JP4877058B2 - 対向ターゲットスパッタ装置及び方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態1を説明するための、ターゲットのエロージョン領域の回転を説明する図である。
図3は、本発明の実施の形態2の対向ターゲットスパッタにおけるターゲット2ならびに永久磁石12と、基板4との位置関係を示す図である。
図4は、本発明の実施の形態3における対向ターゲットスパッタ装置の概略断面図である。
図5は、本発明の実施の形態4における対向ターゲットスパッタ装置の概略断面図である。図5において、図4と図6と同じ構成要素については同じ符号を用い説明を省略する。
2,3 ターゲット
4,4a,4b 基板
5 基板ホルダー
6,7 ターゲットホルダー
8a,9a 供給管(冷却水)
8b,9b 排出管(冷却水)
10,11 絶縁部材
12,13 磁石(磁界発生手段)
14,15 シールド
16,16a,16b 排気口(排気系)
17,17a,17b 導入口(ガス導入系)
18 スパッタ電源
19,20 エロージョン領域
21 エロージョン領域の中心軸
101,102,103 カルーセル
Claims (1)
- 真空維持可能な真空槽と、前記真空槽内に配置されかつ複数の基板を載置する基板ホルダーと、前記真空槽内に配置されかつターゲットを載置する複数のターゲットホルダーと、前記ターゲットホルダーのうちターゲットを載置する表面の反対側に配置される磁石と、前記ターゲットホルダーに直流電源を印加するスパッタ電源と、前記真空槽内にガスを導入する導入口と、前記真空槽内からガスを排気する排気口とを備える対向ターゲットスパッタ装置において、
前記複数のターゲットホルダーは互いに対向して配置されると共に、前記磁石のうち長手方向の中心軸を前記ターゲットホルダーの長手方向の中心軸に対して傾け、かつ、
前記基板ホルダーは前記複数のターゲットホルダーの側方に配置されると共に、前記基板ホルダーの回転軸は前記複数のターゲットホルダーの側方かつ前記ターゲットホルダーのうちターゲットが載置される面と平行に設けられたことを特徴とする対向ターゲットスパッタ装置。
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