JP4970038B2 - ナノスケール繊維構造の合成方法およびその繊維構造を含む電子機器コンポーネント - Google Patents
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Description
ナノポーラス膜中に、ナノポーラス膜における少なくともいくつかの細孔を貫通する適当な金属触媒を被覆すること、
金属触媒の被覆により、ナノポーラス膜における少なくともいくつかの細孔中の上記触媒上に繊維構造を成長させること、
からなる操作を含む。
ナノポーラス膜からなる細孔が対応させられること;
ナノポーラス膜は、実質的に平らな広がりを確保するのにある程度適合して製作され、その細孔は、例えば前記平らなナノポーラス膜に対して実質的に直交するまたは平行な方向にうまく決められた配向を確保するのにある程度適合して製作されること;
ナノポーラス膜における細孔の壁の単結晶領域は、細孔の下部に相当すること;
ナノポーラス膜は例えば単結晶基板の陽極酸化でなる単結晶材料からなること;
ナノポーラス膜は、単結晶基板上へ転移または被覆された薄い層からなり、このような環境下で薄い層はまた単結晶基板上に被覆または転移する前にすでにナノポーラス膜であること;
バリア層は、単結晶基板上へ薄い層が転移または被覆する前に単結晶基板上に製作され、バリア層の材料は、拡散バリアを形成して、触媒が少なくとも一部、基板を構成する材料によって汚染されるのを防ぐのに適すること;
少なくとも膜の細孔の一部に触媒が成長する前に、拡散バリア形成材料が被覆され、触媒が少なくとも一部、その下のこの拡散バリア形成材料によって汚染されるのを防ぐのに適すること;拡散バリアは、例えば、細孔の基部にタングステンの電気めっきが施されることにより構成されること;
触媒は少なくとも細孔の一部への電気めっきにより被覆されること;
触媒は少なくとも細孔の一部への化学気相成長により被覆されること;
触媒は少なくともナノポーラス膜の細孔の一部に被覆され、その後、触媒はアニールされることで被覆されること;アニールは磁場環境下で行ってもよい;
電子機器コンポーネントはナノポーラス膜上に製作されること;
ナノポーラス繊維構造はカーボンナノチューブであること;
ナノポーラス繊維構造は化学気相成長により被覆されること;カーボンナノチューブの成長のための触媒として使用可能な遷移金属、希土酸化物に関連し、このような環境下で、触媒は本質的に炭素を分解するのに適した物質、例えば、鉄、コバルト、ニッケル、プラチナ等々であること;また、それら構成要素の少なくとも2つで作り上げる物質であること;
そして、
ナノスケール繊維構造は、ナノワイヤまたはナノロッドであること;かつ、このような環境下で、触媒は金とアルミニウムを含むリストから選ばれる任意の金属であってよい。
単結晶領域を含む細孔におけるナノポーラス膜;および
少なくともナノポーラス膜の細孔の一部に被覆され、ナノポーラス膜の単結晶領域上にエピタキシャル成長される金属触媒を含む。
平らな基板と平行に広がる少なくとも一つの単繊維のナノスケール構造を含むこと;
ナノポーラス膜の細孔中に拡張部分を有する電極を含むこと;
少なくとも一つの単繊維のナノスケール構造はロッドまたはワイヤであること;
アルミニウム基板5を陽極酸化することによってナノポーラス膜3を製作するステップ100;
前のステップ(触媒7は元素、またはかなりの量の炭素を分解するのに適する化合物)で得られたマイクロポーラス膜3内に触媒7を形成するように、遷移金属(Ni、Cr、Co、Fe、等々)またはプラチナ、一つもしくは他の希土酸化物(Y、Ce、等々)を伴う軽合金化金属を電気めっきするステップ200;および
化学気相成長(CVD)によってナノポーラス膜3の細孔8中にカーボン15を被覆するステップ、を含む。
単結晶絶縁基板53(AlN、サファイア、MgO、等々)上にアルミニウム層51をエピタキシャル成長させるステップ1000;単結晶絶縁基板53は、単結晶でかつ薄い層のエピタキシャル成長に有用な、シリコンのような基板上へエピタキシャル成長される薄い絶縁層(AlN、サファイア、MgO、等々の薄い絶縁層)に代えてもよい。
アルミニウム層51の厚さ以内にエッチングされるストリップ55をエッチングするステップ1010;基板53の面内のこれらストリップ55の配向は、電気めっきによる触媒ナノ結晶のエピタキシャル成長を有効に用いるよう、特にアルミニウム側面57の縦の配向を促すために選択される。
エピタキシャル成長されたアルミニウム層51上に電極59を被覆するステップ1020;この電極59は、後に行われる陽極酸化および電気めっきに必要である。
エピタキシャル成長アルミニウム層51とポリマーまたはシリカのような絶縁材料61中の電極59により構成された集合体をカプセルに入れるステップ1030;絶縁材料61は、後に行われる陽極酸化および電気めっきで用いる電解液からエピタキシャル成長アルミニウム層51とその電極59を絶縁するのに必要である。
エピタキシャル成長アルミニウム層51の側面57の陽極酸化を、絶縁材料61をカプセルに入れることにより保護されずに行うステップ1040;このステップは、上記ステップ100の実施によりなされる;Al2O3/Al界面58の組成物を生じさせる。
界面58で触媒60を電気めっきするステップ1050、このステップは上記した操作200と同様の方法で行われる;
カプセルに入れる絶縁材料61の層と電極59を除去するステップ1060;
特に、その後、650℃より高い温度でカーボンナノチューブ63の成長が要求される場合、アルミニウム51を除去する任意選択ステップ1065;
上述の操作300の実施により化学気相成長によってカーボンナノチューブ63を成長させるステップ1070;
エピタキシャル成長アルミニウム(アルミニウム51などが残留可能)の酸化によるアルミナの形成によって構成されるストリップ55にアイランド65を製作する;これらストリップ55はカーボンナノチューブ63を供給する少なくとも一つの側面57を有する;カーボンナノチューブ63が側面57から突出するため、アルミナはその後随意に再度エッチングされる;
ドレイン側(エピタキシャル成長アルミニウム層51上、またはカーボンナノチューブ63の同一平面)、およびソース側(側面57上のカーボンナノチューブ63の同一平面)においてオーミックコンタクトを確立するために、典型的にはチタニウムである、金属67を被覆するステップ1090;
チャネル69をエッチングするステップ1100;
典型的にはSiO2であり、また、TiO2のような絶縁性に優れた他の材料でなる、薄い絶縁層71を被覆するステップ1110;そして、
ソースおよびドレイン電極67aおよび67bに少し重ねるために、グリッド73を被覆、エッチングするステップ1120;
ステップ1052中において、樹脂75はナノポーラス膜3の高さの部分に従って厚さを超えて被覆される。
ステップ1062中において、表面細孔8は、選択的に満たされる。すなわち、それら細孔に関し、樹脂75で防がない。カーボンナノチューブで成長のための触媒を構成しない金属を使う。ステップ1072中において、上記記載のステップ1030から1060に詳述される方法により、樹脂75は除去され、触媒7は電気めっきされる。
ステップ1082中において、カーボンナノチューブ63は、例えば、上記ステップ1070中として、成長する。
ステップ1092中において、カーボンナノチューブ63は、エッチングされ、細孔8内の金属71は不十分なエッチングとなる。
ステップ1102中において、ソースとドレインのコンタクトは、例えば、類似する上記ステップ1090と1100の方法を用いた金属の被覆とエッチングにより被覆される。
ステップ1112において、ウェル79は、ステップ1122中、グリッド73が細孔8中の金属77にコンタクトを形成するように被覆できる。
アルミニウム基板5(あるいは、一般にあらゆる単結晶金属の基板)を部分的に陽極酸化することによってナノポーラス膜3を製作するステップ101;
上記ステップで得られたナノポーラス膜3中の触媒7を形成するため、金のような金属を電気めっきするステップ201;そして、
SiCl4およびH2により構成される混合気体の流れのもと、炉81でのレーザアブレーションによりアシストされる、化学気相成長によるシリコンおよびゲルマニウム複数層が成長するステップ301;この複数層の構成は、細孔8を内蔵したナノロッド83である。
Claims (25)
- ナノスケール繊維構造(63)の組み込まれた電子機器コンポーネント(50)の合成方法であって、前記方法は、次のステップを含む:
単結晶基板(5)上にナノポーラス膜(3)を製作すること;
前記ナノポーラス膜(3)と、前記ナノポーラス膜(3)の少なくともいくつかの細孔(8)を貫通する適当な金属触媒(7)とを被覆すること;および
前記金属触媒(7)の被覆により、前記ナノポーラス膜(3)における少なくともいくつかの細孔(8)中の上記触媒(7)上に繊維構造(63)を成長させること;
を含み、
前記方法は、さらに、前記細孔の基部の上と、前記ナノポーラス膜(3)の上とに少なくともいくつかの前記触媒(7)をエピタキシャル成長させる操作を含むことを特徴とする方法。 - 口径の測定された前記細孔(8)は、前記ナノポーラス膜(3)により製作されることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記ナノポーラス膜(3)は、実質的に平面の広がりを確保するのに適するように製作され、かつ、前記細孔(8)は、前記ナノポーラス膜(3)の前記平面に対して実質的に直交する配向を確保するのに適するように製作されることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の方法。
- 前記ナノポーラス膜(3)は、実質的に平面の広がりを確保するのに適するように製作され、かつ、前記細孔(8)は、前記ナノポーラス膜(3)の前記平面に対して実質的に平行な配向を確保するのに適するように製作されることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の方法。
- 単結晶領域を含む細孔(8)の壁を確保するのに適するようにナノポーラス膜(3)を準備する操作をさらに含み、
前記触媒は、前記単結晶領域上にエピタキシャル成長されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。 - 前記ナノポーラス膜(3)における前記細孔(8)の壁の前記単結晶領域は、前記細孔(8)の基部に相当することを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記ナノポーラス膜(3)は、前記単結晶基板(5)上の陽極酸化により製作されることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ナノポーラス膜(3)は、基板上へ転移または被覆される薄い層により製作される
請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。 - 前記単結晶基板(5)上にバリア層(10)が製作され、前記単結晶基板(5)上へ薄い層が転移または被覆されるのに先立って前記バリア層(10)が製作され、前記バリア層(10)の材料は、拡散バリアを形成し、前記基板(5)を構成する材料による汚染から少なくとも一部の前記触媒(6)を防ぐことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記触媒(7)が成長する前の、前記ナノポーラス膜(3)の少なくともいくつかの細孔(8)において、前記基板(5)を構成する材料による汚染から少なくとも一部の前記触媒(7)を防ぐ拡散バリアを形成することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。
- 前記触媒(7)は、電気めっきによって少なくとも前記細孔(8)のいくつかに被覆されることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
- 前記触媒(7)は、化学ガス・デポジションによって少なくとも前記細孔(8)のいくつかに被覆されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記触媒(7)は、ナノポーラス膜(3)の少なくとも前記細孔(8)のいくつかに被覆され、前記触媒(7)は被覆されるためにアニールされることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。
- 前記電子機器コンポーネント(50)は、前記ナノポーラス膜上に製作されることを特徴とする請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ナノスケール繊維構造(63)はカーボンナノチューブであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記触媒(7)は、遷移金属を含むことを特徴とする請求項1〜15のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ナノスケール繊維構造(63)は、化学気相成長にて被覆されることを特徴とする請求項1〜16のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ナノスケール繊維構造(63)はナノワイヤまたはナノロッドであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記触媒(7)は、金およびアルミニウムを含むグループからなる金属であることを特徴とする請求項18に記載の方法。
- 請求項1〜19のいずれかによる方法によって得られる少なくとも一つの前記ナノスケール繊維構造(63)を含む電気機器のためのコンポーネントであって、前記コンポーネント(50)は、
単結晶領域を含み、前記細孔(8)のあるナノポーラス膜;そして、
前記ナノポーラス膜(3)の少なくとも細孔(8)のいくつかに被覆された金属触媒(7); 少なくとも前記触媒の一部はナノポーラス膜(3)の単結晶領域上にエピタキシャル成長することを特徴とするコンポーネント。 - 前記ナノポーラス膜(3)の少なくとも一部は、前記ナノポーラス膜(3)の別の部分に被覆された少なくとも一つの繊維構造(63)を与えるための電圧が活性化する電極(59)を構成することを特徴とする請求項20に記載のコンポーネント。
- 基板(5)が置かれ、前記基板(5)の平面に平行して広がる少なくとも一つのナノスケール繊維構造(63)が含まれることを特徴とする請求項20または21に記載のコンポーネント。
- 前記ナノポーラス膜(3)の細孔(8)にエクステンションを有する電極(85)を含むことを特徴とする請求項20から22のいずれか1項に記載のコンポーネント。
- 少なくとも一つのナノスケール繊維構造(63)は、カーボンナノチューブであることを特徴とする請求項20から23のいずれか1項に記載のコンポーネント。
- 少なくとも一つのナノスケール繊維構造(63)は、ロッドまたはワイヤであることを特徴とする請求項20から23のいずれか1項に記載のコンポーネント。
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