JP5135915B2 - 載置台構造及び熱処理装置 - Google Patents
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Description
また例えば請求項3に記載したように、前記温度測定手段は熱電対よりなる。
また例えば請求項4に記載したように、前記載置台と前記支柱とは互いに同一の構成材料よりなる。
また例えば請求項5に記載したように、前記構成材料は、金属と石英とセラミックスよりなる群より選択される1の材料よりなる。
また例えば請求項7に記載したように、前記曲線の曲率半径の許容最小値は、少なくとも前記測定手段本体の剛性に基づいて定められる。
また例えば請求項8に記載したように、前記許容曲率半径の最小値は20mmである。
また例えば請求項10に記載したように、前記測定手段本体は前記支柱の下端部側より挿脱可能になされている。
載置台を支持する中空の支柱を、その下端部側から上端部に向けて順次拡大するように形成し、この支柱に温度測定手段の測定手段本体を挿通させることによって、構造をそれ程複雑化させることなく、複数の加熱ゾーン毎に温度測定手段を設けることができるようにしたので、もって被処理体の面内均一性を継続的に高く維持し、熱処理の再現性を高く維持することができる。
図1は本発明に係る熱処理装置を示す断面構成図、図2は載置台構造を示す拡大断面図、図3は載置台の抵抗加熱ヒータが配設された載置台本体を示す平面図、図4は図2中の支柱のA−A線に沿った矢視断面図、図5は支柱の側壁に挿通路を形成する手順を示す説明図、図6は載置台に支柱を組み付ける時の状態を説明する説明図である。尚、ここでは熱処理装置として成膜装置を例にとって説明する。
そして、この処理容器4の底部20に排気空間22が形成されている。具体的には、この容器底部20の中央部には大きな開口24が形成されており、この開口24に、その下方へ延びる有底円筒体状の円筒区画壁26を連結してその内部に上記排気空間22を形成している。そして、この排気空間22を区画する円筒区画壁26の底部28には、これより起立させて本発明の特徴とする載置台構造29が設けられる。具体的には、この載置台構造29は、例えば中空状の上方に向けて末広がり状となった石英ガラスよりなる支柱30と、この上端部に接合して固定される載置台32とにより主に構成される。この載置台構造29の詳細については後述する。
まず、未処理の半導体ウエハWは、図示しない搬送アームに保持されて開状態となったゲートバルブ18、搬出入口16を介して処理容器4内へ搬入され、このウエハWは、上昇された押し上げピン46に受け渡された後に、この押し上げピン46を降下させることにより、ウエハWを載置台32の上面、具体的には上面カバー42の上面に載置してこれを支持する。
また、上記実施例では、上記載置台32及び支柱30を共に石英ガラスで形成した場合を例にとって説明したが、これに限定されず、アルミニウム合金、ステンレス鋼、或いはSiCやAl2 O3 等のセラミック材等によって形成することができる。また、熱膨張率を考慮すると、上記載置台32と支柱30とは同じ材料を用いるのがよい。
また、上記実施例では、温度測定手段70A、70Bとして熱電対を用いた場合を例にとって説明したが、これに限定されず、例えば加熱ゾーン58A、58Bからの赤外線放射エネルギーを、InGaAs等の光起電力素子により検出するようにした温度測定手段を用いるようにしてもよい。このような温度測定手段は、光ファイバー式放射温度計として知られており、ここで光起電力素子までの赤外線透過経路(案内経路)としては棒状で屈曲性のある光ファイバーを用いることができる。この光ファイバーの先端が上記素子収容穴74A、74B内に位置されることになる。従って、この場合、前記測定手段本体72A、72Bは、光ファイバーに該当することになる。
また、ここでは被処理体として半導体ウエハを例にとって説明したが、これに限定されず、ガラス基板、LCD基板、セラミック基板等にも本発明を適用することができる。
4 処理容器
6 シャワーヘッド部(ガス供給手段)
29 載置台構造
30 支柱
32 載置台
32A 載置台本体
32B 蓋部
38 加熱手段
38A 内側加熱ヒータ部
38B 外側加熱ヒータ部
40 加熱手段
58A 内周側の加熱ゾーン
58B 外周側の加熱ゾーン
60A,60B 配線溝
68 挿通路
70A,70B 温度測定手段
72A,72B 測定手段本体
74A,74B 素子収容穴
76 溝
78 蓋部材
80 フランジ部
102 温度制御部
104 装置制御部
W 半導体ウエハ(被処理体)
Claims (11)
- 同心円状になされた複数の加熱ゾーン毎に配置された加熱ヒータ部よりなる加熱手段を有すると共に、熱処理の対象となる被処理体をその上に載置するための載置台と、
前記加熱ゾーン毎に設けられる温度測定手段と、
前記載置台を起立させて支持するために中空になされた支柱と、
を有する載置台構造において、
前記支柱の直径は、その下端部側から上端部に向かうに従って順次拡大されていると共に、前記上端部は前記載置台の裏面に接合されており、
前記温度測定手段の測定手段本体は前記中空の支柱内と前記支柱の側壁に設けた挿通路内とに挿通させて設けられることを特徴とする載置台構造。 - 前記測定手段本体は屈曲可能な棒状に形成されていることを特徴とする請求項1記載の載置台構造。
- 前記温度測定手段は熱電対よりなることを特徴とする請求項1又は2記載の載置台構造。
- 前記載置台と前記支柱とは互いに同一の構成材料よりなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の載置台構造。
- 前記構成材料は、金属と石英とセラミックスよりなる群より選択される1の材料よりなることを特徴とする請求項4記載の載置台構造。
- 前記支柱は、その下端部側から上端部に向けて断面の外部が曲線を描くように末広がり状に成形されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の載置台構造。
- 前記曲線の曲率半径の許容最小値は、少なくとも前記測定手段本体の剛性に基づいて定められることを特徴とする請求項6記載の載置台構造。
- 前記許容曲率半径の最小値は20mmであることを特徴とする請求項7記載の載置台構造。
- 前記支柱は、その下端部側から上端部に向けて断面の外部が直線を描くように成形されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の載置台構造。
- 前記測定手段本体は前記支柱の下端部側より挿脱可能になされていることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の載置台構造。
- 排気可能になされた処理容器と、
請求項1乃至10のいずれか一項に記載の載置台構造と、
前記処理容器内へガスを供給するガス供給手段と、
前記載置台構造の載置台の温度を制御する温度制御部と、
を備えたことを特徴とする熱処理装置。
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