好ましい。また、該液晶性化合物の全添加剤に対する質量比は、４０〜１００質量％であるのが好ましく、５０〜１００質量％であるのがより好ましい。Ｒｅ発現剤である液晶性化合物の全添加剤に対する割合が前記範囲であると、所望の光学特性を達成する観点から好ましい。
また、前記一般式（Ａ）で表される液晶性化合物と前記一般式（ａ）で表される液晶性化合物とを併用する態様では、安定的に、前記特性を満足する本発明の光学フィルムを作製できるように併用比率を調整することが好ましい。

［ＶＡモード液晶表示装置の第２の態様に用いられる光学異方性層Ａ及びＢ］
上記した通り、本発明をＶＡモードの液晶表示装置に適用する場合は、上記式(XV)及び（XVI）を満足する、より好ましくは上記式(XV)及び（XVI）を満足するとともに等しいＲｅ及びＲｔｈを有する、光学異方性層Ａ及びＢを用いるのが好ましい。これらの光学異方性層Ａ及びＢがポリマーフィルムであると、偏光子と貼り合わせることができる。また、単独の部材として、例えば、光学補償フィルムとして液晶表示装置に組み込むことができる。前記ポリマーフィルムの材料としては、光学性能、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるポリマーが好ましいが、上述の条件を満たす範囲であればどのような材料を用いてもよい。具体例としては、上記ＶＡモード液晶表示装置の第１の態様に用いられる第１及び第２の光学異方性層の作製に利用可能なポリマー材料と同様である。

例えば、光学異方性層Ａ及びＢを、前記式(XV)及び（XVI）を満足しつつ、可視光域においてＲｔｈが低波長分散性（波長に依存したＲｔｈの変動が少ない）の光学異方性層とする場合は、ノルボルネン系ポリマーフィルムを用いるのが好ましい。使用可能なノルボルネン系ポリマーフィルムの具体例については、第１の態様の第１及び第２の光学異方性層の作製に利用可能なノルボルネン系ポリマーフィルムの具体例と同様である。
また、前記光学異方性層Ａ及びＢは、セルロースアシレートフィルムからなっていてもよい。特に、前記光学異方性層Ａ及びＢを、前記式(XV)及び（XVI）を満足しつつ、可視光域においてＲｔｈが逆波長分散性（長波長なほどＲｔｈが大きくなる性質）の光学異方性層とする場合は、セルロースアシレートフィルム中に主成分（固形分で５０質量％以上の成分）として含まれるセルロースアシレートのアシル置換基が、アセチル、プロピオニル及びブチリルから選択される少なくとも一種であるセルロースアシレートフィルムを用いるのが好ましい。

また、前記光学異方性層Ａ及びＢのレターデーションの絶対値及び／又はレターデーションの波長分散性を調整するために、Ｒｅ発現剤や低減剤及びＲｔｈ発現剤や低減剤を、上記いずれかのポリマーフィルム中に添加してもよい。光学異方性層Ａ及びＢの作製に使用可能なＲｅ発現剤や低減剤及びＲｔｈ発現剤や低減剤については、上述の第１及び第２の光学異方性層の作製に使用可能な材料と同様である。
例えば、前記光学異方性層Ａ及びＢの作製には、Ｒｔｈ発現剤の少なくとも一種を用いるのが好ましい。特に、前記光学異方性層Ａ及びＢを、前記式(XV)及び（XVI）を満足しつつ、可視光域においてＲｔｈが順波長分散性（短波長なほどＲｔｈが大きくなる性質）の光学異方性層とする場合は、Ｒｔｈ発現剤としては、２５０ｎｍ〜３８０ｎｍに吸収極大がある化合物が好ましく、中でも、下記一般式（Ｉ）で表される化合物：

を用いるのが好ましい。式中の各基の定義については、第１の態様で説明した通りである。
Ｒｔｈ発現剤として前記式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種と、ポリマー（好ましくはセルロースアシレート）とを含むポリマー組成物を調製し、溶液流延法によりポリマーフィルムを得、これを前記光学異方性層Ａ及びＢとして用いるのが好ましい。前記一般式（Ｉ）の化合物は、ポリマー組成物の全質量（固形分）に対して０．１〜３０質量％添加するのが好ましい。

また、光学異方性層Ａ及びＢを、前記式(XV)及び（XVI）を満足しつつ、比較的高いＲｅを示し、且つ可視光域において、Ｒｅｇａ勾配の急な逆波長分散性（長波長ほどＲｅが大きくなる性質）の光学異方性層とする場合は、上述の第１の態様において前記第２の光学異方性層の作製と同様、前記一般式（Ａ）で表される液晶性化合物とともに、前記一般式（ａ）で表される液晶性化合物をＲｅ発現剤として用いてもよい。これらの化合物の詳細及び好ましい例については、前述の通りである。

ＶＡモード液晶表示装置の前記第１及び第２の態様に用いられる各光学異方性層の厚みについては特に制限はないが、各光学異方性層に求められる光学特性を満足しつつ、薄型化の要請に応えるためには、各光学異方性層の厚みは、３０〜２００μｍであるのが好ましい。

［楕円偏光板］
本発明の液晶表示装置には、光学異方性層を直線偏光膜（偏光膜フィルム）と一体化させた楕円偏光板を用いることができる。前記楕円偏光板は、前記光学補償シートと直線偏光膜（以下、単に「偏光膜」、「偏光フィルム」という場合は「直線偏光膜」をいうものとする）とを積層することによって作製することができる。光学補償シートは、直線偏光膜の保護膜を兼ねていてもよい。

直線偏光膜は、Ｏｐｔｉｖａ Ｉｎｃ．に代表される塗布型偏光膜、もしくはバインダーと、ヨウ素又は二色性色素からなる偏光膜が好ましい。直線偏光膜におけるヨウ素及び二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。ヨウ素及び二色性色素は、バインダー分子に沿って配向するか、もしくは二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。現在、市販の偏光子は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素をバインダー中に浸透させることで作製されるのが一般的である。

市販の偏光膜は、ポリマー表面から４μｍ程度（両側合せて８μｍ程度）にヨウ素もしくは二色性色素が分布しており、十分な偏光性能を得るためには、少なくとも１０μｍの厚みが必要である。浸透度は、ヨウ素もしくは二色性色素の溶液濃度、同浴槽の温度、同浸漬時間により制御することができる。上記のように、バインダー厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。厚みの上限は、液晶表示装置の光漏れの観点からは、薄ければ薄い程よい。現在市販の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。２０μｍ以下であると、光漏れ現象は、１７インチの液晶表示装置で観察されなくなる。

偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。架橋しているバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーを用いることができる。官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入して得られるバインダーを、光、熱あるいはｐＨ変化により、バインダー間で反応させて偏光膜を形成することができる。また、架橋剤によりポリマーに架橋構造を導入してもよい。架橋は一般に、ポリマー又はポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明支持体上に塗布したのち、加熱を行うことにより実施される。最終商品の段階で耐久性が確保できればよいため、架橋させる処理は、最終の偏光板を得るまでのいずれの段階で行ってもよい。

偏光膜のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。ポリマーの例としては、前記の配向膜で記載のポリマーと同様のものが挙げられる。ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号及び同９−３１６１２７号の各公報に記載がある。ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールは、二種以上を併用してもよい。

バインダーの架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１〜２０質量％が好ましい。偏光素子の配向性、偏光膜の耐湿熱性が良好となる。

配向膜は、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいる。但し、残存する架橋剤の量は、配向膜中に１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このようにすることで、偏光膜を液晶表示装置に組み込み、長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、偏光度の低下を生じない。
架橋剤については、米国再発行特許２３２９７号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物（例、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。

二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。
二色性色素の例としては、例えば、前記の公技番号２００１−１７４５号の５８頁に記載の化合物が挙げられる。

液晶表示装置のコントラスト比を高めるためには、偏光板の透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０〜５０％の範囲にあることが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。

《楕円偏光板の製造》
延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。延伸工程は、斜め延伸を含め数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。斜め延伸前に、横あるいは縦に若干の延伸（幅方向の収縮を防止する程度）を行ってもよい。延伸は、二軸延伸におけるテンター延伸を左右異なる工程で行うことによって実施できる。上記二軸延伸は、通常のフィルム製膜において行われている延伸方法と同様である。二軸延伸では、左右異なる速度によって延伸されるため、延伸前のバインダーフィルムの厚みが左右で異なるようにする必要がある。流延製膜では、ダイにテーパーを付けることにより、バインダー溶液の流量に左右の差をつけることができる。

ラビング法では、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されているラビング処理方法を応用することができる。すなわち、膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維を用いて一定方向に擦ることにより配向を得る。一般には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布を用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。ロール自身の真円度、円筒度、振れ（偏芯）がいずれも３０μｍ以下であるラビングロールを用いて実施することが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、０．１〜９０゜が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０゜以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。

長尺フィルムをラビング処理する場合は、フィルムを搬送装置により一定張力の状態で１〜１００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送することが好ましい。ラビングロールは、任意のラビング角度設定のためフィルム進行方向に対し水平方向に回転自在とされることが好ましい。０〜６０゜の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。

直線偏光膜の光学異方性層と反対側の表面には、ポリマーフィルムを配置する（光学異方性層／偏光膜／ポリマーフィルムの配置とする）ことが好ましい。
ポリマーフィルムは、その最表面が防汚性及び耐擦傷性を有する反射防止膜を設けてなることも好ましい。反射防止膜は、従来公知のいずれのものも用いることができる。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。

［実施例１］
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。

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セルロースアセテート溶液組成
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酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００．０質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ４．０質量部
下記の染料 ０．０００６質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
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（マット剤分散液の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を分散し、マット剤分散液を調製した。

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マット剤分散液組成
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平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ・Ｒ９７２、日本アエロジル
（株）製） ２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） １１．４質量部
セルロースアセテート溶液 １０．３質量部
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（レターデーション上昇剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加温しながら攪拌して、各成分を溶解し、レターデーション上昇剤溶液を調製した。

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レターデーション上昇剤溶液組成
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下記のレターデーション上昇剤 ２０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．３質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
セルロースアセテート溶液 １２．８質量部
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（セルロースアセテートフィルムの作製）
セルロースアセテート溶液９４．７５質量部、マット剤分散液１．３０質量部、レターデーション上昇剤溶液３．９５質量部をそれぞれ濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。レターデーション上昇剤のセルロースアセテートに対する質量比は４．８％であった。残留溶剤量が３０質量％のフィルムをバンドから剥離した。１４０℃の温度で、フィルムをテンターを用いて２８％の延伸倍率で横延伸し、延伸後に延伸倍率を２５％に緩め１４０℃で２０秒間保持した。この時最大拡幅点での残留溶剤量は１４質量％であった。その後、クリップを外して１３０℃で４５分間乾燥させセルロースアセテートフィルムを製造した。製造されたセルロースアセテートフィルムの残留溶剤量は０．２質量％であり、膜厚は８８μｍであった。

（光学特性の測定）
作製したセルロースアセテートフィルムについて、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用い、波長６３２．８ｎｍの光でＲｅレターデーション値を測定した。また面内の遅相軸をあおり軸として４０°及び−４０°あおってレターデーション値Ｒｅ（４０°）及びＲｅ（−４０°）を測定した。膜厚及び遅相軸方向の屈折率ｎｘをパラメータとし、これらの測定値Ｒｅ（６３２．８ｎｍ）、Ｒｅ（４０°）、Ｒｅ（−４０°）にフィッティングするように進相軸方向の屈折率ｎｙ及び厚み方向の屈折率ｎｚを計算で求め、Ｒｔｈレターデーション値を決定した。さらに、波長４００ｎｍと波長５５０ｎｍの光で、Ｒｅレターデーション値を測定し、α２＝Ｒｅ（４００ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）を計算した。

（セルロースアセテートフィルムのケン化処理）
作製したセルロースアセテートフィルムの一方の面に、１．５規定水酸化カリウムのイソプロピルアルコール溶液を２５ｍｌ／ｍ²塗布し、２５℃で５秒間放置した後、流水で１０秒洗浄し、２５℃の空気を吹き付けることでフィルムの表面を乾燥した。このようにして、セルロースアセテートフィルムの一方の表面のみをケン化した。

（配向膜の形成）
ケン化処理したセルロースアセテートフィルム（透明支持体）の一方の面に、下記の組成の塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ²塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、セルロースアセテートフィルム（透明支持体）の延伸方向（遅相軸とほぼ一致）と４５゜の方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。

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配向膜塗布液組成
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下記の変性ポリビニルアルコール ２０質量部
水 ３６０質量部
メタノール １２０質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ２質量部
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（光学異方性層の形成）
下記の組成のディスコティック化合物を含む塗布液を上記作製した配向膜上に＃３．２のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック化合物の配向熟成のために、１００℃の温風で３０秒、さらに１３０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し光学異方性層を形成した。続いて、光学異方性層が形成された面の反対側のセルロースアセテートフィルム表面を連続的にケン化処理し、光学補償シートを作製した。

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光学異方性層塗布液組成
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下記のディスコティック化合物（１） ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製） ０．３４質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） ０．１１質量部
下記フルオロ脂肪族基含有ポリマー１ ０．０３質量部
下記フルオロ脂肪族基含有ポリマー２ ２０．２３質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） １．３５質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．４５質量部
メチルエチルケトン １０７質量部
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透明支持体をガラス板に変更した以外は、上記と同様に光学異方性層を形成した。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用い、波長６３２．８ｎｍの光で、光学異方性層のＲｅレターデーション値を測定した。また面内の遅相軸をあおり軸として４０°及び−４０°あおってレターデーションＲｅ（４０）及びＲｅ（−４０）を測った。
さらに、波長４００ｎｍにおいてＲｅレターデーション値を測定した。結果はＲｅ（λ：６３２．８ｎｍ）＝３８ｎｍ、Ｒｅ（４０）／Ｒｅ＝１．７６、及びＲｅ（−４０）／Ｒｅ＝０．４６、Ｒｅ（４００）／Ｒｅ（５５０）＝１．０６であった。

５０％となる極角（法線からの傾きの角度）の範囲について、白輝度視野角を測定した。結果は１２０°であった。

（楕円偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
次に、作製した光学補償シートの透明支持体側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片側に貼り付けた。透明支持体の遅相軸と偏光膜の透過軸とが平行になるように配置した。
市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０Ｕ、富士フイルム社製）を透明支持体と同様にケン化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側（光学補償シートを貼り付けなかった側）に貼り付けた。
このようにして、楕円偏光板を作製した。

（ＥＣＢ配向液晶セルの作製）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。ラビング方向は、画面内の４５°方向とした。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせて貼り合わせた、セルギャップを３．５μｍに設定した。上下基板間に誘電異方性Δεが正で、屈折率異方性、Δｎ＝０．０９３９（４５０ｎｍ、２０°Ｃ）、０．０８５４（５８９ｎｍ、２０°Ｃ）、０．０８５３（６３３ｎｍ、２０°Ｃ）、Δε＝＋８．５程度の液晶（例えば、メルク社製のＭＬＣ−９１００）を使用した。ここで厚さｄと屈折率異方性Δｎの積Δｎ・ｄの大きさにより白表示時の明るさが変化する。このため最大の明るさを得るために、好ましくは、０．２〜０．４μｍの範囲になるように設定する。偏光板吸収軸は液晶セル配向方向（ラビング方向）と概略４５°交差し、かつ上下偏光板吸収軸の交差角は概略９０°の直交ニコルである。

（カラーフィルタの作製）
一方の透明ガラス基板に特開平１０−２２１５１８号公報の実施例に記載の方法で富士フイルム社製のトランサーカラフィルタを形成したものを使用した。使用した、トランサーカラフィルタの表面凸凹は０．２ミクロン以下であった。
このとき、青、緑、赤のカラーフィルタの厚みを変えることによって、緑色の画素の液晶層の厚さを３．５μｍ、及び赤色の画素の液晶層の厚さを３．８μｍとした。緑及び赤の各画素の液晶層のレターデーションは、それぞれΔｎ（λ１）×ｄ１＝０．３μｍ及びΔｎ（λ２）×ｄ２＝０．２９５μｍ（但し、λ１＝５８９ｎｍ，λ２＝６３３ｎｍ）であった。また各色のカラーフィルタのレターデーションをエリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて測定したところ、｜Ｒｅ（６３０ｎｍ）｜= ０．２ｎｍ、｜Ｒｔｈ（６３０ｎｍ）｜= ９．３ｎｍ、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜=１．９ｎｍ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜=４．３ｎｍであった。

（液晶表示装置の光学性能）
作製した液晶表示装置をＲＧＢ３色のＬＥＤ光源からなるフィールドシーケンシャルバックライト上に配置し、液晶セルに白表示電圧２Ｖ、黒表示電圧５Ｖを印加して輝度計（トプコン社製ＳＲ−３）を用いて、パネル正面のコントラスト比（白表示透過率と黒表示透過率の比）と、極角６０°で方位角０〜３６０°を５°間隔で黒表示の透過率を測定し、最大透過率を表１に示す。
同表の結果より、青、緑、赤の表示において漏れ光が少なく、斜め方向からの観察で着色が少なかった。

［実施例２］
実施例１において、青、緑、赤のカラーフィルタの厚みをさらに変え各色のレターデーションを変えた。青色の画素の液晶層の厚さを３．３μｍ、緑色が３．５μｍ、赤色が３．８μｍとした。各画素の液晶層のレターデーションはそれぞれ、Δｎ（λ₁）×ｄ₁＝０．３１μｍ、Δｎ（λ₂）×ｄ₂＝０．３０μｍ及びΔｎ（λ₃）×ｄ₃＝０．２９５μｍ（但し、λ₁＝４５０ｎｍ，λ₂＝５８９ｎｍ，λ₃＝６３３ｎｍ）であった。
本実施例の液晶表示装置は、実施例１の液晶表示装置と比較してさらに、各色での斜め方向透過率が減少していて、着色が改善されていた。

［比較例１］
実施例１において、カラーフィルタを積層しないで測定を行い、結果を表１に示す。同表より、特に赤の透過率が大きく、赤色に着色していた。

［実施例３：第１の態様のＶＡモード液晶表示装置の作製］
（第１の光学異方性層用セルロースアシレートフィルム１０１〜１０５の作製）
表２中に記載の割合となるように、各成分を混合して、セルロースアシレート溶液をそれぞれ調製した。各セルロースアシレート溶液を、バンド流延機を用いて流延し、得られたウェブをバンドから剥離し、その後それぞれ延伸した。延伸後、乾燥して、表２中に記載の厚みのセルロースアシレートフィルム１０１〜１０５を、それぞれ作製した。

作製した各フィルムについて、上記方法により自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６３０ｎｍにおいて３次元複屈折測定を行い、面内のレターデーションＲｅおよび傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。表２中に、Ｒｔｈ（５５０）、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｅ（５５０）、及びＲｔｈ（６３０）−Ｒｅ（５５０）の値をそれぞれ示す。表２に示す結果から、作製したセルロースアシレートフィルム１０１〜１０５はいずれも第１の光学異方性層としての光学特性を満足し、且つＲｔｈが順分散性であることが理解できる。

（第２の光学異方性層用セルロースアシレートフィルム２０１の作製）
下記に記載の割合になるように、各成分を混合して、セルロースアシレート溶液２０１を調製した。各セルロースアシレート溶液を、バンド流延機を用いて流延し、得られたウェブをバンドから剥離し、その後、の条件で延伸した。なお、ＴＤ方向とは、搬送方向に直交する方向を意味する。延伸後、乾燥して、セルロースアシレートフィルム２０１を得た。
セルロースアシレート溶液２０１
セルロースアシレート（アシル基置換度２．８６） １００質量部
トリフェニルホスフェート ７質量部
ビフェニルホスフェート ５質量部
Ｒｅ発現剤１ ９質量部
メチレンクロライド ４５７質量部
メタノール ９４質量部

Ｒｅ発現剤１

作製したフィルム（厚み８０μｍ）について、上記方法により自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６３０ｎｍにおいて３次元複屈折測定を行い、面内のレターデーションＲｅおよび傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。作製したセルロースアシレートフィルムは、Ｒｅ（５５０）が１０５ｎｍで、Ｒｔｈ（５５０）が１２０ｎｍで、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８５で、Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）が１．０４で、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）が０．８３で、Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）が１．０６であり、第２の光学異方性層としての光学特性を満足するとともに、Ｒｅ及びＲｔｈについて逆分散性であることがわかった。

（表示面側偏光板１０１〜１０５及びバックライト側偏光板２０１の作製）
上記で作製した各ポリマーフィルム１０１〜１０５及び２０１の表面をそれぞれアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理した各ポリマーフィルム１０１〜１０５及び２０１と、同様のアルカリ鹸化処理したフジタックＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製）を用意し、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようにして偏光膜を間に挟んで貼り合わせ、各ポリマーフィルムとＴＤ８０ＵＬが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板１０１〜１０５及び２０１をそれぞれ得た。

図２と同様の構成の液晶表示装置３０１〜３０４をそれぞれ作製した。上記で作製した偏光板１０１〜１０５をそれぞれ、表示面側の偏光板（図２中の偏光板Ｐ１’）として組み込み、且つ上記で作製した偏光板２０１をバックライト側の偏光板（図２中偏光板Ｐ２’）として組み込んだ。また、基板１の内面には、図３（ｂ）に示すＲＧＢカラーフィルタを形成し、ｄ_B＝３．３μｍ、ｄ_G＝３．５μｍ、ｄ_R＝３．８μｍとしたので、液晶層１０’は、下記式（２）を満足していた。
式（２） ｄ_B ＜ ｄ_G ＜ ｄ_R

作製した各液晶表示装置について、黒表示時の色味変化Δｕ’ｖ’（＝√（ｕ’ｍａｘ−ｕ’ｍｉｎ）²＋（ｖ’ｍａｘ−ｖ’ｍｉｎ）²）をそれぞれ測定した。ここで、ｕ’ｍａｘ（ｖ’ｍａｘ）は０〜３６０度のうち最大のｕ’（ｖ’）、ｕ’ｍｉｎ（ｖ’ｍｉｎ）は０〜３６０度のうち最小のｕ’（ｖ’）である。結果を表３に示す。

［比較例２］
表示面側偏光板として偏光板１０３〜１０５をそれぞれ用い、基板１として、内面に一様な厚みのＲＧＢカラーフィルタを形成した基板を用いた以外は、実施例３と同様の構成の液晶表示装置３０３’〜３０５’をそれぞれ作製し、それぞれについて黒表示時の色味変化Δｕ’ｖ’を測定した。結果を下記表３に併せて示す。

表３に示した結果から、ＲＧＢカラーフィルタの厚みを変えることによって、上記式（２）を満足するＶＡモードの液晶セルを用いた実施例３のほうが、一様の厚みのＲＧＢカラーフィルタを有する液晶セルを用いた比較例２と比較して、色味変化が軽減されていることが理解できる。特に、実施例３のＶＡモード液晶表示装置では、第１の光学異方性層のＲｔｈの波長分散性の指標となるＲｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（５５０）が−３０〜０ｎｍの範囲でいずれも色味変化の軽減効果が確認されたのに対して、比較例のＶＡモード液晶表示装置では、Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（５５０）が−４０ｎｍよりも小さい、即ち、Ｒｔｈについて極端な順分散性を示す光学異方性層を利用することで、初めて本発明の実施例と同程度の色味変化の低減効果が得られることがわかった。

［実施例４：第１の態様のＶＡモード液晶表示装置の作製］
（第２の光学異方性層用セルロースアシレートフィルム２０２の作製）
（セルロースアシレート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、８０℃で３時間攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
セルロースアシレート溶液組成
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アセチル置換度２．９４のセルロースアシレート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ４質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３質量部
下記の染料 ６質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２質量部
メタノール（第２溶媒） ６０質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

（マット剤分散液の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を分散し、マット剤分散液を調製した。

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マット剤分散液組成
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ・Ｒ９７２、日本アエロジル
（株）製） ２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） １１．４質量部
セルロースアシレート溶液 １０．３質量部
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（レターデーション上昇剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加温しながら攪拌して、各成分を溶解し、レターデーション上昇剤溶液を調製した。

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レターデーション上昇剤溶液組成
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下記のレターデーション発現剤 Ｆ−１ １２質量部
下記のレターデーション発現剤 Ｆ−２ １０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８質量部
メタノール（第２溶媒） ８質量部
セルロースアシレート溶液 １２質量部
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（フィルムの製膜）
セルロースアシレート溶液９４．８質量部、マット剤分散液１．３質量部、レターデーション上昇剤溶液８．４質量部をそれぞれ濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。レターデーション発現剤Ｆ−１のセルロースアシレートに対する質量比は６．０％、レターデーション発現剤Ｆ−２のセルロースアシレートに対する質量比は５．０％であった。残留溶剤量が３０質量％のフィルムをバンドから剥離した。１４０℃の温度で、フィルムをテンターを用いて２５％の延伸倍率で横延伸し、延伸後に延伸倍率を２５％に緩め、１４０℃で２０秒間保持した。その後、クリップを外して１３０℃で２５分間乾燥させセルロースアシレートフィルムを製造した。製造されたセルロースアシレートフィルムの残留溶剤量は０．２質量％であり、膜厚は５５μｍであった。

（セルロースアシレートフィルム２０２の光学測定評価）
作製した光学フィルム２０２（厚み５５μｍ）について、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６３０ｎｍにおいて３次元複屈折測定を行い、面内のレターデーションＲｅ及び傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。作製したセルロースアシレートフィルム２０２は、Ｒｅ（５５０）が１００ｎｍで、Ｒｔｈ（５５０）が１２５ｎｍで、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８４で、Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）が１．０４で、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）が０．８２で、Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）が１．０６であり、第２の光学異方性層としての光学特性を満足するとともに、Ｒｅ及びＲｔｈについて逆分散性であることがわかった。

（偏光板加工及び液晶表示装置の作製）
上記作製したセルロースアシレートフィルム２０２を、実施例３で作製したセルロースアシレートフィルム２０１と同様の操作により、偏光板２０２を作製した。これと実施例３で作製した偏光板１０１を用いて実施例３と同様の方法で図２の構成にて液晶表示装置３０６を作製した。

（表示性能の測定）
実施例３で行なったのと同様の操作により、上記で作製した液晶表示装置３０６について、黒表示時の色味変化Δｕ’ｖ’（＝√（ｕ’ｍａｘ−ｕ’ｍｉｎ）²＋（ｖ’ｍａｘ−ｖ’ｍｉｎ）²）をそれぞれ測定した。ここで、ｕ’ｍａｘ（ｖ’ｍａｘ）は０〜３６０度のうち最大のｕ’（ｖ’）、ｕ’ｍｉｎ（ｖ’ｍｉｎ）は０〜３６０度のうち最小のｕ’（ｖ’）である。結果を表４に示す。

［比較例４］
実施例４の液晶表示装置３０６の作製において、基板１として、内面に一様な厚みのＲＧＢカラーフィルタを形成した基板を用いた以外は、液晶表示装置３０６と同様の構成の液晶表示装置３０６’を作製し、黒表示時の色味変化Δｕ’ｖ’を同様に測定した。結果を下記表４に併せて示す。

［実施例５：第２の態様のＶＡモード液晶表示装置の作製］
（光学異方性層用フィルム５０１の作製）
市販の市販されているノルボルネン系ポリマーフィルム“ＺＥＯＮＯＲ”（日本ゼオン製）を、１４０℃にて縦方向を固定して横方向に３０％延伸して、ノルボルネン系フィルム５０１を作製した。

（光学異方性層用フィルム５０２の作製）
下記に記載の割合になるように各成分を混合してセルロースアシレート溶液を調製した。各セルロースアシレート溶液を、バンド流延機を用いて流延し、得られたウェブをバンドから剥離し、その後１４０℃の条件下ＴＤ方向に２５％延伸した。なおＴＤ方向とは搬送方向と垂直な方向を意味する。延伸後乾燥して、４０μｍの光学フィルム５０２を得た。
（セルロースアシレート溶液）
アセチル置換度１．５４、プロピオニル置換度０．８４のセルロースアシレート
１００質量部
下記の添加剤 Ｋ−１ ５質量部
下記の添加剤 Ｋ−２ ４質量部
メチレンクロライド ４１６質量部
エタノール ７９質量部

（光学異方性層用フィルム５０３の作製）
下記に記載の割合になるように各成分を混合してセルロースアシレート溶液を調製した。各セルロースアシレート溶液を、バンド流延機を用いて流延し、得られたウェブをバンドから剥離し、その後、１２０℃の条件下、ＴＤ方向に２５％延伸した後、乾燥して、５５μｍの光学フィルム５０３を得た。
（セルロースアシレート溶液）
アセチル基置換度２．８１のセルロースアシレート １００質量部
下記のレターデーション上昇剤 ４質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ５質量部
メチレンクロライド ４３０質量部
メタノール ６４質量部

（光学異方性層用フィルム５０４の作製）
下記に記載の割合になるように各成分を混合してセルロースアシレート溶液を調製した。各セルロースアシレート溶液を、バンド流延機を用いて流延し、得られたウェブをバンドから剥離し、その後１４０℃の条件下、ＴＤ方向に２０％延伸した後、乾燥して、５０μｍの光学フィルム５０４を得た。
（セルロースアシレート溶液）
アセチル基置換度２．８６のセルロースアシレート
１００質量部
下記のレターデーション発現剤 Ｆ−１ ２質量部
下記のレターデーション発現剤 Ｆ−２ ６質量部
トリフェニルホスフェート ３質量部
ジフェニルホスフェート ２質量部
メチレンクロライド ４１８質量部
メタノール ６２質量部

上記にて作製した光学フィルム５０１〜５０４について、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６３０ｎｍにおいて３次元複屈折測定を行い、面内のレターデーションＲｅ及び傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。結果を表５に示す。表５に示す通り、フィルム５０１〜５０４及び１０９は、いずれも上記式（XV）及び（XVI）を満足していた。

（偏光板加工及び液晶表示装置の作製）
上記作製した光学フィルム５０１〜５０４をセルロースアシレートフィルム２０１の代わりに用いた以外は、実施例３と同様にして、偏光板５０１〜５０４をそれぞれ作製した。
作製した各偏光板を２枚用いて、図８と同様の構成のＶＡモード液晶表示装置を作製した。具体的には、図８中の偏光板Ｐ１”及びＰ２”として、上記作製した偏光板５０１〜５０４のそれぞれを用いて、液晶表示装置５０１〜５０４をそれぞれ作製した。各偏光板を配置する際は、フィルム５０１〜５０４の各フィルムが液晶セル５’側になるように、即ち、フィルム５０１〜５０４を図８中の光学異方性層２０ａ及び２０ｂとしてそれぞれ配置した。
また、液晶表示装置５０１〜５０４の液晶セルＬＣ’は、マルチギャップの液晶セルであり、液晶層５’のＢ、Ｇ及びＲ領域のそれぞれの厚みは、下記表６に示す通りにした。なお、液晶層の厚みは、カラーフィルタの厚みによって下記表６に示す通りに、調整した。

（表示性能の測定）
上記で作製した液晶表示装置５０１〜５０４について、実施例３と同様にして、黒表示時の色味変化Δｕ’ｖ’（＝√（ｕ’ｍａｘ−ｕ’ｍｉｎ）²＋（ｖ’ｍａｘ−ｖ’ｍｉｎ）²）をそれぞれ測定した。ここで、ｕ’ｍａｘ（ｖ’ｍａｘ）は０〜３６０度のうち最大のｕ’（ｖ’）、ｕ’ｍｉｎ（ｖ’ｍｉｎ）は０〜３６０度のうち最小のｕ’（ｖ’）である。結果を表７に示す。

表７に示した結果から、ＲＧＢカラーフィルタの厚みを変えることによって、上記式（２）を満足するＶＡモードの液晶セルを用いた実施例５のほうが、一様の厚みのＲＧＢカラーフィルタを有する液晶セルを用いた比較例５と比較して、光学異方性層の材料やレターデーションの波長分散性等について制限なく、斜め方向の色味変化を軽減できることが理解できる。

本発明の液晶表示装置の一例の概略図である。 本発明の液晶表示装置の他の例の概略図である。 図２に示す液晶表示装置の例について、液晶セルの断面の一部を拡大して模式的に示した概略断面図である。 図２に示す液晶表示装置の例について、その光学補償機構の一例をポアンカレ球上で説明するために用いた図である。 図２に示す液晶表示装置の例について、その光学補償機構の一例をポアンカレ球上で説明するために用いた図である。 図２に示す液晶表示装置の例について、その光学補償機構の一例をポアンカレ球上で説明するために用いた図である。 図２に示す液晶表示装置の例について、その光学補償機構の一例をポアンカレ球上で説明するために用いた図である。 本発明の液晶表示装置の他の例の概略図である。

符号の説明

１ 液晶セル上側基板
２ 上側基板液晶配向用ラビング方向
３ 液晶セル下側基板
４ 下側基板液晶配向用ラビング方向
５、５’ 液晶層（液晶分子）
６ａ、６ｂ 偏光板外側保護フィルム
７ａ、７ｂ 偏光板外側保護フィルム遅相軸
８ａ、８ｂ 偏光フィルム
９ａ、９ｂ 偏光フィルム吸収軸
１０ａ、１０ｂ 光学異方性層の透明支持体
１１ａ、１１ｂ 透明支持体の遅相軸
１２ａ、１２ｂ 光学異方性層
１３ａ、１３ｂ 光学異方性層形成時に、液晶分子を配向させるためのラビング方向
１４ 第１の光学異方性層
１６ 第２の光学異方性層
１７ 第２の光学異方性層の遅相軸
２０ａ、２０ｂ 光学異方性層
２１ａ、２１ｂ 光学異方性層の遅相軸
Ｐ１、Ｐ１’、Ｐ１"、Ｐ２、Ｐ２’、Ｐ２" 偏光板
ＬＣ、ＬＣ’ 液晶セル

Claims (23)

1. 少なくとも、液晶セルと、該液晶セルの外側の少なくとも一方に配置された偏光板（第１の偏光板）とを有し、前記液晶セルが、少なくとも、電極を一方に有する対向配置された一対の基板と、該基板間に挟持された液晶層とを有するとともに、少なくとも３つの絵素領域を含み、前記３つの絵素領域上に、透過率に波長選択性を有するカラーフィルタが配置され、それぞれの絵素領域に設けられたカラーフィルタの最大透過率をとる主波長を小さい方から順にλ₁、λ₂、及びλ₃（単位ｎｍ）、これらそれぞれの絵素領域における前記液晶層の厚さを順にｄ₁、ｄ₂、及びｄ₃（単位：ｎｍ）とした時、下記式（２）を満たし、
   前記カラーフィルタの厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）のうち、少なくとも２つの絵素領域に配置されたカラーフィルタのＲｔｈが互いに異なり、
   前記カラーフィルタが、下記式（Ｉ）及び（ＩＩ）を満たすことを特徴とする液晶表示装置：
   式（２）：ｄ₁ ＜ ｄ₂ ＜ ｄ₃
   （Ｉ） ｜Ｒｅ（６３０）｜≦１０、かつ、｜Ｒｔｈ（６３０）｜≦２５
   （ＩＩ） ｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦１０、かつ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦３５
   上記式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーション値（ｎｍ）を表し、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーション値（ｎｍ）を表す。
2. 下記式（III）及び（IV）を満たす第１の光学異方性層と、面内に少なくとも一つの光軸を有する第２の光学異方性層とをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置：
   式（III） ０ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）≦３００ｎｍ
   式（IV） Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）＞１０ 。
3. 前記第１の光学異方性層が、下記式（Ｖ）〜（VII）を満足することを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置：
   式（Ｖ） Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≧１
   式（VI） Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１
   式（VII） −３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）≦０ｎｍ 。
4. 前記第２の光学異方性層が、下記式（VIII）及び（IX）を満足することを特徴とする請求項２又は３に記載の液晶表示装置：
   式（VIII） ５５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３１５ｎｍ
   式（IX） ０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２７５ｎｍ 。
5. 前記第１の偏光板と前記液晶セルとの間に光学異方性層Ａを有し、該光学異方性層Ａが、下記式（XV）及び（VXI）を満たし、及び該光学異方性層Ａの遅相軸を前記第１の偏光板の吸収軸と同一平面に投影したとき、該投影軸が前記吸収軸と平行となることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置：
   （XV） ３０ｎｍ ≦ Ｒｅ（５５０）≦８０ｎｍ
   （XVI） ７５ｎｍ ≦ Ｒｔｈ（５５０）≦１５５ｎｍ 。
6. 前記第１の偏光板とともに、前記液晶セルを挟んで配置され、且つ第１の偏光板の吸収軸と直交した吸収軸を有する第２の偏光板を有し、該第２の偏光板と前記液晶セルとの間に、光学異方性層Ｂを有し、該光学異方性層Ｂが、前記式（XV）及び（XVI）を満たし、及び該光学異方性層Ｂの遅相軸を前記第２の偏光板の吸収軸と同一平面に投影したとき、該投影軸が前記吸収軸と平行となることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
7. 前記光学異方性層Ａ及びＢのそれぞれの波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）、及び液晶層のΔｎ（５５０）×ｄが、下記式（XVII）の関係を満たすことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置：
   （XVII） ０．７≦（２×Ｒｔｈ（５５０））／Δｎ（５５０）×ｄ≦１．３
   ここで、Δｎ（５５０）は５５０ｎｍにおける液晶層の厚み方向の屈折率異方性、ｄは液晶層の平均厚さ（ｎｍ）を示す。
8. 前記光学異方性層のうち少なくとも一方が、少なくとも一種のポリマーと、添加剤の少なくとも一種とを含有し、該添加剤の少なくとも一種が液晶性化合物であることを特徴とする請求項２〜７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
9. 少なくとも一種の液晶性化合物を、０．１〜３０質量％含有し、及び該液晶性化合物の全添加剤に対する質量比が４０〜１００質量％であることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
10. 二種類以上の液晶性化合物を、０．１〜３０質量％含有し、該二種類以上の液晶性化合物の全添加剤に対する質量比が５０〜１００質量％であることを特徴とする請求項８又は９に記載の液晶表示装置。
11. 前記液晶性化合物として、下記式（Ａ）で表される化合物及び下記式（ａ）で表される棒状化合物をそれぞれ少なくとも一種含有することを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
    

    

    （式中、Ｌ¹及びＬ²は各々独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａ¹及びＡ²は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は各々独立に置換基を表す。
    Ｘは６族、５族又は４族原子を表す。ｎは０から２までの整数を表す。）
    一般式（ａ）：Ａｒ¹−Ｌ¹²−Ｘ−Ｌ¹³−Ａｒ²
    上記一般式（ａ）において、Ａｒ¹及びＡｒ²はそれぞれ独立に、芳香族基であり；Ｌ¹²及びＬ¹³はそれぞれ独立に、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−基であり；Ｘは、１，４−シクロへキシレン基、ビニレン基又はエチニレン基である。
12. 前記光学異方性層のうち少なくとも一方が、ノルボルネン系ポリマーフィルムからなることを特徴とする請求項２〜１１のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
13. 前記光学異方性層のうち少なくとも一方が、セルロースアシレート系フィルムからなることを特徴とする請求項２〜１１のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
14. 前記セルロースアシレートフィルム中に主成分として含まれるセルロースアシレートのアシル置換基が、アセチル、プロピオニル及びブチリルから選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置。
15. 前記光学異方性層のうち少なくとも一方が、Ｒｔｈ発現剤の少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項２〜１４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
16. 前記Ｒｔｈ発現剤が、２５０ｎｍ〜３８０ｎｍに吸収極大がある化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示装置。
17. 前記Ｒｔｈ発現剤として、下記式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項１５又は１６に記載の液晶表示装置。
    

    

    （式中、Ｘ¹は、単結合、−ＮＲ⁴−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ²は、単結合、−ＮＲ⁵−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ³は、単結合、−ＮＲ⁶−、−Ｏ−又はＳ−である。また、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基であり；Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基である。）
18. 前記式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を、０．１〜３０質量％含有することを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置。
19. 前記光学異方性層の厚みが、３０〜２００μｍであることを特徴とする請求項２〜１８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
20. 電界の印加により、液晶分子の配向が基板面に垂直方向に変化し、液晶層の透過率が減少する、平行配向型ＥＣＢモードであることを特徴とする請求項１〜１９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
21. ベンド配向表示モードであることを特徴とする請求項１〜１９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
22. ＴＮ表示モードであることを特徴とする請求項１〜１９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
23. ＶＡ表示モードであることを特徴とする請求項１〜１９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。

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