JP5082842B2 - ガラス部材、読み取りガラス、それを用いた読取装置及び画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、耐摩耗性および防汚性に優れたガラス部材、ＰＰＣ複写機のスキャナー等に搭載される読み取りガラス、それを用いた読取装置及び画像形成装置に関する。

例えば、原稿を光学的に読み取る読取装置においては、原稿を焦点位置に正しく規制、配置させることを目的とした光透過部材が用いられている。このような光透過部材は、ガラスそのものか、ガラス表面に帯電防止性や潤滑性を付与する加工を施したものを用いている。光透過部材としては、前記読み取りガラス以外の用途としては、各種レンズ、窓ガラス等が挙げられる。

電子写真方式を用いた自動原稿給紙タイプ複写機の読み取りガラスには、上記述べたような高表面滑性と帯電防止を兼ね備えた光透過部材が採用されるようになってきている。

原稿供給時に発生する静電気による紙詰りを防止するため、読み取りガラスの表面をＩＴＯ膜（錫をドープした酸化インジウムからなる膜）や酸化錫膜などの透明導電膜で被覆して静電気が発生しないようにする技術が開示されている（例えば、特許文献１〜３参照。）。また、読み取りガラス表面の摩擦係数が大きいと紙詰りを起こし易くなるため、ガラス表面に潤滑剤を塗布することが行われている。

特許文献１には、読み取りガラス表面全面に導電性膜を付与し、該導電性膜上に摩擦低減処理を施し、原稿との摩擦が高い部分と低い部分とを形成し、搬送ローラが当接する部分は低摩擦とすることにより、搬送性を向上することを特徴とする。

特許文献２には、読み取りガラスを酸化錫膜で被覆し、表面の表面粗さＲａを３ｎｍ以下にしたことを特徴とする。

特許文献３には、読み取りガラスの少なくとも一方の表面に、ＩＴＯ膜を１５ｎｍ〜２０ｎｍ形成することを特徴とする。

しかしながら、上記の従来例では、以下に示す欠点がある。当然ながら、このようなガラス部材を、スキャナーの読み取りガラス以外の用途のガラス部材として用いた場合においても、耐摩擦性や防汚性といった性能において劣ってしまう。

（１）上記に示される帯電防止膜は、いずれも鉛筆硬度ＨＢ〜５Ｈの硬度であり、これらの帯電防止膜上に積層された低摩擦層は、その膜自体が頑強でも、その下の帯電防止膜（透明導電膜）が弱いため、紙との摩擦により剥がれてしまう。読み取りガラス表面の導電膜が形成されている部分と膜剥がれが生じた部分で透過率が２〜３％程度異なり、膜剥がれが生じたところは、厳密には画像品質劣化を生じてしまう。さらには、膜剥がれが生じた部分に粘着物などの異物が堆積し、黒スジなどの故障が発生する。

（２）膜剥がれが生じそうな部分にはあらかじめ膜を形成しない方法に関しては、膜のある部分と無い部分とで透過率が異なり、濃度の低い灰色などの原稿画像では、境界の微妙な透過率の差が実画像として顕在化してしまう場合がある。さらに、膜無し部との境界での微小な段差に汚れが付着し、画像劣化を促進させる恐れがある。
（３）さらに、前記従来例の問題として、用いられるシリコン系やフッ素系などの潤滑剤は、原稿をスムーズに低摩擦で搬送させる機能はあるが、原稿が持ち込む紙粉、粘着剤などに対し、付着抑制効果は十分でなかった。特に、フッ素系の潤滑層は、フッ素原子が大きいがゆえに分子構造が固定化され、外力（原稿による摩耗耐性）に弱いという欠点があった。
特開平８−６１７７号公報 特開平９−２０８２６４号公報 特開２００２−３２８４３９号公報

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、その目的は、耐摩擦性、帯電防止性、防汚性に優れたガラス部材、該ガラス部材をスキャナー等の読み取りガラスとして用いた場合には、該読み取りガラスにトナーやほこり、粘着剤等が付着し難く、これにより黒点、黒筋などの複写画質の低下が防止できる読み取りガラス、及び、該読み取りガラスを用いた読取装置及び画像形成装置を提供することにある。

本発明の上記目的は、下記構成により達成された。
１．ガラス基材の少なくとも１面に、他の層を介さずに直接フッ素原子含有膜を有し、該フッ素原子含有膜の元素組成が、フッ素原子が３０原子数％を超え、かつフッ素原子に対する酸素原子の原子数比率（Ｏ／Ｆ）が０．２を超え、１．０未満であり、前記ガラス基材は、前記フッ素原子含有膜を塗設する前に、その表面にコロナ処理、プラズマ処理、大気圧プラズマ処理及び火炎処理から選ばれる少なくとも一つの活性化処理を行うことを特徴とするガラス部材。
２．原稿を光学的に読み取るスキャナーの光源と原稿との間に位置する読み取りガラスであって、ガラス基材の少なくとも１面に、他の層を介さずに直接フッ素原子含有膜を有し、該フッ素原子含有膜の元素組成が、フッ素原子が３０原子数％を超え、かつフッ素原子に対する酸素原子の原子数比率（Ｏ／Ｆ）が０．２を超え、１．０未満であり、前記ガラス基材は、前記フッ素原子含有膜を塗設する前に、その表面にコロナ処理、プラズマ処理、大気圧プラズマ処理及び火炎処理から選ばれる少なくとも一つの活性化処理を行うことを特徴とする読み取りガラス。

３．前記活性化処理が、大気圧プラズマ処理であることを特徴とする前記２に記載の読み取りガラス。

４．前記フッ素原子含有膜は、少なくとも４ｎｍ以下の光学膜厚の箇所が存在することを特徴とする前記２又は３に記載の読み取りガラス。

５．前記ガラス基材のフッ素原子含有膜を有する面とは反対の面が、帯電防止層を有することを特徴とする前記２〜４のいずれか１項に記載の読み取りガラス。

６．前記ガラス基材の両面が、前記フッ素原子含有膜を有することを特徴とする前記２〜４のいずれか１項に記載の読み取りガラス。

７．前記フッ素原子含有膜を付与する工程が、ウェット塗布方式であることを特徴とする前記２〜６のいずれか１項に記載の読み取りガラス。

８．前記２〜７のいずれか１項に記載の読み取りガラスを用いることを特徴とする読取装置。

９．前記８に記載の読取装置を備えていることを特徴とする画像形成装置。

本発明により、ガラス基材上に膜強度の高い低摩擦の薄膜を形成することができ、汚れ難く、搬送性に優れたガラス部材を簡易で、かつ低コストで提供することができ、加えて、ガラス部材の裏面に透明導電膜を形成することにより、導電膜の摩擦耐久性の低さの問題を解消すると共に、ガラス表面の帯電を防止し、静電気によるゴミ付着を防止したガラス部材と、それを読み取りガラスとして用いた読取装置及び画像形成装置を提供することができた。

２ステップ型の大気圧プラズマ装置の一例を示す概略構成図である。 本発明の読み取りガラスを用いた画像形成装置の一例を示す断面構成図である。

符号の説明

３、７ 角形電極
４ 基材
８ 移動架台電極（第１電極）
９ 支持台
１０ 放電ガス
１１ 薄膜形成ガス
１２ 補助ガス
１３ 放電ガス
１４ 酸化ガス
３１、３３、３５ 高周波電源
１０１ 画像形成装置
１２２、１２４ 給紙トレイ
１３０、１３１ ミラーユニット
１３５ ＣＣＤ
Ａ 自動原稿搬送装置（通称ＡＤＦ）
Ｂ 原稿画像読取部
Ｄ 書き込み部
Ｅ 画像形成部
Ｇ 読み取りガラス
Ｈ 定着手段

以下、本発明を更に詳細に説明する。

本発明は、上記課題に対し、ガラス基材の外表面にフッ素原子含有膜を塗設し、該フッ素原子含有膜の元素組成を、フッ素原子が３０原子数％を超え、かつフッ素原子に対する酸素原子の原子数比率（Ｏ／Ｆ）が０．２を超え、１．０未満であることを特徴としたガラス部材もしくは読み取りガラスにより、耐久性の高い低摩擦層が得られ、汚れの付着を防止し、搬送性（潤滑性）を向上することができたものである。

本発明において、フッ素原子含有膜の元素組成として、フッ素原子が３０原子数％を超える条件とするための一手段として、ガラス基材の表面を後述する活性化処理を施した後に、他の層を介さず直接、フッ素原子含有液を塗布して設けることが好ましい。同じ塗布液であっても、ガラス基材の表面を活性化したものは、フッ素原子含有膜のフッ素原子数濃度を高くすることができる。フッ素原子含有塗布液としては後述のものが好ましく用いられる。

また、フッ素原子含有膜の元素組成として、フッ素原子に対する酸素原子の原子数比率（Ｏ／Ｆ）が０．２を超え、１．０未満の条件とするためには、この組成範囲にあるフッ素原子含有塗布液を選択することで達成でき、後述のものが好ましく用いられる。

本発明に係るフッ素原子含有塗布液を構成するフッ素原子含有膜形成用化合物としては、特に制限はないが、フッ素原子を含有するシランカップリング剤を用いることが好ましい。

本発明に好ましく用いられるシランカップリング剤としては、膜が形成された表面のＸＰＳによる元素組成が、本発明で規定する特定の原子数範囲となるものであれば特に制限されないが、分子構造中にフッ化アルキル間を酸素で結合した置換基を有することが好ましく、例えば、フルオロエーテル系のパーフロロアルコキシパーフロロアルコキシトリイソプロポキシシラン等であり、置換基中に酸素原子を含有させることにより置換基がフレキシブル構造となり、薄膜で、膜強度の高い低摩擦性の薄膜を形成することができることを見いだした。これらのシランカップリング剤としては、例えばダイキン社製オプツールＤＳＸ、旭ガラス社製サイトップ等の市販のものを入手することができる。

これらのシランカップリング剤を用いて、ガラス基材表面にフッ素原子含有膜を塗設する方法としては、例えば、スピンコート塗布、ディップ塗布、エクストルージョン塗布、ロールコート塗布スプレー塗布、グラビア塗布、ワイヤーバー塗布、エアナイフ塗布等、特に制限されないが、シランカップリング剤を溶剤で希釈し、その溶液中にガラス基材を浸漬して塗布するディップコート法が、簡便で好ましい。

本発明においては、フッ素原子含有膜は少なくともガラス基材の一方の面に、他の層を介さず塗設されていればよく、更には、ガラス基材の両面にフッ素原子含有膜が塗設されていてもよい。前記ディップコート法を用いると、両面同時に塗設することができ好ましい。

更に、本発明においては、特定のフッ素原子含有層をガラス基材の一方の面に付与する前に、該ガラス基材の表面をコロナ処理、プラズマ処理、大気圧プラズマ処理及び火炎処理から選ばれる少なくとも一つの活性化処理を行うことが好ましく、特に、後述する大気圧プラズマ処理で形成することにより、フッ素原子含有膜の耐久性を更に向上することができ好ましい。

また、本発明においては、ガラス部材のフッ素原子含有層を塗設した面とは反対の面（両面にフッ素原子含有層を塗設した場合は、そのいずれか一方の面）に、帯電防止用透明導電膜を形成することが、読み取りガラスとして用いる場合には特に好ましいことを見いだした。これは、低摩擦のフッ素原子含有膜が形成された原稿との接触面とは反対の面に導電膜を形成したものであっても、背面電極効果により、表面帯電抑制効果を有することを見いだしたものである。

即ち、表面帯電状態では、表面から垂直に（アースに向かって）電気力線が立つが、背面に導電層があると、その電気力線が背面に向う（下に潜る）ことによって、表面の帯電が無くなるために、ゴミなどの電気的な吸着を抑制することができる。

この帯電防止用透明導電膜は、アースが取られていることが好ましい。使用される透明導電膜としては、酸化インジウム、錫をドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、あるいは酸化錫膜等が好ましく、これらの面積抵抗は１０⁹Ω／□以下であることが更に好ましく、特に１０⁶Ω／□以下であることが好ましい。これらの膜は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法や後述する大気圧プラズマ法等により被着させることが好ましい。

従来技術では、上記の様な透明導電膜は軟らかいため、その上に低摩擦層を形成しても透明導電膜ごと剥離されることがあり、本発明の好ましい形態においては、膜面強度の低い透明導電膜をガラス基材の裏面（原稿との非接触面）に形成し、ガラス基材の上面（原稿との接触面）に、本発明に係るフッ素原子含有膜を他の層を介さず直接付与することにより、低帯電でトナーや紙粉が付着せず、かつ低摩擦で、膜強度が強く、汚れにくく、搬送性に優れ、耐久性の高いガラス部材および読み取りガラスを提供することができた。

《ＸＰＳの測定》
本発明で規定するフッ素原子含有膜の元素組成（原子数比率）は、ＸＰＳ表面分析装置を用いて測定することができる。ＸＰＳ表面分析装置としては、いかなる機種も使用することができるが、本発明の実施例においてはＶＧサイエンティフィック社製のＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いた。フッ素原子含有膜の表層を測るため、試料と検出器のなす角（テイクオフアングル）を３０°にして測定した。

《大気圧プラズマ法》
本発明のガラス部材および読み取りガラスにおいては、ガラス基材表面の活性化処理やガラス基材の裏面に透明導電膜を形成する際に、大気圧プラズマ法を適用することが好ましい。以下、本発明に係る大気圧プラズマ法について、図を用いて具体的に説明する。

図１は、２ステップ型の大気圧プラズマ装置の一例を示す概略構成図である。工程１（図中、一点鎖線で囲まれた領域）では、移動架台電極（第１電極）８と角形電極（第２電極）３により対向電極（放電空間）が形成され、該電極間に高周波電界が印加され、放電ガス１０、薄膜形成ガス１１及び補助ガス１２を含有するガス１がガス供給管１５を通して供給され、角形電極３に形成されたスリット５を通り放電空間に流出し、ガス１を放電プラズマにより励起し、移動架台電極８上に置かれた基材４（ガラス基材）の表面を励起されたガス１（図中、３７）に晒すことにより、基材表面に薄膜が形成される。

次に、基材４は移動架台電極８と共に工程２（図中、二点鎖線で囲まれた領域）に除々に移動する。

工程２では、移動架台電極（第１電極）８と角形電極（第３電極）７とにより対向電極（放電空間）が形成され、該対向電極間に高周波電界が印加され、放電ガス１３及び酸化性ガス１４を含有するガス２がガス供給管１６を通して供給され、角形電極７に形成されたスリット６を通り放電空間に流出し、放電プラズマにより励起され、移動架台電極８上に置かれた基材４の表面を励起されたガス２（図中、３８）に晒すことにより、基材表面の薄膜が酸化処理される。移動架台電極８には支持台９上を往復移動、停止することが可能な移動手段（不図示）を有している。

また、ガス２の温度を調整するため、供給パイプ１６の途中に温度調節手段１７を有することが好ましい。

この工程１の薄膜形成工程と工程２の酸化処理工程間を移動架台により往復移動を繰り返すことにより、所望の膜厚を有する薄膜を形成することができる。

第１電極（移動架台電極）８には第１電源３１が接続され、第２電極３には第２電源３３が接続され、それらの電極と電源の間には各々第１フィルター３２と第２フィルター３４が接続されている。第１フィルター３２は第１電源３１からの周波数の電流を通過しにくくし、第２電源３３からの周波数の電流を通過し易くし、また、第２フィルター３４はその逆で、第２電源３３からの周波数の電流を通過しにくくし、第１電源３１からの周波数の電流を通過し易くするというそれぞれの機能が備わったフィルターを使用する。

図１の大気圧プラズマ装置の工程１では、第１電極８と第２電極３から構成され対向電極間に、第１電極８には第１電源３１からの周波数ω１、電界の強さＶ１、電流Ｉ１の第１の高周波電界が印加され、また第２電極３には第２電源３３からの周波数ω２、電界の強さＶ２、電流Ｉ２の第２の高周波電界が印加されるようになっている。第１電源３１は第２電源３３より高い高周波電界の強さ（Ｖ１＞Ｖ２）を印加でき、また第１電源８の第１の周波数ω１は第２電源３３の第２の周波数ω２より低い周波数を印加できる。

同様に、工程２では第１電極８と第３電極７から構成されている対向電極間に、第１電極８からは第１電源３１からの周波数ω１、電界の強さＶ１、電流Ｉ１の第１の高周波電界が印加され、また第３電極７からは第３電源３５からの周波数ω３、電界の強さＶ３、電流Ｉ３の第３の高周波電界が印加されるようになっている。

第１電源３１は第３電源３５より高い高周波電界の強さ（Ｖ１＞Ｖ３）を印加でき、また第１電源８の第１の周波数ω１は第３電源３５の第２の周波数ω３より低い周波数を印加できる。

また、図１に前述の高周波電界の強さ（印加電界強度）と放電開始電界の強さＩＶ１の測定に使用する測定器を示した。２５及び２６は高周波電圧プローブであり、２７及び２８はオシロスコープである。

上述の様に、対向電極を形成する角形電極３と移動架台電極８には周波数の異なる２種の高周波電界を重畳することにより、窒素ガスのような安価なガスを用いても良好なプラズマ放電を形成することが可能であり、その後速やかに酸化雰囲気での処理を施すことにより、優れた性能を有する薄膜を形成することが可能である。

勿論、放電ガス、補助ガス、薄膜形成ガスの選択により、高周波電界を重畳することなく、１個の高周波電源によって大気圧プラズマ処理を行うことも可能である。

また、ガラス基材の表面を活性化処理する場合は、工程１のみで高周波電界を印加し、薄膜形成ガスを供給せず、放電ガス、補助ガスを選択することにより行うことができる。

次に、本発明のガラス部材を読み取りガラスとして用いた画像形成装置について説明する。

図２は、本発明の読み取りガラスを用いた画像形成装置の一例を示す断面構成図である。

図２において、画像形成装置１０１は、自動原稿搬送装置（通称、ＡＤＦ）Ａと、自動原稿搬送装置により搬送される原稿の画像を読み取るための原稿画像読取部Ｂと、読み取った原稿画像を処理する画像制御基板Ｃと、画像処理後のデータに従って像担持体としての感光体ドラム４４上に書き込みを行う書き込みユニット１１２を含む書き込み部Ｄと、感光体ドラム４４及びその周囲に帯電器４５、磁気ブラシ型現像装置からなる現像器４６、転写器４７、分離器４９、クリーニング器５１等の画像形成手段を含む画像形成部Ｅと、転写材Ｐを収納する給紙トレイ１２２、１２４のための収納部Ｆを有している。

自動原稿搬送装置Ａは、原稿載置台１２６と、ローラＲ１を含むローラ群及び原稿の移動通路を適宜切り替えるための切換手段等（参照記号なし）を含む原稿搬送処理部１２８とを主要素とする。

原稿画像読取部Ｂは、読み取りガラスＧの下にあり、光路長を保って往復移動できる２つのミラーユニット１３０、１３１、固定の結像レンズ（以下、単にレンズという）１３３、ライン状の撮像素子（以下、ＣＣＤという）１３５等からなり、書き込み部Ｄは、レーザ光源４１、ポリゴンミラー（偏光器）４２等からなる。

転写材Ｐの移動方向からみて、転写器４７の手前側に示すＲ１０はレジストローラであり、分離器４９の下流側にＨで示してあるのは定着手段である。

定着手段Ｈは、実施の形態においては、加熱源を内蔵するローラと、当該ローラに圧接しながら回転する圧接ローラとで構成してある。

また、Ｚは定着手段Ｈのためのクリーニング手段で、巻き取り可能に設けたクリーニングウェブを主要素とする。

原稿載置台１２６上に載置される原稿（図示せず）の１枚が原稿搬送処理部１２８によって搬送され、ローラＲ１の下を通過中に、露光手段Ｌによる露光が行われる。

原稿からの反射光は、固定位置にあるミラーユニット１３０、１３１及びレンズ１３３を経てＣＣＤ１３５上に結像され、読み取られる。

原稿画像読取部Ｂで読み取られた画像情報は、画像処理手段により処理され、符号化されて画像制御基板Ｃ上に設けてあるメモリーに格納される。

また、画像データは画像形成に応じて呼び出され、当該画像データに従って、書き込み部Ｄにおけるレーザ光源４１が駆動され、感光体ドラム４４上に露光が行われる。

本発明の読み取りガラスは、モノクロ画像だけではなく、カラー画像を得るための画像形成装置にも適用されるもので、例えば複数個の画像形成ユニットを備え、各画像形成ユニットにてそれぞれ色の異なる可視画像（トナー画像）を形成してフルカラーのトナー画像形成を行う画像形成方法が挙げられる。

《ガラス試料の作製》
以下の様にして、各読み取りガラス試料を作製した。
（比較例１）
ガラス基材（３ｍｍ厚の日本板硝子社製化学強化ガラス）上に、蒸着法により透明導電膜としてＩＴＯを３０ｎｍ被着し、更にその上に下記の方法でフッ素原子含有膜を付与して、読み取りガラスを作製した。

フッ素原子含有膜を形成するシランカップリング剤として、ＧＥ東芝シリコン社製のヘプタデカフルオロデシルトリイソプロポキシシランを、ディップコート法でコーティングした。薄膜ＸＲＤにて膜厚を測定した結果、３．０ｎｍであり、ＸＰＳで検出器３０°付近での膜表面の元素組成を測定した結果、表面のフッ素元素は３５原子数％（Ａｔｏｍｉｃ％）、酸素元素は６原子数％で、Ｏ／Ｆは０．１７であった。

（比較例２）
ガラス基材（３ｍｍ厚の日本板硝子社製化学強化ガラス）上に、下記の方法でフッ素原子含有膜を付与して、読み取りガラスを作製した。

フッ素原子含有膜を形成するシランカップリング剤として、ダイキン社製のオプツールＤＳＸを、同社製のＳＯＬ−１で０．１％に希釈し、ディップ塗布法でコーティングした。

薄膜ＸＲＤにて膜厚を測定した結果、３．４ｎｍであり、ＸＰＳで検出器３０°付近での膜表面の元素組成を測定した結果、表面のフッ素元素は１７原子数％、酸素元素は２８原子数％、Ｏ／Ｆは１．６４であった。

（実施例１）
前記比較例２において、フッ素原子含有膜を付与する前に、コロナ放電処理（春日電機社製ＡＰ−４００、ギャップ３ｍｍ、３０秒処理）にてガラス基材表面を活性化処理した以外は同様にし、読み取りガラスを作製した。薄膜ＸＲＤにて膜厚を測定した結果、３．８ｎｍであり、ＸＰＳで検出器３０°付近での膜表面の元素組成を測定した結果、表面のフッ素元素は５０原子数％、酸素元素は１９原子数％で、Ｏ／Ｆは０．３８であった。

（実施例２）
前記比較例２において、フッ素原子含有膜を付与する前に、下記に示す大気圧プラズマ法にてガラス基材表面を活性化処理した以外は同様にして、読み取りガラスを作製した。薄膜ＸＲＤにて膜厚を測定した結果、３．８ｎｍであり、ＸＰＳで検出器３０°付近での膜表面の元素組成を測定した結果、表面のフッ素元素は５０原子数％、酸素元素は１６原子数％、Ｏ／Ｆは０．３２であった。

（実施例３）
前記実施例１において、フッ素原子含有膜を付与する前に、裏面に下記に示す大気圧プラズマ法にて導電性ＳｎＯ₂膜を３０ｎｍ製膜した以外は同様にして、読み取りガラスを作製した。薄膜ＸＲＤにてフッ素原子含有膜の膜厚を測定した結果、３．８ｎｍであり、ＸＰＳで検出器３０°付近で膜表面の元素組成を測定した結果、表面のフッ素元素は５１原子数％、酸素元素は１６原子数％、Ｏ／Ｆは０．３１であった。

《大気圧プラズマ法》
上記各読み取りガラスの作製において、ガラス基材表面の活性化処理及び導電性ＳｎＯ₂製膜の形成に用いた大気圧プラズマ法の詳細は以下の通りである。

〔大気圧プラズマによるガラス基材表面の活性化処理〕
ガラス基材表面の活性化処理は、図１に記載の大気圧プラズマ装置を用いて、工程１のみの下記条件での処理を行った。

（電源条件）
重畳する電源：
高周波電源１：パール工業製高周波電源、電界周波数ω２：１３．５６ＭＨｚ、電圧Ｖ２：６ｋＶ、電流Ｉ２：８ｍＡ／ｃｍ²、出力密度：１１Ｗ／ｃｍ²、放電開始電圧ＩＶ１：３．５ｋＶ
高周波電源２：ハイデン研究所製インパルス高周波電源、電界周波数ω１：１００ｋＨｚ、電圧Ｖ１：６ｋＶ、電流Ｉ１：８ｍＡ／ｃｍ²、出力密度：１６Ｗ／ｃｍ²
（電極条件）
第１電極の移動架台電極及び第２電極の角形電極は角状の中空のチタンパイプに対し、誘電体としてセラミック溶射加工を行い作製した。

誘電体厚み：１ｍｍ
電極巾：４０ｍｍ
印加電極温度：９０℃
電極間ギャップ（図１中、Ｇ１）：４．５ｍｍ
（ガス条件）
放電ガス Ｎ₂：２０ｓｌｍ
補助ガス Ｏ₂：１ｓｌｍ
（移動架台電極）
移動架台電極の温度：２００℃
工程１の移動架台電極８には高周波電源１（図１中、電源３１）を接続し、角形電極３に高周波電源２（図１中、電源３３）を接続した。移動速度１００ｍｍ／ｓｅｃで約１０回の往復処理を行った。
〔大気圧プラズマによるＳｎＯ₂製膜〕
図１に示す大気圧プラズマ装置を用いて、２ステップ（工程１、工程２）製膜を行った。

工程１の角型電極３と工程２の角形電極７を並列に接続して電源の高圧側を接続し、移動架台電極８には電源の低圧側を接続した。図１において、電源として高周波電源３１のみを用いたものである。下記工程１の還元条件で薄膜を形成した後、直ちに工程２の酸化処理を行った。これを２００ｍｍ／ｓｅｃの移動速度で、工程１、工程２を繰り返し、約６０回往復処理を行い、３０ｎｍのＳｎＯ₂薄膜を形成した。

（工程１の条件）
〈電源条件〉
電源：パール工業性高周波電源、２７ＭＨｚ、１０Ｗ／ｃｍ²
〈電極条件〉
上記ガラス基材の表面の活性化処理に同じ
〈ガス条件〉
テトラブチルスズ気化用Ａｒガス：１ｓｌｍ（ｓｔａｎｄｅｒｄ ｌｉｔｔｅｒ ｐｅｒ ｍｉｎｉｔｅ）、１００℃
放電ガス Ａｒ：１０ｓｌｍ
補助ガス Ｈ₂：０．０２ｓｌｍ
（工程２の条件）
〈電源条件〉
電源：パール工業性高周波電源、２７ＭＨｚ、２０Ｗ／ｃｍ²
〈電極条件〉
誘電体厚み：１ｍｍ
電極巾：４０ｍｍ
印加電極温度：９０℃
電極間ギャップ：４．５ｍｍ
〈ガス条件〉
放電ガス Ａｒ：１０ｓｌｍ
補助ガス Ｏ₂：０．５ｓｌｍ
〈移動架台電極〉
移動架台電極の温度：２００℃
《読み取りガラスの評価》
〔実機試験〕
以上の様にして得られた各読み取りガラスを用い、コニカミノルタビジネステクノロジー社製のデジタル複写機７０４５を用いて実写評価を行った。

連量が５５ｋｇの市販Ａ３用紙を原稿として使用し、５０００枚自動連続通紙を実施した。通紙後、連量５５ｇの市販Ａ４用紙上に、ＪＩＳ規格セロハンテープ（ニチバン社製）を２０ｍｍ長さにテープカッターで切断したものを縦１４列、横７列に一面に張った評価用原稿を準備し、前記評価装置に４回通紙した。４枚目にプリントされた画像に写った黒スジの本数を故障として評価、更に通紙後、天板を開き、読み取りガラス上に堆積した異物の数をゴミ付着数として評価した。

更に、通紙された部分に、市販の油性黒マジックインク（ＺＥＢＲＡ社製、Ｍ５００−Ｔ１）を用い、下記の基準に従ってマジック拭き取り試験を行った。

〈マジック拭き取り試験の評価基準〉
○：書けない、はじく
△：書けるがふき取れる
×：ふき取れない
〔強制摩耗試験〕
摩耗試験機ＨＥＩＤＯＮ−１４ＤＲを用い、各読み取りガラス試料の表面と、連量５５ｇのコピー用紙面とを、１ｋｇ／ｃｍ²、２０ｍｍ／ｓｅｃで、１００００回の繰り返し摩耗試験を行い、その後、ＸＰＳを用いて元素組成測定を実施した。

以上により得られた評価結果を、表１に示す。

本発明の読み取りガラスは、比較試料に比べ、ゴミ付着数や黒スジ本数が非常に少なく、マジック拭き取り試験でも良好な結果を示し、耐久性に優れたフッ素原子含有膜が形成されていることが分かる。また、裏面にＳｎＯ₂の透明導電膜を形成したものは、更に優れた性能を示すことが分かる。

Claims (9)

1. ガラス基材の少なくとも１面に、他の層を介さずに直接フッ素原子含有膜を有し、該フッ素原子含有膜の元素組成が、フッ素原子が３０原子数％を超え、かつフッ素原子に対する酸素原子の原子数比率（Ｏ／Ｆ）が０．２を超え、１．０未満であり、
   前記ガラス基材は、前記フッ素原子含有膜を塗設する前に、その表面にコロナ処理、プラズマ処理、大気圧プラズマ処理及び火炎処理から選ばれる少なくとも一つの活性化処理を行うことを特徴とするガラス部材。
2. 原稿を光学的に読み取るスキャナーの光源と原稿との間に位置する読み取りガラスであって、ガラス基材の少なくとも１面は、他の層を介さずに直接フッ素原子含有膜を有し、該フッ素原子含有膜の元素組成が、フッ素原子が３０原子数％を超え、かつフッ素原子に対する酸素原子の原子数比率（Ｏ／Ｆ）が０．２を超え、１．０未満であり、
   前記ガラス基材は、前記フッ素原子含有膜を塗設する前に、その表面にコロナ処理、プラズマ処理、大気圧プラズマ処理及び火炎処理から選ばれる少なくとも一つの活性化処理を行うことを特徴とする読み取りガラス。
3. 前記活性化処理が、大気圧プラズマ処理であることを特徴とする請求の範囲第２項に記載の読み取りガラス。
4. 前記フッ素原子含有膜は、少なくとも４ｎｍ以下の光学膜厚の箇所が存在することを特徴とする請求の範囲第２項又は第３項に記載の読み取りガラス。
5. 前記ガラス基材のフッ素原子含有膜を有する面とは反対の面が、帯電防止層を有することを特徴とする請求の範囲第２項乃至第４項のいずれか１項に記載の読み取りガラス。
6. 前記ガラス基材の両面が、前記フッ素原子含有膜を有することを特徴とする請求の範囲第２項乃至第４項のいずれか１項に記載の読み取りガラス。
7. 前記フッ素原子含有膜を付与する工程が、ウェット塗布方式であることを特徴とする請求の範囲第２項乃至第６項のいずれか１項に記載の読み取りガラス。
8. 請求の範囲第２項乃至第７項のいずれか１項に記載の読み取りガラスを用いることを特徴とする読取装置。
9. 請求の範囲第８項に記載の読取装置を備えていることを特徴とする画像形成装置。