JP5153339B2 - 紫外線吸収安定剤の組合せ - Google Patents
紫外線吸収安定剤の組合せ Download PDFInfo
- Publication number
- JP5153339B2 JP5153339B2 JP2007543830A JP2007543830A JP5153339B2 JP 5153339 B2 JP5153339 B2 JP 5153339B2 JP 2007543830 A JP2007543830 A JP 2007543830A JP 2007543830 A JP2007543830 A JP 2007543830A JP 5153339 B2 JP5153339 B2 JP 5153339B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydroxy
- butyl
- bis
- pvc
- ditert
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3472—Five-membered rings
- C08K5/3475—Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/13—Phenols; Phenolates
- C08K5/132—Phenols containing keto groups, e.g. benzophenones
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
Description
約４：１ないし１：４の質量：質量比で、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物及びヒドロキシベンゾフェノンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物からなる紫外線吸収剤ブレンドは、熱、酸素および化学線の有害作用に対するポリマー状基材の保護に特に効果的であることが見出された。該ポリマー状基材は、特にポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）又はＰＶＣのコポリマー又はＰＶＣを含むポリマーブレンドを含む。
特許文献１は、ＰＶＣ／木粉複合材料を目的としている。
特開２００１−２４０７１５号公報
本発明は、熱、光および酸素の有害作用に対して安定化されたポリマー組成物に関するものであって、
該組成物は、ポリマー状基材及び
該基材に配合されたか又は該基材に塗布された有効安定化量の、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とヒドロキシベンゾフェノンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物との約４：１ないし約１：４の質量：質量比での紫外線吸収剤混合物を含む。
該組成物は、ポリマー状基材及び
該基材に配合されたか又は該基材に塗布された有効安定化量の、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とヒドロキシベンゾフェノンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物との約４：１ないし約１：４の質量：質量比での紫外線吸収剤混合物を含む。
特に本発明は、熱、光および酸素の有害作用に対して安定化されたポリマー組成物に関するものであって、
該組成物は、ポリマー状基材及び
該基材に配合されたか又は該基材に塗布された有効安定化量の、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンとの約４：１ないし約１：４の質量：質量比での紫外線吸収剤混合物を含む。
該組成物は、ポリマー状基材及び
該基材に配合されたか又は該基材に塗布された有効安定化量の、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンとの約４：１ないし約１：４の質量：質量比での紫外線吸収剤混合物を含む。
２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ＣＡＳ番号２４４０−２２−４は、例えば米国特許第４，１４１，９０３号明細書、米国特許第４，２１９，４８０号明細書、米国特許第４，２２０，７８８号明細書、米国特許第４，２３０，８６７号明細書、米国特許第４，６４２，３５０号明細書、米国特許第５，２７６，１６１号明細書及び米国特許第６，５６６，５０７号明細書に記載されるように調製し得、それらの関連した開示は参照することによりここに組み込まれる。
２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、ＣＡＳ番号１８４３−０５−６は、例えば米国特許第５，６２９，４５３号明細書に記載されるように調製し得、その関連した開示は参照することによりここに組み込まれる。
２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、ＣＡＳ番号１８４３−０５−６は、例えば米国特許第５，６２９，４５３号明細書に記載されるように調製し得、その関連した開示は参照することによりここに組み込まれる。
ポリマー状基材が少なくとも１種のハロゲン含有ポリマーを含むところのポリマー組成物が好ましい。
ハロゲン含有ポリマーの例は、以下に与えられる。
例えば、ハロゲン含有ポリマーは、ポリ塩化ビニル又はポリビニルブチロール、塩化ビニル／塩化ビニリデンもしくは塩化ビニル／酢酸ビニルのようなコポリマー、又はＰＶＣ／ＥＶＡ、ＡＳＡ／ＰＶＣ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＶＣ／ＣＰＥ又はＰＶ
Ｃ／アクリレートのようなブレンドである。
特にポリマー状基材は、ポリ塩化ビニル、ポリビニルブチロール、塩化ビニル／塩化ビニリデンもしくは塩化ビニル／酢酸ビニルのコポリマー、又はＰＶＣ／ＥＶＡ、ＡＳＡ／ＰＶＣ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＶＣ／ＣＰＥ又はＰＶＣ／アクリレートのブレンドである。
本発明の他の態様において、ポリマー状基材は、ポリアクリレート及びアクリレート含有コポリマー又は不飽和のポリエステルを含む。
ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール：ヒドロキシベンゾフェノンの質量：質量比は、約４：１ないし約１：４である。例えば、質量：質量比は、約３：１ないし約１：３、又は約２：１ないし約１：２である。例えば、質量：質量比は、約４：１、約３：１、約２：１、約１：１、約１：２、約１：３又は約１：４である。
紫外線吸収剤の組み合わせは、ポリマー状基材に安定化を与えることに関して相乗的である。
ハロゲン含有ポリマーの例は、以下に与えられる。
例えば、ハロゲン含有ポリマーは、ポリ塩化ビニル又はポリビニルブチロール、塩化ビニル／塩化ビニリデンもしくは塩化ビニル／酢酸ビニルのようなコポリマー、又はＰＶＣ／ＥＶＡ、ＡＳＡ／ＰＶＣ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＶＣ／ＣＰＥ又はＰＶ
Ｃ／アクリレートのようなブレンドである。
特にポリマー状基材は、ポリ塩化ビニル、ポリビニルブチロール、塩化ビニル／塩化ビニリデンもしくは塩化ビニル／酢酸ビニルのコポリマー、又はＰＶＣ／ＥＶＡ、ＡＳＡ／ＰＶＣ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＶＣ／ＣＰＥ又はＰＶＣ／アクリレートのブレンドである。
本発明の他の態様において、ポリマー状基材は、ポリアクリレート及びアクリレート含有コポリマー又は不飽和のポリエステルを含む。
ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール：ヒドロキシベンゾフェノンの質量：質量比は、約４：１ないし約１：４である。例えば、質量：質量比は、約３：１ないし約１：３、又は約２：１ないし約１：２である。例えば、質量：質量比は、約４：１、約３：１、約２：１、約１：１、約１：２、約１：３又は約１：４である。
紫外線吸収剤の組み合わせは、ポリマー状基材に安定化を与えることに関して相乗的である。
紫外線吸収添加剤混合物は、ポリマー状基材の質量に基づき、約０．０１質量％ないし約１０質量％のレベルで該基材に存在する。例えば、紫外線吸収添加剤は、ポリマー状基材の質量に基づき、約０．１質量％ないし約５質量％、約０．３質量％ないし約４質量％、又は約０．５質量％ないし約３質量％存在する。例えば、紫外線吸収剤混合物は、ポリマー状基材の質量に基づき、約０．０１質量％ないし約０．１質量％、約０．０１質量％ないし約０．３質量％、約０．０１％質量％ないし約０．５質量％、約０．０１％質量％ないし約１質量％、約０．０１％質量％ないし約３質量％、約０．０１％質量％ないし約４質量％又は約０．０１％質量％ないし約５質量％存在する。例えば、紫外線吸収剤混合物は、ポリマー状基材の質量に基づき、約０．１質量％ないし約１０質量％、約０．３質量％ないし約１０質量％、約０．５質量％ないし約１０質量％、約１質量％ないし約１０質量％、約３質量％ないし約１０質量％、約４質量％ないし約１０質量％又は約５質量％ないし約１０質量％存在する。例えば、紫外線吸収剤混合物は、ポリマー状基材の質量に基づき、約０．０１質量％ないし約１質量％、又は約０．１質量％ないし約０．５質量％、又は約０．１質量％ないし約１．０質量％存在する。
ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールは、例えば既知で市販のヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール及び米国特許第３，００４，８９６号明細書；米国特許第３，０５５，８９６号明細書；米国特許第３，０７２，５８５号明細書；米国特許第３，０７４，９１０号明細書；米国特許第３，１８９，６１５号明細書；米国特許第３，２１８，３３２号明細書；米国特許第３，２３０，１９４号明細書；米国特許第４，１２７，５８６号明細書；米国特許第４，２２６，７６３号明細書；米国特許第４，２７５，００４号明細書；米国特許第４，２７８，５８９号明細書；米国特許第４，３１５，８４８号明細書；米国特許第４，３４７，１８０号明細書；米国特許第４，３８３，８６３号明細書；米国特許第４，６７５，３５２号明細書；米国特許第４，６８１，９０５号明細書；米国特許第４，８５３，４７１号明細書；米国特許第５，２６８，４５０号明細書；米国特許第５，２７８，３１４号明細書；米国特許第５，２８０，１２４号明細書；米国特許第５，３１９，０９１号明細書；米国特許第５，４１０，０７１号明細書；米国特許第５，４３６，３４９号明細書；米国特許第５，５１６，９１４号明細書；米国特許第５，５５４，７６０号明細書；米国特許第５，５６３，２４２号明細書；米国特許第５，５７４，１６６号明細書；米国特許第５，６０７，９８７号明細書；米国特許第５，９７７，２１９号明細書及び米国特許第６，１６６，２１８明細書に記載されるようなベンゾトリアゾール、例えば２−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２
Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第二ブチル−５−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−第三アミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ビス−α−クミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−（(−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル−エチル）−，フェニル
）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ドデシル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニル）エチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ドデシル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス（４−第三オクチル−（６−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）フェノール）、２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第三オクチル−５−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−フルオロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、メチル３−（５−トリフルオロメチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート、５−ブチルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−ブチルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール及び５−フェニルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールである。
Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第二ブチル−５−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−第三アミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ビス−α−クミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−（(−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル−エチル）−，フェニル
）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ドデシル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニル）エチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ドデシル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス（４−第三オクチル−（６−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）フェノール）、２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第三オクチル−５−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−フルオロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、メチル３−（５−トリフルオロメチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート、５−ブチルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−ブチルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール及び５−フェニルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールである。
ヒドロキシベンゾフェノンは、商業上入手可能であり、及び例えばヒドロキシベンゾフェノンの４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−デシルオキシ、４−オクチルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体が知られている。
本発明のポリマー状基材は、例えば下記のものを含む：
１． モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンの、ポリマー、ポリエチレン（所望により架橋し得る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
ポリオレフィン、即ち前段落において例示されたモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法、そして特に下記の方法により調製されることができる：
ａ）ラジカル重合（普通、高圧下及び高温で）。
ｂ）普通、周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ族の一つ以上の金属を含有する触媒を使用する触媒重合。これらの金属は通常、典型的にはπ−又はσ−配位し得るオキシド、ハライド、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールのような一つ以上の配位子を有する。これらの金属錯体は遊離形態又は、典型的には活性化された塩化マグネシウム、塩化チタン（ＩＩＩ）、アルミナ又は酸化ケイ素のような基材上に固定され得る。これらの触媒は重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用されることができ、又は典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、該金属は周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ族の元素であるさらなる活性化剤が使用され得る。該活性化剤は、さらなるエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は通常、フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名されている。
１． モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンの、ポリマー、ポリエチレン（所望により架橋し得る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
ポリオレフィン、即ち前段落において例示されたモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法、そして特に下記の方法により調製されることができる：
ａ）ラジカル重合（普通、高圧下及び高温で）。
ｂ）普通、周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ族の一つ以上の金属を含有する触媒を使用する触媒重合。これらの金属は通常、典型的にはπ−又はσ−配位し得るオキシド、ハライド、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールのような一つ以上の配位子を有する。これらの金属錯体は遊離形態又は、典型的には活性化された塩化マグネシウム、塩化チタン（ＩＩＩ）、アルミナ又は酸化ケイ素のような基材上に固定され得る。これらの触媒は重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用されることができ、又は典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、該金属は周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ族の元素であるさらなる活性化剤が使用され得る。該活性化剤は、さらなるエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は通常、フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名されている。
２． １）で述べたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物及び異なる種類のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
３． モノオレフィン及びジオレフィンの相互又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及び低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）とのそれらの混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えば、ＣＯＣのようなエチレン／ノルボルネン）、エチレン／１−オレフィンコポリマーであって１−オレフィンがその場で生成されるもの；プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレン及び、へキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマー相互及び１）において上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互又はランダムのポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びその他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
３． モノオレフィン及びジオレフィンの相互又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及び低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）とのそれらの混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えば、ＣＯＣのようなエチレン／ノルボルネン）、エチレン／１−オレフィンコポリマーであって１−オレフィンがその場で生成されるもの；プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレン及び、へキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマー相互及び１）において上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互又はランダムのポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びその他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
４． 炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）であって、その水素化変性物（例え
ば粘着付与剤）を含むもの、及びポリアルキレンとデンプンの混合物。
１．）ないし４．）からのホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むあらゆる立体構造を有することができ；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
５． ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
ば粘着付与剤）を含むもの、及びポリアルキレンとデンプンの混合物。
１．）ないし４．）からのホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むあらゆる立体構造を有することができ；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
５． ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
６． スチレン、α−メチルスチレン、全てのビニルトルエン異性体、特にｐ−ビニルトルエン、全てのエチルスチレン、プロピルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン、及びビニルアントラセンの異性体、及びそれらの混合物を含むビニル芳香族モノマーから誘導された芳香族ホモポリマー及びコポリマー。ホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むあらゆる立体構造を有することができ；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
６ａ． 上述のビニル芳香族モノマーと、エチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、無水マレイン酸、マレイミド、酢酸ビニル及び塩化ビニルより選択されたコモノマーを含むコポリマー又はそれらのアクリル誘導体及び混合物、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチレン（インターポリマー）、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート、スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーとの高衝撃強度性の混合物；及びスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなスチレンのブロックコポリマー。
６ｂ． ６．）で述べたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー、特にアタクチックポリスチレンを水素化することにより調製されたポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）であって、しばしばポリビニルシクロヘキサン（ＰＶＣＨ）として言及されるものを含む。
６ｃ． ６ａ．）で述べたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー。
ホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むあらゆる立体構造を有することができ；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
６ａ． 上述のビニル芳香族モノマーと、エチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、無水マレイン酸、マレイミド、酢酸ビニル及び塩化ビニルより選択されたコモノマーを含むコポリマー又はそれらのアクリル誘導体及び混合物、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチレン（インターポリマー）、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート、スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーとの高衝撃強度性の混合物；及びスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなスチレンのブロックコポリマー。
６ｂ． ６．）で述べたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー、特にアタクチックポリスチレンを水素化することにより調製されたポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）であって、しばしばポリビニルシクロヘキサン（ＰＶＣＨ）として言及されるものを含む。
６ｃ． ６ａ．）で述べたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー。
ホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むあらゆる立体構造を有することができ；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
７． スチレン又はα−メチルスチレンのようなビニル芳香族モノマーのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリロニトリルのコポリマーにスチレン；ポリブタジエンにスチレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレン及びマレイン酸無水物；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及び無水マレイン酸又はマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートにスチレン及びアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並びにそれらの６）で列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ（アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン）、ＭＢＳ（メチルメタクリレート／ブタジエン／スチレン）、ＡＳＡ（アクリロニトリル／スチレン／ブチルアクリレート）又はＡＥＳポリマーとして既知であるコポリマー混合物。
８． ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化及び臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化又はスルホ塩素化ポ
リエチレン、エチレン及び塩素化エチレンのコポリマー、ＣＰＥ（塩素化ポリエチレン）、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルブチロール、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、並びに塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーのようなそれらのコポリマー。
８． ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化及び臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化又はスルホ塩素化ポ
リエチレン、エチレン及び塩素化エチレンのコポリマー、ＣＰＥ（塩素化ポリエチレン）、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルブチロール、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、並びに塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーのようなそれらのコポリマー。
９． α，β−不飽和酸から誘導されたポリマー並びにポリアクリレート及びポリメタクリレートのようなそれらの誘導体；ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリルであって、ブチルアクリレートで耐衝撃改質されたもの。
１０． ９）で述べたモノマーの相互又は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロニトリル／ビニルハライドコポリマー又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
１１． 不飽和アルコールとアミンとから誘導されたポリマー又はそれらのアシル誘導体もしくはそれらのアセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラル、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン、並びに１）において上述したオレフィンとのそれらのコポリマー。
１２． 環式エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、又はビスグリシジルエーテルとのそれらのコポリマー。
１０． ９）で述べたモノマーの相互又は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロニトリル／ビニルハライドコポリマー又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
１１． 不飽和アルコールとアミンとから誘導されたポリマー又はそれらのアシル誘導体もしくはそれらのアセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラル、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン、並びに１）において上述したオレフィンとのそれらのコポリマー。
１２． 環式エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、又はビスグリシジルエーテルとのそれらのコポリマー。
１３． ポリオキシメチレン及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含有するポリオキシメチレンのようなポリアセタール、熱可塑性ポリウレタン、アクリレート又はＭＢＳで変性されたポリアセタール。
１４． ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、及びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマー又はポリアミドとの混合物。
１５． 一方の成分としてのヒドロキシル末端のポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジエンと、他方の成分としての脂肪族又は芳香族ポリイソシアナートとから誘導されたポリウレタン、並びにそれらの前駆体。
１６． ジアミシとジカルボン酸とから及び／又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から出発した芳香族ポリアミド；へキサメチレンジアミン及びイソフタル酸又は／及びテレフタル酸から変性剤としてのエラストマーを伴って又は伴わずに調製されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；及びまた上述されたポリアミドと、ポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は化学的に結合もしくはグラフト化したエラストマーとの、又はポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー、並びにＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又はコポリアミド、及び加工の間に縮合したポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
１４． ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、及びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマー又はポリアミドとの混合物。
１５． 一方の成分としてのヒドロキシル末端のポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジエンと、他方の成分としての脂肪族又は芳香族ポリイソシアナートとから誘導されたポリウレタン、並びにそれらの前駆体。
１６． ジアミシとジカルボン酸とから及び／又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から出発した芳香族ポリアミド；へキサメチレンジアミン及びイソフタル酸又は／及びテレフタル酸から変性剤としてのエラストマーを伴って又は伴わずに調製されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；及びまた上述されたポリアミドと、ポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は化学的に結合もしくはグラフト化したエラストマーとの、又はポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー、並びにＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又はコポリアミド、及び加工の間に縮合したポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
１７． ポリ尿素、ポリイミド、ボリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンゾイミダゾール。
１８． ジカルボン酸とジオールとから及び／又はヒドロキシカルボン酸又は対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート（ＰＡＮ）及びポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル末
端のポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル、及びまたポリカーボネート又はＭＢＳで変性したポリエステル。
１９． ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。
２０． ポリケトン。
２１． ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。
２２． 一方の成分としてアルデヒドと、他方の成分としてフェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
２３． 乾式及び非乾式アルキド樹脂。
１８． ジカルボン酸とジオールとから及び／又はヒドロキシカルボン酸又は対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート（ＰＡＮ）及びポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル末
端のポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル、及びまたポリカーボネート又はＭＢＳで変性したポリエステル。
１９． ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。
２０． ポリケトン。
２１． ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。
２２． 一方の成分としてアルデヒドと、他方の成分としてフェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
２３． 乾式及び非乾式アルキド樹脂。
２４． 架橋剤としての多価アルコール及びビニル化合物と共に飽和及び不飽和ジカルボン酸のコポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂、及びまた低燃性のそれらのハロゲン含有改質物。
２５． 置換アクリレートから誘導された架橋可能なアクリル樹脂、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリレート。
２６． メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネート又はエポキシ樹脂と架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
２７．脂肪族、環式脂肪族、ヘテロ環式又は芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例えば、ビスフェノールＡ及びビスフェノールＦのジグリシジルエーテルの生成物であって、無水物又はアミンのような慣用の硬化剤と促進剤を伴って又は伴わずに架橋されたもの。
２５． 置換アクリレートから誘導された架橋可能なアクリル樹脂、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリレート。
２６． メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネート又はエポキシ樹脂と架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
２７．脂肪族、環式脂肪族、ヘテロ環式又は芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例えば、ビスフェノールＡ及びビスフェノールＦのジグリシジルエーテルの生成物であって、無水物又はアミンのような慣用の硬化剤と促進剤を伴って又は伴わずに架橋されたもの。
２８． セルロース、ゴム、ゼラチンのような天然ポリマー、及びその化学変性された類似誘導体、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート及びセルロースブチレート、又はメチルセルロースのようなセルロースエーテル、並びにロジン及びそれらの誘導体。
２９． 上述したポリマーのブレンド（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＡＳＡ／ＰＶＣ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
２９． 上述したポリマーのブレンド（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＡＳＡ／ＰＶＣ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
本発明のポリマー状基材は、例えば成形品、回転成形品、射出成形品、吹込成形品、フィルム、テープ、モノフィラメント、繊維、不織布、形材、接着剤又はパテ、表面コーティングなどにおいて使用される。例えば、本発明のＰＶＣ用途は、屋根材及び羽目板のような建築品に用いられる。本発明のポリマー状基材は、自動車のウィンドシールド、他の自動車のガラスにおける、並びに家及びオフィスの窓におけるポリマーフィルムに使用される。
本発明の安定化組成物は、所望により他の慣用の安定剤もまた含み得る。例えば、本発明の組成物は、約０．０１ないし約５質量％、好ましくは約０．０２５ないし約２質量％、及び特に約０．１ないし約１質量％の、以下に列挙される物質のような様々な慣用の添加剤、又はそれらの混合物を含有し得る。
１．酸化防止剤
１．１．アルキル化モノフェノール、例えば、２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−エチ
ルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直鎖状または側鎖で分岐鎖状であるノニルフェノール、例えば、２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルウンデシ−１−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルヘプタデシ−１−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルトリデシ−１−イル）フェノールおよびそれらの混合物。
１．２．アルキルチオメチルフェノール、例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
１．３．ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、例えば、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
１．１．アルキル化モノフェノール、例えば、２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−エチ
ルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直鎖状または側鎖で分岐鎖状であるノニルフェノール、例えば、２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルウンデシ−１−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルヘプタデシ−１−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルトリデシ−１−イル）フェノールおよびそれらの混合物。
１．２．アルキルチオメチルフェノール、例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
１．３．ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、例えば、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
１．４．トコフェロール、例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）。
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
１．６．アルキリデンビスフェノール、例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三
ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
１．６．アルキリデンビスフェノール、例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三
ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
１．７．ベンジル化合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、１，３，５−トリ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ジ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプト−酢酸イソオクチルエステル、ビス−（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオールテレフタレート、１，３，５−トリス−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス−（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−リン酸ジオクタデシルエステル及び３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−リン酸モノエチルエステル、カルシウム塩。
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
１．１０．トリアジン化合物、例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
１．１１．ベンジルホスホネート、例えば、ジメチル−２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
１．１２．アシルアミノフェノール、例えば、４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジン及びオクチル−Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。
１．１１．ベンジルホスホネート、例えば、ジメチル−２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
１．１２．アシルアミノフェノール、例えば、４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジン及びオクチル−Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。
１．１３．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル、アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル、アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル、アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１５．β−（３，５−ジシクロシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル、アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１６．３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル、アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１７．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド〔ユニロイヤル（Ｕｎｉｒｏｙａｌ）社から提供されるナウガード（登録商標：Ｎａｕｇａｒｄ） ＸＬ−１〕。
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
１．１６．３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル、アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１７．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド〔ユニロイヤル（Ｕｎｉｒｏｙａｌ）社から提供されるナウガード（登録商標：Ｎａｕｇａｒｄ） ＸＬ−１〕。
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
１．１９．アミン系酸化防止剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチ
ルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。
ルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。
２．ＵＶ吸収剤および光安定剤
２．１．置換および非置換安息香酸のエステル、例えば、４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
２．２．アクリレートおよびマロネート、例えば、α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エチルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステルまたはブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチル−インドリン、サンデュボア（登録商標：Ｓａｎｄｕｖｏｒ）ＰＲ２５、ジメチルｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ番号７４４３−２５−６）、及びサンデュボア（登録商標：Ｓａｎｄｕｖｏｒ）ＰＲ３１、ジ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジニ−４−イル）ｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ番号１４７７８３−６９−５）。
２．３．ニッケル化合物、例えば、２，２’−チオビス［４−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような付加的な配位子を伴うものまたは伴わないもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート；モノアルキルエステル、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルホスホン酸のメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩；ケトキシム、例えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、付加的な配位子を伴うものまたは伴わないもの。
２．１．置換および非置換安息香酸のエステル、例えば、４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
２．２．アクリレートおよびマロネート、例えば、α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エチルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステルまたはブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチル−インドリン、サンデュボア（登録商標：Ｓａｎｄｕｖｏｒ）ＰＲ２５、ジメチルｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ番号７４４３−２５−６）、及びサンデュボア（登録商標：Ｓａｎｄｕｖｏｒ）ＰＲ３１、ジ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジニ−４−イル）ｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ番号１４７７８３−６９−５）。
２．３．ニッケル化合物、例えば、２，２’−チオビス［４−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような付加的な配位子を伴うものまたは伴わないもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート；モノアルキルエステル、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルホスホン酸のメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩；ケトキシム、例えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、付加的な配位子を伴うものまたは伴わないもの。
２．４．立体障害性アミン、例えば、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−アリル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−ベンジル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの線状または環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの線状または環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピヘリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−と４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペラジンとの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンおよび２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合物（ＣＡＳ登録番号〔１３６５０４−９６−６〕）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン
、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、無水マレイン酸−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジンまたは１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、無水マレイン酸−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジンまたは１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
立体障害性アミンは、関連した部分が参照することによりここに組み込まれる、米国特許第５，９８０，７８３号明細書に記載される化合物の１つであり得、すなわち成分Ｉ−ａ）、Ｉ−ｂ）、Ｉ−ｃ）、Ｉ−ｄ）、Ｉ−ｅ）、Ｉ−ｆ）、Ｉ−ｇ）、Ｉ−ｈ）、Ｉ−ｉ）、Ｉ−ｊ）、Ｉ−ｋ）又はＩ−ｌ）の化合物、特に前記米国特許第５，９８０，７８３号明細書の６４ないし７２欄に記載される光安定剤１−ａ−１、１−ａ−２、１−ｂ−１、１−ｃ−１、１−ｃ−２、１−ｄ−１、１−ｄ−２、１−ｄ−３、１−ｅ−１、１−ｆ−１、１−ｇ−１、１−ｇ−２又は１−ｋ−１である。
立体障害性アミンは、欧州特許第７８２９９４号明細書に記載される化合物の１つ、例えばその請求項１０もしくは３８、又は実施例１−１２もしくはＤ−１ないしＤ−５に記載されるような化合物でもあり得る。
立体障害性アミンは、欧州特許第７８２９９４号明細書に記載される化合物の１つ、例えばその請求項１０もしくは３８、又は実施例１−１２もしくはＤ−１ないしＤ−５に記載されるような化合物でもあり得る。
２．５．ヒドロキシ置換されたアルコキシ基によってＮ原子上で置換された立体障害性アミン、例えば１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクタデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヘキサデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−オキシル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとｔ−アミルアルコールからの炭素ラジカルとの反応生成物、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）セバケート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペラジニ−４−イル）アジペート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペラジニ−４−イル）スクシネート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペラジニ−４−イル）グルタレート及び２，４−ビス[
Ｎ−[１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチル
ピペラジニ−４−イル]−Ｎ−ブチルアミノ]−６−（２−ヒドロキシエチルアミノ）−ｓ−トリアジンのような化合物。
２．６．オキサミド、例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物ならびにｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
Ｎ−[１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチル
ピペラジニ−４−イル]−Ｎ−ブチルアミノ]−６−（２−ヒドロキシエチルアミノ）−ｓ−トリアジンのような化合物。
２．６．オキサミド、例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物ならびにｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
２．７．トリス−アリール−ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン、例えば既知である市販のトリス−アリール−ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン及び国際公開第９
６／２８４３１号パンフレット及び米国特許第３，８４３，３７１号明細書；米国特許第４，６１９，９５６号明細書；米国特許第４，７４０，５４２号明細書；米国特許第５，０９６，４８９号明細書；米国特許第５，１０６，８９１号明細書；米国特許第５，２９８，０６７号明細書；米国特許第５，３００，４１４号明細書；米国特許第５，３５４，７９４号明細書；米国特許第５，４６１，１５１号明細書；米国特許第５，４７６，９３７号明細書；米国特許第５，４８９，５０３号明細書；米国特許第５，５４３，５１８号明細書；米国特許第５，５５６，９７３号明細書；米国特許第５，５９７，８５４号明細書；米国特許第５，６８１，９５５号明細書；米国特許第５，７２６，３０９号明細書；米国特許第５，７３６，５９７号明細書；米国特許第５，９４２，６２６号明細書；米国特許第５，９５９，００８号明細書；米国特許第５，９９８，１１６号明細書；米国特許第６，０１３，７０４号明細書；米国特許第６，０６０，５４３号明細書；米国特許第６，１８７，９１９号明細書；米国特許第６，２４２，５９８号明細書及び米国特許第６，２５５，４８３号明細書において開示されるようなトリアジン、例えば４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、サイテック社（Ｃｙｔｅｃ Ｃｏｒｐ）のシアソルブ（登録商標：Ｃｙａｓｏｒｂ）１１６４、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−ブロモフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（４−ビフェニリル）−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシカルボニルエチリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４−［２−ヒドロキシ−４−（３−第二ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−第二アミルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ｎ−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ジ−ｎ−ブチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ノニルオキシ＊−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン（＊はオクチルオキシ基、ノニルオキシ基およびデシルオキシ基の混合物を示す）、メチレンビス−｛２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン｝、５：４：１の比で３：５’、５：５’及び３：３’位において架橋したメチレン架橋二量体混合物、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシカルボニルイソプロピリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−５−−クミルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，６−ビス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−第二ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンと４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンの混合物、チバスペシャルティケミカルズ社製チヌビン（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）４００、４
，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンおよび４，６−ジフェニル−２−（４−ヘキシルオキシ−２−ヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン。
６／２８４３１号パンフレット及び米国特許第３，８４３，３７１号明細書；米国特許第４，６１９，９５６号明細書；米国特許第４，７４０，５４２号明細書；米国特許第５，０９６，４８９号明細書；米国特許第５，１０６，８９１号明細書；米国特許第５，２９８，０６７号明細書；米国特許第５，３００，４１４号明細書；米国特許第５，３５４，７９４号明細書；米国特許第５，４６１，１５１号明細書；米国特許第５，４７６，９３７号明細書；米国特許第５，４８９，５０３号明細書；米国特許第５，５４３，５１８号明細書；米国特許第５，５５６，９７３号明細書；米国特許第５，５９７，８５４号明細書；米国特許第５，６８１，９５５号明細書；米国特許第５，７２６，３０９号明細書；米国特許第５，７３６，５９７号明細書；米国特許第５，９４２，６２６号明細書；米国特許第５，９５９，００８号明細書；米国特許第５，９９８，１１６号明細書；米国特許第６，０１３，７０４号明細書；米国特許第６，０６０，５４３号明細書；米国特許第６，１８７，９１９号明細書；米国特許第６，２４２，５９８号明細書及び米国特許第６，２５５，４８３号明細書において開示されるようなトリアジン、例えば４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、サイテック社（Ｃｙｔｅｃ Ｃｏｒｐ）のシアソルブ（登録商標：Ｃｙａｓｏｒｂ）１１６４、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−ブロモフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（４−ビフェニリル）−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシカルボニルエチリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４−［２−ヒドロキシ−４−（３−第二ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−第二アミルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ｎ−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ジ−ｎ−ブチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ノニルオキシ＊−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン（＊はオクチルオキシ基、ノニルオキシ基およびデシルオキシ基の混合物を示す）、メチレンビス−｛２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン｝、５：４：１の比で３：５’、５：５’及び３：３’位において架橋したメチレン架橋二量体混合物、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシカルボニルイソプロピリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−５−−クミルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，６−ビス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−第二ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンと４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンの混合物、チバスペシャルティケミカルズ社製チヌビン（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）４００、４
，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンおよび４，６−ジフェニル−２−（４−ヘキシルオキシ−２−ヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン。
３．金属奪活剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
４．ホスフィットおよびホスホナイト、例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−ジベンゾ［ｄ，ｆ］−[１
，３，２]−ジオキサホスフェピン（６−ｉｓｏｏｃｔｙｌｏｘｙ−２，４，８，１０−
ｔｅｔｒａ−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌ−ｄｉｂｅｎｚｏ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ｄｉｏｘａｐｈｏｓｐｈｅｐｉｎ）、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］[１，３，２]ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。
，３，２]−ジオキサホスフェピン（６−ｉｓｏｏｃｔｙｌｏｘｙ−２，４，８，１０−
ｔｅｔｒａ−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌ−ｄｉｂｅｎｚｏ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ｄｉｏｘａｐｈｏｓｐｈｅｐｉｎ）、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］[１，３，２]ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。
下記のホスフィットは特に好ましい：
トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット〔イルガフォス（登録商標：Ｉｒｇａｆｏｓ） １６８，チバスペシャルティケミカルズ社製〕、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット〔イルガフォス（登録商標：Ｉｒｇａｆｏｓ） １６８，チバスペシャルティケミカルズ社製〕、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
５．ヒドロキシルアミン、例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン及び水素添加された牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
６．ニトロン、例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、Ｎ−メチル−α−ヘプタデシルニトロン及び水素添加された牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
７．アミンオキシド、例えば、米国特許第５，８４４，０２９号明細書及び米国特許第５，８８０，１９１号明細書に記載されたアミンオキシド誘導体、ジデシルメチルアミンオキシド、トリデシルアミンオキシド、トリドデシルアミンオキシド及びトリヘキサデシルアミンオキシド。
６．ニトロン、例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、Ｎ−メチル−α−ヘプタデシルニトロン及び水素添加された牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
７．アミンオキシド、例えば、米国特許第５，８４４，０２９号明細書及び米国特許第５，８８０，１９１号明細書に記載されたアミンオキシド誘導体、ジデシルメチルアミンオキシド、トリデシルアミンオキシド、トリドデシルアミンオキシド及びトリヘキサデシルアミンオキシド。
８．ベンゾフラノン及びインドリノン、例えば、例えば、米国特許第４，３２５，８６３号明細書：米国特許第４，３３８，２４４号明細書、米国特許第５，１７５，３１２号明細書、米国特許第５，２１６，０５２号明細書、米国特許第５，２５２，６４３号明細書、独国特許出願公開第４３１６６１１号明細書、独国特許出願公開第４３１６６２２号明細書、独国特許出願公開第４３１６８７６号明細書、欧州特許出願公開第０５８９８３９明細書または欧州特許出願公開第０５９１１０２明細書に開示されたもの、或いは３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル
］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、イルガノックス（登録商標：Ｉｒｇａｎｏｘ）ＨＰ−１３６，チベスペシャルティケミカルズ社製、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラノ−２−オン。
９．チオ相乗剤、例えば、ジラウリルチオジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネート。
１０．過酸化物スカベンジャー、例えば、β−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、イルガノックス（登録商標：Ｉｒｇａｎｏｘ）ＨＰ−１３６，チベスペシャルティケミカルズ社製、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラノ−２−オン。
９．チオ相乗剤、例えば、ジラウリルチオジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネート。
１０．過酸化物スカベンジャー、例えば、β−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
１１．ポリアミド安定剤、例えば、ヨウ化物および／または燐化合物と組み合わせた銅塩および二価マンガン塩。
１２．塩基性補助安定剤、例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレエートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレートまたは亜鉛ピロカテコレート。
１３．核剤、例えば、無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例えば、二酸化チタンまたは酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩または硫酸塩；有機化合物、例えば、モノ−またはポリカルボン酸およびその塩、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウムまたは安息香酸ナトリウム；ポリマー状化合物、例えばイオン性コポリマー（イオノマー）。
１２．塩基性補助安定剤、例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレエートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレートまたは亜鉛ピロカテコレート。
１３．核剤、例えば、無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例えば、二酸化チタンまたは酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩または硫酸塩；有機化合物、例えば、モノ−またはポリカルボン酸およびその塩、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウムまたは安息香酸ナトリウム；ポリマー状化合物、例えばイオン性コポリマー（イオノマー）。
１４．充填剤および強化剤、例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、黒鉛、木材粉末、および他の天然物の粉末または繊維、合成繊維。
１５．分散剤、例えば、ポリエチレンオキシドのワックス又は鉱油。
１６．その他の添加剤、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、染料、蛍光増白剤、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、スリップ剤、架橋剤、架橋促進剤（ｃｒｏｓｓｌｉｎｋｉｎｇ ｂｏｏｓｔｅｒｓ）、ハロゲンスカベンジャー、煙抑制剤（ｓｍｏｋｅ ｉｎｈｉｂｉｔｏｒｓ）、防炎加工剤、帯電防止剤、置換された及び置換されてないビスベンジリデンソルビトールのような透明剤、２，２’−ｐ−フェニレン−ビス（３，１−ベンゾキサジノ−４−オン）のようなベンゾキサジン紫外線吸収剤、シアソルブ（登録商標：Ｃｙａｓｏｒｂ）３６３８（ＣＡＳ番号１８６００−５９−４）、および発泡剤。
１５．分散剤、例えば、ポリエチレンオキシドのワックス又は鉱油。
１６．その他の添加剤、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、染料、蛍光増白剤、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、スリップ剤、架橋剤、架橋促進剤（ｃｒｏｓｓｌｉｎｋｉｎｇ ｂｏｏｓｔｅｒｓ）、ハロゲンスカベンジャー、煙抑制剤（ｓｍｏｋｅ ｉｎｈｉｂｉｔｏｒｓ）、防炎加工剤、帯電防止剤、置換された及び置換されてないビスベンジリデンソルビトールのような透明剤、２，２’−ｐ−フェニレン−ビス（３，１−ベンゾキサジノ−４−オン）のようなベンゾキサジン紫外線吸収剤、シアソルブ（登録商標：Ｃｙａｓｏｒｂ）３６３８（ＣＡＳ番号１８６００−５９−４）、および発泡剤。
本発明の紫外線吸収添加剤及び所望な更なる成分は、単独で又は互いに混合してポリマー状基材に添加され得る。必要に応じて、個々の成分は、ポリマー状基材に配合前に、例えばドライブレンディング、圧縮によって又は融解状態において互いに混合され得る。
本発明の紫外線吸収添加剤及び所望な更なる成分のポリマー状基材への配合は、粉末の形態におけるドライブレンディング、又は例えば不活性溶媒、水又は油における溶液、分散液又は懸濁液の形態での湿式混合のような既知の方法によって行われる。本発明の添加剤及び所望な更なる添加剤は、例えば成形前後に、又は続いて起こる溶媒又は懸濁／分散
剤の蒸発を伴い又は伴わないで、溶解したもしくは分散した添加剤又は添加剤混合物を塗布することによってもポリマー状基材に配合され得る。それらは、加工機器（例えば、押出機、密閉式ミキサー等）に、例えば乾燥混合物もしくは粉末として又は溶液もしくは分散液もしくは懸濁液もしくは溶融液として直接加えられ得る。
配合は、攪拌器を備えるあらゆる加熱可能な容器で、例えばニーダー、ミキサー又は攪拌容器のような密閉機器で行われ得る。配合は、好ましくは押出機において又はニーダーにおいて行われる。加工を不活性雰囲気下で又は酸素存在下で行うかは重要でない。
ポリマー状基材への添加剤又は添加剤ブレンドの添加は、ポリマーが添加剤とともに融解及び混合される全ての慣用の混合機において行われ得る。適する機械は、当業者に知られている。それらは、主にミキサー、ニーダー及び押出機である。
本発明の紫外線吸収添加剤及び所望な更なる成分のポリマー状基材への配合は、粉末の形態におけるドライブレンディング、又は例えば不活性溶媒、水又は油における溶液、分散液又は懸濁液の形態での湿式混合のような既知の方法によって行われる。本発明の添加剤及び所望な更なる添加剤は、例えば成形前後に、又は続いて起こる溶媒又は懸濁／分散
剤の蒸発を伴い又は伴わないで、溶解したもしくは分散した添加剤又は添加剤混合物を塗布することによってもポリマー状基材に配合され得る。それらは、加工機器（例えば、押出機、密閉式ミキサー等）に、例えば乾燥混合物もしくは粉末として又は溶液もしくは分散液もしくは懸濁液もしくは溶融液として直接加えられ得る。
配合は、攪拌器を備えるあらゆる加熱可能な容器で、例えばニーダー、ミキサー又は攪拌容器のような密閉機器で行われ得る。配合は、好ましくは押出機において又はニーダーにおいて行われる。加工を不活性雰囲気下で又は酸素存在下で行うかは重要でない。
ポリマー状基材への添加剤又は添加剤ブレンドの添加は、ポリマーが添加剤とともに融解及び混合される全ての慣用の混合機において行われ得る。適する機械は、当業者に知られている。それらは、主にミキサー、ニーダー及び押出機である。
前記プロセスは、好ましくは加工の間に添加剤を投入することにより押出機において行われる。
特に好ましい加工機械は、一軸スクリュー押出機、反転及び共回転二軸スクリュー押出機、遊星歯車押出機、リング押出機（ｒｉｎｇ ｅｘｔｒｕｄｅｒ）又はコニーダーである。減圧を適用し得る少なくとも１種のガス除去室が備わっている加工機械を使用することも可能である。
適する押出機及びニーダーは、例えば、Ｈａｎｄｂｕｃｈ ｄｅｒ Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅｘｔｒｕｓｉｏｎ，第１巻 Ｇｒｕｎｄｌａｇｅｎ，Ｆ．Ｈｅｎｓｅｎ，Ｗ．Ｋｎａｐｐｅ，Ｈ．Ｐｏｔｅｎｔｅ編，１９８９、３−７頁，ＩＳＢＮ：３−４４６−１４３３９−４（第２巻 Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎｓａｎｌａｇｅｎ １９８６，ＩＳＢＮ ３−４４６−１４３２９−７）に記載される。
例えば、スクリューの長さは、１ないし６０スクリュー直径、好ましくは３５ないし４８スクリュー直径である。スクリューの回転速度は、好ましくは１分間あたり１０ないし６００回転（ｒｐｍ）、極めて特に好ましいのは２ないし３００ｒｐｍである。
最大処理量は、スクリュー直径、回転速度及び駆動力によって決まる。本発明の方法は、上記のパラメータを変えること又は投与量を供給する計量器を使用することによって最大処理量より低いレベルでも行われ得る。
特に好ましい加工機械は、一軸スクリュー押出機、反転及び共回転二軸スクリュー押出機、遊星歯車押出機、リング押出機（ｒｉｎｇ ｅｘｔｒｕｄｅｒ）又はコニーダーである。減圧を適用し得る少なくとも１種のガス除去室が備わっている加工機械を使用することも可能である。
適する押出機及びニーダーは、例えば、Ｈａｎｄｂｕｃｈ ｄｅｒ Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅｘｔｒｕｓｉｏｎ，第１巻 Ｇｒｕｎｄｌａｇｅｎ，Ｆ．Ｈｅｎｓｅｎ，Ｗ．Ｋｎａｐｐｅ，Ｈ．Ｐｏｔｅｎｔｅ編，１９８９、３−７頁，ＩＳＢＮ：３−４４６−１４３３９−４（第２巻 Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎｓａｎｌａｇｅｎ １９８６，ＩＳＢＮ ３−４４６−１４３２９−７）に記載される。
例えば、スクリューの長さは、１ないし６０スクリュー直径、好ましくは３５ないし４８スクリュー直径である。スクリューの回転速度は、好ましくは１分間あたり１０ないし６００回転（ｒｐｍ）、極めて特に好ましいのは２ないし３００ｒｐｍである。
最大処理量は、スクリュー直径、回転速度及び駆動力によって決まる。本発明の方法は、上記のパラメータを変えること又は投与量を供給する計量器を使用することによって最大処理量より低いレベルでも行われ得る。
複数の成分が添加される場合、それらは予備混合され得るか又は単独で添加され得る。
本発明の添加剤及び所望な更なる添加剤は、またポリマー状基材上に噴霧され得る。それらは他の添加剤（例えば、上記した慣用の添加剤）又はそれらの溶融物を希釈し得、そのためそれらは前記基材上に該添加剤とともに噴霧され得る。重合触媒の失活の間の噴霧による添加は、特に都合が良い；この場合、発生した蒸気が触媒の失活に使用し得る。球状に重合したポリオレフィンの場合、例えば本発明の添加剤を、所望により他の添加剤とともに、噴霧によって塗布することが有利であり得る。
本発明の添加剤及び所望な更なる添加剤はまた、ポリマーキャリアに配合された、例えば約１質量％ないし約４０質量％及び好ましくは２質量％ないし約２０質量％の濃度で成分を含有するマスターバッチ（“濃縮物”）の形態でポリマー状基材に添加し得る。ポリマーキャリアは、添加剤が最後に加えられるポリマー状基材と同一構造である必要はない。そのような操作において、ポリマーキャリアは、粉末、顆粒、溶液、懸濁液の形態で又はラテックスの形態で使用され得る。
配合は、造形操作の前又は間に、又は続いて起こる溶媒の蒸発を伴い又は伴わないで、ポリマー状基材に溶解又は分散された化合物を塗布することによって行われ得る。エラストマーの場合、それらはまたラテックスとして安定化され得る。ポリマー状基材への本発明の添加剤の配合に対する更なる可能性は、それらを相当するモノマーの重合前、重合中又は重合後に直接、又は架橋前に添加することである。これに関連して、本発明の添加剤はそのまま、あるいは封入形態（例えば、ワックス、油又はポリマーに）で添加され得る。
本発明の添加剤及び所望な更なる添加剤は、またポリマー状基材上に噴霧され得る。それらは他の添加剤（例えば、上記した慣用の添加剤）又はそれらの溶融物を希釈し得、そのためそれらは前記基材上に該添加剤とともに噴霧され得る。重合触媒の失活の間の噴霧による添加は、特に都合が良い；この場合、発生した蒸気が触媒の失活に使用し得る。球状に重合したポリオレフィンの場合、例えば本発明の添加剤を、所望により他の添加剤とともに、噴霧によって塗布することが有利であり得る。
本発明の添加剤及び所望な更なる添加剤はまた、ポリマーキャリアに配合された、例えば約１質量％ないし約４０質量％及び好ましくは２質量％ないし約２０質量％の濃度で成分を含有するマスターバッチ（“濃縮物”）の形態でポリマー状基材に添加し得る。ポリマーキャリアは、添加剤が最後に加えられるポリマー状基材と同一構造である必要はない。そのような操作において、ポリマーキャリアは、粉末、顆粒、溶液、懸濁液の形態で又はラテックスの形態で使用され得る。
配合は、造形操作の前又は間に、又は続いて起こる溶媒の蒸発を伴い又は伴わないで、ポリマー状基材に溶解又は分散された化合物を塗布することによって行われ得る。エラストマーの場合、それらはまたラテックスとして安定化され得る。ポリマー状基材への本発明の添加剤の配合に対する更なる可能性は、それらを相当するモノマーの重合前、重合中又は重合後に直接、又は架橋前に添加することである。これに関連して、本発明の添加剤はそのまま、あるいは封入形態（例えば、ワックス、油又はポリマーに）で添加され得る。
本発明はまた、熱、光及び酸素の有害作用に対してポリマー状基材を安定化するための方法を包含し、
該方法は、有効安定化量の、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とヒドロキシベンゾフェノンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物との約４：１ないし約１：４の質量：質量比での紫外線吸収剤混合物を該基材に配合すること又は該基材に塗布することを含む。
例えば、本発明は熱、光又は酸素の有害作用に対してポリマー状基材を安定化するための方法を包含し、
該方法は、有効安定化量の、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンとの約４：１ないし約１：４の質量：質量比での紫外線吸収剤混合物を該基材に配合すること又は該基材に塗布することを含む。
例えば、紫外線吸収剤は、ポリマー状基材に単独で又はブレンドとして配合される。
本発明の他の態様において、紫外線吸収剤はマスターバッチの形態でポリマー状基材に配合される。
下記の実施例は、本発明を更に説明する。
該方法は、有効安定化量の、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とヒドロキシベンゾフェノンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物との約４：１ないし約１：４の質量：質量比での紫外線吸収剤混合物を該基材に配合すること又は該基材に塗布することを含む。
例えば、本発明は熱、光又は酸素の有害作用に対してポリマー状基材を安定化するための方法を包含し、
該方法は、有効安定化量の、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンとの約４：１ないし約１：４の質量：質量比での紫外線吸収剤混合物を該基材に配合すること又は該基材に塗布することを含む。
例えば、紫外線吸収剤は、ポリマー状基材に単独で又はブレンドとして配合される。
本発明の他の態様において、紫外線吸収剤はマスターバッチの形態でポリマー状基材に配合される。
下記の実施例は、本発明を更に説明する。
２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（ＢＺＴ）及び２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン（ＢＰ）を、１：１、２：１及び１：２の質量：質量比で配合した。その安定剤ブレンドを、１．０％、０．５％及び０．２５％の総装填レベルで透明及びＴｉＯ2充填軟質フィルムに配合した。対照フィルム
は安定剤を含まなかった。伸び強度保持率（Ｐｅｒｃｅｎｔ ｒｅｔｅｎｔｉｏｎ ｏｆ
ｅｌｏｎｇａｔｉｏｎ ｓｔｒｅｎｇｔｈ）を、２５００時間又は５０００時間のウェザロメーター暴露後に記録した。
ウェザロメーター条件：キセノン番号Ｅ：６３℃での一般的な乾燥−ブラックパネル温度＝６３℃Ｌｉｇｈｔ；放射照度、Ｗ／ｍ２＝０．３５Ｌｉｇｈｔ；湿球温度降下（Ｗｅｔ ｂｕｌｂ ｄｅｐｒｅｓｓｉｏｎ）＝１４℃Ｌｉｇｈｔ；水＝４０℃Ｌｉｇｈｔ、ＣＡＭ番号７／ＡＳＴＭ Ｇ２６／試験法Ａサイクル：１０２分間Ｌｉｇｈｔ、１６分間Ｌｉｇｈｔ及び水噴霧；フィルタ：ボロシリケート（Ｂｏｒｏｓｉｌｉｃａｔｅ）／ホウケイ酸塩。
は安定剤を含まなかった。伸び強度保持率（Ｐｅｒｃｅｎｔ ｒｅｔｅｎｔｉｏｎ ｏｆ
ｅｌｏｎｇａｔｉｏｎ ｓｔｒｅｎｇｔｈ）を、２５００時間又は５０００時間のウェザロメーター暴露後に記録した。
ウェザロメーター条件：キセノン番号Ｅ：６３℃での一般的な乾燥−ブラックパネル温度＝６３℃Ｌｉｇｈｔ；放射照度、Ｗ／ｍ２＝０．３５Ｌｉｇｈｔ；湿球温度降下（Ｗｅｔ ｂｕｌｂ ｄｅｐｒｅｓｓｉｏｎ）＝１４℃Ｌｉｇｈｔ；水＝４０℃Ｌｉｇｈｔ、ＣＡＭ番号７／ＡＳＴＭ Ｇ２６／試験法Ａサイクル：１０２分間Ｌｉｇｈｔ、１６分間Ｌｉｇｈｔ及び水噴霧；フィルタ：ボロシリケート（Ｂｏｒｏｓｉｌｉｃａｔｅ）／ホウケイ酸塩。
本発明の安定剤混合物は、ＰＶＣの相乗的安定化を与える。
本発明の安定剤混合物は、ＰＶＣ試料に対し、より低い黄変も与える。すなわち、ＰＶＣ試料におけるＤＥ（デルタＥ）によって測定された、より低い色成形を与える。本発明の安定剤混合物で与えられる安定化は、ＤＥによって測定された通り相乗的でもある。
本発明の安定剤混合物は、ＰＶＣ試料に対し、より低い黄変も与える。すなわち、ＰＶＣ試料におけるＤＥ（デルタＥ）によって測定された、より低い色成形を与える。本発明の安定剤混合物で与えられる安定化は、ＤＥによって測定された通り相乗的でもある。
Claims (4)
- ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／塩化ビニリデンもしくは塩化ビニル／酢酸ビニルのコポリマー、又はＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＡＳＡ／ＰＶＣ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＶＣ／ＣＰＥ又はＰＶＣ／アクリレートのブレンドから選択されるポリマー状基材及び
該基材に配合された、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンとの２：１乃至１：２の質量：質量比での紫外線吸収剤混合物を含み、
該紫外線吸収剤混合物が、前記ポリマー状基材の質量に基づき、０．２５質量％乃至１．０質量％の量で存在するポリマー組成物。 - 前記ポリマー状基材がポリ塩化ビニルであり、前記紫外線吸収剤混合物が１：１の質量：質量比にある請求項１記載のポリマー組成物。
- ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／塩化ビニリデンもしくは塩化ビニル／酢酸ビニルのコポリマー、又はＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＡＳＡ／ＰＶＣ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＶＣ／ＣＰＥ又はＰＶＣ／アクリレートのブレンドから選択されるポリマー状基材の安定化方法であって、
２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンとの２：１乃至１：２の質量：質量比での紫外線吸収剤混合物を、前記ポリマー状基材の質量に基づき、０．２５質量％乃至１．０質量％の量で該基材に配合することを含む方法。 - 前記紫外線吸収剤が、マスターバッチの形態でポリマー状基材に配合される請求項３記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US63321904P | 2004-12-03 | 2004-12-03 | |
| US60/633,219 | 2004-12-03 | ||
| PCT/EP2005/056167 WO2006058856A1 (en) | 2004-12-03 | 2005-11-23 | Ultraviolet light absorber stabilizer combination |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008521987A JP2008521987A (ja) | 2008-06-26 |
| JP2008521987A5 JP2008521987A5 (ja) | 2009-01-08 |
| JP5153339B2 true JP5153339B2 (ja) | 2013-02-27 |
Family
ID=35536372
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007543830A Expired - Fee Related JP5153339B2 (ja) | 2004-12-03 | 2005-11-23 | 紫外線吸収安定剤の組合せ |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20060122293A1 (ja) |
| EP (1) | EP1817369B1 (ja) |
| JP (1) | JP5153339B2 (ja) |
| CN (1) | CN101068869B (ja) |
| AT (1) | ATE443735T1 (ja) |
| CA (1) | CA2587254A1 (ja) |
| DE (1) | DE602005016834D1 (ja) |
| ES (1) | ES2331197T3 (ja) |
| TW (1) | TWI395779B (ja) |
| WO (1) | WO2006058856A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100180942A1 (en) * | 2009-01-22 | 2010-07-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Poly(vinyl butyral) encapsulant comprising hindered amines for solar cell modules |
| CN101805458B (zh) * | 2010-04-07 | 2012-02-08 | 天津力生化工有限公司 | 乳液型复合抗氧剂的制备方法 |
| CN102952348A (zh) * | 2011-08-22 | 2013-03-06 | 爱康企业集团(上海)有限公司 | Pvc-u抗紫外线雨水管 |
| DE102014211276A1 (de) | 2014-06-12 | 2015-12-17 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verwendung von Hydroxybenzotriazol-Derivaten und/oder Hydroxy-Indazol-Derivaten als Flammschutzmittel für Kunststoffe sowie flammgeschützte Kunststoffformmasse |
| CN111019494B (zh) * | 2019-12-31 | 2021-10-01 | 南京德嘉玻璃钢材料有限公司 | 一种高耐候胶衣及其制备方法 |
| CN114292440B (zh) * | 2021-12-31 | 2023-11-10 | 天津利安隆新材料股份有限公司 | 复合光稳定剂、塑木复合材料组合物和塑木产品 |
Family Cites Families (50)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE563210A (ja) * | 1956-12-14 | 1958-06-13 | ||
| US3004896A (en) * | 1956-12-14 | 1961-10-17 | Geigy Ag J R | Ultra-violet light-absorbing composition of matter |
| US3055896A (en) * | 1959-06-11 | 1962-09-25 | American Cyanamid Co | Aminohydroxyphenylbenzotriazoles and triazine derivatives thereof |
| US3072585A (en) * | 1960-01-13 | 1963-01-08 | American Cyanamid Co | Vinylbenzyloxy phenylbenzotriazoles |
| US3074910A (en) * | 1960-11-17 | 1963-01-22 | Hercules Powder Co Ltd | Stabilization of polyolefins with a nickel phenolate of a bis(p-alkyl phenol) monosulfide and an o-hydroxy phenyl benzotriazole |
| BE630549A (ja) * | 1961-06-16 | |||
| US3230194A (en) * | 1961-12-22 | 1966-01-18 | American Cyanamid Co | 2-(2'-hydroxy-5'-tertiary-octylphenyl)-benzotriazole and polyolefins stabilized therewith |
| GB1163875A (en) * | 1967-05-10 | 1969-09-10 | Du Pont | Stabilized Polyolefins |
| US4127586A (en) * | 1970-06-19 | 1978-11-28 | Ciba-Geigy Corporation | Light protection agents |
| US4141903A (en) * | 1977-08-17 | 1979-02-27 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of 2-aryl-2H-benzotriazoles |
| CH633003A5 (de) * | 1977-08-17 | 1982-11-15 | Ciba Geigy Ag | Verfahren zur herstellung von benzotriazolen. |
| US4219480A (en) * | 1977-09-20 | 1980-08-26 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of 2-aryl-2H-benzotriazoles |
| US4230867A (en) * | 1977-11-25 | 1980-10-28 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of 2-aryl-2H-benzotriazoles |
| US4278589A (en) * | 1978-06-26 | 1981-07-14 | Ciba-Geigy Corporation | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-(α,α-dimethylbenzyl)phenyl]-2H-benzotriazole and stabilized compositions |
| US4226763A (en) * | 1978-06-26 | 1980-10-07 | Ciba-Geigy Corporation | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-(.alpha.,α-dimethylbenzyl)-phenyl]-2H-benzotriazole and stabilized compositions |
| US4275004A (en) * | 1978-06-26 | 1981-06-23 | Ciba-Geigy Corporation | High caustic coupling process for preparing substituted 2-nitro-2'-hydroxyazobenzenes |
| US4315848A (en) * | 1979-05-10 | 1982-02-16 | Ciba-Geigy Corporation | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-(α,α-dimethylbenzyl)-phenyl]-2H-benzotriazole and stabilized compositions |
| US4347180A (en) * | 1979-05-16 | 1982-08-31 | Ciba-Geigy Corporation | High caustic coupling process for preparing substituted 2-nitro-2'-hydroxyazobenzenes |
| US4383863A (en) * | 1979-12-17 | 1983-05-17 | Ciba-Geigy Corporation | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-tert-octylphenyl]-2H-benzotriazole in stabilized photographic compositions |
| JPS57117564A (en) * | 1981-01-12 | 1982-07-22 | Sumitomo Chem Co Ltd | Stabilized synthetic resin composition |
| US4853471A (en) * | 1981-01-23 | 1989-08-01 | Ciba-Geigy Corporation | 2-(2-Hydroxyphenyl)-benztriazoles, their use as UV-absorbers and their preparation |
| JPS57119941A (en) * | 1981-07-13 | 1982-07-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | Polymeric material composition containing pigment and stabilizer |
| DE3364367D1 (en) * | 1982-05-07 | 1986-08-07 | Borg Warner Chemicals Inc | Stabilized olefin polymer compositions and their use for preparing shaped articles |
| DE3476752D1 (en) * | 1983-06-01 | 1989-03-23 | Ciba Geigy Ag | Process for the preparation of 2-arylbenzotriazoles |
| JPS61113649A (ja) * | 1984-11-07 | 1986-05-31 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 耐光性の改善された高分子材料組成物 |
| US4675352A (en) * | 1985-01-22 | 1987-06-23 | Ciba-Geigy Corporation | Liquid 2-(2-hydroxy-3-higher branched alkyl-5-methyl-phenyl)-2H-benzotriazole mixtures, stabilized compositions and processes for preparing liquid mixtures |
| DE68912186D1 (de) * | 1988-05-04 | 1994-02-24 | Gen Electric | UV-stabilisierte Acryl-Grundierungszusammensetzung. |
| DE59003447D1 (de) * | 1989-09-20 | 1993-12-16 | Ciba Geigy | Verfahren zur Herstellung von Benztriazolen. |
| EP0453396B1 (de) * | 1990-03-30 | 1995-12-13 | Ciba SC Holding AG | Lackzusammensetzungen |
| US5278314A (en) * | 1991-02-12 | 1994-01-11 | Ciba-Geigy Corporation | 5-thio-substituted benzotriazole UV-absorbers |
| US5280124A (en) * | 1991-02-12 | 1994-01-18 | Ciba-Geigy Corporation | 5-sulfonyl-substituted benzotriazole UV-absorbers |
| DE4229760A1 (de) * | 1992-09-05 | 1994-03-10 | Basf Ag | UV-stabilisierte Polyoxymethylenformmassen |
| US5319091A (en) * | 1992-11-24 | 1994-06-07 | Phillips Petroleum Company | Process for sulfur containing derivatives of hydroxyphenyl/benzotriazoles |
| US5268450A (en) * | 1992-11-24 | 1993-12-07 | Phillips Petroleum Company | Compositions comprising sulfur-containing derivatives of hydroxyphenylbenzotriazole and process therefor |
| FR2729387B1 (fr) * | 1995-01-13 | 1997-03-21 | Great Lakes Chemical France | Procede pour la fabrication d'hydroxy-alcoxy-benzophenones |
| US5574166A (en) * | 1995-04-19 | 1996-11-12 | Ciba-Geigy Corporation | Crystalline form of 2-(2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazole |
| US5519914A (en) * | 1995-08-01 | 1996-05-28 | Egan; Ronald G. | Contact type automatic roll cleaner |
| US6166218A (en) * | 1996-11-07 | 2000-12-26 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Benzotriazole UV absorbers having enhanced durability |
| US5977219A (en) * | 1997-10-30 | 1999-11-02 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Benzotriazole UV absorbers having enhanced durability |
| EP0897916A2 (de) * | 1997-08-18 | 1999-02-24 | Clariant GmbH | Neue 2-(2'-Hydroxyphenyl)benzotriazole und 2-Hydroxybenzophenone als Lichtschutzmittel für polymeres Material |
| US6244707B1 (en) * | 1998-07-21 | 2001-06-12 | Wesley Jessen Corporation | UV blocking lenses and material containing benzotriazoles and benzophenones |
| JP2002533509A (ja) * | 1998-12-18 | 2002-10-08 | バイエル アクチェンゲゼルシャフト | 改良された長期安定性を有するｘ線コントラスト性成形物 |
| GB2361005B (en) * | 2000-04-04 | 2002-08-14 | Ciba Sc Holding Ag | Synergistic mixtures of uv-absorbers in polyolefins |
| IL152907A0 (en) * | 2000-05-19 | 2003-06-24 | Dow Global Technologies Inc | Carbonate polymer compositions comprising low volatile uv absorbing compounds |
| US6566507B2 (en) * | 2000-08-03 | 2003-05-20 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Processes for the preparation of benzotriazole UV absorbers |
| US6649770B1 (en) * | 2000-11-27 | 2003-11-18 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Substituted 5-aryl-2-(2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole UV absorbers, compositions stabilized therewith and process for preparation thereof |
| US6307055B1 (en) * | 2000-12-27 | 2001-10-23 | Council Of Scientific And Industrial Research | Diol-functionalized UV absorber |
| ZA200301683B (en) * | 2002-03-04 | 2004-09-06 | Ciba Sc Holding Ag | Synergistic combinations of UV absorbers for pigmented polyolefins. |
| JP2003342567A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-12-03 | Daicel Chem Ind Ltd | 紫外線吸収剤組成物、製造方法、紫外線吸収剤組成物含有樹脂および成形品 |
| ATE539058T1 (de) * | 2003-02-26 | 2012-01-15 | Basf Se | Wasserverträgliche sterisch gehinderte hydroxysubstitutierte alkoxyamine |
-
2005
- 2005-10-31 US US11/263,444 patent/US20060122293A1/en not_active Abandoned
- 2005-11-23 CA CA002587254A patent/CA2587254A1/en not_active Abandoned
- 2005-11-23 DE DE602005016834T patent/DE602005016834D1/de active Active
- 2005-11-23 EP EP05804629A patent/EP1817369B1/en not_active Not-in-force
- 2005-11-23 WO PCT/EP2005/056167 patent/WO2006058856A1/en active Application Filing
- 2005-11-23 JP JP2007543830A patent/JP5153339B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-11-23 AT AT05804629T patent/ATE443735T1/de not_active IP Right Cessation
- 2005-11-23 ES ES05804629T patent/ES2331197T3/es active Active
- 2005-11-23 CN CN2005800410749A patent/CN101068869B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-01 TW TW094142278A patent/TWI395779B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101068869B (zh) | 2010-11-03 |
| WO2006058856A1 (en) | 2006-06-08 |
| TW200630423A (en) | 2006-09-01 |
| EP1817369B1 (en) | 2009-09-23 |
| CN101068869A (zh) | 2007-11-07 |
| CA2587254A1 (en) | 2006-06-08 |
| DE602005016834D1 (de) | 2009-11-05 |
| EP1817369A1 (en) | 2007-08-15 |
| ATE443735T1 (de) | 2009-10-15 |
| JP2008521987A (ja) | 2008-06-26 |
| US20060122293A1 (en) | 2006-06-08 |
| ES2331197T3 (es) | 2009-12-23 |
| TWI395779B (zh) | 2013-05-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7084197B2 (en) | Synergistic combinations of nano-scaled fillers and hindered amine light stabilizers | |
| US7947296B2 (en) | Mixtures of phenolic and inorganic materials with antimicrobial activity | |
| JP5676582B2 (ja) | 耐スクラッチ性ポリプロピレン | |
| EP1554336B1 (en) | Flame retardant compositions | |
| JP5259393B2 (ja) | 耐引掻性ポリオレフィン | |
| JP5209304B2 (ja) | 耐引掻性ポリオレフィン | |
| JP2009509016A (ja) | 耐引掻性ポリマー及びコーティング組成物 | |
| JP2004531611A (ja) | 改善された性能及び表面親和性を有するポリマー添加剤 | |
| JP5153339B2 (ja) | 紫外線吸収安定剤の組合せ | |
| JP5236475B2 (ja) | 耐変色性ポリウレタン | |
| WO2004000921A1 (en) | Stabilized polyamide compositions |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081113 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081113 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110819 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110921 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111216 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120613 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121012 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20121022 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121121 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121204 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151214 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |