JP5106160B2 - 発光素子、及び発光素子の製造方法 - Google Patents
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Description
前記一対の電極の一方上に、前記発光材料層として硫化亜鉛化合物である母体材料とアクセプターとドナーとからなる添加元素とから構成される発光材料層と、Cu 2 −Zn−IV−S 4 型で表わされる構成で、該IVはGeまたはSiであり、p型の電気伝導性を示し、バンドギャップが1.5eV以上である化合物半導体層と、を順に積層してなることを特徴とする発光素子である。
前記一対の電極層の一方上に硫化亜鉛化合物である母体材料とアクセプターとドナーとからなる添加元素とから構成された前記発光材料層と、Cu 2 −Zn−IV−S 4 型(該IVはGeまたはSi)で表される化合物半導体層と、を前記基板の温度を400℃以上600℃未満に保持して積層する工程を有し、前記発光材料層と前記化合物半導体層の積層を硫化水素雰囲気中で行うと共に、前記化合物半導体膜は、Cuと、Ge、Siの少なくとも1種類以上を含む硫化亜鉛化合物材料と、を同時に供給することによって形成されることを特徴とすることを特徴とする。
本実施例は、本発明の化合物半導体膜を作製する例である。
以下は、本発明の化合物半導体膜を作製する実施例1に対する比較例である。
本実施例は、本発明の化合物半導体膜を用いた発光膜を作製する第1の例である。
本実施例は、本発明の化合物半導体膜を用いた発光膜を作製する第2の例である。
本実施例は、本発明の発光膜を用いて発光素子を作製する例である。
12 化合物半導体膜
13 発光材料
14 下部電極
15 励起光
16 透明電極
17 発光
18 直流電源
Claims (4)
- 基板と、一対の電極層と、該一対の電極層の間に配した発光材料層と、を有し、前記一対の電極層に直流電源より電圧を印加する発光素子であって、
前記一対の電極の一方上に、前記発光材料層として硫化亜鉛化合物である母体材料とアクセプターとドナーとからなる添加元素とから構成される発光材料層と、Cu 2 −Zn−IV−S 4 型で表わされる構成で、該IVはGeまたはSiであり、p型の電気伝導性を示し、バンドギャップが1.5eV以上である化合物半導体層と、を順に積層してなることを特徴とする発光素子。 - 前記添加元素として、アクセプターはAu、Ag、Cu、Nから、ドナーはAl、Ga、In、F、Cl、Br、Iから、それぞれ1つ以上選ばれることを特徴とする請求項1に記載の発光素子。
- 前記化合物半導体層が、ウルツースタナイト構造を主とすることを特徴とする請求項1または2に記載の発光素子。
- 基板と、一対の電極層と、該一対の電極層の間に配した発光材料層と、を有し、前記一対の電極層に直流電源より電圧を印加する発光素子の製造方法であって、
前記一対の電極層の一方上に硫化亜鉛化合物である母体材料とアクセプターとドナーとからなる添加元素とから構成された前記発光材料層と、Cu 2 −Zn−IV−S 4 型(該IVはGeまたはSi)で表される化合物半導体層と、を前記基板の温度を400℃以上600℃未満に保持して積層する工程を有し、前記発光材料層と前記化合物半導体層の積層を硫化水素雰囲気中で行うと共に、前記化合物半導体膜は、Cuと、Ge、Siの少なくとも1種類以上を含む硫化亜鉛化合物材料と、を同時に供給することによって形成されることを特徴とする発光素子の製造方法。
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