JP5090200B2 - クライオパネル及びこれを用いたクライオポンプ - Google Patents

クライオパネル及びこれを用いたクライオポンプ Download PDF

Info

Publication number
JP5090200B2
JP5090200B2 JP2008029048A JP2008029048A JP5090200B2 JP 5090200 B2 JP5090200 B2 JP 5090200B2 JP 2008029048 A JP2008029048 A JP 2008029048A JP 2008029048 A JP2008029048 A JP 2008029048A JP 5090200 B2 JP5090200 B2 JP 5090200B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
panel
cryopanel
cryopump
disk
vacuum vessel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2008029048A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009057957A (ja
Inventor
良輔 露木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority to JP2008029048A priority Critical patent/JP5090200B2/ja
Priority to US12/166,488 priority patent/US20090038319A1/en
Priority to TW097125605A priority patent/TWI369447B/zh
Priority to KR1020080077737A priority patent/KR100954302B1/ko
Publication of JP2009057957A publication Critical patent/JP2009057957A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5090200B2 publication Critical patent/JP5090200B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B37/00Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
    • F04B37/06Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
    • F04B37/08Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B37/00Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
    • F04B37/02Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by absorption or adsorption
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25BREFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
    • F25B15/00Sorption machines, plants or systems, operating continuously, e.g. absorption type
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25BREFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
    • F25B9/00Compression machines, plants or systems, in which the refrigerant is air or other gas of low boiling point
    • F25B9/002Compression machines, plants or systems, in which the refrigerant is air or other gas of low boiling point characterised by the refrigerant
    • F25B9/004Compression machines, plants or systems, in which the refrigerant is air or other gas of low boiling point characterised by the refrigerant the refrigerant being air
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05BINDEXING SCHEME RELATING TO WIND, SPRING, WEIGHT, INERTIA OR LIKE MOTORS, TO MACHINES OR ENGINES FOR LIQUIDS COVERED BY SUBCLASSES F03B, F03D AND F03G
    • F05B2210/00Working fluid
    • F05B2210/10Kind or type
    • F05B2210/12Kind or type gaseous, i.e. compressible
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S417/00Pumps
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S62/00Refrigeration
    • Y10S62/02Refrigerant pumps

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)

Description

本発明は、クライオポンプに用いられるクライオパネル及びこれを用いたクライオポンプに関する。
半導体製造装置では、高真空を実現するためにクライオポンプが用いられている。クライオポンプは、真空容器内のクライオパネルを冷却し、分子を凝固又は吸着させることによって高真空を実現する。
従来のクライオパネルは、冷却機のステージに結合され、表面がガス流入方向に向けて(水平に)配設される円板状パネルと、この円板状パネルの裏面側に配設されてガス流入方向の下流の方向に延伸する複数の細長板状パネルとを備える。
処理チャンバ内の気体は、真空容器の上部開口より流入し、水分子は主にクライオパネルの上方に配設されるルーバで凝固され、水分子以外のアルゴンや窒素は主に円板状パネルで凝固され、極低温で凍結しない水素やヘリウム等は、細長板状パネルの両面に形成される吸着層に吸着される(例えば、特許文献1参照)。
また、さらに吸着性能を向上させるために、クライオパネルを輻射熱から保護するためのシールドの内面と、このシールドの上部に取り付けられるルーバの下向きの面とに黒色クロムメッキを施したクライオポンプが提案されている(例えば、特許文献2参照)。
特開平2−308985号公報 特開平5−172054号公報
ところで、クライオポンプの主要性能である水素排気速度を向上させるためには、水素分子が吸着層に吸着される確率を向上させなければならない。
しかしながら、特許文献1に記載されているような従来のクライオパネルでは、吸着層が形成される細長板状パネルは、円板状パネルの裏面側(ガス流入方向において円板状パネルよりも下流側)だけに設けられており、また、平面視において、真空容器内で円板状パネルが占める面積比率が大きいため、構造上、排気速度が制限されていた。また、細長板状パネルは、円板状パネルの陰となる真裏では、特に凝固・吸着効率が低かった。
また、特許文献2に記載のクライオポンプにおいても、クライオパネル自体の構造は特許文献1のものと同様であり、吸着層が形成される細長板状パネルは、円板状パネルの裏面側(ガス流入方向において円板状パネルよりも下流側)だけに設けられているため、構造上、排気速度が制限され、円板状パネルの陰となる真裏では、特に凝固・吸着効率が低下するという課題があった。
そこで、本発明は、排気速度と凝固・吸着効率を向上させたクライオパネル及びこれを用いたクライオポンプを提供することを目的とする。
本発明の一局面のクライオパネルは、ガス流入口を有する真空容器と、前記真空容器内に配設されるステージを有し、当該ステージを冷却する冷凍機とを備え、前記ガス流入口から前記真空容器内に流入する分子を凝固又は吸着させるクライオポンプに用いるクライオパネルであって、前記ステージにより保持されて冷却され、一方の面が前記ガス流入口の開口面に向けて配置される第1パネルと、前記第1パネルに支持され、ガス流入方向において前記第1パネルの上流方向に延伸し、少なくとも一方の面に吸着材層が配設される第2パネルとを含み、前記第1パネルは、円板状のパネルであり、かつ、前記第2パネルは、前記円板状の第1パネルの外周方向において放射状に配置される面を有する複数の細板状のパネルであることを特徴とする。
また、前記第2パネルは、前記円板状の第1パネルの外周方向において等角度間隔で放射状に配置されることとしてもよい。

また、前記第2パネルの外縁は、前記円板状の第1パネルの径方向において、前記第1パネルの外縁よりも外側にあってもよい。
また、前記第2パネルは、前記円板状の第1パネルの径方向における中心部において、互いに離間されてもよい。
また、前記第2パネルは、ガス流入方向において前記第1パネルの下流方向にも延伸されてもよい。
また、前記第2パネルは、前記第1パネルに支持される支持部から離れるほど幅が狭くなってもよい。
また、前記第1パネルは、当該第1パネルを厚さ方向に貫通する孔部を有してもよい。
また、イオン注入装置用のクライオポンプに用いられる、請求項1乃至7のいずれか一項に記載のクライオパネル。
本発明の一局面のクライオポンプは、前記いずれかに記載のクライオパネルと、開口部を有し、前記クライオパネルを内部に収容し、前記開口部が前記真空容器のガス流入口に向くように前記冷凍機に接続され、前記クライオパネルを前記真空容器の輻射熱から保護するシールドと、前記シールドの前記開口部に取り付けられるルーバとを含み、前記ルーバの前記ガス流入方向における下流側の面には黒色処理が施される。
本発明によれば、排気速度と凝固・吸着効率を向上させたクライオパネル及びこれを用いたクライオポンプを提供できるという特有の効果が得られる。
以下、本発明のクライオパネル及びこれを用いたクライオポンプを適用した実施の形態について説明する。
図1は、本実施の形態のクライオパネルが用いられるクライオポンプの構造を示す図である。クライオポンプ1は、真空容器2、冷凍機3、シールド4、及びクライオパネル10を含む。
真空容器2は、上部開口2Aを介して、例えば、スパッタ装置やイオン注入装置等の半導体製造装置のプロセスチャンバ(図示せず)に接続される。真空容器2の内部には、冷凍機3のシリンダ(符号6及び7)、シールド4、及びクライオパネル10が配設される。
なお、真空容器2には、粗引き用のポンプ及びパージガス導入用の配管(共に図示せず)が接続され、また、真空容器2とプロセスチャンバとの間にはゲートバルブ(図示せず)が配設される。
冷凍機3には、圧縮機5が接続される。
圧縮機5は、ヘリウムガス等の冷媒ガスを昇圧して冷凍機3に送り、また冷凍機3で断熱膨張した冷媒ガスを回収して再び昇圧する。
冷凍機3は、2段式のGM(Gifford-McMahon)型冷凍機であり、第1段シリンダ6、第2段シリンダ7、及びモータ(図示せず)を含む。第1段シリンダ6と第2段シリンダ7には、互いに連結される第1段ディスプレーサ6A及び第2段ディスプレーサ7Aがそれぞれ内蔵されており、モータによって図中左右方向に往復動されることにより、断熱膨張による寒冷が発生される。
第1段シリンダ6の外周には、第1段冷凍ステージ8Aがろう付される。シールド4は、この第1段冷凍ステージ8Aによって保持される。
このシールド4は、真空容器2の輻射熱からクライオパネル10を保護するためのカップ形状の銅製又はアルミニウム製の部材であり、外側の面にはニッケルメッキ処理が施され、内側の面には黒色クロムメッキ処理が施されている。これは、シールド4の外側では真空容器からの輻射熱を反射させるためにニッケルメッキ処理が適しており、また、内側では、クライオパネル10への熱侵入を防ぐために、熱を吸収する必要があるためである。
このシールド4の上部開口にはルーバ9が配設される。このルーバ9は銅製の円環状のルーバ片が同心円状に配列されたものであり、その表面にはニッケルメッキ処理が施されている。また、このルーバ9は、真空容器2の上部開口2Aに近接して配設され、シールド4の内側に渡されたステー9Aによって支持されている。シールド4及びルーバ9は、第1段冷凍ステージ8Aによって30〜100Kに冷却される。
また、第2段シリンダ7の外周には、第2段冷凍ステージ8Bがろう付けされる。クライオパネル10は、この第2段冷凍ステージ8Bによって保持され、4〜20Kに冷却される。
ここでは、プロセスチャンバ内に、水分子、アルゴン、窒素、水素、ネオン、及びヘリウムが存在するものとして説明する。シールド4及びルーバ9を30〜100Kに冷却すると共に、クライオパネル10を4〜20Kに冷却すると、水分子は主にシールド4及びルーバ9で凝固され、水分子以外のアルゴンや窒素は主にクライオパネル10で凝固される。また、水素、ネオン、ヘリウム等は主にクライオパネル10の表面に形成される活性層(層状の活性炭、以下同様)に吸着される。これにより、プロセスチャンバは排気されて高真空に保持される。
なお、プロセスチャンバ内のガスは、上部開口2Aを介して真空容器2内に流入する。ここでは、ガスの流入方向とは、真空容器の上部開口2Aから下に向かう方向とし、これは、すべての図面において共通である。
図2は、本実施の形態のクライオパネルの構成を示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図である。図2(a)において、クライオパネル10の上方にルーバ9(図1参照)が配設され、下方にシールド4(図1参照)の底部が位置する。
図2(a)及び(b)に示すように、クライオパネル10は、円板状パネル10Aと8枚の板状パネル10Bとを含む。円板状パネル10Aは、第1段冷凍ステージ8Aによって保持される。各板状パネル10Bは、円板状パネル10Aの外周部に等角度間隔で取り付けられ、ガスの流入方向において円板状パネル10Aの上流側及び下流側に延伸するとともに、円板状パネル10Aの外周(の径方向位置)よりも外側まで延出するように取り付けられている。なお、各板状パネル10Bは、円板状パネル10Aの径方向における中心部において互いに離間されており、また、板状パネル10Bの上流方向の長さと下流方向の長さは同一に設定されている。
円板状パネル10A及び8枚の板状パネル10Bは、共に銅製で、めっき仕上げがなされる。また、各板状パネル10Bの両面には、水素、ネオン、ヘリウム等を吸着するための活性層(図示せず)が接着される。なお、円板状パネル10A及び板状パネル10Bは、半田付け又はネジ止め等により接合されていてもよいし、一体成形されていてもよい。
このように、本実施の形態のクライオパネル10は、ガスの流入方向において円板状パネル10Aの上流側及び下流側に延伸するとともに、円板状パネル10Aの外周(の径方向位置)よりも外側まで延出する板状パネル10Bを有する。このため、従来のように円板状パネルの下流側にしか板状パネルを有しないクライオパネルに比べて、十分な表面積を確保することができる。
これにより、排気速度を向上させることができる。特に、活性層が形成される板状パネル10Bの表面積が増大するため、冷却しても凝固しない水素、ネオン、ヘリウム等の吸着率を向上させることができる。
また、活性層が形成される板状パネル10Bが円板状パネル10Aの上流側にも存在することにより、従来のように円板状パネルの下流側で陰になることにより低下していた凝固・吸着効率を改善することができる。
また、板状パネル10Bがガスの流入方向において円板状パネル10Aから上流側及び下流側に同一の長さを有するようにすれば、第2段冷凍ステージ8B(図1参照)によって冷却される際に、上流方向と下流方向における温度分布を抑制することができ、凝固させることのできない水素、ネオン、ヘリウム等を均等に吸着させることができる。
また、板状パネル10Bが円板状パネル10Aの外周(の径方向位置)よりも外側まで延出しているので、ガス流入方向に沿って十分な流路を確保することができる。これにより、排気速度の向上を図ったクライオパネル10を提供することができる。
また、各板状パネル10Bは、円板状パネル10Aの径方向における中心部において互いに離間されているので、各板状パネル10Bの中心部において十分な流路を確保することができる。
また、円板状パネル10Aの上流側と下流側とで、吸着率の異なる活性層を板状パネル10Bに形成してもよい。活性層に吸着される水素、ネオン、ヘリウム等の割合は、下流側よりも上流側の方が高いので、下流側よりも上流側の活性層の吸着率を高く設定することにより、より効率よく水素を吸着することができる。
なお、板状パネル10Bも4〜20Kまで冷却されるため、板状パネル10Bが円板状パネル10Aの上流側及び下流側に延伸されて表面積が拡大することにより、水素、ネオン、ヘリウム等だけでなく、アルゴンや窒素の凝固率も向上する。このため、円板状パネル10Aの直径を多少小さくしても、従来のクライオパネルよりもアルゴン及び窒素の凝固率を高く保持できる。このように円板状パネル10Aの直径を小型化できる場合は、上流側から下流側にかけてのガスの流入効率を向上させることができる。
また、図2には、冷凍機3の第1段冷凍ステージ8A及び第2段冷凍ステージ8Bが真空容器2の横方向から挿入される、いわゆる横型のクライオポンプを示す。このような横型のクライオポンプでは、複数ある板状パネル10Bのうち、一部の板状パネル10Bを上流側のみに延伸させて、第2段冷凍ステージ8Bを避ける必要が生じる場合がある。このような場合には、本実施の形態のクライオパネル10における板状パネル10Bの長さを適宜変更すればよい。なお、本実施の形態のクライオパネル10は、冷凍機3のステージが真空容器の上方向又は下方向から挿入される、いわゆる縦型のクライオポンプに用いることもできる。
「変形例1」
図3は、本実施の形態の変形例1のクライオパネルを示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図である。
このクライオパネル20は、図2に示すクライオパネル10とは異なり、板状パネル20Bの径方向の端部は、円板状パネル20Aの外周(の径方向位置)と同じ位置に設定されている。円板状パネル20Aの直径は、図2に示す円板状パネル10Aと同一であり、また、板状パネル10Bは、ガスの流入方向において円板状パネル10Aから上流側及び下流側に同一の長さを有する。
このようなクライオパネル20によっても、排気速度を向上させることができ、特に、活性層が形成される板状パネル10Bの表面積が増大するため、冷却しても凝固しない水素、ネオン、ヘリウム等の吸着率を向上させることができる。
また、活性層が形成される板状パネル10Bが円板状パネル10Aの上流側にも存在することにより、従来のように円板状パネルの下流側で陰になることにより低下していた凝固・吸着効率を改善することができる。
「変形例2」
図4は、本実施の形態の変形例2のクライオパネルを示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図である。
このクライオパネル30は、図2に示すクライオパネル10とは異なり、板状パネル30Bの径方向の端部は、円板状パネル30Aの外周(の径方向位置)と同じ位置に設定されている。また、各板状パネル30Bは、径方向の中心で接合されている。
また、円板状パネル30Aの直径は、図2に示す円板状パネル10Aと同一であり、また、板状パネル10Bは、ガスの流入方向において円板状パネル10Aから上流側のみに延伸している。
このようなクライオパネル30によっても、活性層が形成される板状パネル30Bが円板状パネル10Aの上流側に存在することにより、従来のように円板状パネルの下流側で陰になることにより低下していた凝固・吸着効率を改善することができる。
また、各板状パネル30Bは、円板状パネル30Aの上流側のみに配設されるが、径方向の中心で接合されており、これにより活性層が形成される面積が増大するため、凝固・吸着効率を改善することができる。
「変形例3」
図5は、本実施の形態の変形例3のクライオパネルを示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図である。
このクライオパネル40の板状パネル40Bは、クライオパネル30の板状パネル30Bとは異なり、径方向中心付近には設けられていない。クライオパネル40は、円板状パネル40Aの一方の面に8枚の板状パネル40Bを接合したものを2つ接合することによって作製される。この結果、図3に示すクライオパネル20と略同一の形状のクライオパネル40が得られる。
このようなクライオパネル40によっても、排気速度を向上させることができ、特に、活性層が形成される板状パネル40Bの表面積が増大するため、冷却しても凝固しない水素、ネオン、ヘリウム等の吸着率を向上させることができる。
また、活性層が形成される板状パネル40Bが円板状パネル40Aの上流側にも存在することにより、従来のように円板状パネルの下流側で陰になることにより低下していた凝固・吸着効率を改善することができる。
さらに、図4に示すクライオパネル30が2つ接合されたような形状を有するため、容易に作成することができる。
「変形例4」
図6は、本実施の形態の変形例4のクライオパネルを示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図である。
このクライオパネル50は、図2に示すクライオパネル10とは異なり、板状パネル50Bは、ガスの流入方向において、円板状パネル50Aの上流及び下流における先端側に行くに従って、径方向の幅が狭くなる形状を有する。その他は、図2に示すクライオパネル10と同一である。
このようなクライオパネル50では、排気速度の向上(特に、水素、ネオン、ヘリウム等の吸着率の向上)を図ることができるとともに、円板状パネル50Aによって支持される支持部から離れるに従って板状パネル50Bの幅を狭くすることにより、上流側から下流側にかけての板状パネル50Bの温度分布をさらに改善することができる。
「変形例5」
図7は、本実施の形態の変形例5のクライオパネルを示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図である。
このクライオパネル60は、図3に示すクライオパネル20とは異なり、板状パネル60Bは、ガスの流入方向において、円板状パネル60Aの上流及び下流における先端側に行くに従って、径方向の幅が狭くなる形状を有する。その他は、図3に示すクライオパネル20と同一である。
このようなクライオパネル60では、排気速度の向上(特に、水素、ネオン、ヘリウム等の吸着率の向上)を図ることができるとともに、円板状パネル60Aから離れるに従って板状パネル60Bの径方向幅を狭くすることにより、上流側から下流側にかけての板状パネル60Bの温度分布をさらに改善することができる。
「変形例6」
図8は、本実施の形態の変形例6のクライオパネルを示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図である。
このクライオパネル70は、図3に示すクライオパネル20とは異なり、円板状パネル70Aは、厚さ方向に貫通する孔部70Cを有する。その他は、図3に示すクライオパネル20と同一である。
このようなクライオパネル70では、図3に示すクライオパネル20と同様に排気速度の向上(特に、水素、ネオン、ヘリウム等の吸着率の向上)を図ることができるとともに、円板状パネル70Aに形成される孔部70Cにより、ガス流入方向に沿って図3に示すクライオパネル20よりも十分な流路を確保することができる。
また、この孔部70Cにより、従来のように円板状パネルの下流側で陰になることにより低下していた凝固・吸着効率を改善することができる。
図9は、本実施の形態のクライオパネルに含まれる板状パネルの変形例を示す正面図である。本実施の形態のクライオパネルは、図9(a)に示す逆台形状、同図(b)に示す長方形状、又は、同図(c)に示す台形状のいずれの形状を任意に組み合わせることができる。例えば、図9(a)に示す逆台形状の板状パネル90Bを円板状パネルの上流側に配設するとともに、図9(b)に示す台形状の板状パネル90Bを円板状パネルの下流側に配設してもよい。
「変形例7」
以下、本実施の形態の変形例7として、変形例1のクライオパネル20を用いたクライオポンプについて説明する。この変形例7のクライオポンプは、変形例1のクライオパネル20を用いたクライオポンプにおいて、ルーバ9の裏側の面(ガス流入方向における下流側の面)に黒色処理を施したものである。
図10及び図11は、本実施の形態の変形例7のクライオポンプを示す平面図及び斜視図である。これらの図に示すように、シールド4は真空容器2の内面2aと一定の間隔を隔てて同心状に配設されており、ルーバ9はシールド4の内面4aにネジ止めされたステー9Aに搭載されている。ステー9Aは2本あり、平面視において互いに直交するように配設されている。図1にはステー9Aの下側(下流側)にもルーバ9が配設されている形態を示すが、この変形例7では、ルーバ9はステー9Aの上側(上流側)にのみ配設されている。
ルーバ9は、表側の面(ガス流入方向における上流側の面)にはニッケルメッキ処理が施され、裏側の面には、超微粒子のグラファイトを主成分とするフッ素樹脂系の黒色スプレーによって塗装処理が施されている。なお、ステー9Aについても同様に、表側の面(ガス流入方向における上流側の面)にはニッケルメッキ処理が施され、裏側の面(ガス流入方向における下流側の面)には黒色処理が施されることが望ましい。
なお、既述のように、シールド4の外側の面にはニッケルメッキ処理が施され、内側の面には黒色クロムメッキ処理が施されている。
図12は、本実施の形態の変形例7のクライオポンプの冷却性能を示す特性図であり、横軸は輻射熱(W)、縦軸はクライオパネル20の温度(K)を示す。この特性図では、ルーバ9の裏面側に黒色塗装が施されているクライオポンプと、ルーバ9の裏面側に黒色塗装が施されていないクライオポンプとを比較して示す。なお、この特性を得るにあたり、ルーバ9の上方にヒータを設置し、このヒータの出力を輻射熱のエネルギとして測定を行った。
図12に示すように、ルーバ9の裏側に黒色塗装が施されていないクライオポンプにおけるクライオパネル20の温度は、輻射熱が0(W)のときは約12(K)であるが、輻射熱のエネルギの増大に伴って上昇し、輻射熱が約13(W)のときに14(K)を超え、輻射熱が30(W)になると約15(K)にまで上昇している。
これに対して、ルーバ9の裏面側に黒色塗装が施されているクライオポンプにおけるクライオパネル20の温度は、輻射熱が0(W)のときは、約11.5(K)であり、輻射熱が8(W)のときに12(K)となり、輻射熱が30(W)に上昇しても約13(K)に上昇するに過ぎず、黒色塗装が施されていないルーバ9を備えるクライオポンプよりも温度上昇が抑制されている。
このようにクライオパネル20の冷却特性が改善された理由は次のように考えられる。ルーバ9は、真空容器2内においてクライオパネル20を輻射熱から保護するとともに、クライオパネル20にガスを導く必要があるので、平面視では図10に示すようにクライオパネル20を覆うが、斜め上方から見ると図11に示すように、クライオパネル20を完全には覆っていない。このため、クライオパネル20への輻射熱の伝達を完全に遮断することはできない。
ところが、ルーバ9の裏面に黒色塗装を施すことにより、ルーバ9を通過した輻射熱はルーバ9の裏面側の黒色塗装部分で吸収され、その分、クライオパネル20に伝達される輻射熱が減少する。これにより、クライオパネル20の冷却特性が改善されたと考えられる。
このように、変形例7のクライオポンプによれば、クライオパネル20の温度を14(K)以下に抑えることができるので、冷却しても凝固しない水素、ネオン、ヘリウム等の吸着率を向上させることができる。特に、輻射熱が弱い(約8(W)以下の領域)では、クライオパネル20を12(K)以下に冷却することができるので、非常に良好な吸着性能を得ることができる。
以上のように、本実施の形態の変形例7のクライオポンプによれば、ガスの流入方向において円板状パネル20Aの上流側及び下流側に延伸する板状パネル20Bを有するクライオパネル20を用いることにより、従来のように円板状パネルの下流側にしか板状パネルを有しないクライオパネルに比べて、十分な表面積を確保しつつ、これに加えて、ルーバ9の裏側の面に黒色処理を施すことにより、さらに排気速度を向上させることができる。これにより、クライオパネル20の冷却温度をさらに低下させることができ、吸着量をさらに向上させたクライオポンプを提供することができる。
なお、以上では、ルーバ9(及びステー9A)に施す黒色処理として、超微粒子のグラファイトを主成分とするフッ素樹脂系の黒色スプレーによって塗装処理を行う形態について説明したが、フッ素樹脂系以外の塗料を塗布してもよく、黒色クロムメッキを施してもよい。
また、図1に示すように、ルーバ9がステー9Aの下側(下流側)にも配設される場合は、ステー9Aの下側に配設されるルーバ9の上側(上流側)の面にニッケルメッキ処理を施し、下側(下流がw)の面に黒色クロムメッキ処理を施してもよい。
また、以上では、シールド4の内側の面に黒色クロムメッキ処理を施す形態について説明したが、ルーバ9の裏面と同様に、黒色塗装を施してもよい。
以上、本発明の例示的な実施の形態のクライオパネル及びこれを用いたクライオポンプについて説明したが、本発明は、具体的に開示された実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲から逸脱することなく、種々の変形や変更が可能である。
本実施の形態のクライオパネルが用いられるクライオポンプの構造を示す図である。 本実施の形態のクライオパネルの構成を示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図である。 本実施の形態の変形例1のクライオパネルを示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図である。 本実施の形態の変形例2のクライオパネルを示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図である。 本実施の形態の変形例3のクライオパネルを示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図である。 本実施の形態の変形例4のクライオパネルを示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図である。 本実施の形態の変形例5のクライオパネルを示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図である。 本実施の形態の変形例6のクライオパネルを示す図であり、(a)は正面図、(b)は平面図である。 本実施の形態のクライオパネルに含まれる板状パネルの変形例を示す正面図である。 本実施の形態の変形例7のクライオポンプを示す平面図である。 本実施の形態の変形例7のクライオポンプを示す斜視図である。 本実施の形態の変形例7のクライオポンプの冷却性能を示す特性図である。
符号の説明
1 クライオポンプ
2 真空容器
2a 内面
3 冷凍機
4 シールド
4a 内面
5 圧縮機
6 第1段シリンダ
6A 第1段ディスプレーサ
7 第2段シリンダ
7A 第2段ディスプレーサ
8A 第1段冷凍ステージ
8B 第2段冷凍ステージ
9 ルーバ
9A ステー
10、20、30、40、50、60、70 クライオパネル
10A、20A、30A、40A、50A、60A、70A 円板状パネル
10B、20B、30B、40B、50B、60B、70B、80B 板状パネル
70C 孔部

Claims (8)

  1. ガス流入口を有する真空容器と、前記真空容器内に配設されるステージを有し、当該ステージを冷却する冷凍機とを備え、前記ガス流入口から前記真空容器内に流入する分子を凝固又は吸着させるクライオポンプに用いるクライオパネルであって、
    前記ステージにより保持されて冷却され、一方の面が前記ガス流入口の開口面に向けて配置される第1パネルと、
    前記第1パネルに支持され、ガス流入方向において前記第1パネルの上流方向に延伸し、少なくとも一方の面に吸着材層が配設される第2パネルと、を含み、
    前記第1パネルは、円板状のパネルであり、かつ、前記第2パネルは、前記円板状の第1パネルの外周方向において放射状に配置される面を有する複数の細板状のパネルである、クライオパネル。
  2. 前記第2パネルの外縁は、前記円板状の第1パネルの径方向において、前記第1パネルの外縁よりも外側にある、請求項1に記載のクライオパネル。
  3. 前記第2パネルは、前記円板状の第1パネルの径方向における中心部において、互いに離間される、請求項1又は2に記載のクライオパネル。
  4. 前記第2パネルは、ガス流入方向において前記第1パネルの下流方向にも延伸される、請求項1乃至3のいずれか一項に記載のクライオパネル。
  5. 前記第2パネルは、前記第1パネルに支持される支持部から離れるほど幅が狭くなる、請求項1乃至4のいずれか一項に記載のクライオパネル。
  6. 前記第1パネルは、当該第1パネルを厚さ方向に貫通する孔部を有する、請求項1乃至5のいずれか一項に記載のクライオパネル。
  7. イオン注入装置用のクライオポンプに用いられる、請求項1乃至6のいずれか一項に記載のクライオパネル。
  8. 請求項1乃至7のいずれか一項に記載のクライオパネルと、
    開口部を有し、前記クライオパネルを内部に収容し、前記開口部が前記真空容器のガス流入口に向くように前記冷凍機に接続され、前記クライオパネルを前記真空容器の輻射熱から保護するシールドと、
    前記シールドの前記開口部に取り付けられるルーバと
    を含み、
    前記ルーバの前記ガス流入方向における下流側の面には黒色処理が施される、クライオポンプ。
JP2008029048A 2007-08-08 2008-02-08 クライオパネル及びこれを用いたクライオポンプ Active JP5090200B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008029048A JP5090200B2 (ja) 2007-08-08 2008-02-08 クライオパネル及びこれを用いたクライオポンプ
US12/166,488 US20090038319A1 (en) 2007-08-08 2008-07-02 Cryopanel and Cryopump Using the Cryopanel
TW097125605A TWI369447B (en) 2007-08-08 2008-07-07 Cryopanel and cryopump using the cryopanel
KR1020080077737A KR100954302B1 (ko) 2007-08-08 2008-08-08 크라이오패널 및 이를 이용한 크라이오펌프

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007206907 2007-08-08
JP2007206907 2007-08-08
JP2008029048A JP5090200B2 (ja) 2007-08-08 2008-02-08 クライオパネル及びこれを用いたクライオポンプ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009057957A JP2009057957A (ja) 2009-03-19
JP5090200B2 true JP5090200B2 (ja) 2012-12-05

Family

ID=40553906

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008029048A Active JP5090200B2 (ja) 2007-08-08 2008-02-08 クライオパネル及びこれを用いたクライオポンプ

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5090200B2 (ja)
KR (1) KR100954302B1 (ja)
TW (1) TWI369447B (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102743894B (zh) * 2011-04-20 2015-03-11 住友重机械工业株式会社 冷阱及真空排气装置
JP5398780B2 (ja) * 2011-05-12 2014-01-29 住友重機械工業株式会社 クライオポンプ
JP2013159841A (ja) * 2012-02-08 2013-08-19 Tokyo Electron Ltd 成膜装置
JP6053588B2 (ja) * 2013-03-19 2016-12-27 住友重機械工業株式会社 クライオポンプ、及び非凝縮性気体の真空排気方法
JP6084119B2 (ja) * 2013-05-27 2017-02-22 住友重機械工業株式会社 クライオポンプ
KR101667953B1 (ko) * 2015-06-02 2016-10-28 현민지브이티 주식회사 크라이오펌프의 배플 제조 방법
CN107489604A (zh) * 2017-09-26 2017-12-19 安徽万瑞冷电科技有限公司 一种大容量低温泵及其工作方法
CN112523993A (zh) * 2020-12-03 2021-03-19 安徽万瑞冷电科技有限公司 吸附阵及具有该吸附阵的低温泵
KR20230154172A (ko) * 2021-03-11 2023-11-07 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 크라이오펌프
CN117167234B (zh) * 2023-10-30 2024-02-06 苏州八匹马超导科技有限公司 低温泵吸附阵及低温泵

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2780232B2 (ja) * 1989-05-22 1998-07-30 ダイキン工業株式会社 クライオポンプにおけるクライオパネル
JPH0347484A (ja) * 1989-07-12 1991-02-28 Sanyo Electric Co Ltd クライオポンプ
JPH0518356A (ja) * 1991-07-12 1993-01-26 Sanyo Electric Co Ltd クライオポンプ
JPH05172054A (ja) * 1991-12-20 1993-07-09 Ulvac Japan Ltd クライオポンプ
JPH0658258A (ja) * 1992-08-07 1994-03-01 Fujitsu Ltd クライオポンプ
JP3615247B2 (ja) * 1994-10-13 2005-02-02 三洋電機株式会社 クライオポンプ装置
JPH08121337A (ja) * 1994-10-21 1996-05-14 Daikin Ind Ltd クライオパネル
JP3609474B2 (ja) * 1995-02-14 2005-01-12 アルバック・クライオ株式会社 クライオポンプ
JP3966370B2 (ja) * 1997-12-02 2007-08-29 アルバック・クライオ株式会社 クライオポンプ
JP2000205125A (ja) 1999-01-11 2000-07-25 Seiko Epson Corp クライオポンプ
JP2003021062A (ja) * 2001-07-10 2003-01-24 Sumitomo Heavy Ind Ltd クライオポンプ
JP2006046242A (ja) * 2004-08-06 2006-02-16 Foundation For The Promotion Of Industrial Science クライオポンプ
US7313922B2 (en) 2004-09-24 2008-01-01 Brooks Automation, Inc. High conductance cryopump for type III gas pumping

Also Published As

Publication number Publication date
TWI369447B (en) 2012-08-01
JP2009057957A (ja) 2009-03-19
KR100954302B1 (ko) 2010-04-23
KR20090015855A (ko) 2009-02-12
TW200923209A (en) 2009-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5090200B2 (ja) クライオパネル及びこれを用いたクライオポンプ
JP6475211B2 (ja) クライオポンプ
JP5527110B2 (ja) クライオポンプ
JP5552693B2 (ja) クライオポンプルーバ拡張部
JP4980180B2 (ja) クライオパネル
JP2009162074A (ja) クライオポンプ及び真空排気方法
JP6659930B2 (ja) クライオポンプ・ハイブリッド前面アレイ
US20090038319A1 (en) Cryopanel and Cryopump Using the Cryopanel
JP2010014066A (ja) クライオポンプ
JP6338403B2 (ja) クライオポンプ及び真空排気方法
JP2005515386A (ja) 2段パルス管冷凍機を備えたクライオポンプ
JPWO2005050018A1 (ja) クライオポンプ
JP4980181B2 (ja) クライオパネル
JP7339950B2 (ja) クライオポンプ
TWI791676B (zh) 具強化前陣列之低溫泵
JP2010048132A (ja) クライオポンプ
JP4751377B2 (ja) クライオポンプ
JP4980179B2 (ja) クライオパネル
JP4182905B2 (ja) コールドトラップおよび真空排気装置
US7201004B2 (en) Panels for pulse tube cryopump
JP4228840B2 (ja) コールドトラップおよび真空排気装置
TWI838647B (zh) 低溫泵
WO2005050017A1 (ja) クライオポンプ
JPH04370378A (ja) クライオポンプ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100511

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120131

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120207

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120329

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120911

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120912

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150921

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5090200

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150