JP5146106B2 - スパッタ装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態1における対向ターゲット式のデュアルマグネトロンスパッタ装置の概略断面図である。
図2は、本発明の実施の形態2における対向ターゲット式のデュアルマグネトロンスパッタ装置の概略断面図である。
図3は、本発明の実施の形態3におけるデュアルマグネトロンスパッタ装置の概略断面図である。
2,3 ターゲット
4 基板
5 基板ホルダー
6,7 ターゲットホルダー
8a,9a 供給管(冷却水)
8b,9b 排出管(冷却水)
10,11 絶縁部材
12,13 永久磁石(磁界発生手段)
14,15 アースシールド
16 防着板
17 排気口(排気系)
18 導入口(ガス導入系)
19 スパッタ電源
101〜110 絶縁部材
Claims (2)
- 真空槽と、前記真空槽内に配置された複数のターゲットをそれぞれ保持する複数のターゲットホルダーと、前記複数のターゲットホルダーの各々に交流電圧を印加する電源と、前記真空槽内に配置されかつ基板を保持する基板ホルダーと、前記ターゲットの裏面に設けられた磁石と、を有するスパッタ装置において、
前記複数のターゲットホルダーは相対向して配置され、かつ、基板ホルダーは前記複数のターゲットホルダーの間かつターゲットの表面に平行な方向に配置され、各ターゲットの周囲にはそれぞれアースシールドが設けられ、かつ、前記真空槽の内壁には防着板が配置され、前記アースシールド及び前記防着板は全てアースと電気的に絶縁する絶縁部材と接続されていること
を特徴とするスパッタ装置。 - 前記絶縁部材は、電気絶縁物がコーティングしてなされている請求項1記載のスパッタ装置。
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