JP5154957B2 - 新規フルオレン骨格含有ポリマー - Google Patents
新規フルオレン骨格含有ポリマー Download PDFInfo
- Publication number
- JP5154957B2 JP5154957B2 JP2008006433A JP2008006433A JP5154957B2 JP 5154957 B2 JP5154957 B2 JP 5154957B2 JP 2008006433 A JP2008006433 A JP 2008006433A JP 2008006433 A JP2008006433 A JP 2008006433A JP 5154957 B2 JP5154957 B2 JP 5154957B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- fluorene
- formula
- bis
- ring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 0 CCC(C)(CC)N*C*C#C Chemical compound CCC(C)(CC)N*C*C#C 0.000 description 1
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
前記式(1)において、R4およびR5は、アルキル基又はアリール基であってもよい。また、前記式(1)において、R4およびR5の少なくともいずれか一方がアリール基(例えば、R4およびR5のいずれもがアリール基、R4がアリール基でありR5がアリール基以外の炭化水素基など)であってもよい。また、前記式(1)において、R4およびR5が結合し、下記式(A)で表される基を形成していてもよい。
代表的な前記フルオレン骨格含有ポリマーには、下記(i)〜(iii)のいずれかを充足するフルオレン骨格含有ポリマーが含まれる。
(ii)式(1)において、環Zがナフタレン環であり、基R3がC2−4アルキレン基であり、nが0〜10であり、R4およびR5がC1−4アルキル基又はC6−10アリール基(特に、C6−10アリール基)であり、Eが酸素原子である
(iii)式(1)において、環Zがベンゼン環又はナフタレン環であり、R3がC2−4アルキレン基であり、nが0〜10であり、R4およびR5が結合してビフェニル−2,2’−ジイル基又はジフェニルメタン−2,2’−ジイル基を形成しており、Eが酸素原子である。
本発明のフルオレン骨格含有ポリマーは、主鎖に、特定のフルオレン骨格と特定のケイ素骨格(有機ケイ素骨格)とを組み合わせて有するポリマーであり、通常、下記式(1)で表される構造単位を有している。
上記式(1)において、環Zで表される芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、縮合多環式芳香族炭化水素環(詳細には、少なくともベンゼン環を含む縮合多環式炭化水素環)などが挙げられる。縮合多環式芳香族炭化水素環に対応する縮合多環式芳香族炭化水素としては、縮合二環式炭化水素(例えば、インデン、ナフタレンなどのC8−20縮合二環式炭化水素、好ましくはC10−16縮合二環式炭化水素)、縮合三環式炭化水素(例えば、アントラセン、フェナントレンなど)などの縮合二乃至四環式炭化水素などが挙げられる。好ましい縮合多環式芳香族炭化水素としては、ナフタレン、アントラセンなどが挙げられ、特にナフタレンが好ましい。なお、フルオレンの9位に置換する2つの環Zは同一の又は異なる環であってもよく、通常、同一の環であってもよい。
上記式(A)において、基R6及び基R7で表される置換基としては、前記例示の基(例えば、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、ハロゲン原子、(置換)アミノ基など)などが挙げられる。また、置換基の個数pおよびqは、それぞれ、0〜4であればよく、好ましくは0〜1、さらに好ましくは0であってもよい。
本発明のフルオレン骨格ポリマーは、前記式(1)で表される構造単位に対応する化合物(成分、モノマー)を重合させることにより製造できる。代表的には、本発明のポリマーは、下記式(2)で表されるフルオレン骨格を有する化合物(又は下記式(2)で表されるフルオレン骨格を有する化合物で構成されたジオール成分、ジチオール成分又はジアミン成分)と、ケイ素原子骨格(−SiR4R5−)に対応する化合物とを反応(重合、縮合、縮合反応)させることにより製造できる。
上記式(2)で表される化合物は、前記式(1)で表される構造単位のうち、フルオレン骨格を構成する構造単位に対応するジオール、ジチオール又はジアミンである。このような式(2)で表される化合物において、好ましいZ、R1〜R3、k、mおよびnなどの態様は前記と同様である。なお、前記のように、Eがイミノ基である場合(又は式(2)で表される化合物がジアミンである場合)、通常、nは0である。
上記式(3)において、X1およびX2で表されるハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。好ましいハロゲン原子は塩素原子である。X1およびX2は異なっていてもよいが、通常、同一であってもよい。また、上記式(3)で表される化合物において、好ましいR4およびR5は前記と同様である。
上記式(3a)で表される化合物は、前記式(A)で表される二価基に対応する化合物(ジハロシラン)である。このような化合物としては、例えば、9,9−ジハロ−9−シラフルオレン類(例えば、9,9−ジクロロ−9−シラフルオレンなど)、5,5−ジハロ−5−シラ−5,10−ジヒドロアントラセン類(例えば、5,5−ジクロロ−5−シラ−5,10−ジヒドロアントラセンなど)などが挙げられる。これらのジハロシラン類は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。
本発明のフルオレン骨格含有ポリマーは、前記のように、優れた光学的特性(高屈折率、低複屈折性、高透明性など)を有している。また、優れた熱的特性(高耐熱性など)も有しており、種々の用途に適用することにより、これらの優れた特性を付与できる。そのため、本発明には、前記フルオレン骨格含有ポリマー(又はその樹脂組成物、以下、樹脂組成物を含めてフルオレン骨格含有ポリマーということがある)で構成された成形体も含まれる。成形体の形状は、特に限定されず、例えば、二次元的構造(フィルム状、シート状、板状など)、三次元的構造(管状、棒状、チューブ状、中空状など)などが挙げられる。
ポリマーの分子量(数平均分子量Mn)及びその分布(Mw/Mn)は、溶出液としてクロロホルムを用い、30℃(流速0.085mL/分)の条件で、2本の連続した線状ポリスチレンゲルカラム(Tosoh TSKgel G5000HXL、G4000HXL)を備えたJASCO Gulliverにより、ポリスチレン標準で、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によって測定した。
示差走査熱量計(島津製作所(株)製、「DSC−60」)を用い、50mL/分の窒素流下、10℃/分の昇温条件で測定した。
熱重量分析(TGA)は、島津製作所(株)製、「TGA−50」装置を用いて、窒素雰囲気下(流量50ml/分)中、加熱速度10℃/分で行い、熱分解温度を測定した。
「UV−3600」(島津製作所(株)製)を用い、厚み0.1mmのサンプルについて、400nmでの光線透過率を測定した。なお、サンプルは、得られたポリマーを2%の濃度でジオキサンに溶解した溶液をガラスシャーレに塗布し、ゆっくりと乾燥させ、乾固後に90℃で一晩乾燥して作成したものを用いた。
1H−NMRスペクトルは、内標準としてテトラメチルシランを用い、溶媒としてCDCl3を用いて、JNM−LA400/WB(日本電子製)によって室温で測定した。
複屈折率は、偏光顕微鏡「OPTIPHOTO−POL」(Nikon(株)製)を用い、546nmの光源にて測定した。なお、サンプルは、得られたポリマーをフィルム化したものを用いた。また、実施例5では、さらにフィルムを2倍に一軸延伸した後の複屈折率(レターデーション値)も測定した。
アルゴン雰囲気下、マグネチックスターラーおよび乾燥管を備えた二口丸底フラスコ(50mL)中で、9,9−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン4.02g(10.6mmol)、ジクロロジフェニルシラン2.69g(10.6mmol)、ピリジン(和光純薬工業製)2.1mL(26mmol)を蒸留テトラクロロメタン10mLに溶解した混合物を、還流下(80℃)にて18時間加熱することにより反応させた。得られた反応混合物をテトラクロロメタン50mL、クロロホルム70mLに溶解し、メタノール900mLに投入して沈殿物を得た。さらにこの沈殿物を乾燥し、クロロホルム50mLに溶解してメタノール450mLに投入し、白色の沈殿物5.28g(収率79%)を得た。1H−NMRにより得られた沈殿物を分析した結果、目的物である9,9−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン−ジクロロジフェニルシラン共重合体であることを確認した。得られた沈殿物(共重合体)の重量平均分子量Mwは30000、分子量分布Mw/Mnは1.7であった。
9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン4.46g(11.8mmol)、ジクロロジメチルシラン(和光純薬工業製)1.52g(11.8mmol)、ピリジン2.5mL(31mmol)を用いると共に、反応温度を60℃とした他は、実施例1と同様にして沈殿物(共重合体)4.80g(収率80%)を得た。1H−NMRにより得られた沈殿物を分析した結果、目的物である9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン−ジクロロジメチルシラン共重合体であることを確認した。得られた沈殿物(共重合体)の重量平均分子量Mwは16000、分子量分布Mw/Mnは1.7であった。
2.69gのジクロロジフェニルシランを2.97gの9,9−ジクロロシラフルオレンに変更した以外は実施例1と同様にして沈殿物(共重合体)4.3g(収率76%)を得た。得られた沈殿物(共重合体)において、Mwは14000、Mw/Mnは1.9、ガラス転移温度は184℃、5%熱重量減少温度は541℃、光線透過率は76%、屈折率は1.65、複屈折は0.0であった。
溶媒を蒸留テトラクロロメタンから蒸留トルエンに変更し、温度を80℃から100℃に変更し、反応時間を18時間から8時間に変更した以外は参考例1と同様に反応、再沈殿させた結果、白色の沈殿物4.93g(収率73%)を得た。1H−NMRにより得られた沈殿物を分析した結果、目的物である9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン−ジクロロジメチルシラン共重合体であることを確認した。得られた沈殿物(共重合体)の重量平均分子量Mwは21000、分子量分布Mw/Mnは1.6であった。得られた沈殿物(共重合体)のガラス転移温度は151℃、5%熱重量減少温度は437℃、光線透過率は79%、屈折率は1.638、複屈折は0.0であった。
9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン4.46g(11.8mmol)を9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン5.17g(11.8mmol)に変更した以外は参考例1と同様に合成した結果、沈殿物が得られた。1H−NMRにより得られた沈殿物を分析した結果、目的物の共重合体であることを確認した。得られた沈殿物(共重合体)の重量平均分子量Mwは75000、分子量分布Mw/Mnは2.3であった。
Claims (9)
- 下記式(1)で表される構造単位を有し、数平均分子量3000〜500000を有するフルオレン骨格含有ポリマー。
(式中、環Zは芳香族炭化水素環を示し、Eは酸素原子、硫黄原子又はイミノ基、R1 はシアノ基又は炭化水素基、R2は炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、又はジアルキルアミノ基、R3はアルキレン基、R4およびR5は同一又は異なって炭化水素基を示し、R4およびR5は結合していてもよい。kは0〜4の整数、mは0以上の整数、nは0以上の整数である。ただし、環Zがベンゼン環であり、かつEが酸素原子であるとき、m≧1であり、R2の少なくとも1つは炭化水素基である。) - 式(1)において、R4およびR5がアルキル基又はアリール基である請求項1記載のフルオレン骨格含有ポリマー。
- 下記(i)〜(iii)のいずれかを充足する請求項1記載のフルオレン骨格含有ポリマー。
(i)式(1)において、環Zがベンゼン環であり、R2がアルキル基又はアリール基であり、mが1〜2であり、R3がC2−4アルキレン基であり、nが0〜10であり、R4およびR5がC1−4アルキル基又はC6−10アリール基であり、Eが酸素原子である
(ii)式(1)において、環Zがナフタレン環であり、基R3がC2−4アルキレン基であり、nが0〜10であり、R4およびR5がC1−4アルキル基又はC6−10アリール基であり、Eが酸素原子である
(iii)式(1)において、環Zがベンゼン環又はナフタレン環であり、R3がC2−4アルキレン基であり、nが0〜10であり、R4およびR5が結合してビフェニル−2,2’−ジイル基又はジフェニルメタン−2,2’−ジイル基を形成しており、Eが酸素原子である - 5重量%の重量が減少する熱分解温度Td5が窒素中において430℃以上である請求項1記載のフルオレン骨格含有ポリマー。
- 屈折率が波長589nmにおいて1.64以上であり、複屈折率が波長546nmにおいて0.1nm以下である請求項5記載のフルオレン骨格含有ポリマー。
- 請求項1記載のフルオレン骨格含有ポリマーで構成された成形体。
- フィルムである請求項7記載の成形体。
- 光学フィルムである請求項8記載の成形体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008006433A JP5154957B2 (ja) | 2007-02-28 | 2008-01-16 | 新規フルオレン骨格含有ポリマー |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007050409 | 2007-02-28 | ||
| JP2007050409 | 2007-02-28 | ||
| JP2008006433A JP5154957B2 (ja) | 2007-02-28 | 2008-01-16 | 新規フルオレン骨格含有ポリマー |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008239955A JP2008239955A (ja) | 2008-10-09 |
| JP5154957B2 true JP5154957B2 (ja) | 2013-02-27 |
Family
ID=39911666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008006433A Active JP5154957B2 (ja) | 2007-02-28 | 2008-01-16 | 新規フルオレン骨格含有ポリマー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5154957B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101333703B1 (ko) * | 2009-07-31 | 2013-11-27 | 제일모직주식회사 | 레지스트 하층막용 방향족 고리 함유 중합체, 이를 포함하는 레지스트 하층막 조성물 및 이 조성물을 이용한 소자의 패턴 형성 방법 |
| US8617792B2 (en) | 2009-07-31 | 2013-12-31 | Cheil Industries, Inc. | Aromatic ring-containing polymer for resist underlayer, resist underlayer composition including the same, and method of patterning device using the same |
| JP5571979B2 (ja) * | 2010-03-11 | 2014-08-13 | 大阪ガスケミカル株式会社 | 新規フルオレン化合物およびその金属酸化物複合体 |
| CN109476835B (zh) * | 2016-07-21 | 2021-09-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚碳酸酯树脂、其制造方法和光学透镜 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3636218B2 (ja) * | 1995-02-23 | 2005-04-06 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 電子写真感光体 |
| JP2000338344A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-12-08 | Unitika Ltd | 光デバイス用高分子光学材料、高分子光デバイス及びその製造方法 |
| JP3851996B2 (ja) * | 1999-06-08 | 2006-11-29 | 大阪瓦斯株式会社 | ポリエステル重合体およびその製造方法 |
| JP3711383B2 (ja) * | 2001-09-03 | 2005-11-02 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 9−シラフルオレン−9,9−ジイル骨格を有する共重合体、その製造方法、及びそれを構成要素とする発光材料 |
| JP2003313295A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-06 | Mitsui Chemicals Inc | 新規ケイ素ポリマーおよびその製造方法 |
| JP4307925B2 (ja) * | 2002-08-12 | 2009-08-05 | Jfeケミカル株式会社 | ケイ素含有ポリマーの製造方法およびケイ素含有ポリマー |
| JP4365613B2 (ja) * | 2003-04-17 | 2009-11-18 | 大阪瓦斯株式会社 | 芳香族ポリエステル樹脂及び光学部材 |
| JP5154958B2 (ja) * | 2007-02-28 | 2013-02-27 | 国立大学法人東京工業大学 | フルオレン骨格を有するケイ素含有ポリマーの製造方法 |
-
2008
- 2008-01-16 JP JP2008006433A patent/JP5154957B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2008239955A (ja) | 2008-10-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7082872B2 (ja) | 高耐熱性ポリカーボネート樹脂及び成形体 | |
| JP2017179323A (ja) | 高屈折率ポリカーボネート系樹脂及び成形体 | |
| JP2012144746A (ja) | フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂およびその製造方法 | |
| CN113727961B (zh) | 二羧酸类及其制造方法和用途 | |
| JP5098097B2 (ja) | フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂およびその製造方法 | |
| JP2017171885A (ja) | 高屈折率樹脂及び成形体 | |
| JP5154957B2 (ja) | 新規フルオレン骨格含有ポリマー | |
| US8835664B2 (en) | Fluorinated compound, a composition comprising the same, and a production method for a film using the same | |
| JP5154958B2 (ja) | フルオレン骨格を有するケイ素含有ポリマーの製造方法 | |
| KR20230138376A (ko) | 폴리카보네이트 수지 및 이의 제조방법 | |
| Ma et al. | Biobased thiol-ene networks with high optical transparency and abbe number derived from citric acid | |
| KR102112984B1 (ko) | 폴리포르말 수지 공중합체 및 제조 방법 | |
| JP4731681B2 (ja) | ポリカーボネート樹脂、及びそれを含んで構成されるレンズ | |
| JP2001253960A (ja) | 高屈折率低複屈折性ポリカーボネート樹脂から形成された位相差フィルム用フィルムおよびその利用 | |
| JP6175268B2 (ja) | 耐湿性向上剤 | |
| JP7588707B2 (ja) | 熱可塑性樹脂および光学部材 | |
| JP2002201262A (ja) | ポリカーボネート樹脂、及びそれを含んで構成される光学部品 | |
| JP2012131865A (ja) | フルオレン骨格を有するポリアリレート樹脂 | |
| KR20230138398A (ko) | 폴리카보네이트 수지 및 이의 제조방법 | |
| KR20230138380A (ko) | 폴리카보네이트 수지 및 이의 제조방법 | |
| JP6276076B2 (ja) | フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂 | |
| JP2022040080A (ja) | フルオレン誘導体および樹脂ならびにそれらの製造方法および用途 | |
| JP2021134355A (ja) | ビナフチル骨格を有する熱可塑性樹脂ならびにその製造方法および用途 | |
| KR102824042B1 (ko) | 폴리에스테르 올리고머 및 그 제조방법, 및 이 올리고머를 포함하며 향상된 내스크래치성 및 고굴절률을 갖는 폴리에스테르-폴리카보네이트 블록 공중합체 및 그 제조방법 | |
| KR102700993B1 (ko) | 폴리에스테르 올리고머 및 그 제조방법, 및 이 올리고머를 포함하는 내스크래치성이 향상된 폴리에스테르-폴리카보네이트 블록 공중합체 및 그 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110107 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110107 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120730 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120807 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121004 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121127 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121206 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151214 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5154957 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
