JP5168984B2 - カーボンナノチューブ金属複合材料によるデバイス構造 - Google Patents
カーボンナノチューブ金属複合材料によるデバイス構造 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5168984B2 JP5168984B2 JP2007093538A JP2007093538A JP5168984B2 JP 5168984 B2 JP5168984 B2 JP 5168984B2 JP 2007093538 A JP2007093538 A JP 2007093538A JP 2007093538 A JP2007093538 A JP 2007093538A JP 5168984 B2 JP5168984 B2 JP 5168984B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- walled carbon
- carbon nanotube
- metal
- thin film
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Description
高密度化の実現は非常に困難な課題となっている。また、カーボンナノチューブと同様の構造を有する金属のみからなるバンプ構造を作製することは加工プロセス上大きな困難を伴う。本発明は、カーボンナノチューブのバンドルをバンプ構造の型(骨組)に利用し、メッキにより簡便に金属バンプ構造を作製することを目的とする。
って、前記炭素系繊維の集合体が前記金属で覆われている。本発明の複合体構造によれば、炭素系繊維の集合体および金属の双方の放熱性、電気伝導性を保障することが可能となる。
略矩形の形状となっているが、形状は例示であり、本発明はこれに限定されない。例えば、触媒金属11がパターニングされていないバンプ部分の形状が、円の形状や他の多角形の形状であってもよい。
ンナノチューブ20を金属電極10上に自己組織的に垂直に成長させる。
、略矩形の形状となっている。そのため、図5(b)に示す多層カーボンナノチューブ20のバンドル21の中の空間Aは、略立方体又は略直方体である。空間Aの周りに存在する多層カーボンナノチューブ20は、空間Aを挟んで対向する多層カーボンナノチューブ20との距離が一定である。そのため、多層カーボンナノチューブ20のバンドル21及び金属電極10に対して、金属12が等方的にメッキされる。
いる。図6(b)は、図5(b)に示す金属電極10上に成長した多層カーボンナノチューブ20のバンドル21を用いて作製した多層カーボンナノチューブ20と金属電極10との複合体電極30の模式図である。
めに、触媒金属11のパターンを任意の形状に加工し、多層カーボンナノチューブ20を成長させる。そして、多層カーボンナノチューブ20と金属電極10との複合体電極30を作製することにより、異なる形状のバンプを作製することが可能となる。
40を設置する場合の模式図を示す。バンプ構造における多層カーボンナノチューブ20と金属電極10との複合体電極30と、HEMT40の電極部分とがフリップチップボンダにより接合される。
合体電極30は、配線50に接合されている。また、配線50は、接地導体51に対向するように配置されている。そして、配線50と接地導体51との間に、本実施形態の多層カーボンナノチューブ20と金属電極10との複合体電極30が配置されている。さらに、本実施形態の多層カーボンナノチューブ20と金属電極10との複合体電極30と、接地導体51との間には、間隔52が設けられている。このようなストリップライン構造により高周波分布定数回路における実行波長の短縮化による回路の小型化が可能である(特許文献2参照)。
板54に形成された電極55、LSI基板54に対向するように配置された銅配線56、絶縁膜57、銅配線56と銅配線56とを電気的に接続する複合体電極30から構成されている。本実施形態の多層カーボンナノチューブ20と金属電極10との複合体電極30を、銅配線56と銅配線56とを電気的に接続する配線ビアとして用いることが可能である。図9に示すように、多層カーボンナノチューブ20と金属電極10との複合体電極30は、LSI基板54に形成された電極55上に配置され、LSI基板54に形成された電極55に接合されている。また、多層カーボンナノチューブ20と金属電極10との複合体電極30上に銅配線56が配置され、多層カーボンナノチューブ20と金属電極10との複合体電極30は、銅配線56に接合されている。多層カーボンナノチューブ20と金属電極10との複合体電極30は、銅配線56と銅配線56との間にも配置される。
図10を参照して、多層カーボンナノチューブ20の成長方法を示す。以下に示す多層カーボンナノチューブ20の成長方法は、本実施形態の多層カーボンナノチューブ20と金属電極10との複合体電極30を作製するために用いることができる。
したレジストを除去する。
本実施形態の多層カーボンナノチューブ20と金属電極10との複合体電極30を作製するために、上記で示したカーボンナノチューブの成長方法1で成長させた多層カーボンナノチューブ20だけでなく、先端が平坦な笠状構造(グラファイトシート構造70)を有する多層カーボンナノチューブ20のバンドル21を用いることもできる。図11を参照して、グラファイトシート構造70を有する多層カーボンナノチューブ20のバンドル21の成長方法を示す。
ノチューブ20のバンドル21を、笠状構造を有する多層カーボンナノチューブ20のバンドル21という。
の先端部分の構造が厚さ5nm程度の複数層のグラファイトシート構造70からなることを確認した。図12及び図13は、成長した多層カーボンナノチューブ20の電子顕微鏡像を示す図である。図12は、本実施形態のカーボンナノチューブの成長方法2によって成長させた多層カーボンナノチューブ20のバンドル21の電子顕微鏡像を示す図である。図13は、本実施形態のカーボンナノチューブの成長方法2によって成長させた多層カーボンナノチューブ20のバンドル21の先端を拡大させた電子顕微鏡像を示す図である。
れに限定されない。本実施形態の多層カーボンナノチューブ20に代えて、単層カーボンナノチューブを用いてもよい。また、本実施形態の多層カーボンナノチューブ20に代えて、カーボンナノファイバーを用いてもよい。単層カーボンナノチューブ及びカーボンナノファイバーの成長方法は、本実施形態の多層カーボンナノチューブ20の成長方法と同様であり、ここではその説明を省略する。また、本実施形態の構造及び方法は、単層カーボンナノチューブやカーボンファイバーのような細線状の物質に適用できる。さらに、本実施形態の構造及び方法は、炭素系繊維に適用できる。また、本実施形態の構造及び方法は、中空状の炭素系繊維及び中空状でない炭素系繊維に適用できる。
複数の炭素系繊維で構成される前記炭素系繊維の集合体および金属からなる複合体構造であって、
前記炭素系繊維の集合体が前記金属で覆われていることを特徴とする複合体構造。
基板に形成された電極面から略垂直方向に前記炭素系繊維の集合体が長さ方向に配列して成長していることを特徴とする付記1に記載の複合体構造。
前記炭素系繊維の集合体の内部の前記炭素系繊維に前記金属が付着していることを特徴とする付記1又は2に記載の複合体構造。
複数の炭素系繊維で構成される前記炭素系繊維の集合体および金属からなる複合体構造であって、
前記複数の炭素系繊維は、長さ方向に配列しており、
前記炭素系繊維の集合体は、前記炭素系繊維の長さ方向と交差する方向に広がる炭素系物質を更に備え、
前記炭素系繊維の一方の端部は前記炭素系物質と接続され、
前記炭素系繊維の集合体が前記金属で覆われていることを特徴とする複合体構造。
隣接する前記炭素系繊維の集合体の間に前記金属が充填されていることを特徴とする付記1から4のいずれかに記載の複合体構造。
前記炭素系繊維の集合体は、前記炭素系繊維の集合体の内部で長さ方向に中空部を有し、前記中空部に前記金属が充填されていることを特徴とする付記1から5のいずれかに記載の複合体構造。
基板に形成された電極面の所定部分から略垂直方向に前記炭素系繊維の集合体が長さ方向に配列して成長していることを特徴とする付記4から6のいずれかに記載の複合体構造。
前記所定部分は、前記炭素系繊維の集合体を成長させる金属触媒が形成された部分であることを特徴とする付記7に記載の複合体構造。
前記炭素系繊維の集合体を覆う前記金属は、略均一の厚さであることを特徴とする付記1から8のいずれかに記載の複合体構造。
前記炭素系繊維は、多層カーボンナノチューブであることを特徴とする付記1から9のいずれかに記載の複合体構造。
前記炭素系繊維の集合体を覆う前記金属は、電解メッキ法により覆われたことを特徴とする付記1から10のいずれかに記載の複合体構造。
前記金属は、金、銀、銅、白金、ロジウム、パラジウム、スズ、ニッケルやそれらを少なくとも一種含む合金からなる群より選択される1から11のいずれかに記載の炭素系繊維の集合体構造。
前記炭素系繊維の集合体の内部に官能基が導入されていることを特徴とする付記1から12のいずれかに記載の複合体構造。
前記金属が、パッケージ基板及び半導体素子のうち少なくとも一つに接合されていることを特徴とする付記1から13のいずれかに記載の複合体構造。
前記金属が、接地導体に対向して配置された配線に接合されていることを特徴とする付記1から14のいずれかに記載の複合体構造。
前記金属が、半導体基板上に形成された電極に接合されているとともに半導体基板に対向して配置された銅配線に接合されていることを特徴とする付記1から15のいずれかに記載の複合体構造。
11 触媒金属
12 金属
20 カーボンナノチューブ
21 バンドル
30 複合体電極
40 高電子移動度トランジスタ
41 電極
42 パッケージ基板
50 配線
51 接地導体
52 間隔
53 LSI
54 LSI基板
55 電極
56 銅配線
57 絶縁膜
60 AlN(窒化アルミニウム)基板
61 Ta(タンタル)薄膜
62 Al(アルミニウム)薄膜
63 Fe(鉄)薄膜
64 TiN(チタンナイトライド)薄膜
65 Co(コバルト)薄膜
70 グラファイトシート構造
Claims (3)
- 複数の炭素系繊維で構成される前記炭素系繊維の集合体および金属からなる複合体構造であって、
前記複数の炭素系繊維は、長さ方向に配列しており、
前記炭素系繊維の集合体は、前記炭素系繊維の長さ方向と交差する方向に広がる炭素系物質を更に備え、
前記炭素系繊維の一方の端部は前記炭素系物質と直接接続され、
前記炭素系繊維の集合体が前記金属で覆われている複合体構造。 - 隣接する前記炭素系繊維の集合体の間に前記金属が充填されている請求項1に記載の複合体構造。
- 前記炭素系繊維の集合体は、前記炭素系繊維の集合体の内部で長さ方向に中空部を有し、前記中空部に前記金属が充填されている請求項1に記載の複合体構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007093538A JP5168984B2 (ja) | 2007-03-30 | 2007-03-30 | カーボンナノチューブ金属複合材料によるデバイス構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007093538A JP5168984B2 (ja) | 2007-03-30 | 2007-03-30 | カーボンナノチューブ金属複合材料によるデバイス構造 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008251963A JP2008251963A (ja) | 2008-10-16 |
JP5168984B2 true JP5168984B2 (ja) | 2013-03-27 |
Family
ID=39976536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007093538A Expired - Fee Related JP5168984B2 (ja) | 2007-03-30 | 2007-03-30 | カーボンナノチューブ金属複合材料によるデバイス構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5168984B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5768786B2 (ja) * | 2008-03-18 | 2015-08-26 | 富士通株式会社 | シート状構造体及び電子機器 |
CN101899288B (zh) | 2009-05-27 | 2012-11-21 | 清华大学 | 热界面材料及其制备方法 |
CN101996890B (zh) * | 2009-08-25 | 2012-06-20 | 清华大学 | 碳纳米管散热器的制备装置及方法 |
KR101709959B1 (ko) | 2010-11-17 | 2017-02-27 | 삼성전자주식회사 | 범프 구조물, 이를 갖는 반도체 패키지 및 반도체 패키지의 제조 방법 |
CN105070767B (zh) * | 2015-08-05 | 2018-04-20 | 西安电子科技大学 | 一种基于碳基复合电极的高温SiC JFET器件 |
CN106683991B (zh) * | 2016-12-09 | 2019-09-24 | 华中科技大学 | 一种石墨烯/金属复合电极的碳纳米管器件的互连方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6129901A (en) * | 1997-11-18 | 2000-10-10 | Martin Moskovits | Controlled synthesis and metal-filling of aligned carbon nanotubes |
CN1720606A (zh) * | 2002-11-29 | 2006-01-11 | 日本电气株式会社 | 半导体器件及其制造方法 |
JP4689218B2 (ja) * | 2003-09-12 | 2011-05-25 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
JP4448356B2 (ja) * | 2004-03-26 | 2010-04-07 | 富士通株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2006111517A (ja) * | 2004-09-14 | 2006-04-27 | Tokai Univ | カーボンナノチューブの作製装置および作製方法 |
JP5045103B2 (ja) * | 2004-10-22 | 2012-10-10 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
-
2007
- 2007-03-30 JP JP2007093538A patent/JP5168984B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008251963A (ja) | 2008-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5168984B2 (ja) | カーボンナノチューブ金属複合材料によるデバイス構造 | |
US9865699B2 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
JP5526457B2 (ja) | 炭素細長構造束状体、その製造方法および電子素子 | |
US6764874B1 (en) | Method for chemical vapor deposition of single walled carbon nanotubes | |
JP4970038B2 (ja) | ナノスケール繊維構造の合成方法およびその繊維構造を含む電子機器コンポーネント | |
KR101298789B1 (ko) | 반도체 장치 | |
JP5746808B2 (ja) | カーボンナノチューブを用いたパッケージ及び電子デバイス | |
KR20020015795A (ko) | 전자, 스핀 및 광소자 응용을 위한 탄소나노튜브의 선택적 수평성장 방법 | |
JP2008016849A (ja) | カーボンナノチューブを用いた半導体素子の層間配線およびその製造方法 | |
US10017389B2 (en) | CNT metal composite material, and method for producing same | |
JP2013239623A (ja) | シート状構造体、シート状構造体の製造方法、電子機器及び電子機器の製造方法 | |
JP2008297197A (ja) | 分岐型カーボンナノチューブの成長方法 | |
JP2008210954A (ja) | カーボンナノチューブバンプ構造体とその製造方法、およびこれを用いた半導体装置 | |
JP5636654B2 (ja) | カーボンナノチューブシート構造体およびその製造方法、半導体装置 | |
JP5092500B2 (ja) | カーボンナノチューブデバイス及びその製造方法 | |
JP4401094B2 (ja) | 炭素元素円筒型構造体へのオーミック接続構造及びその作製方法 | |
JP2020043261A (ja) | 放熱構造体、電子装置、及び放熱構造体の製造方法 | |
US8076260B2 (en) | Substrate structure and manufacturing method of the same | |
JP2004362960A (ja) | 電子放出素子およびその製造方法 | |
JP2005272271A (ja) | カーボンナノチューブの製造方法及び半導体装置の製造方法 | |
KR20020003782A (ko) | 탄소나노튜브의 제작 방법 | |
US20090065765A1 (en) | Carbon nanotube grown on catalyst and manufacture method | |
JP2009032819A (ja) | 電子装置の製造方法及びそれを用いた電子装置 | |
JP2011119539A (ja) | バンプ構造体及びその製造方法、電子機器とその製造方法 | |
KR20030085272A (ko) | 금속/나노소재 이종접합구조체 및 이의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091208 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110630 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110712 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110908 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120410 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120710 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20120717 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120911 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121107 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121204 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121217 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5168984 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |