JP5165265B2 - 多層プリント配線板の製造方法 - Google Patents
多層プリント配線板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5165265B2 JP5165265B2 JP2007077033A JP2007077033A JP5165265B2 JP 5165265 B2 JP5165265 B2 JP 5165265B2 JP 2007077033 A JP2007077033 A JP 2007077033A JP 2007077033 A JP2007077033 A JP 2007077033A JP 5165265 B2 JP5165265 B2 JP 5165265B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- hole
- core substrate
- plating
- conductive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 102
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 50
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 41
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 36
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 34
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 claims description 24
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 23
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 15
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 13
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 13
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 3
- 238000005553 drilling Methods 0.000 claims description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 8
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 3
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 3
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Description
内層コア基板に外層ビルドアップ層を積層した構造であり、前記内層コア基板および前記外層ビルドアップ層の層間接続に、外層側ほど導通用孔の径が大きくなる3層以上の配線層の層間接続を行うステップビアホールと、最外層とその1層下の配線層のみの層間接続を行うブラインドビアホールとをそなえた多層プリント基板を形成する方法であって、
a)樹脂フィルムからなる絶縁ベース材の上に、ビルドアップ後にレーザで貫通させるランドおよび配線パターンに部分めっき用レジスト層を形成し、前記外層ビルドアップ層との層間接続を行う前記ブラインドビアホールの受けランドの位置する部分に選択的に電解めっきを行うことにより当該箇所のめっきが厚付けされる、少なくとも1層の導電層を有する内層コア基板を製造する工程、b)少なくとも一面に導電層を有する銅張積層板からなる外層ビルドアップ層を前記内層コア基板に接着材を介して積層し、積層前または後で前記銅張積層板の導電層の導通用孔の形成部位に穿孔用の銅箔の開口を形成して積層回路基材とする工程、c)前記積層回路基材に対し、外層側ほど径が大きくなるステップビアホール用の導通用孔を形成する工程、およびd)前記導通用孔に対し、導電化処理を行い電解めっきによりビアホールを形成する工程、を含み、前記内層コア基板に外層ビルドアップ層を積層した構造である多層プリント配線板の製造方法において、
前記工程c)は、
前記穿孔用の銅箔の開口に対し、銅の融点以上まで加熱可能なレーザ光を照射することにより前記外層ビルドアップ層の層間絶縁樹脂および前記接着材をコンフォーマル加工により穿孔し、
さらに前記レーザ光を照射することにより、前記内層コア基板における前記レーザ光の照射面側の導電層および前記内層コア基板の前記絶縁ベースを穿孔し、
前記穿孔用の銅箔の開口の中心と前記ダイレクト加工により形成された前記内層コア基板の導電層の孔の中心とが略等しい位置にあるステップビアホール用の導通用孔を形成することを特徴とする多層プリント配線板の製造方法、
を提供する。
2,3 銅箔
4 両面銅張積層板
5 導通用孔
6 部分めっき用レジスト層
7 スルーホール
8 受けランドに位置する部分
9 回路パターン
10a,10b ランド
11 両面コア基板
12 ポリイミドフィルム
13 接着材
14 カバーレイ
15 両面コア基板
16 可撓性絶縁ベース材
17a 銅箔
17b,17c コンフォーマルマスク
18 片面銅張積層板
19 接着材
20 多層回路基材
21a,21b 導通用孔
21c 導通用孔21aの下側の孔
22 多層回路基材
23a ステップビアホール
23b ビアホール
24 層間導通の完了した多層回路基材
25 外層回路パターン
26 本発明によるケーブル部を有する多層プリント配線板
161 ポリイミドフィルム
162 接着材
163 カバーレイ
164 カバーレイ付き両面コア基板
165 可撓性絶縁ベース材
166a 銅箔
166b コンフォーマルマスク
167a 片面銅張積層板
167b ビルドアップ層
168 接着材
169a 多層回路基材
169b 導通用孔を有する多層回路基材
170a,170b 導通用孔
171a ステップビアホール
171b ビアホール
172 層間導通の完了した多層回路基材
173 外層回路パターン
174 ケーブル部
175 従来工法によるケーブル部を有する多層プリント配線板
Claims (1)
- 内層コア基板に外層ビルドアップ層を積層した構造であり、前記内層コア基板および前記外層ビルドアップ層の層間接続に、外層側ほど導通用孔の径が大きくなる3層以上の配線層の層間接続を行うステップビアホールと、最外層とその1層下の配線層のみの層間接続を行うブラインドビアホールとをそなえた多層プリント基板を形成する方法であって、
a)樹脂フィルムからなる絶縁ベース材の上に、ビルドアップ後にレーザで貫通させるランドおよび配線パターンに部分めっき用レジスト層を形成し、前記外層ビルドアップ層との層間接続を行う前記ブラインドビアホールの受けランドの位置する部分に選択的に電解めっきを行うことにより当該箇所のめっきが厚付けされる、少なくとも1層の導電層を有する内層コア基板を製造する工程、b)少なくとも一面に導電層を有する銅張積層板からなる外層ビルドアップ層を前記内層コア基板に接着材を介して積層し、積層前または後で前記銅張積層板の導電層の導通用孔の形成部位に穿孔用の銅箔の開口を形成して積層回路基材とする工程、c)前記積層回路基材に対し、外層側ほど径が大きくなるステップビアホール用の導通用孔を形成する工程、およびd)前記導通用孔に対し、導電化処理を行い電解めっきによりビアホールを形成する工程、を含み、前記内層コア基板に外層ビルドアップ層を積層した構造である多層プリント配線板の製造方法において、
前記工程c)は、
前記穿孔用の銅箔の開口に対し、銅の融点以上まで加熱可能なレーザ光を照射することにより前記外層ビルドアップ層の層間絶縁樹脂および前記接着材をコンフォーマル加工により穿孔し、
さらに前記レーザ光を照射することにより、前記内層コア基板における前記レーザ光の照射面側の導電層および前記内層コア基板の前記絶縁ベースを穿孔し、
前記穿孔用の銅箔の開口の中心と前記ダイレクト加工により形成された前記内層コア基板の導電層の孔の中心とが略等しい位置にあるステップビアホール用の導通用孔を形成することを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007077033A JP5165265B2 (ja) | 2007-03-23 | 2007-03-23 | 多層プリント配線板の製造方法 |
TW97103731A TWI403242B (zh) | 2007-03-23 | 2008-01-31 | Production method of multilayer printed wiring board |
CN2008100872160A CN101272661B (zh) | 2007-03-23 | 2008-03-24 | 多层印刷布线板及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007077033A JP5165265B2 (ja) | 2007-03-23 | 2007-03-23 | 多層プリント配線板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008235801A JP2008235801A (ja) | 2008-10-02 |
JP5165265B2 true JP5165265B2 (ja) | 2013-03-21 |
Family
ID=39908207
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007077033A Active JP5165265B2 (ja) | 2007-03-23 | 2007-03-23 | 多層プリント配線板の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5165265B2 (ja) |
CN (1) | CN101272661B (ja) |
TW (1) | TWI403242B (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5485299B2 (ja) * | 2010-02-08 | 2014-05-07 | 日本メクトロン株式会社 | 多層プリント配線板の製造方法 |
CN101945535B (zh) * | 2010-08-30 | 2011-12-28 | 昆山元茂电子科技有限公司 | 设置有较厚内层基板的pcb板 |
CN103391682B (zh) * | 2012-05-10 | 2016-07-06 | 深南电路有限公司 | 具有台阶槽的pcb板的加工方法 |
JP2013243227A (ja) * | 2012-05-18 | 2013-12-05 | Ibiden Co Ltd | 配線板及びその製造方法 |
TWI452955B (zh) * | 2012-10-08 | 2014-09-11 | Subtron Technology Co Ltd | 基板結構的製作方法 |
CN104955276A (zh) * | 2014-03-24 | 2015-09-30 | 深南电路有限公司 | 电路板台阶孔的加工方法和具有台阶孔的电路板 |
CN104392934A (zh) * | 2014-10-31 | 2015-03-04 | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | 封装基板的阻焊制作方法 |
US10499509B1 (en) * | 2018-12-31 | 2019-12-03 | General Electric Company | Methods and systems for a flexible circuit |
CN113727539A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-11-30 | 德中(天津)技术发展股份有限公司 | 选择性电镀孔,激光制抗镀图案,图形电镀蚀刻的制造电路板方法 |
CN113709985A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-11-26 | 德中(天津)技术发展股份有限公司 | 选择性电镀孔、焊盘,激光制抗蚀图案,化学蚀刻制导电图案的制造电路板方法 |
CN114554681B (zh) * | 2022-03-28 | 2024-04-12 | 黄石永兴隆电子有限公司 | 一种含有阶梯型盲孔的线路板 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2562373B2 (ja) * | 1990-03-31 | 1996-12-11 | 日本メクトロン株式会社 | 多層回路基板の層間導通構造の形成法 |
JP3815765B2 (ja) * | 1998-01-14 | 2006-08-30 | 三井金属鉱業株式会社 | 多層プリント配線板の製造方法 |
JP4128649B2 (ja) * | 1998-03-26 | 2008-07-30 | 富士通株式会社 | 薄膜多層回路基板の製造方法 |
KR100349119B1 (ko) * | 1999-05-18 | 2002-08-17 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판 및 그 제조방법 |
JP2003078247A (ja) * | 2001-08-30 | 2003-03-14 | Kyocera Corp | 配線基板およびその製造方法 |
JP2005166764A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-23 | Toshiba Corp | 多層プリント配線板および多層プリント配線板の製造方法 |
JP2005183798A (ja) * | 2003-12-22 | 2005-07-07 | Toshiba Corp | 多層プリント配線板および多層プリント配線板の製造方法 |
-
2007
- 2007-03-23 JP JP2007077033A patent/JP5165265B2/ja active Active
-
2008
- 2008-01-31 TW TW97103731A patent/TWI403242B/zh active
- 2008-03-24 CN CN2008100872160A patent/CN101272661B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101272661B (zh) | 2011-04-06 |
TW200847883A (en) | 2008-12-01 |
TWI403242B (zh) | 2013-07-21 |
JP2008235801A (ja) | 2008-10-02 |
CN101272661A (zh) | 2008-09-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5165265B2 (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
JP4767269B2 (ja) | 印刷回路基板の製造方法 | |
JP4527045B2 (ja) | ケーブル部を有する多層配線基板の製造方法 | |
JP5073395B2 (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
JP5014878B2 (ja) | 多層プリント配線板の製造方法およびその配線板 | |
WO2008004382A1 (fr) | Procédé de fabrication d'une plaque de circuit imprimé à couches multiples | |
JP2010232249A (ja) | 多層プリント配線板とその製造方法 | |
JP2009111133A (ja) | 膜状抵抗素子を内蔵した多層プリント配線板の製造方法 | |
JP5693339B2 (ja) | 多層プリント配線板およびその製造方法 | |
JP4857433B2 (ja) | 金属積層板、金属積層板の製造方法及び印刷回路基板の製造方法 | |
JP5485299B2 (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
TWI459879B (zh) | Method for manufacturing multilayer flexible printed wiring board | |
JP4813204B2 (ja) | 多層回路基板の製造方法 | |
JP4319917B2 (ja) | 部品内蔵配線板の製造方法 | |
JP4302045B2 (ja) | 多層フレキシブル回路配線基板及びその製造方法 | |
JP4397793B2 (ja) | 回路基板およびその製造方法 | |
JP5000742B2 (ja) | ケーブル部を有する多層配線基板の製造方法 | |
KR20090017754A (ko) | 다층인쇄회로기판의 제조방법 | |
JP2005236129A (ja) | 半導体装置用テープキャリアおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090915 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110818 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110823 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110901 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120330 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120507 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121019 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121101 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121120 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121219 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151228 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5165265 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |