JP5120089B2 - 処理装置 - Google Patents
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Description
この載置台の上方側から処理ガスを供給して、当該載置台に載置された被処理体に対して処理を行うための処理ガス供給手段と、
前記処理容器内のガスを排気するためのガス排気部と、
前記載置台上の被処理体の各辺に沿って伸びる整流壁を複数連結して、当該被処理体を囲むように構成された整流部材と、
前記整流壁の両端部を支持する支持部材と、
前記支持部材を昇降させることにより、前記載置台の上面と当該載置台の上方の位置との間で前記整流部材を昇降させる昇降機構と、を備え、
前記整流壁は、その上縁が当該整流壁の中央部に向かって連続的に高くなる形状に形成され、下縁が前記載置台の上面と平行に形成されていることを特徴とする。
この載置台の上方側から処理ガスを供給して、当該載置台に載置された被処理体に対して処理を行うための処理ガス供給手段と、
前記処理容器内のガスを排気するためのガス排気部と、
前記載置台上の被処理体の各辺に沿って伸びる整流壁を複数連結して、当該被処理体を囲むように構成された整流部材と、
前記整流壁の両端部を支持する支持部材と、
前記支持部材を昇降させることにより、前記載置台の上面と当該載置台の上方の位置との間で前記整流部材を昇降させる昇降機構と、を備え、
前記整流壁は、第1のブロック材と、この第1のブロック材の上側または下側の少なくとも一方に、当該第1のブロック材を構成する部材よりも密度の低い部材からなる第2のブロック材を接合して構成され、前記第1のブロック材の上下方向の寸法は、当該整流壁の中央部に向かって徐々に大きくなるように形成されていることを特徴とする。
ここで前記第1のブロック材の上下方向の寸法は、前記整流壁の中央部に向かって連続的あるいは段階的に大きくなるように形成されていることが好ましく、前記第1のブロック材はセラミック製であり、前記第2のブロック材は多孔質セラミック製であることが好適である。
3Cl*+Al→AlCl3 …(1)
このとき当該整流壁51はたわみにくい構造となっているので、例えば整流部材5が片当たりした状態で載置台3上に載置されることが防止される。
2、2a、2b
エッチング処理装置
3 載置台
4 上部電極
5 整流部材
7 制御部
20 処理容器
21 側壁部
22 搬入出口
23 ゲートバルブ
24 排気路
32 絶縁部材
33 フォーカスリング
34 昇降ピン
35 昇降機構
40 ガスシャワーヘッド
41 上部電極ベース
42 ガス拡散空間
43 処理ガス供給路
44 処理ガス供給部
45 ガス供給孔
51、51a〜51g
整流壁
52 支持部材
53 支持棒
61 昇降機構
62 昇降板
63 ベローズ
171 整流壁
172 突出部
181 支持棒
511 第1のブロック材
512 第2のブロック材
Claims (7)
- 処理容器の内部に設けられ、被処理体を載置するための載置台と、
この載置台の上方側から処理ガスを供給して、当該載置台に載置された被処理体に対して処理を行うための処理ガス供給手段と、
前記処理容器内のガスを排気するためのガス排気部と、
前記載置台上の被処理体の各辺に沿って伸びる整流壁を複数連結して、当該被処理体を囲むように構成された整流部材と、
前記整流壁の両端部を支持する支持部材と、
前記支持部材を昇降させることにより、前記載置台の上面と当該載置台の上方の位置との間で前記整流部材を昇降させる昇降機構と、を備え、
前記整流壁は、その上縁が当該整流壁の中央部に向かって連続的に高くなる形状に形成され、下縁が前記載置台の上面と平行に形成されていることを特徴とする処理装置。 - 前記整流壁の上縁は、アーチ状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
- 前記整流壁の上縁は、当該整流壁の両端に向かっても徐々に高くなるように形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の処理装置。
- 処理容器の内部に設けられ、被処理体を載置するための載置台と、
この載置台の上方側から処理ガスを供給して、当該載置台に載置された被処理体に対して処理を行うための処理ガス供給手段と、
前記処理容器内のガスを排気するためのガス排気部と、
前記載置台上の被処理体の各辺に沿って伸びる整流壁を複数連結して、当該被処理体を囲むように構成された整流部材と、
前記整流壁の両端部を支持する支持部材と、
前記支持部材を昇降させることにより、前記載置台の上面と当該載置台の上方の位置との間で前記整流部材を昇降させる昇降機構と、を備え、
前記整流壁は、第1のブロック材と、この第1のブロック材の上側または下側の少なくとも一方に、当該第1のブロック材を構成する部材よりも密度の低い部材からなる第2のブロック材を接合して構成され、前記第1のブロック材の上下方向の寸法は、当該整流壁の中央部に向かって徐々に大きくなるように形成されていることを特徴とする処理装置。 - 前記第1のブロック材の上下方向の寸法は、前記整流壁の中央部に向かって連続的あるいは段階的に大きくなるように形成されていることを特徴とする請求項4に記載の処理装置。
- 前記第1のブロック材はセラミック製であり、前記第2のブロック材は多孔質セラミック製であることを特徴とする請求項4または5に記載の処理装置。
- 前記被処理体は角型基板であり、前記整流壁は当該角型基板の各辺に沿って伸びることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一つに記載の処理装置。
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