JP5184298B2 - 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5184298B2 JP5184298B2 JP2008272464A JP2008272464A JP5184298B2 JP 5184298 B2 JP5184298 B2 JP 5184298B2 JP 2008272464 A JP2008272464 A JP 2008272464A JP 2008272464 A JP2008272464 A JP 2008272464A JP 5184298 B2 JP5184298 B2 JP 5184298B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- polishing
- magnetic disk
- main surface
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
図1は、本発明の実施の形態に係るガラス基板の上面および側断面を模式的に示した図である。図1に示すように、本実施の形態に係るガラス基板1は、主表面1aと、外周端面1bと、主表面1aの中央部に形成された円孔1cと、円孔1cの内周に形成された内周端面1dと、外周および円孔1cの内周に形成されたチャンファ面1eとを有し、ドーナツ状の形状を有している。ガラス基板1の大きさは所定の製品規格を満たすように形成されており、たとえば外径が2.5インチ(65mm)、内径が約20mm、厚さが635μm±10μmである。なお、ガラス基板1は、主表面1aの裏側にも他の主表面を有するが、2つの主表面は同一の形状であるので、以下では主表面1aについてのみ説明する。
ここで、この精密研磨工程において、片面あたりの研磨量を0.3〜0.7μmと少なくする。その結果、ガラス基板9の主表面を所望の面精度に仕上げることができるとともに、端部の面ダレを少し起こす傾向になり、内周端部のスキージャンプ値が負となり、凸部の最大高さが0.2〜9nmに小さくなるとともに、主表面とチャンファ面との境界から凸部の高さが最大となる位置までの離隔距離が適度に離れる。その結果、本実施の形態に係るガラス基板1を製造できる。
実施例1〜6として、リドロー法を用いてアルミノシリケートガラスからなるガラス板を製造し、このガラス板をコアリングしてドーナツ状のガラス基板を成形し、さらに内外周にチャンファ面を形成し、外径が65mm、円孔の内径が20mm、円孔の近傍の厚さが643μmのガラス基板を製造した。
一方、比較例1、2として、実施例1〜6とほぼ同様の方法でガラス基板を製造した。ただし、比較例1に係るガラス基板を製造する際には、凸部の最大高さが大きくなるように、精密研磨工程における精密研磨量を調整した。また、比較例2に係るガラス基板を製造する際には、凸部が形成されないように粗研磨工程における粗研磨量を調整するとともに、精密研磨工程後に化学強化プロセスを行ない、ガラス基板を強化処理した。
1a 主表面
1b 外周端面
1c 円孔
1d 内周端面
1e チャンファ面
2 固定部材
3 上定盤
4 下定盤
5 研磨パッド
6 キャリアー
7 太陽車
8 インターナルギア
10 両面同時研磨機
C 凸部
D、X 離隔距離
d 凸部の最大高さ
L1 基準面
L2 基準線分
P1〜P4 点
s スキージャンプ
S101〜S105 ステップ
Claims (5)
- 主表面と、
前記主表面の中央部に形成された円孔と、
前記円孔の内周に形成されたチャンファ面と、
を有し、前記主表面は、内周端部において凸部が形成されており、前記内周端部において、スキージャンプ値が0μm以下であり、前記主表面と前記チャンファ面との境界から前記主表面側へ1.6mmだけ離れた点とを結ぶ直線を基準線分としたとき、前記基準線分からの前記凸部の最大高さが0.2〜9nmであり、前記主表面と前記チャンファ面との境界から前記凸部の高さが最大となる位置までの離隔距離が0.7mm以下であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。 - 請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
ガラス板からドーナツ状のガラス基板を成形するガラス基板成形工程と、
前記成形したガラス基板を研磨する研磨工程と、
を含み、
前記ガラス板は、母材ガラス板を加熱して軟化し所望の厚さに延伸するリドロー法を用いて製造したものであり、
前記研磨工程は、
硬度(アスカーC)が85以上のウレタンまたは硬度が60〜80の発泡ウレタンからなる研磨パッドを用いて研磨を行う粗研磨工程と、
硬度が60〜80の発泡ウレタンからなる軟質研磨パッドを用いてさらに研磨を行う精密研磨工程と、を含み、
前記粗研磨工程における片面あたりの粗研磨量を8〜10μmとし、前記精密研磨工程における片面あたりの精密研磨量を0.3〜0.7μmとし、
ガラス基板を研磨する工程として前記粗研磨工程および前記精密研磨工程の2工程のみを含む
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記ガラス板は、製品としての前記磁気ディスク用ガラス基板の厚さよりも5〜10μmだけ厚いことを特徴とする請求項2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記粗研磨工程は、粒径が0.1〜1.0μmの大径研磨砥粒を含む研磨液を用い、前記精密研磨工程は、粒径が0.01〜0.1μmの小径研磨砥粒を含む研磨液を用いることを特徴とする請求項2または3に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記大径研磨砥粒は酸化セリウムからなり、前記小径研磨砥粒はコロイダルシリカからなることを特徴とする請求項4に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008272464A JP5184298B2 (ja) | 2008-10-22 | 2008-10-22 | 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008272464A JP5184298B2 (ja) | 2008-10-22 | 2008-10-22 | 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010102765A JP2010102765A (ja) | 2010-05-06 |
JP5184298B2 true JP5184298B2 (ja) | 2013-04-17 |
Family
ID=42293283
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008272464A Active JP5184298B2 (ja) | 2008-10-22 | 2008-10-22 | 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5184298B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4713064B2 (ja) * | 2002-06-05 | 2011-06-29 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びその製造方法で製造された情報記録媒体用ガラス基板 |
JP2006082138A (ja) * | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスク用ガラス基板、並びに、磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク |
JP5392075B2 (ja) * | 2007-03-06 | 2014-01-22 | コニカミノルタ株式会社 | 情報記録装置 |
-
2008
- 2008-10-22 JP JP2008272464A patent/JP5184298B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010102765A (ja) | 2010-05-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5593224B2 (ja) | 磁気ディスク用基板及びその製造方法並びに磁気ディスク | |
JP5142548B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および研磨パッド | |
JP4790973B2 (ja) | 研磨パッドを使用した情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びその方法で得られた情報記録媒体用ガラス基板 | |
JP5170877B2 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP2009269762A (ja) | ガラス素材およびその成形用金型ならびに磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
US8124258B2 (en) | Glass substrate for magnetic disk | |
JP2008188710A (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP4780607B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、及び磁気ディスクの製造方法。 | |
JP2010080025A (ja) | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク | |
JP2008287779A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
JP2008080482A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および製造装置、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクの製造方法、ならびに磁気ディスク | |
JP5184298B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP4994213B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクおよび磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5297281B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP6148345B2 (ja) | 非磁性基板の製造方法 | |
JP2009279696A (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP2011210286A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5312911B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP6063044B2 (ja) | キャリア、磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2009123269A (ja) | ガラス基板および磁気ディスク装置 | |
JP5518166B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク製造方法 | |
JP2010231841A (ja) | ガラス基板の製造方法、ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
JP2012071408A (ja) | 研削前板状ガラス素材及び情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2010198690A (ja) | ガラスブランク、ガラスブランクの製造方法、情報記録媒体用基板の製造方法、および、情報記録媒体の製造方法 | |
JP2010073289A (ja) | 磁気ディスク用基板および磁気ディスク |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110801 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120418 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120424 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120625 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121225 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130116 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5184298 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160125 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |