JP5176052B2 - 放射線源用ターゲット生成供給装置 - Google Patents
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本発明が解決しようとする課題は、レーザ光照射位置に放射線源用ターゲットを連続的に供給するのに適した放射線源用ターゲット生成供給装置を提供することにある。
a) 真空チャンバと、
b) レーザ光の照射により放射線を発生可能な金属、該金属を担持するための高分子物質及び揮発性の溶媒を含有するターゲット原料液を、前記真空チャンバ内に配置した細管状の供給口から吐出する原料液供給装置と、
c) 前記真空チャンバ内に配置した、前記供給口に対向する電極と、
d) 前記供給口と前記電極の間に電圧を印加する電圧印加装置と、
を備えることを特徴とする。
本発明の実施態様である第1態様の放射線源用ターゲット生成供給装置では、ターゲットの材料として、前述の金属又はその金属の化合物と、その金属を担持するための高分子物質を用いる。高分子物質には例えばポリビニルピロリドン(Polyvinylpyrrolidone、略称"PVP")、ポリビニルアルコール(Polyvinylalcohol、"PVA")、ポリビニルフェノール(Polyvinylphenol、"PVPh")及びヒドロキシプロピルセルロース(hydroxypropylcellulose、"HPC")のうちの1つ又は複数を混合したもの等を用いることができる。これら金属と高分子物質を溶媒に溶解させた溶液をターゲットの原料液として用いる。溶媒にはエタノール、メタノールあるいはそれらの水溶液等を用いることができる。
この放射線発生装置は、以下のようにデブリによる悪影響を防ぐことができるという利点を有する。
従来、極端紫外光発生装置においては、ターゲットにレーザ光を照射しても、そのターゲットに含まれる金属が全てプラズマ化されるとは限らず、プラズマ化されなかった金属が粒子塊(デブリ)となって極端紫外光発生装置内に飛散し、光学系を汚染する等の悪影響を及ぼす原因となっていた。それに対して第1態様の放射線発生装置では、前記電界によりデブリが電極側に引きつけられるため、デブリが装置内に飛散して悪影響が及ぶことを防ぐことができる。また、電極側に引きつけられたデブリはそのまま電極に付着し、ターゲットの材料として回収、再利用することができる。
本発明に係る放射線源用ターゲット生成供給装置ではないが、参考のため、第2態様の放射線源用ターゲット生成供給装置について説明する。第2態様の放射線源用ターゲット生成供給装置では、放射線を発生させることが可能な前述の金属を含有するターゲット原料液を用いる。
この放射線発生装置の動作を説明する。まず、ターゲットホルダを回動させてターゲット保持部分をターゲット供給位置に移動させる。次に、原料液供給装置からターゲット保持部分に向けて原料液を噴射し、付着させる。次に、ターゲット保持部分をレーザ光照射位置に移動させる。この移動の間に、ターゲット保持部分に付着した原料液から溶媒が気化して固体のターゲットが形成される。レーザ光照射位置においてレーザ光を前記所定出力及び前記所定時間だけターゲットに照射する。これにより、ターゲットがプラズマ化し、そのプラズマから放射線が発生する。
また、1回当たりのターゲットの消費量は1mg以下のごく少量であることが多いことから、従来の放射線源用ターゲットではそのような少量のターゲットをレーザ光照射位置に輸送することに高度な技術が必要であった。それに対して、本発明の装置では微量の原料液をターゲット保持部分に付着させてレーザ光照射位置に容易に輸送することができる。
第2の連続発生用ターゲットホルダは板状のターゲットホルダである。その板の表面の一部をターゲット保持部分とし、その表面に垂直な軸を中心としてターゲットホルダを回転させる。ターゲット供給位置とレーザ光照射位置を同一円周上に設け、板を連続回転させることにより、ターゲット保持部分をターゲット供給位置とレーザ光照射位置の間を繰り返し移動させることができる。
この装置によりSnとLiを積層させて生成したターゲットを用いることにより、SnとLiのうちの一方のみを有するターゲットを用いる場合よりも波長13.5nmの極端紫外光を高い効率で得ることができる。その理由は、Snのプラズマにより強い強度で極端紫外光を発生させることができると共に、Liのプラズマが生成されることによりSnプラズマの拡散を防ぎ、拡散したSnプラズマによる極端紫外光の再吸収を抑制することができるためである。
本発明に係る放射線源用ターゲット生成供給装置(第1態様)、及び第2態様の放射線源用ターゲット生成供給装置のいずれも、ターゲットを繰り返しレーザ光照射位置に供給することができるため、極端紫外光等の放射線を連続的に発生させることができる。このように連続発生が可能になることにより、リソグラフィー等の工業的手段に極端紫外光をより好適に用いることができるようになる。
また、第1態様では発生したデブリを電界により回収することにより、光学系の汚損等の、デブリによる悪影響が生じることを抑えることができる。また、第2態様では、原料液供給装置が1回のレーザ光照射により消費される量だけ原料液を供給する場合において、デブリの発生自体を抑えることができる。
図1は本実施例の極端紫外光源用ターゲット生成供給装置の概略構成図である。真空チャンバ11内に細管状の供給口121を設ける。供給口121は原料液供給装置12の一部を構成する。この原料液供給装置12はターゲットの原料液を供給口121から所定の流量で射出する。原料液には、例えばSnCl4(塩化スズ)とPVPをエタノールに溶解させた混合液を用いることができる。
また、真空チャンバ11内に、供給口121に対向して板状の電極13を設ける。本実施例では供給口121と電極13の間の距離を15cmとした。電極13の材料にはアルミニウムや銅等を用いることができる。また、電極13は後述の理由により着脱可能に設置されている。更に、供給口121と電極13の間に電圧を印加する電源14を設ける。本実施例では電源14の電圧は直流の10kVとした。また、供給口121と電極13の間の空間にレーザ光を照射する光源15を設ける。
ここで得られた糸状ターゲットを加熱して、高分子物質を除去してもよい。例えばSnCl4とPVPが混合した糸状ターゲット16を500℃に加熱すれば、十分にPVPを除去することができると共に、Snが酸化してSnO2から成る糸状ターゲットが得られる。
図4に、第2実施例の極端紫外光源用ターゲット生成供給装置の概略構成図を示す。本実施例では、ガラスから成り内部に空洞が形成された円筒状のターゲットホルダ31を用いる。なお、ターゲットホルダ31の材料には、レーザ光による損傷を受けない程度の高い純度を有するプラスチックを用いることもできる。このターゲットホルダ31は、側面にターゲットの原料液を付着させることによりターゲットを保持することができる。また、ターゲットホルダ31は円筒の中心軸の周りに回転する。
図7に、板状(円板状)のターゲットホルダ51を有する極端紫外光源用ターゲット生成供給装置を示す。ターゲットホルダ51はガラスから成り、円板の中心を通る垂線を軸として回転可能に設置される。前述の円筒状ターゲットホルダ31と同様に、ターゲットホルダ51の材料にはレーザ光による損傷を受けない程度の高い純度を有するプラスチックを用いることもできる。円板の中心から外れた位置に円板の面に対向して、その面に原料液を噴射する原料液供給装置52を設ける。また、原料液供給装置52に対向するターゲットホルダ51の表面の位置(ターゲット供給位置)から、ターゲットホルダ51を180°回転した位置(レーザ光照射位置)に、ターゲットが形成された面の裏側からレーザ光を照射する第1光源53を設ける。また、レーザ光照射位置のターゲットホルダ51の表面付近にレーザ光を照射する第2光源55を設ける。図4の円筒形ターゲットホルダを有する極端紫外光源用ターゲット生成供給装置と同様に、第1光源53はターゲットをプラズマ化するためのものであり、第2光源55はプラズマ化したターゲットから極端紫外光を発生させるためのものである。
この装置の動作は以下の通りである。ターゲットホルダ51を前述のように回転させながら原料液供給装置52から原料液をターゲットホルダ51の表面に噴射する。噴射された原料液はターゲットホルダ51の回転によりターゲット供給位置からレーザ光照射位置に移動する。その移動の間に原料液から溶媒が蒸発し、固形のターゲットが形成される。レーザ光照射位置において第1光源53からターゲットにレーザ光を照射することによりターゲットをプラズマ化し、第2光源55からこのプラズマにレーザ光を照射することにより極端紫外光を得る。
なお、図7には図4の装置と同様にレーザ光源を2個設ける例を示したが、光源を1個のみ設けてもよい。また、図7に示した極端紫外光源用ターゲット生成供給装置に、図5に示した装置と同様に残滓の除去装置を設けることや、図6に示した装置と同様に2個以上の原料液供給装置を設けることもできる。
12、32、52、62…原料液供給装置
121…供給口
13…電極
14…電源
15、63…光源
16…極端紫外光源用糸状ターゲット
17…レーザ光
18…極端紫外光
19…残滓
31…円筒状ターゲットホルダ
321…第1原料液供給装置
322…第2原料液供給装置
33、53…第1光源
34…反射鏡
35、55…第2光源
41、67…ターゲット供給位置
42、68…レーザ光照射位置
43…ヘラ
44…ヒータ
51…円板状ターゲットホルダ
61…ベルト状ターゲットホルダ
661、662…プーリ
Claims (11)
- a) 真空チャンバと、
b) レーザ光の照射により放射線を発生可能な金属、該金属を担持するための高分子物質及び揮発性の溶媒を含有するターゲット原料液を、前記真空チャンバ内に配置した細管状の供給口から吐出する原料液供給装置と、
c) 前記真空チャンバ内に配置した、前記供給口に対向する電極と、
d) 前記供給口と前記電極の間に電圧を印加する電圧印加装置と、
を備えることを特徴とする放射線源用ターゲット生成供給装置。 - 前記溶媒が真空中で揮発するものであることを特徴とする請求項1に記載の放射線源用ターゲット生成供給装置。
- 前記原料液が
スズ又はスズ化合物と、
ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルフェノール及びヒドロキシプロピルセルロースのうちの1つ又は複数を混合したものと、
を前記溶媒に溶解させたものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の放射線源用ターゲット生成供給装置。 - 前記供給口と前記電極の間に生成されるターゲットにレーザ光を照射するレーザ光源を備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の放射線源用ターゲット生成供給装置。
- 前記電極上に生成されるターゲットにレーザ光を照射するレーザ光源を備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の放射線源用ターゲット生成供給装置。
- ターゲットをプラズマ化するためのレーザ光をターゲットに照射する第1レーザ光源と、プラズマ化したターゲットに更にレーザ光を照射する第2レーザ光源を備えることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の放射線源用ターゲット生成供給装置。
- レーザ光の照射により放射線を発生可能な金属、該金属を担持するための高分子物質及び揮発性の溶媒を含有するターゲット原料液を、細管状の供給口と電極の間に電界を印加した状態で該供給口から吐出させることを特徴とする放射線源用ターゲット製造方法。
- 前記溶媒が真空中で揮発するものであることを特徴とする請求項7に記載の放射線源用ターゲット製造方法。
- 生成された放射線源用ターゲットを加熱して前記高分子物質を除去することを特徴とする請求項7又は8に記載の放射線源用ターゲット製造方法。
- 生成された放射線源用ターゲットを、前記電極を保持材として該保持材に付着させることを特徴とする請求項7〜9のいずれかに記載の放射線源用ターゲット製造方法。
- 請求項10に記載の方法により製造され、前記金属を含有し、糸状に固化した部材が寄り集まった状態で前記保持材に付着していることを特徴とする放射線源用ターゲット。
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