JP5186114B2 - 転写装置および転写方法 - Google Patents
転写装置および転写方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5186114B2 JP5186114B2 JP2007033839A JP2007033839A JP5186114B2 JP 5186114 B2 JP5186114 B2 JP 5186114B2 JP 2007033839 A JP2007033839 A JP 2007033839A JP 2007033839 A JP2007033839 A JP 2007033839A JP 5186114 B2 JP5186114 B2 JP 5186114B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mold
- molded product
- positional deviation
- transfer
- edge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Description
3 ベースフレーム
5 被成型品保持体
7 XYステージ
9 型保持体
11 位置ずれ量検出手段
13 位置ずれ量補正手段
15 検出子
33 カメラ
35 プリズム
51 制御装置
M 型
M1 アライメントマーク
W、W3 被成型品
W1 貫通孔
Claims (4)
- 型に形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写する転写装置において、
前記被成型品の縁の位置を検出することによって、前記型に対する前記被成型品の位置ずれ量を検出する位置ずれ量検出手段と、
前記位置ずれ量検出手段が検出した位置ずれ量を補正する位置ずれ量補正手段とを有し、
前記被成型品は、中央部に円形の貫通孔が設けられている円板状であり、
前記位置ずれ量検出手段は、前記被成型品の貫通孔の縁の少なくとも2点の位置、もしくは、前記被成型品の外周の縁の少なくとも2点の位置を用いて、前記被成型品の中心位置を求め、前記型に対する前記被成型品の位置ずれ量を検出する手段であり、
前記位置ずれ量検出手段は、前記型と前記被成型品との間に挿入し、位置ずれを検出する、
ことを特徴とする転写装置。 - 請求項1に記載の転写装置において、
前記位置ずれ量検出手段は、前記型の位置を検出し、この検出した型の位置と前記検出した前記被成型品の縁の位置とによって、前記位置ずれ量を検出する手段である、
ことを特徴とする転写装置。 - 請求項1または請求項2に記載の転写装置において、
前記位置ずれ量検出手段は、前記型と前記被成型品とをお互いに近づけておき、前記位置ずれ量を検出する手段である、
ことを特徴とする転写装置。 - 請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の転写装置を用いて、型に形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写する、
ことを特徴とする転写方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007033839A JP5186114B2 (ja) | 2007-02-14 | 2007-02-14 | 転写装置および転写方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007033839A JP5186114B2 (ja) | 2007-02-14 | 2007-02-14 | 転写装置および転写方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012111477A Division JP5470417B2 (ja) | 2012-05-15 | 2012-05-15 | 転写装置および転写方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008194980A JP2008194980A (ja) | 2008-08-28 |
JP5186114B2 true JP5186114B2 (ja) | 2013-04-17 |
Family
ID=39754371
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007033839A Active JP5186114B2 (ja) | 2007-02-14 | 2007-02-14 | 転写装置および転写方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5186114B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011043043A1 (ja) * | 2009-10-06 | 2011-04-14 | パナソニック株式会社 | 情報記録媒体の製造方法及び情報記録媒体 |
JP5419634B2 (ja) | 2009-10-26 | 2014-02-19 | 株式会社東芝 | パターン形成方法 |
US9688014B2 (en) | 2010-09-01 | 2017-06-27 | Toshiba Kikai Kabushiki Kaisha | Transferring system and transferring method |
JP5707150B2 (ja) * | 2011-01-28 | 2015-04-22 | 東芝機械株式会社 | 成形材料の成形装置および成形材料の成形方法 |
JP5289492B2 (ja) | 2011-03-23 | 2013-09-11 | 株式会社東芝 | インプリント方法およびインプリント装置 |
JP5697571B2 (ja) | 2011-10-06 | 2015-04-08 | 株式会社東芝 | テンプレートの製造装置及びテンプレートの製造方法 |
CN113649476B (zh) * | 2021-08-21 | 2023-07-18 | 深圳市华中思明通科技有限公司 | 一种触摸板模具 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005116978A (ja) * | 2003-10-10 | 2005-04-28 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ナノインプリント装置及び方法 |
JP4550504B2 (ja) * | 2004-07-22 | 2010-09-22 | 株式会社日立製作所 | 記録媒体の製造方法 |
JP5061525B2 (ja) * | 2006-08-04 | 2012-10-31 | 株式会社日立製作所 | インプリント方法及びインプリント装置 |
-
2007
- 2007-02-14 JP JP2007033839A patent/JP5186114B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008194980A (ja) | 2008-08-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5186114B2 (ja) | 転写装置および転写方法 | |
KR101676195B1 (ko) | 임프린트 장치, 임프린트 방법 및 물품의 제조 방법 | |
US9442370B2 (en) | Imprinting method, imprinting apparatus, and device manufacturing method | |
JP4848832B2 (ja) | ナノインプリント装置及びナノインプリント方法 | |
US8268209B2 (en) | Pattern forming method and its mold | |
KR101646823B1 (ko) | 임프린트 장치, 임프린트 방법 및 물품을 제조하는 방법 | |
JP2005101201A (ja) | ナノインプリント装置 | |
KR101965929B1 (ko) | 임프린트 장치, 임프린트 시스템 및 물품의 제조 방법 | |
KR101788362B1 (ko) | 임프린트 장치, 물품의 제조 방법 및 위치정렬 장치 | |
JP6363838B2 (ja) | インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 | |
US9971256B2 (en) | Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing article | |
JP2008276919A (ja) | インプリント装置およびインプリント方法 | |
US20130015599A1 (en) | Imprint apparatus, and method of manufacturing article | |
JP2009200345A (ja) | 加工装置 | |
JP2007299994A (ja) | 加工装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 | |
CN104914665A (zh) | 压印装置、对准方法、以及物品的制造方法 | |
KR20170060086A (ko) | 패턴 성형 방법 및 물품의 제조 방법 | |
JP4989198B2 (ja) | 転写装置および転写方法 | |
US20160207248A1 (en) | Imprint apparatus, imprinting method, and method of manufacturing articles | |
JP5666082B2 (ja) | 転写装置およびプレス装置 | |
JP5150309B2 (ja) | 転写装置および転写方法 | |
KR102059758B1 (ko) | 임프린트 장치 및 물품 제조 방법 | |
JP5470417B2 (ja) | 転写装置および転写方法 | |
JP2011140225A (ja) | パターン形成方法およびモールド | |
TW202209434A (zh) | 壓印裝置和製造物品的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100114 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101101 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120323 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120327 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120515 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120731 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120918 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130121 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5186114 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160125 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |