JP5102863B2 - リガンド合成 - Google Patents
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Description
のリガンドの製造方法であって:
式II:
R2−PCl2 (II)
の化合物と式I:
E1、E2およびE3は求電子金属である;
V1、V2およびV3は弱塩基性アニオンである;
X1、X2およびX3は炭素アニオンである;
R15は、−SO3、−SO2N(R18)、−CO2、−PO3、−AsO3、−SiO2、−C(CF3)2Oから選択される;R18は、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基および置換ヒドロカルビル基から選択される)
を含む方法が提供される。
ここにおいて、Qはリン、ヒ素およびアンチモンから選択されるか;あるいはQはリンおよびヒ素から選択されるか;あるいはQはリンである;
E1、E2およびE3は独立して、リチウム、マグネシウム、カリウム、ベリリウム、ナトリウム、スカンジウム、イットリウム、チタン、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウムおよびルテチウムから選択されるか;あるいはE1、E2およびE3は独立して、リチウム、マグネシウム、カリウムおよびナトリウムから選択されるか;あるいはE1、E2およびE3はリチウムである;
V1、V2およびV3は独立して、クロリド、ブロミド、フルオリド、ヨージド、トルエンスルホネート、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネートから選択されるか;あるいはV1、V2およびV3はクロリドである;
X1、X2およびX3は炭素アニオンである;および
R15は、−SO3、−SO2N(R18)、−CO2、−PO3、−AsO3、−SiO2、−C(CF3)2Oから選択されるか;あるいはR15は、−SO3および−SO2N(R18)から選択されるか;あるいはR15は、−SO3である;ここにおいて、R18は、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基および置換ヒドロカルビル基から選択されるか;あるいはR15は、水素;ハロゲン;およびC1−C20アルキル、C3−C20シクロアルキル、C2−C20アルケニル、C2−C20アルキニル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、フェニル、ビフェニル、C1−C20カルボキシレート、C1−C20アルコキシ、C2−C20アルケニルオキシ、C2−C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2−C20アルコキシカルボニル、C1−C20アルキルチオ、C1−C20アルキルスルホニル、C1−C20アルキルスルフィニル、およびシリルから選択される、置換されたまたは置換されていない置換基から選択される。これらの具体例のいくつかの態様において、X1、X2およびX3は全て異なっている。これらの具体例のいくつかの態様において、X2およびX3は同じである。
E1およびE2は独立して、リチウム、マグネシウム、カリウム、ベリリウム、ナトリウム、スカンジウム、イットリウム、チタン、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウムおよびルテチウムから選択されるか;あるいはE1およびE2は独立して、リチウム、マグネシウム、カリウムおよびナトリウムから選択されるか;あるいはE1およびE2はリチウムである;
V1、V2およびV3は独立して、クロリド、ブロミド、フルオリド、ヨージド、トルエンスルホネート、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネートから選択されるか;あるいはV1、V2およびV3はクロリドである;
X1およびX2は炭素アニオンである;
R15は、−SO3、−SO2N(R18)、−CO2、−PO3、−AsO3、−SiO2、−C(CF3)2Oから選択されるか;あるいはR15は、−SO3および−SO2N(R18)から選択されるか;あるいはR15は−SO3である;ここにおいて、R18は、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基および置換ヒドロカルビル基から選択されるか;あるいはR18は、水素;ハロゲン;およびC1−C20アルキル、C3−C20シクロアルキル、C2−C20アルケニル、C2−C20アルキニル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、フェニル、ビフェニル、C1−C20カルボキシレート、C1−C20アルコキシ、C2−C20アルケニルオキシ、C2−C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2−C20アルコキシカルボニル、C1−C20アルキルチオ、C1−C20アルキルスルホニル、C1−C20アルキルスルフィニル、およびシリルから選択される、置換されたまたは置換されていない置換基から選択される。
R15は、−SO3、−SO2N(R18)、−CO2、−PO3、−AsO3、−SiO2、−C(CF3)2Oから選択されるか;あるいは、R15は、−SO3および−SO2N(R18)から選択されるか;あるいはR15は−SO3である;
ここにおいて、R18は、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基および置換ヒドロカルビル基;あるいは、R18は、水素、ハロゲン、および、C1−C20アルキル、C3−C20シクロアルキル、C2−C20アルケニル、C2−C20アルキニル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、フェニル、ビフェニル、C1−C20カルボキシレート、C1−C20アルコキシ、C2−C20アルケニルオキシ、C2−C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2−C20アルコキシカルボニル、C1−C20アルキルチオ、C1−C20アルキルスルホニル、C1−C20アルキルスルフィニル、およびシリルから選択される、置換されたまたは置換されていない置換基から選択される;および
各R20は独立して、水素、ハロゲン、およびC1−C20アルキル、C3−C20シクロアルキル、C2−C20アルケニル、C2−C20アルキニル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、フェニル、ビフェニル、C1−C20カルボキシレート、C1−C20アルコキシ、C2−C20アルケニルオキシ、C2−C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2−C20アルコキシカルボニル、C1−C20アルキルチオ、C1−C20アルキルスルホニル、C1−C20アルキルスルフィニル、およびシリルから選択される、置換されたまたは置換されていない置換基から選択されるか;あるいは、各R20は独立して、水素、フェニルおよび置換フェニルから選択されるか;あるいは、各R20は独立して、水素および置換フェニルから選択されるか;あるいは各R20は独立して、水素およびオルト置換フェニルから選択される。これらの具体例のいくつかの態様において、置換フェニルはオルト置換フェニルである。これらの具体例のいくつかの態様において、オルト置換フェニルは2,6−R16R17−フェニル(式中、R16およびR17は、C1−C20アルキル、C3−C20シクロアルキル、C2−C20アルケニル、C2−C20アルキニル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、フェニル、ビフェニル、C1−C20カルボキシレート、C1−C20アルコキシ、C2−C20アルケニルオキシ、C2−C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2−C20アルコキシカルボニル、C1−C20アルキルチオ、C1−C20アルキルスルホニル、C1−C20アルキルスルフィニル、およびシリルから選択される)である。これらの具体例のいくつかの態様において、オルト置換フェニルは、2,6−ジメトキシフェニルである。
リガンド合成
以下に示す一般的手順に従い、表1に示される量で、表1において特定される成分Aおよび成分Bを用いて、表1に記載する生成物固体が、それぞれ実施例1〜15の報告された収量で調製された。
構造VIのリガンドのカリウム塩の合成
実施例6に従って調製された生成物固体(すなわちリガンド構造VI)の0.45g(0.81ミリモル)サンプルを、激しく撹拌しながら反応フラスコ中50mLのTHFに添加して、リガンド溶液を形成した。別の容器中で、0.10g(0.88ミリモル)のカリウムtert−ブトキシドを20mlのTHF中に溶解させた。得られたカリウムtert−ブトキシド溶液を次いで反応フラスコの内容物に撹拌しながら滴下した。カリウムtert−ブトキシド溶液の添加後、THF溶媒の一部を真空抽出することにより反応フラスコの内容物を減じ、約25mLの生成物溶液が反応フラスコ中に残った。20mLのペンタンを添加することにより、リガンドのカリウム塩を次いで残存する生成物溶液から沈殿させた。沈殿したリガンドのカリウム塩を、微細多孔性フリットを通して濾過することにより回収し、ペンタンで洗浄した(3×20mL)。リガンドのカリウム塩を次いで真空に付して、残存する揮発性物質を除去し、0.40gの暗橙色生成物粉末(0.67ミリモル、83%)が残った。
構造VIIのリガンドの銀塩の合成
実施例7に従って調製した0.75g(1.43ミリモル)の生成物固体(リガンド構造VII)のサンプルを、激しく撹拌しながら、反応フラスコ中50mLのメタノールに添加した。別の容器中、0.23g(1.36ミリモル)の硝酸銀を50mLの脱イオン水中に溶解させた。得られた硝酸銀溶液を次いで、激しく撹拌しながら反応フラスコの内容物に滴下した。反応フラスコの内容物の撹拌は、硝酸銀溶液の添加後20分間続けた。溶媒の一部の真空抽出により、反応フラスコの内容物を次いで減じ、約50mLが残り、灰色沈殿が形成された。微細多孔質フリットを通して濾過することにより沈殿を回収し、水で洗浄した(2×20mL)。リガンドの銀塩を次いで減圧下で乾燥し、暗灰色生成物粉末(0.35g、0.62ミリモル、44%)が残った。
遷移金属触媒錯体の調製
表2に特定された成分Aのサンプルを、撹拌しながら反応フラスコ中、30mLのテトラヒドロフランに添加した。反応フラスコの内容物を、引き続き撹拌しながら、表2において特定された成分Bに添加した。反応フラスコの内容物を次いで30分間撹拌した後、表2において特定された成分Cを添加した。反応フラスコの内容物を次いで真空下で減じ、ペンタンを沈殿に添加して、生成物触媒錯体を沈殿させた。生成物触媒錯体を、微細多孔質フリットを通して濾過することにより集め、ペンタンで洗浄した(2×20mL)。生成物触媒錯体を次いで真空に付して、残存する揮発性物質を除去し、表2に特定される生成物収量が残った。
遷移金属触媒錯体の調製&Heckカップリング
反応フラスコに、0.02g(30マイクロモル)の酢酸パラジウムおよび実施例13に従って調製した0.025g(70マイクロモル)の生成物固体(すなわちリガンド構造XIII)を添加した。内容物を1.5mLのベンゼン中に溶解させた。ブロモベンゼン(50μL、0.21ミリモル)およびメチルアクリレート(50μL、0.58ミリモル)を反応フラスコに添加し、続いて過剰の酢酸ナトリウムを添加した。反応を24時間加熱した。試薬を限定することに基づいて、3−フェニル−アクリル酸メチルエステルへの転化率は30%と決定された。
触媒調製/重合
グローブボックス中、撹拌棒を備えた8mLのセラムバイアルに、パラジウムビス(ジベンジリデンアセトン)(41.1mg、72.0マイクロモル);実施例9に従って調製された生成物固体(すなわち、リガンド構造IX)(45.0mg、86.4μモル)およびトルエン(4.5mL)を添加した。セラムバイアルの内容物を10分間撹拌し、赤/褐色混合物(すなわち、触媒錯体)を得た。
触媒調製/重合
実施例9に従って調製された生成物固体(すなわち、リガンド構造IX)のサンプル(0.640g、1.40ミリモル)を、撹拌しながら反応フラスコ中30mLのTHFに添加した。ジメチルテトラメチルエチレンジアミンパラジウム(II)(0.350g、1.40ミリモル)を次いで撹拌しながら反応フラスコに添加した。反応フラスコの内容物を30分間撹拌した後、乾燥ピリジン(0.185mL、2.1ミリモル)を添加した。反応フラスコの内容物を次いで真空下で減じ、ペンタンを添加して、触媒錯体を沈殿させた。微細多孔質フリットを通して濾過することにより触媒錯体を集め、ペンタンで洗浄した(2×20mL)。触媒錯体を次いで真空に付して、残存する揮発性物質を除去し、白色固体(0.68g、1.09ミリモル、78%)が残った。
重合
グローブボックス中のリアクターセルに、表3において特定されたモノマー成分を添加し、続いてTHF(4.0mL)を添加した。次いで、リアクターセルの内容物を80℃に加熱し、エチレンガスで400psigに加圧した。平衡化後、表3において特定された触媒成分を含有する0.5mLのテトラヒドロフランをリアクターセル中に注入し、続いてテトラヒドロフランリンス(0.5mL)を添加した。60分後、リアクターセルをベントし、冷却した。リアクターセルの内容物を次いでグローブボックスから取り出し、急速に撹拌されたMeOHに添加した。60分間撹拌後、ポリマーを真空濾過し、真空下、60℃で18時間乾燥した。この反応からのランダムコポリマーの生成物収量を表3に記載する。
重合
グローブボックス中、撹拌棒を備えた8mLセラムバイアルに、パラジウムビス(ジベンジリデンアセトン)(41.1mg、72.0μモル);実施例12に従って調製された生成物固体(すなわち、リガンド構造XII)のサンプル(45.0mg、86.4μモル)およびトルエン(4.5mL)を添加した。セラムバイアルの内容物を10分間撹拌し、赤/褐色混合物(すなわち、触媒錯体)を得た。
重合
スチレン(1.0mL、8.73ミリモル)およびノルボルネン(1.0mL、7.98ミリモル、トルエン中85モル%ノルボルネン)をグローブボックス中リアクターセルに添加した。トルエン(4.0mL)を次いでリアクターセルに添加した。リアクターセルの内容物を次いで80℃に加熱し、エチレンガスで400psigに加圧した。平衡化後、実施例18に従って調製された触媒錯体のサンプル(1.6mg、2マイクロモル)を0.5mLトルエン中に溶解させ、リアクターセル中に注入し、続いて0.5mL中のトルエンリンスを添加した。60分後、リアクターセルをベントし、冷却した。リアクターセルの内容物を次いでグローブボックスから取り出し、急速に撹拌されたMeOHに添加した。60分後、得られた混合物をガラスフリット上で濾過し、過剰のMeOHで洗浄し、60℃、真空下で一夜乾燥した。標記反応によりエチレン、スチレンおよびノルボルネンのランダムコポリマー0.20gを得た。
重合
メチルアクリレート(1.0mL、11.1ミリモル)およびノルボルネン(1.0mL、7.98ミリモル、トルエン中85モル%ノルボルネン)をグローブボックス中のリアクターセルに添加した。トルエン(4.0mL)を次いでリアクターセルに添加した。リアクターセルの内容物を次いで80℃に加熱し、エチレンガスで400psigに加圧した。平衡化後、実施例18に従って調製された触媒錯体のサンプル(1.6mg、2マイクロモル)を0.5mLのトルエン中に溶解させ、リアクターセル中に注入し、続いて0.5mLのトルエンリンスを添加した。60分後、リアクターセルをベントし、冷却した。リアクターセルの内容物を次いでグローブボックスから取り出し、急速に撹拌されたMeOHに添加した。60分後、得られた混合物をガラスフリット上で濾過し、過剰のMeOHで洗浄し、60℃、真空下で一夜乾燥した。標記反応により、エチレン、メチルアクリレートおよびノルボルネンのランダムコポリマー0.59gを得た。
重合
メチルアクリレート(1.0mL、11.1ミリモル)およびスチレン(1.0mL、8.73ミリモル)をグローブボックス中のリアクターセルに添加した。トルエン(4.0mL)を次いでリアクターセルに添加した。リアクターセルの内容物を次いで80℃に加熱し、エチレンガスで400psigに加圧した。平衡化後、実施例18に従って調製された触媒錯体のサンプル(1.6mg、2マイクロモル)を0.5mLトルエン中に溶解させ、リアクターセル中に注入し、続いて0.5mLのトルエンリンスを添加した。60分後、リアクターセルをベントし、冷却した。リアクターセルの内容物を次いでグローブボックスから取り出し、急速に撹拌されたMeOHに添加した。60分後、得られた混合物をガラスフリット上で濾過し、過剰のMeOHで洗浄し、60℃、真空下で一夜乾燥した。標記反応により、エチレン、メチルアクリレートおよびスチレンのランダムコポリマー0.81gを得た。
重合
5mLのセラムバイアルに、41.4mg(72マイクロモル)のパラジウムビス(ジベンジリデンアセトン)および53.1mg(86.4マイクロモル)の実施例1に従って調製された生成物固体(すなわち、リガンド構造I)を添加した。このバイアルに、次いで4.5mlのTHFを添加した。セラムバイアルの内容物を数分間撹拌して、触媒錯体を調製した。
重合
5mLのセラムバイアルに、41.4mg(72マイクロモル)のパラジウムビス(ジベンジリデンアセトン)および53.1mg(86.4マイクロモル)の実施例1に従って調製された生成物固体(すなわち、リガンド構造I)を添加した。このバイアルに、4.5mlのTHFを添加した。セラムバイアルの内容物を数分間撹拌して、触媒錯体を調製した。
重合
5mLのセラムバイアルに、41.4mg(72マイクロモル)のパラジウムビス(ジベンジリデンアセトン)および53.1mg(86.4マイクロモル)の実施例1に従って調製された生成物固体(すなわち、リガンド構造I)を添加した。このバイアルに、4.5mlのトルエンを添加した。セラムバイアルの内容物を数分間撹拌して、触媒錯体を調製した。
リガンド合成
重合
バイアルにPd(dba)2(19.8mg、0.0340ミリモル、Pd(C17H14O)2、Alfa Aesar、575.00g/モル)および実施例50の生成物リガンド(20.0mg、0.0390ミリモル、C27H25O6PS、508.53g/モル)を添加した。トルエン(10mL)を次いでバイアルに添加した。バイアルの内容物を激しく振盪して、微量の粒子を有する暗赤色触媒溶液を得た。
Claims (5)
- 式:
ここで、(a)から(c)の反応は、化合物Iの単離および化合物IIの単離をすることなく、同じ容器中で逐次的に行ない;
Qはリンであり;
E1、E2およびE3は独立して、リチウム、マグネシウム、カリウム、およびナトリウムから選択され;
V1、V2およびV3は独立して、クロリド、ブロミド、フルオリド、およびヨージドから選択され;
X1、X2およびX3は炭素アニオンであり;
R15は、−SO3 −であり;
X1(R15)−E1、X2−E2およびX3−E3はそれぞれ下記式I、II、およびIII:
各R20は独立して、水素;ハロゲン;およびC1−C20アルキル、C3−C20シクロアルキル、C2−C20アルケニル、C2−C20アルキニル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、フェニル、ビフェニル、C1−C20カルボキシレート、C1−C20アルコキシ、C2−C20アルケニルオキシ、C2−C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2−C20アルコキシカルボニル、C1−C20アルキルチオ、C1−C20アルキルスルホニル、C1−C20アルキルスルフィニル、およびシリルから選択される、置換されたまたは置換されていない置換基から選択される、
で表されるものである。 - 保護基が使用されない請求項1に記載の方法。
- V1、V2およびV3がクロリドである請求項1に記載の方法。
- X2およびX3の少なくとも1つが、オルト位に2,6−ジメトキシフェニルが置換されたアリール基である請求項1に記載の方法。
- X2およびX3の両方が、オルト位に2,6−ジメトキシフェニルが置換されたアリール基である請求項1に記載の方法。
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