JP5130527B2

JP5130527B2 - 超低発塵拭き取り材及び超低発塵拭き取り材の製造方法

Info

Publication number: JP5130527B2
Application number: JP2007156057A
Authority: JP
Inventors: 翼水金; 受▲文▼ 李; 龍彦尾上; 勝夫木下
Original assignee: Shinshu University NUC
Current assignee: Shinshu University NUC
Priority date: 2007-06-13
Filing date: 2007-06-13
Publication date: 2013-01-30
Anticipated expiration: 2027-06-13
Also published as: JP2008307153A; WO2008153051A1

Description

本発明は、超低発塵拭き取り材及び超低発塵拭き取り材の製造方法に関する。

例えばクリーンルームのように、環境の管理された室内で用いる超低発塵拭き取り材として、近年、種々の拭き取り材が提案されている。このような超低発塵拭き取り材として、例えば、不織布からなる超低発塵拭き取り材が知られている（例えば、特許文献１参照。）。

特開２００１−３２９４５８号公報

ところで、超低発塵拭き取り材においては、ナノサイズの微小なゴミ（埃など）を除去可能であることが要求されるとともに、拭き取り材自体から微小な塵や繊維状の屑、素材の欠片など（以下、リントという。）の発生が少ないことが要求される。

そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能で、かつ、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能な超低発塵拭き取り材及び超低発塵拭き取り材の製造方法を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記目的を達成するため、従来の超低発塵拭き取り材において、拭き取り材のいずれの部分からリントが発生するかを探るべく鋭意研究を重ねた結果、拭き取り材自体から発生するリントは、拭き取り材の両表面だけでなく、拭き取り材の端面からも発生するという知見を得た。

そこで、本発明者らは、さらなる研究を重ねた結果、可撓性基材の両表面にナノ繊維層を形成するとともに、拭き取り材の端面を無塵化処理することによって、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能となるとともに、拭き取り材の両表面及び拭き取り材の端面からのリントの発生を抑制することができ、上記した目的を達成することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。

（１）本発明の超低発塵拭き取り材は、可撓性基材と、前記可撓性基材における一方の面上に形成された第１ナノ繊維層と、前記可撓性基材における他方の面上に形成された第２ナノ繊維層とを備える超低発塵拭き取り材であって、前記超低発塵拭き取り材の端面が無塵化処理されていることを特徴とする。

このため、本発明の超低発塵拭き取り材によれば、拭き取り材の両表面はナノ繊維層からなるため、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能となる。

また、本発明の超低発塵拭き取り材によれば、可撓性基材の両表面はナノ繊維層によって覆われているため、可撓性基材の両表面からのリントの発生を防止することが可能となる。また、ナノ繊維層は、可撓性基材に比べると表面から発生するリントの量が少ないため、拭き取り材の両表面から発生するリントを従来よりも少なくすることが可能となる。

また、本発明の超低発塵拭き取り材によれば、超低発塵拭き取り材の端面が無塵化処理されているため、可撓性基材、第１ナノ繊維層及び第２ナノ繊維層の端面が外部に露出することがない。このため、拭き取り材の端面からのリントの発生を抑制することが可能となる。

したがって、本発明の超低発塵拭き取り材は、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能で、かつ、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能な超低発塵拭き取り材となる。

なお、従来の超低発塵拭き取り材を強化洗浄することによって、拭き取り材自体からのリントの発生をある程度は少なくすることができるが、拭き取り材に対して負荷をかけてしまうという問題がある。このため、従来の超低発塵拭き取り材においては、強化洗浄に起因する負荷を考慮して拭き取り材の材料や厚さ等を決めなければならず、拭き取り材の設計の自由度が低い。
これに対し、本発明の超低発塵拭き取り材によれば、上述のように、強化洗浄することなく、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能であることから、強化洗浄に起因する負荷を考慮することなく、拭き取り材の材料や厚さ等を比較的自由に決めることができ、拭き取り材の設計の自由度が比較的高いという効果がある。

この明細書において「無塵化処理」とは、可撓性基材、第１ナノ繊維層及び第２ナノ繊維層の端面からのリントの発生を抑制するための処理のことを意味しており、後述するように、溶融処理や樹脂による被覆処理などを例示することができる。

本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記可撓性基材の材料が、繊維材料である場合に特に効果がある。
繊維材料からなる可撓性基材（例えば不織布、織布、編布、紙など）は、繊維材料以外の材料からなる可撓性基材（例えばフィルムなど）に比べて、可撓性基材の表面からリントが発生しやすい。このように、可撓性基材が繊維材料からなる場合であっても、本発明の超低発塵拭き取り材によれば、繊維材料からなる可撓性基材の両表面はナノ繊維層によって覆われているため、可撓性基材の両表面からのリントの発生を防止することが可能となる。また、ナノ繊維層は、繊維材料からなる可撓性基材に比べると表面から発生するリントの量が少ないため、拭き取り材の両表面から発生するリントを従来よりも少なくすることが可能となる。

（２）本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記超低発塵拭き取り材の端面は、溶融処理されていることが好ましい。

（３）本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記超低発塵拭き取り材の端面は、樹脂で被覆されていることが好ましい。

このように構成することにより、可撓性基材、第１ナノ繊維層及び第２ナノ繊維層の端面が外部に露出することがなくなり、拭き取り材の端面からのリントの発生を効果的に抑制することが可能となる。

（４）本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層は、エレクトロスピニング法によって形成されていることが好ましい。

エレクトロスピニング法は、他の方法（例えば溶融紡糸法など）に比べてナノ繊維の平均直径を小さくすることができ、第１ナノ繊維層及び第２ナノ繊維層の比表面積を大きくすることができる。このため、吸着性に優れた拭き取り材となる。また、エレクトロスピニング法は、ナノ繊維として用いる材料を変更する場合やナノ繊維の平均直径を変更する場合などにも幅広く対応することができ、初期投資を低く抑えることができることから、製造コストの安価な拭き取り材となる。

（５）本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層は、平均直径が５０ｎｍ〜８００ｎｍのナノ繊維からなり、かつ、５０ｎｍ〜１０００ｎｍの空孔サイズを有することが好ましい。

このように構成することにより、ナノサイズの微小なゴミを効果的に除去することが可能となるとともに、ナノ繊維層に取り込んだ微小なゴミが再び外部に放出されるのを抑制することが可能となる。

（６）本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層の厚さは、０．１μｍ〜５００μｍであることが好ましい。

このように構成することにより、可撓性基材の両表面からのリントの発生を確実に防止することが可能となるとともに、十分な拭き取り効果を備える超低発塵拭き取り材となる。

（７）本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記超低発塵拭き取り材の端面における無塵化処理されている部分の幅は、０．１μｍ〜５０００μｍであることが好ましい。

超低発塵拭き取り材の端面における無塵化処理されている部分の幅が０．１μｍ未満である場合、超低発塵拭き取り材を使用した際に無塵化処理されている部分が割れたり欠けたりする場合があり、拭き取り材の端面からのリントの発生を抑制することが困難となる可能性がある。
一方、超低発塵拭き取り材の端面における無塵化処理されている部分の幅が５０００μｍを超える場合、当該無塵化処理されている部分が裂ける場合があり、拭き取り材の端面からのリントの発生を抑制することが困難となる可能性がある。また、拭き取り材における未溶融部分と溶融部分との表面差（表面の違い）により、拭き取り性にバラつきが出る可能性がある。
このような観点から、超低発塵拭き取り材の端面における無塵化処理されている部分の幅は、０．５μｍ〜１０００μｍであることが好ましく、１μｍ〜２００μｍであることがより好ましく、２μｍ〜５０μｍであることがさらに好ましい。

（８）本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記超低発塵拭き取り材は、クリーンルーム用の拭き取り材であることが好ましい。

クリーンルームのような環境の管理された室内では、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能であることに加えて、拭き取り材自体からのリントの発生が少ないものであることが求められる。
本発明の超低発塵拭き取り材によれば、上述のように、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能で、かつ、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能であるため、クリーンルームで使用するのに適したものとなる。

（９）本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法は、可撓性基材を準備する可撓性基材準備工程と、前記可撓性基材における一方の面上に第１ナノ繊維層を形成する第１ナノ繊維層形成工程と、前記可撓性基材における他方の面上に第２ナノ繊維層を形成する第２ナノ繊維層形成工程と、前記可撓性基材、前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層の端面を無塵化処理する無塵化処理工程とを含むことを特徴とする。

このため、本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法によれば、可撓性基材の両表面にナノ繊維層を形成するとともに、可撓性基材、第１ナノ繊維層及び第２ナノ繊維層の端面を無塵化処理することとしているため、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能で、かつ、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能な超低発塵拭き取り材を製造することができる。

本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法においては、前記可撓性基材として、繊維材料からなる可撓性基材を用いた場合に特に効果がある。
繊維材料からなる可撓性基材（例えば不織布、織布、編布、紙など）は、繊維材料以外の材料からなる可撓性基材（例えばフィルムなど）に比べて、可撓性基材の表面からリントが発生しやすい。このように、繊維材料からなる可撓性基材を用いた場合であっても、本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法によれば、繊維材料からなる可撓性基材の両表面はナノ繊維層によって覆われているため、可撓性基材の両表面からのリントの発生を防止することが可能となる。また、ナノ繊維層は、繊維材料からなる可撓性基材に比べると表面から発生するリントの量が少ないため、拭き取り材の両表面から発生するリントを従来よりも少なくすることが可能な超低発塵拭き取り材を製造することができる。

（１０）本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法において、前記無塵化処理工程においては、前記可撓性基材、前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層を溶融処理することが好ましい。

（１１）本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法において、前記無塵化処理工程においては、前記可撓性基材、前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層の端面を樹脂で被覆処理することが好ましい。

可撓性基材、第１ナノ繊維層及び第２ナノ繊維層を溶融処理又は樹脂で被覆処理することにより、可撓性基材、第１ナノ繊維層及び第２ナノ繊維層の端面が外部に露出することがなくなり、拭き取り材の端面からのリントの発生を抑制することが可能となる。

なお、溶融処理としては、例えば、溶断カット処理やレーザカット処理を好適に用いることができる。

（１２）本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法において、前記第１ナノ繊維層形成工程及び前記第２ナノ繊維層形成工程においては、エレクトロスピニング法によって前記第１ナノ繊維層又は前記第２ナノ繊維層を形成することが好ましい。

エレクトロスピニング法は、他の方法（例えば溶融紡糸法など）に比べて、ナノ繊維の平均直径を小さくすることができ、第１ナノ繊維層及び第２ナノ繊維層の比表面積を大きくすることができる。このため、吸着性に優れた拭き取り材を製造することができる。また、エレクトロスピニング法は、ナノ繊維として用いる材料を変更する場合やナノ繊維の平均直径を変更する場合などにも幅広く対応することができ、初期投資を低く抑えることができることから、製造コストの低廉化を図ることが可能となる。

（１３）本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法においては、前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層は、同じ材料からなることが好ましい。

このような方法とすることにより、第１ナノ繊維層形成工程と第２ナノ繊維層形成工程で同じ材料を用いることが可能となるため、超低発塵拭き取り材の製造が容易となり、製造コストの低廉化を図ることが可能となる。

（１４）本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法においては、前記第１ナノ繊維層と前記第２ナノ繊維層とは、異なる材料からなることが好ましい。

このような方法とすることにより、面によって異なる拭き取り特性を持った超低発塵拭き取り材を製造することができる。例えば、拭き取り可能なゴミの最小サイズが面によって異なる超低発塵拭き取り材や、吸水性や耐薬品性などの程度が面によって異なる超低発塵拭き取り材を製造することができる。

以下、本発明の超低発塵拭き取り材及び超低発塵拭き取り材の製造方法について、図に示す実施の形態に基づいて説明する。

［実施形態］
まず、実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０の構成について、図１及び図２を用いて説明する。

図１は、実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０を説明するために示す図である。図１（ａ）は超低発塵拭き取り材１０の断面を模式的に示す図であり、図１（ｂ）は第１ナノ繊維層３０の拡大上面図である。なお、図１（ａ）において、可撓性基材２０に対する第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０の厚さ並びに溶融部５０の幅等については、誇張して示している。
図２は、実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０を説明するために示す図である。図２（ａ）は第１ナノ繊維層３０の断面電子顕微鏡写真であり、図２（ｂ）は第１ナノ繊維層３０のナノ繊維３２に埃Ｄが付着したときの第１ナノ繊維層３０の断面電子顕微鏡写真である。

実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０は、図１に示すように、可撓性基材２０と、可撓性基材２０の一方の面に配置される第１ナノ繊維層３０と、可撓性基材２０の他方の面に配置される第２ナノ繊維層４０と、超低発塵拭き取り材１０の端部に配置される溶融部５０とを備える、クリーンルーム用の拭き取り材である。

可撓性基材２０は、例えば、セルロース繊維とポリオレフィン、ポリエステル等の合成繊維とで構成された不織布からなる可撓性の基材層である。可撓性基材２０の厚さは、例えば、０．１ｍｍ〜５ｍｍ（実施形態では１ｍｍ）である。

第１ナノ繊維層３０は、エレクトロスピニング法によって可撓性基材２０における一方の面上に形成されたナノ繊維層である。第１ナノ繊維層３０の厚さは、例えば、０．１μｍ〜５００μｍ（実施形態では１０μｍ）である。

第２ナノ繊維層４０は、エレクトロスピニング法によって可撓性基材２０における他方の面上に形成されたナノ繊維層である。第２ナノ繊維層４０の厚さは、例えば、０．１μｍ〜５００μｍ（実施形態では１０μｍ）である。

第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０は、平均直径が５０ｎｍ〜８００ｎｍのナノ繊維３２，４２からなり、かつ、５０ｎｍ〜１０００ｎｍの空孔サイズを有する。ナノ繊維３２，４２は、種々のポリマー材料から製造することが可能である。本実施形態では、同じポリマー材料から構成されている。

溶融部５０は、可撓性基材２０、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層３０からなる超低発塵拭き取り材１０の端面を溶融処理（溶断カット処理）することにより、超低発塵拭き取り材１０の端部に形成される。なお、溶融部５０が、無塵化処理されている部分となる。溶融部５０の幅ｗ（図１（ａ）参照。）は、例えば、０．１μｍ〜５０００μｍ（実施形態では２０μｍ）である。

次に、実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法について、図３及び図４を用いて説明する。

図３は、実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法を説明するために示すフローチャートである。
図４は、実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法を説明するために示す図である。図４（ａ）〜図４（ｅ）は各工程を模式的に示す図である。

実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法は、図３に示すように、可撓性基材準備工程Ｓ１０と、第１ナノ繊維層形成工程Ｓ２０と、第２ナノ繊維層形成工程Ｓ３０と、溶融処理工程Ｓ４０とをこの順序で含む。

１．可撓性基材準備工程Ｓ１０
まず、図４（ａ）に示すように、可撓性基材２０を準備する。

２．第１ナノ繊維層形成工程Ｓ２０
次に、図４（ｂ）に示すように、エレクトロスピニング法によって可撓性基材２０における一方の面上に第１ナノ繊維層３０を形成する。

３．第２ナノ繊維層形成工程Ｓ３０
次に、図４（ｃ）に示すように、エレクトロスピニング法によって可撓性基材２０における他方の面上に第２ナノ繊維層４０を形成する。

４．溶融処理工程Ｓ４０
そして、図４（ｄ）に示すように、可撓性基材２０、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０を溶断カット処理する。これにより、可撓性基材２０、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０の端面を無塵化処理することができる。

以上の工程を行うことにより、実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０を製造することができる（図４（ｅ）参照。）。

このように、実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０によれば、超低発塵拭き取り材１０の両表面は第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０からなるため、図２（ｂ）に示すように、ナノサイズの微小なゴミＤを除去することが可能となる。

また、実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０によれば、繊維材料からなる可撓性基材２０の両表面は第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０によって覆われているため、可撓性基材２０の両表面からのリントの発生を防止することが可能となる。また、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０は、繊維材料からなる可撓性基材２０に比べると表面から発生するリントの量が少ないため、超低発塵拭き取り材１０の両表面から発生するリントを従来よりも少なくすることが可能となる。

また、実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０によれば、超低発塵拭き取り材１０の端面が無塵化処理されているため、可撓性基材２０、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０の端面が外部に露出することがない。このため、超低発塵拭き取り材１０の端面からのリントの発生を抑制することが可能となる。

したがって、実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０は、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能で、かつ、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能な超低発塵拭き取り材となる。

また、実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０によれば、上述のように、強化洗浄することなく、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能であることから、強化洗浄に起因する負荷を考慮することなく、拭き取り材の材料や厚さ等を比較的自由に決めることができ、拭き取り材の設計の自由度が比較的高いという効果がある。

実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０においては、超低発塵拭き取り材１０の端面は、溶融処理されているため、可撓性基材２０、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０の端面が外部に露出することがなくなり、超低発塵拭き取り材１０の端面からのリントの発生を効果的に抑制することが可能となる。

実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０においては、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０は、エレクトロスピニング法によって形成されているため、他の方法（例えば溶融紡糸法など）に比べて、ナノ繊維の平均直径を小さくすることができ、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０の比表面積を大きくすることができる。このため、吸着性に優れた拭き取り材となる。また、エレクトロスピニング法は、ナノ繊維として用いる材料を変更する場合やナノ繊維の平均直径を変更する場合などにも幅広く対応することができ、初期投資を低く抑えることができることから、製造コストの安価な拭き取り材となる。

実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０においては、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０は、平均直径が５０ｎｍ〜８００ｎｍのナノ繊維３２，４２からなり、かつ、５０ｎｍ〜１０００ｎｍの空孔サイズを有するため、ナノサイズの微小なゴミを効果的に除去することが可能となるとともに、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０に取り込んだ微小なゴミが再び外部に放出されるのを抑制することが可能となる。

実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０においては、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０の厚さは、０．１μｍ〜５００μｍであるため、可撓性基材２０の両表面からのリントの発生を確実に防止することが可能となるとともに、十分な拭き取り効果を備える超低発塵拭き取り材となる。

実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０においては、超低発塵拭き取り材１０の端面における溶融部５０（無塵化処理されている部分）の幅ｗは、０．１μｍ以上であるため、超低発塵拭き取り材１０を使用した際に溶融部５０が割れたり欠けたりするのを抑制することができる。また、溶融部５０（無塵化処理されている部分）の幅ｗは、５０００μｍ以下であるため、溶融部５０が裂けるのを抑制することができ、超低発塵拭き取り材１０の端面からのリントの発生を抑制することが可能となり、また、拭き取り性にバラつきが出るのを抑制することが可能となる。

実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０は、上述のように、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能で、かつ、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能であるため、クリーンルームで使用するのに適したものとなる。

実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法によれば、上述のように、繊維材料からなる可撓性基材２０の両表面に第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０を形成するとともに、可撓性基材２０、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０の端面を無塵化処理することとしているため、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能で、かつ、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能な超低発塵拭き取り材１０を製造することができる。

実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法において、溶融処理工程Ｓ４０においては、可撓性基材２０、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０を溶融処理（溶断カット処理）することにより、可撓性基材２０、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０の端面が外部に露出することがなくなり、超低発塵拭き取り材１０の端面からのリントの発生を抑制することが可能となる。

実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法において、第１ナノ繊維層形成工程Ｓ２０及び第２ナノ繊維層形成工程Ｓ３０においては、エレクトロスピニング法によって第１ナノ繊維層３０又は第２ナノ繊維層４０を形成することとしているため、他の方法（例えば溶融紡糸法など）によって第１ナノ繊維層３０又は第２ナノ繊維層４０を形成する場合に比べて、ナノ繊維の平均直径を小さくすることができ、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０の比表面積を大きくすることができる。このため、吸着性に優れた拭き取り材を製造することができる。また、エレクトロスピニング法は、ナノ繊維として用いる材料を変更する場合やナノ繊維の平均直径を変更する場合などにも幅広く対応することができ、初期投資を低く抑えることができることから、製造コストの低廉化を図ることが可能となる。

実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法においては、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０は、同じ材料からなる。これにより、第１ナノ繊維層形成工程Ｓ２０と第２ナノ繊維層形成工程Ｓ３０で同じ材料を用いることが可能となるため、超低発塵拭き取り材１０の製造が容易となり、製造コストの低廉化を図ることが可能となる。

以上、本発明の超低発塵拭き取り材及び超低発塵拭き取り材の製造方法を上記の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において実施することが可能であり、例えば、次のような変形も可能である。

（１）上記実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０においては、可撓性基材として、セルロース繊維とポリオレフィン、ポリエステル等の合成繊維とで構成された不織布からなる可撓性基材２０を用いたが、本発明はこれに限定されるものではなく、他の繊維材料からなる不織布を用いてもよいし、不織布以外の可撓性基材（例えば、織布、編布、紙、スポンジ、フィルムなど）を用いてもよい。

（２）上記実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０においては、第１ナノ繊維層及び第２ナノ繊維層が同じ材料からなる場合を例示的に説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、第１ナノ繊維層と第２ナノ繊維層とが異なる材料からなっていてもよい。

（３）上記実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法においては、溶融処理工程において、可撓性基材２０、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０を溶断カット処理する場合を例示的に説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、レーザカット処理してもよい。また、上記実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法においては、無塵化処理工程として、溶融処理工程を行う場合を例示的に説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、溶融処理工程に代えて、可撓性基材２０、第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０の端面を樹脂で被覆処理する被覆処理工程を行ってもよい。

（４）上記実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法においては、エレクトロスピニング法によって第１ナノ繊維層３０及び第２ナノ繊維層４０を形成する場合を例示的に説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、エレクトロスピニング法以外の方法（例えば溶融紡糸法）によって第１ナノ繊維層又は第２ナノ繊維層を形成してもよい。

（５）上記実施形態に係る超低発塵拭き取り材においては、クリーンルーム用の拭き取り材として説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、他の用途にも勿論用いることができる。

実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０を説明するために示す図である。実施形態に係る超低発塵拭き取り材１０を説明するために示す図である。実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法を説明するために示すフローチャートである。実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法を説明するために示す図である。

符号の説明

１０…超低発塵拭き取り材、２０…可撓性基材、３０…第１ナノ繊維層、３２，４２…ナノ繊維、４０…第２ナノ繊維層、５０…溶融部、Ｄ…微小なゴミ

Claims

可撓性基材と、
前記可撓性基材における一方の面上に形成された第１ナノ繊維層と、
前記可撓性基材における他方の面上に形成された第２ナノ繊維層とを備え、
前記超低発塵拭き取り材の端面が無塵化処理されている超低発塵拭き取り材であって、
前記超低発塵拭き取り材の端面における無塵化処理されている部分の幅は、０．５μｍ〜１０００μｍであることを特徴とする超低発塵拭き取り材。
請求項１に記載の超低発塵拭き取り材において、
前記超低発塵拭き取り材の端面は、溶融処理されていることを特徴とする超低発塵拭き取り材。
請求項１に記載の超低発塵拭き取り材において、
前記超低発塵拭き取り材の端面は、樹脂で被覆されていることを特徴とする超低発塵拭き取り材。
請求項１〜３のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材において、
前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層は、エレクトロスピニング法によって形成されていることを特徴とする超低発塵拭き取り材。
請求項１〜４のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材において、
前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層は、平均直径が５０ｎｍ〜８００ｎｍのナノ繊維からなり、かつ、５０ｎｍ〜１０００ｎｍの空孔サイズを有することを特徴とする超低発塵拭き取り材。
請求項１〜５のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材において、
前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層の厚さは、０．１μｍ〜５００μｍであることを特徴とする超低発塵拭き取り材。
請求項１〜６のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材において、
前記超低発塵拭き取り材は、クリーンルーム用の拭き取り材であることを特徴とする超低発塵拭き取り材。
可撓性基材を準備する可撓性基材準備工程と、
前記可撓性基材における一方の面上に第１ナノ繊維層を形成する第１ナノ繊維層形成工程と、
前記可撓性基材における他方の面上に第２ナノ繊維層を形成する第２ナノ繊維層形成工程と、
前記可撓性基材、前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層の端面を無塵化処理する無塵化処理工程とを含む超低発塵拭き取り材の製造方法であって、
前記無塵化処理工程においては、無塵化処理されている部分の幅が０．５μｍ〜１０００μｍとなるように前記可撓性基材、前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層の端面を無塵化処理することを特徴とする超低発塵拭き取り材の製造方法。
請求項８に記載の超低発塵拭き取り材の製造方法において、
前記無塵化処理工程においては、前記可撓性基材、前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層を溶融処理することを特徴とする超低発塵拭き取り材の製造方法。
請求項９に記載の超低発塵拭き取り材の製造方法において、
前記溶融処理は、溶融カット処理であることを特徴とする超低発塵拭き取り材の製造方法。
請求項８に記載の超低発塵拭き取り材の製造方法において、
前記無塵化処理工程においては、前記可撓性基材、前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層の端面を樹脂で被覆処理することを特徴とする超低発塵拭き取り材の製造方法。
請求項８〜１１のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材の製造方法において、
前記第１ナノ繊維層形成工程及び前記第２ナノ繊維層形成工程においては、エレクトロスピニング法によって前記第１ナノ繊維層又は前記第２ナノ繊維層を形成することを特徴とする超低発塵拭き取り材の製造方法。
請求項８〜１２のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材の製造方法において、
前記第１ナノ繊維層及び前記第２ナノ繊維層は、同じ材料からなることを特徴とする超低発塵拭き取り材の製造方法。
請求項８〜１２のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材の製造方法において、
前記第１ナノ繊維層と前記第２ナノ繊維層とは、異なる材料からなることを特徴とする超低発塵拭き取り材の製造方法。