JP2003280334A - 画像形成装置 - Google Patents
画像形成装置Info
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- JP2003280334A JP2003280334A JP2002084186A JP2002084186A JP2003280334A JP 2003280334 A JP2003280334 A JP 2003280334A JP 2002084186 A JP2002084186 A JP 2002084186A JP 2002084186 A JP2002084186 A JP 2002084186A JP 2003280334 A JP2003280334 A JP 2003280334A
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- Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 帯電不良を防止して、長期にわたって、像担
持体に対して安定した帯電が行えるようにする。 【解決手段】 複写機画像形成装置は、トナー像を担持
する感光体1と、感光体に帯電ローラ30を接触作動し
て帯電バイアス電源の帯電バイアスを印加することによ
って感光体の帯電を行う帯電器103と、帯電器によっ
て帯電された感光体の帯電面に静電潜像を形成するプリ
ンタ部と、静電潜像をトナーによって可視化してトナー
像とする現像器と、帯電器の帯電ローラ30の表面上に
存在する残存トナー34の量を検知し、該トナー量が所
定量になったとき、帯電器に交流電圧を含ませた帯電バ
イアスをバイアス電源S1によって印加して残存する残
存トナーを感光体に吐き出させる吐き出し部36と、を
備えている。
持体に対して安定した帯電が行えるようにする。 【解決手段】 複写機画像形成装置は、トナー像を担持
する感光体1と、感光体に帯電ローラ30を接触作動し
て帯電バイアス電源の帯電バイアスを印加することによ
って感光体の帯電を行う帯電器103と、帯電器によっ
て帯電された感光体の帯電面に静電潜像を形成するプリ
ンタ部と、静電潜像をトナーによって可視化してトナー
像とする現像器と、帯電器の帯電ローラ30の表面上に
存在する残存トナー34の量を検知し、該トナー量が所
定量になったとき、帯電器に交流電圧を含ませた帯電バ
イアスをバイアス電源S1によって印加して残存する残
存トナーを感光体に吐き出させる吐き出し部36と、を
備えている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被記録画像に対応
して像担持体に形成された静電潜像を、現像剤により現
像して用紙等に記録するプリンタ、複写機、ファクシミ
リ、及びこれらの複合機等の画像形成装置に関する。
して像担持体に形成された静電潜像を、現像剤により現
像して用紙等に記録するプリンタ、複写機、ファクシミ
リ、及びこれらの複合機等の画像形成装置に関する。
【0002】
【従来の技術】電子写真装置や静電記録装置等に用いら
れる画像形成装置において、電子写真感光体・静電記録
誘電体等の像担持体上に静電潜像を形成する方法につい
て様々な方法が知られている。
れる画像形成装置において、電子写真感光体・静電記録
誘電体等の像担持体上に静電潜像を形成する方法につい
て様々な方法が知られている。
【0003】例えば、電子写真法式では、潜像担持体と
しての光導電性物質を使用した感光体上を所望の極性・
電位に一様に帯電処理した後に、画像パターンを露光す
ることにより電気的潜像を形成する方法が一般的であ
る。
しての光導電性物質を使用した感光体上を所望の極性・
電位に一様に帯電処理した後に、画像パターンを露光す
ることにより電気的潜像を形成する方法が一般的であ
る。
【0004】従来、潜像担持体を所望の極性・電位に一
様に帯電処理(除電処理も含む)する帯電装置としては
コロナ帯電器(コロナ放電器)がよく使用されていた。
様に帯電処理(除電処理も含む)する帯電装置としては
コロナ帯電器(コロナ放電器)がよく使用されていた。
【0005】コロナ帯電器は非接触型の帯電装置であ
り、ワイヤ電極等の放電電極とこの放電電極を囲むシー
ルド電極を備え、放電開口部を被帯電体である像担持体
に対向させて非接触に配設し、放電電極とシールド電極
に高圧を印加することにより生じる放電電流(コロナシ
ャワー)に像担持体面をさらすことで像担持体面を所定
の電位に帯電させるものである。
り、ワイヤ電極等の放電電極とこの放電電極を囲むシー
ルド電極を備え、放電開口部を被帯電体である像担持体
に対向させて非接触に配設し、放電電極とシールド電極
に高圧を印加することにより生じる放電電流(コロナシ
ャワー)に像担持体面をさらすことで像担持体面を所定
の電位に帯電させるものである。
【0006】近年、静電潜像担持体等の帯電装置とし
て、コロナ帯電器に比べて低オゾン・低電力等の利点が
あることから接触帯電装置が多く提案され、また実用化
されている。
て、コロナ帯電器に比べて低オゾン・低電力等の利点が
あることから接触帯電装置が多く提案され、また実用化
されている。
【0007】このような接触帯電方式の帯電装置(例え
ば、帯電器)において、像担持体に接触させる接触帯電
部材にはローラ型(帯電ローラ)、ファーブラシ型、磁
気ブラシ型、ブレード型(帯電ブレード)など種々の形
態があり、また様々な改善提案がある。
ば、帯電器)において、像担持体に接触させる接触帯電
部材にはローラ型(帯電ローラ)、ファーブラシ型、磁
気ブラシ型、ブレード型(帯電ブレード)など種々の形
態があり、また様々な改善提案がある。
【0008】接触帯電の帯電機構(帯電のメカニズム、
帯電原理)には、(1)放電帯電機構と(2)直接注入
帯電機構の2種類の帯電機構が混在しており、どちらが
支配的であるかにより各々の特性が現れる。
帯電原理)には、(1)放電帯電機構と(2)直接注入
帯電機構の2種類の帯電機構が混在しており、どちらが
支配的であるかにより各々の特性が現れる。
【0009】(1)放電帯電機構
この放電帯電機構は、接触帯電部材と像担持体(例え
ば、感光体)との微小間隙に生じる放電現象により像担
持体の表面を帯電する機構である。
ば、感光体)との微小間隙に生じる放電現象により像担
持体の表面を帯電する機構である。
【0010】放電帯電機構は接触帯電部材と像担持体に
一定の放電閾値を有するため、帯電電位より大きな電圧
を接触帯電部材に印加する必要がある。また、コロナ帯
電器に比べると、発生量は格段に少ないが、放電生成物
を生じることが原理的に避けられないため、オゾンなど
活性イオンによる弊害は避けられない。
一定の放電閾値を有するため、帯電電位より大きな電圧
を接触帯電部材に印加する必要がある。また、コロナ帯
電器に比べると、発生量は格段に少ないが、放電生成物
を生じることが原理的に避けられないため、オゾンなど
活性イオンによる弊害は避けられない。
【0011】(2)直接注入帯電機構
この直接注入帯電機構は、接触帯電部材から像担持体に
直接に電荷が注入されることで像担持体表面が帯電する
系である。直接帯電、注入帯電、あるいは電荷注入帯電
とも称される。
直接に電荷が注入されることで像担持体表面が帯電する
系である。直接帯電、注入帯電、あるいは電荷注入帯電
とも称される。
【0012】より詳しくは、中抵抗の接触帯電部材が像
担持体表面に接触して、放電現象を介さずに、つまり放
電を基本的に用いないで像担持体の表面に直接電荷注入
を行うものである。よって、接触帯電部材への印加電圧
が放電閾値以下の印加電圧であっても、像担持体を印加
電圧相当の電位に帯電することができる。この帯電系は
イオンの発生を伴わないため放電生成物による弊害は生
じない。
担持体表面に接触して、放電現象を介さずに、つまり放
電を基本的に用いないで像担持体の表面に直接電荷注入
を行うものである。よって、接触帯電部材への印加電圧
が放電閾値以下の印加電圧であっても、像担持体を印加
電圧相当の電位に帯電することができる。この帯電系は
イオンの発生を伴わないため放電生成物による弊害は生
じない。
【0013】しかし、直接注入帯電であるため、接触帯
電部材の像担持体への接触性が帯電性に大きく影響す
る。そこでより高い頻度で像担持体に接触する構成をと
るため、接触帯電部材はより密な接触点を持つ、像担持
体との速度差を多く持つ等の構成が必要となる。
電部材の像担持体への接触性が帯電性に大きく影響す
る。そこでより高い頻度で像担持体に接触する構成をと
るため、接触帯電部材はより密な接触点を持つ、像担持
体との速度差を多く持つ等の構成が必要となる。
【0014】(ローラ帯電)接触帯電装置は、接触帯電
部材として導電性弾性ローラ(帯電ローラ)を用いたロ
ーラ帯電方式が帯電の安定性という点で好ましく、広く
用いられている。このローラ帯電における帯電機構は前
述(1)の放電帯電機構が支配的である。
部材として導電性弾性ローラ(帯電ローラ)を用いたロ
ーラ帯電方式が帯電の安定性という点で好ましく、広く
用いられている。このローラ帯電における帯電機構は前
述(1)の放電帯電機構が支配的である。
【0015】帯電ローラは、導電あるいは中抵抗のゴム
材或いは発泡体を用いて作製される。さらに、これらを
積層して所望の特性を得たものもある。
材或いは発泡体を用いて作製される。さらに、これらを
積層して所望の特性を得たものもある。
【0016】帯電ローラは像担持体との一定の接触状態
を得るために弾性を持たせているが、そのため摩擦抵抗
が大きく、多くの場合、像担持体に従動あるいは若干の
速度差をもって駆動される。したがって、直接注入帯電
しようとしても、絶対的帯電能力の低下や接触性の不足
やローラ形状による接触ムラや感光体の付着物による帯
電ムラは避けられない。
を得るために弾性を持たせているが、そのため摩擦抵抗
が大きく、多くの場合、像担持体に従動あるいは若干の
速度差をもって駆動される。したがって、直接注入帯電
しようとしても、絶対的帯電能力の低下や接触性の不足
やローラ形状による接触ムラや感光体の付着物による帯
電ムラは避けられない。
【0017】図11は、電子写真法における接触帯電の
帯電効率例を表したグラフである。横軸に接触帯電部材
に印加したバイアスを、縦軸にはその時得られた像担持
体帯電電位を示す。
帯電効率例を表したグラフである。横軸に接触帯電部材
に印加したバイアスを、縦軸にはその時得られた像担持
体帯電電位を示す。
【0018】ローラ帯電の場合の帯電特性はAで表され
る。すなわち、約−500Vの放電閾値を過ぎてから帯
電が始まる。したがって、−500Vに帯電する場合は
−1000Vの直流電圧を印加するか、あるいは、−5
00V直流の帯電電圧に加えて、放電閾値以上の電位差
を常に持つようにピーク間電圧1200Vの交流電圧を
印加して像担持体電位を帯電電位に収束させる方法が一
般的である。
る。すなわち、約−500Vの放電閾値を過ぎてから帯
電が始まる。したがって、−500Vに帯電する場合は
−1000Vの直流電圧を印加するか、あるいは、−5
00V直流の帯電電圧に加えて、放電閾値以上の電位差
を常に持つようにピーク間電圧1200Vの交流電圧を
印加して像担持体電位を帯電電位に収束させる方法が一
般的である。
【0019】より具体的に説明すると、像担持体に対し
て帯電ローラを加圧当接させた場合には、ある一定以上
の電圧を印加すれば感光体の表面電位が上昇し始め、そ
れ以降は印加電圧に対して線形に像担持体表面電位が増
加する。この閾値電圧を帯電開始電圧Vthと定義す
る。
て帯電ローラを加圧当接させた場合には、ある一定以上
の電圧を印加すれば感光体の表面電位が上昇し始め、そ
れ以降は印加電圧に対して線形に像担持体表面電位が増
加する。この閾値電圧を帯電開始電圧Vthと定義す
る。
【0020】つまり、電子写真に必要とされる像担持体
表面電位Vdを得るためには帯電ローラには(Vd+V
th)という必要とされる以上の直流電圧が必要とな
る。このようにして直流電圧のみを接触帯電部材に印加
して帯電を行う方法を「直流帯電方式」と称する。
表面電位Vdを得るためには帯電ローラには(Vd+V
th)という必要とされる以上の直流電圧が必要とな
る。このようにして直流電圧のみを接触帯電部材に印加
して帯電を行う方法を「直流帯電方式」と称する。
【0021】しかし、直流帯電においては環境変動等に
よって接触帯電部材の抵抗値が変動するため、また、像
担持体が削れることによって膜厚が変化するとVthが
変動するため、像担持体の電位を所望の値にすることが
難しかった。
よって接触帯電部材の抵抗値が変動するため、また、像
担持体が削れることによって膜厚が変化するとVthが
変動するため、像担持体の電位を所望の値にすることが
難しかった。
【0022】このため、さらなる帯電の均一化を図るた
めに特開昭63−149669号公報に開示されるよう
に、所望のVdに相当する直流電圧に2×Vth以上の
ピーク間電圧を持つ交流成分を重畳した電圧を接触帯電
部材に印加する「交流帯電方式」が用いられる。これ
は、交流による電位のならし効果を目的としたものであ
り、像担持体の電位は交流電圧のピークの中央であるV
dに収束し、環境等の外乱には影響されることはない。
めに特開昭63−149669号公報に開示されるよう
に、所望のVdに相当する直流電圧に2×Vth以上の
ピーク間電圧を持つ交流成分を重畳した電圧を接触帯電
部材に印加する「交流帯電方式」が用いられる。これ
は、交流による電位のならし効果を目的としたものであ
り、像担持体の電位は交流電圧のピークの中央であるV
dに収束し、環境等の外乱には影響されることはない。
【0023】ところが、このような接触帯電装置におい
ても、その本質的な帯電機構は、接触帯電部材から像担
持体への放電現象を用いているため、先に述べたように
接触帯電部材に印加する電圧は像担持体表面電位以上の
値が必要とされ、微量のオゾンが発生する。
ても、その本質的な帯電機構は、接触帯電部材から像担
持体への放電現象を用いているため、先に述べたように
接触帯電部材に印加する電圧は像担持体表面電位以上の
値が必要とされ、微量のオゾンが発生する。
【0024】また、帯電均一化のために交流帯電を行な
った場合にはさらなるオゾンの発生、交流電圧の電界に
よる接触帯電部材と像担持体の振動騒音(交流帯電音)
の発生、また、放電による像担持体表面の劣化等が顕著
になり、新たな問題点となっていた。
った場合にはさらなるオゾンの発生、交流電圧の電界に
よる接触帯電部材と像担持体の振動騒音(交流帯電音)
の発生、また、放電による像担持体表面の劣化等が顕著
になり、新たな問題点となっていた。
【0025】帯電ムラを防止し安定した均一帯電を行う
ために、接触帯電部材に像担持体面との接触面に粉末を
塗布する構成が特公平7−99442号公報に開示して
ある。しかし、この構成は、接触帯電部材(帯電ロー
ラ)が像担持体(感光体)に従動回転(速度差駆動無
し)するようになっており、スコロトロン等のコロナ帯
電器と比べるとオゾン生成物の発生は格段に少なくなっ
ているものの、帯電原理は前述のローラ帯電の場合と同
様に依然として放電帯電機構を主としている。
ために、接触帯電部材に像担持体面との接触面に粉末を
塗布する構成が特公平7−99442号公報に開示して
ある。しかし、この構成は、接触帯電部材(帯電ロー
ラ)が像担持体(感光体)に従動回転(速度差駆動無
し)するようになっており、スコロトロン等のコロナ帯
電器と比べるとオゾン生成物の発生は格段に少なくなっ
ているものの、帯電原理は前述のローラ帯電の場合と同
様に依然として放電帯電機構を主としている。
【0026】特に、この構成は、より安定した帯電均一
性を得るため、直流電圧に交流電圧を重畳した接触帯電
部材に電圧を印加するので、放電によるオゾン生成物の
発生がより多くなっている。よって、長期間、装置を使
用した場合、オゾン生成物による画像流れ等の弊害が現
れやすい。さらに、クリーナレスの画像形成装置に適用
した場合には、転写残トナーの混入のため塗布した粉末
が均一に接触帯電部材に付着していることが困難とな
り、均一帯電を行う効果が薄れてしまう。
性を得るため、直流電圧に交流電圧を重畳した接触帯電
部材に電圧を印加するので、放電によるオゾン生成物の
発生がより多くなっている。よって、長期間、装置を使
用した場合、オゾン生成物による画像流れ等の弊害が現
れやすい。さらに、クリーナレスの画像形成装置に適用
した場合には、転写残トナーの混入のため塗布した粉末
が均一に接触帯電部材に付着していることが困難とな
り、均一帯電を行う効果が薄れてしまう。
【0027】また、特開平5−150539号公報に
は、接触帯電を用いた画像形成方法において、長時間画
像形成を繰り返すうちにブレードクリーニングしきれな
かったトナー粒子やシリカ微粒子が帯電手段の表面に付
着・蓄積することによる帯電阻害を防止するために、ト
ナー中に、少なくとも顕画粒子と、顕画粒子より小さい
平均粒径を有する導電性粒子を含有することが開示され
ている。
は、接触帯電を用いた画像形成方法において、長時間画
像形成を繰り返すうちにブレードクリーニングしきれな
かったトナー粒子やシリカ微粒子が帯電手段の表面に付
着・蓄積することによる帯電阻害を防止するために、ト
ナー中に、少なくとも顕画粒子と、顕画粒子より小さい
平均粒径を有する導電性粒子を含有することが開示され
ている。
【0028】しかし、ここで用いられた接触帯電、或い
は近接帯電は、放電帯電機構によるもので、直接注入帯
電機構ではなく、放電帯電による前述の問題がある。さ
らに、クリーナレスの画像形成装置へ適用した場合に
は、クリーニング機構を有する場合と比較して多量の導
電性微粉体及び転写残トナーが帯電工程を通過すること
による帯電性への影響、これら多量の導電性微粉体及び
転写残トナーの現像工程における回収性、回収された導
電性微粉体及び転写残トナーによるトナーの現像特性へ
の影響に関して何ら考慮されていない。
は近接帯電は、放電帯電機構によるもので、直接注入帯
電機構ではなく、放電帯電による前述の問題がある。さ
らに、クリーナレスの画像形成装置へ適用した場合に
は、クリーニング機構を有する場合と比較して多量の導
電性微粉体及び転写残トナーが帯電工程を通過すること
による帯電性への影響、これら多量の導電性微粉体及び
転写残トナーの現像工程における回収性、回収された導
電性微粉体及び転写残トナーによるトナーの現像特性へ
の影響に関して何ら考慮されていない。
【0029】さらに、接触帯電に直接注入帯電機構を適
用した場合には、導電性微粉体が接触帯電部材に必要量
供給されず、転写残トナーの影響による帯電不良を生じ
てしまう。
用した場合には、導電性微粉体が接触帯電部材に必要量
供給されず、転写残トナーの影響による帯電不良を生じ
てしまう。
【0030】また、近接帯電では、多量の導電性微粉体
及び転写残トナーにより像担持体を均一帯電することが
困難であり、転写残トナーのパターンをならす効果が得
られないため転写残トナーのパターン画像露光を遮光す
るためのパターンゴーストを生ずる。さらに、画像形成
中の電源の瞬断或いは紙詰まり時にはトナーによる機内
汚染が著しくなる。
及び転写残トナーにより像担持体を均一帯電することが
困難であり、転写残トナーのパターンをならす効果が得
られないため転写残トナーのパターン画像露光を遮光す
るためのパターンゴーストを生ずる。さらに、画像形成
中の電源の瞬断或いは紙詰まり時にはトナーによる機内
汚染が著しくなる。
【0031】一方、特開平10−307454号公報、
特開平10−307457号公報で開示されているよう
に、帯電部材と像担持体とに速度差を設け、導電微粉体
を介して直接注入帯電を行なう方式が提案されている。
特開平10−307457号公報で開示されているよう
に、帯電部材と像担持体とに速度差を設け、導電微粉体
を介して直接注入帯電を行なう方式が提案されている。
【0032】特開平10−307454号公報、特開平
10−307457号公報では、帯電補助を目的とした
導電性微粉体の存在により像担持体と接触帯電部材との
帯電当接部において接触帯電部材は像担持体との速度差
をもって接触できると同時に、導電性微粉体を介して密
に像担持体に接触して、つまり接触帯電部材と像担持体
の帯電当接部に存在する導電性微粉体が像担持体表面を
隙間無く摺擦することで像担持体に電荷を直接注入でき
るのである。すなわち、接触帯電部材による像担持体の
帯電は導電性微粉体の存在により直接注入帯電が支配的
となる。
10−307457号公報では、帯電補助を目的とした
導電性微粉体の存在により像担持体と接触帯電部材との
帯電当接部において接触帯電部材は像担持体との速度差
をもって接触できると同時に、導電性微粉体を介して密
に像担持体に接触して、つまり接触帯電部材と像担持体
の帯電当接部に存在する導電性微粉体が像担持体表面を
隙間無く摺擦することで像担持体に電荷を直接注入でき
るのである。すなわち、接触帯電部材による像担持体の
帯電は導電性微粉体の存在により直接注入帯電が支配的
となる。
【0033】したがって、上記公報に記載の直接注入帯
電は、図11の帯電特性Bに示すように、従来のローラ
帯電等では得られなかった高い帯電効率が得られて、接
触帯電部材に印加した電圧とほぼ同等の電位を像担持体
に与えることができる。
電は、図11の帯電特性Bに示すように、従来のローラ
帯電等では得られなかった高い帯電効率が得られて、接
触帯電部材に印加した電圧とほぼ同等の電位を像担持体
に与えることができる。
【0034】(トナー・リサイクル・プロセス=クリー
ナレス・システム)転写方式の画像形成装置において
は、転写後の像担持体に残存する転写残トナーはクリー
ナ(クリーニング装置)によって像担持体面から除去さ
れて、廃トナーとなるが、この廃トナーは環境保護の面
からも出ないことが望ましい。そこでクリーナを無く
し、転写後の感光体上の転写残トナーは現像装置によっ
て「現像同時クリーニング」で像担持体上から除去し現
像装置に回収・再利用する装置構成にしたトナー・リサ
イクル・プロセスの画像形成装置も出現している。
ナレス・システム)転写方式の画像形成装置において
は、転写後の像担持体に残存する転写残トナーはクリー
ナ(クリーニング装置)によって像担持体面から除去さ
れて、廃トナーとなるが、この廃トナーは環境保護の面
からも出ないことが望ましい。そこでクリーナを無く
し、転写後の感光体上の転写残トナーは現像装置によっ
て「現像同時クリーニング」で像担持体上から除去し現
像装置に回収・再利用する装置構成にしたトナー・リサ
イクル・プロセスの画像形成装置も出現している。
【0035】現像同時クリーニングとは、転写後に像担
持体上に残留したトナーを次工程以降の現像時、すなわ
ち、引き続き像担持体を帯電し、露光して潜像を形成
し、該潜像の現像時に、カブリ取りバイアス(現像装置
に印加する直流電圧と像担持体の表面電位間の電位差で
あるカブリ取り電位差Vback)によって回収する方
法である。この方法によれば、転写残トナーは現像装置
に回収されて次工程以後に再利用されるため、廃トナー
を無くし、メンテナンスに手を煩わせることも少なくす
ることができる。またクリーナレスであることでスペー
ス面での利点も大きく、画像形成装置を大幅に小型化で
きるようになる。
持体上に残留したトナーを次工程以降の現像時、すなわ
ち、引き続き像担持体を帯電し、露光して潜像を形成
し、該潜像の現像時に、カブリ取りバイアス(現像装置
に印加する直流電圧と像担持体の表面電位間の電位差で
あるカブリ取り電位差Vback)によって回収する方
法である。この方法によれば、転写残トナーは現像装置
に回収されて次工程以後に再利用されるため、廃トナー
を無くし、メンテナンスに手を煩わせることも少なくす
ることができる。またクリーナレスであることでスペー
ス面での利点も大きく、画像形成装置を大幅に小型化で
きるようになる。
【0036】以下、直接注入帯電とトナー・リサイクル
・システムを組み合わせた画像形成方法について説明す
る。
・システムを組み合わせた画像形成方法について説明す
る。
【0037】図12は直接注入帯電方式を用いた接触帯
電装置3の模式図である。図12において、接触帯電装
置3は、接触帯電部材として導電性弾性ローラ30(以
下「帯電ローラ」という)を用いた装置である。接触帯
電装置3は、芯金31と、芯金31上に可撓性部材であ
るゴム或いは発泡体の中抵抗層32を形成することによ
り作成された帯電ローラ30と、帯電ローラ30の外周
面(すなわち中抵抗層32の外周面)に初期においては
帯電ローラ30上に塗布され、その後は転写残トナー3
4と共に供給される導電性微粉体33と、帯電ローラ3
0に帯電バイアスを印加する帯電バイアス電圧印加電源
S1とを備えている。
電装置3の模式図である。図12において、接触帯電装
置3は、接触帯電部材として導電性弾性ローラ30(以
下「帯電ローラ」という)を用いた装置である。接触帯
電装置3は、芯金31と、芯金31上に可撓性部材であ
るゴム或いは発泡体の中抵抗層32を形成することによ
り作成された帯電ローラ30と、帯電ローラ30の外周
面(すなわち中抵抗層32の外周面)に初期においては
帯電ローラ30上に塗布され、その後は転写残トナー3
4と共に供給される導電性微粉体33と、帯電ローラ3
0に帯電バイアスを印加する帯電バイアス電圧印加電源
S1とを備えている。
【0038】帯電ローラ30は、感光体1に対しほぼ平
行にして芯金31の両端部を軸受けされて、中抵抗層3
2の弾性に抗して所定の押圧力で感光体1で圧接し、帯
電ローラ30と感光体1の当接部である帯電当接部を形
成している。この帯電当接部幅nは特に制限されるもの
ではないが、帯電ローラ30と感光体1の安定して密な
密着性を得るため1mm以上、より好ましくは2mm以
上が良い。
行にして芯金31の両端部を軸受けされて、中抵抗層3
2の弾性に抗して所定の押圧力で感光体1で圧接し、帯
電ローラ30と感光体1の当接部である帯電当接部を形
成している。この帯電当接部幅nは特に制限されるもの
ではないが、帯電ローラ30と感光体1の安定して密な
密着性を得るため1mm以上、より好ましくは2mm以
上が良い。
【0039】この帯電ローラ30は、帯電当接部におい
て感光体1の回転方向とは逆方向である矢示の時計方
向、或いは帯電当接部において感光体1の回転方向と順
方向である反時計方向に回転駆動され、感光体1面が帯
電当接部において導電性微粉体33を保持した中抵抗層
32で摺擦される。
て感光体1の回転方向とは逆方向である矢示の時計方
向、或いは帯電当接部において感光体1の回転方向と順
方向である反時計方向に回転駆動され、感光体1面が帯
電当接部において導電性微粉体33を保持した中抵抗層
32で摺擦される。
【0040】そして帯電バイアス電圧印加電源S1によ
り帯電ローラ30を介して導電性微粉体33に対して所
定の帯電バイアスが所定の極性・電位の直流電圧(V直
流単独:直流印加方式)、或いは交番電圧Vを重畳した
振動電圧(V直流+V交流:交流印加方式)で印加さ
れ、回転駆動されている感光体1の外周面が直接注入帯
電方式にて所定の極性・電位に均一帯電される。
り帯電ローラ30を介して導電性微粉体33に対して所
定の帯電バイアスが所定の極性・電位の直流電圧(V直
流単独:直流印加方式)、或いは交番電圧Vを重畳した
振動電圧(V直流+V交流:交流印加方式)で印加さ
れ、回転駆動されている感光体1の外周面が直接注入帯
電方式にて所定の極性・電位に均一帯電される。
【0041】次に、トナー母粒子に導電性微粉体33を
外部添加した場合の画像形成プロセス中でのトナー母粒
子及び導電性微粉体33の挙動を説明する。
外部添加した場合の画像形成プロセス中でのトナー母粒
子及び導電性微粉体33の挙動を説明する。
【0042】トナーに含有した導電性微粉体33は、現
像工程(不図示)における感光体1上の静電潜像の現像
時にトナー母粒子とともに適当量が感光体1に移行す
る。
像工程(不図示)における感光体1上の静電潜像の現像
時にトナー母粒子とともに適当量が感光体1に移行す
る。
【0043】感光体1上のトナー画像は転写工程におい
て転写材Pに転移する。感光体1上の導電性微粉体33
も一部は転写材に付着するが残りは感光体1上に付着保
持されて残留する。トナーと逆極性の転写バイアスを印
加して転写を行う場合には、トナーは転写材側に引かれ
て積極的に転移するが、感光体1上の導電性微粉体33
は導電性であることで転写材側には積極的には転移せ
ず、一部は転写材側に付着するものの残りは感光体1上
に付着保持されて残留する。
て転写材Pに転移する。感光体1上の導電性微粉体33
も一部は転写材に付着するが残りは感光体1上に付着保
持されて残留する。トナーと逆極性の転写バイアスを印
加して転写を行う場合には、トナーは転写材側に引かれ
て積極的に転移するが、感光体1上の導電性微粉体33
は導電性であることで転写材側には積極的には転移せ
ず、一部は転写材側に付着するものの残りは感光体1上
に付着保持されて残留する。
【0044】クリーナを用いない画像形成方法では、転
写後の感光体1表面に残存の転写残トナー34および上
記の残存導電性微粉体33は、感光体1と帯電ローラ3
0の当接部である帯電部に感光体1の移動でそのまま持
ち運ばれて帯電ローラ30に付着・混入する。
写後の感光体1表面に残存の転写残トナー34および上
記の残存導電性微粉体33は、感光体1と帯電ローラ3
0の当接部である帯電部に感光体1の移動でそのまま持
ち運ばれて帯電ローラ30に付着・混入する。
【0045】したがって、感光体1と帯電ローラ30と
の当接部に導電性微粉体33が介在した状態で感光体1
の直接注入帯電が行なわれる。
の当接部に導電性微粉体33が介在した状態で感光体1
の直接注入帯電が行なわれる。
【0046】この導電性微粉体33の存在により、帯電
ローラ30への多少の転写残トナー34の付着・混入に
よる汚染にかかわらず、帯電ローラ30の感光体1への
緻密な接触性と接触抵抗を維持できるため、帯電ローラ
30による感光体1の帯電を良好に行なわせることがで
きる。
ローラ30への多少の転写残トナー34の付着・混入に
よる汚染にかかわらず、帯電ローラ30の感光体1への
緻密な接触性と接触抵抗を維持できるため、帯電ローラ
30による感光体1の帯電を良好に行なわせることがで
きる。
【0047】また、帯電ローラ30に付着・混入した転
写残トナー34は、帯電ローラ30から感光体1へ印加
される帯電バイアスによって、帯電バイアスと同極性に
帯電を揃えられて帯電ローラ30から徐々に感光体1上
に吐き出され、感光体1の移動とともに現像部に至り、
現像工程において現像同時クリーニング(回収)され
る。
写残トナー34は、帯電ローラ30から感光体1へ印加
される帯電バイアスによって、帯電バイアスと同極性に
帯電を揃えられて帯電ローラ30から徐々に感光体1上
に吐き出され、感光体1の移動とともに現像部に至り、
現像工程において現像同時クリーニング(回収)され
る。
【0048】さらに、画像形成が繰り返されることで、
トナーに含有させてある導電性微粉体33が、現像部で
感光体1に移行し感光体1の移動により転写部を経て帯
電部に持ち運ばれて帯電部に逐次に導電性微粉体が供給
され続けるため、帯電部において導電性微粉体33が脱
落等で減少したり、劣化したりするなどしても、帯電性
の低下が生じることが防止されて良好な帯電性が安定し
て維持される。
トナーに含有させてある導電性微粉体33が、現像部で
感光体1に移行し感光体1の移動により転写部を経て帯
電部に持ち運ばれて帯電部に逐次に導電性微粉体が供給
され続けるため、帯電部において導電性微粉体33が脱
落等で減少したり、劣化したりするなどしても、帯電性
の低下が生じることが防止されて良好な帯電性が安定し
て維持される。
【0049】この直接注入帯電方式を用い、像担持体と
して有機感光体(OPC)上に導電性微粒子を分散させ
た表層を有するものや、アモルファスシリコン系感光体
(a−Si)などを用いれば、像担持体への帯電がコロ
ナ帯電器を用いて行なわれるような放電現象を利用しな
いので完全なオゾンレス、かつ、低電力消費型帯電が可
能となる。
して有機感光体(OPC)上に導電性微粒子を分散させ
た表層を有するものや、アモルファスシリコン系感光体
(a−Si)などを用いれば、像担持体への帯電がコロ
ナ帯電器を用いて行なわれるような放電現象を利用しな
いので完全なオゾンレス、かつ、低電力消費型帯電が可
能となる。
【0050】
【発明が解決しようとする課題】しかし、画像形成装置
において、像担持体としての感光体1の帯電手段として
前述した直接注入帯電を用いたローラ帯電方式にも克服
すべき特有の諸問題が存在する。その1つに、以下のよ
うな問題があった。
において、像担持体としての感光体1の帯電手段として
前述した直接注入帯電を用いたローラ帯電方式にも克服
すべき特有の諸問題が存在する。その1つに、以下のよ
うな問題があった。
【0051】文字画像のような低比率の画像ではなく、
ベタや写真画像のような高比率の画像を取り続けると、
転写残トナー34が文字画像形成時よりも多いために、
帯電ローラ30が転写残トナー34と接触する機会が多
くなり、帯電ローラ30が転写残トナー34で汚染さ
れ、帯電不良になる。
ベタや写真画像のような高比率の画像を取り続けると、
転写残トナー34が文字画像形成時よりも多いために、
帯電ローラ30が転写残トナー34と接触する機会が多
くなり、帯電ローラ30が転写残トナー34で汚染さ
れ、帯電不良になる。
【0052】すなわち、帯電ローラ30に付着・混入し
た転写残トナー34は、帯電ローラ30から感光体1へ
印加される帯電バイアスによって、帯電バイアスと同極
性に帯電を揃えられて帯電ローラ30から徐々に感光体
1上に吐き出されるが、付着・混入した転写残トナー3
4量と吐き出された転写残トナー34量との関係が付着
・混入した転写残トナー34>吐き出された転写残トナ
ー34となるため、導電性微粉体33が帯電ローラ30
の感光体1への緻密な接触性を維持できなくなり、帯電
ローラ30による感光体1の帯電が良好に行えなくな
る。
た転写残トナー34は、帯電ローラ30から感光体1へ
印加される帯電バイアスによって、帯電バイアスと同極
性に帯電を揃えられて帯電ローラ30から徐々に感光体
1上に吐き出されるが、付着・混入した転写残トナー3
4量と吐き出された転写残トナー34量との関係が付着
・混入した転写残トナー34>吐き出された転写残トナ
ー34となるため、導電性微粉体33が帯電ローラ30
の感光体1への緻密な接触性を維持できなくなり、帯電
ローラ30による感光体1の帯電が良好に行えなくな
る。
【0053】また現像部で発生する飛散トナーにより帯
電部材が著しく汚染された場合でも帯電性は損なわれ
る。
電部材が著しく汚染された場合でも帯電性は損なわれ
る。
【0054】本発明は、帯電不良を防止して、長期にわ
たって、像担持体に対して安定した帯電が行える画像形
成装置を提供することを目的としている。
たって、像担持体に対して安定した帯電が行える画像形
成装置を提供することを目的としている。
【0055】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の画像形成装置は、トナー像を担持する像担
持体と、前記像担持体に帯電部材を接触作動して帯電バ
イアス電源の帯電バイアスを印加することによって前記
像担持体の帯電を行う帯電手段と、前記帯電手段によっ
て帯電された前記像担持体の帯電面に静電潜像を形成す
る静電潜像手段と、前記静電潜像をトナーによって可視
化して前記トナー像とする現像手段と、前記帯電手段の
帯電部材の表面上に存在する残存トナーの量を検知し、
該トナー量が所定量になったとき、前記帯電部材に交流
電圧を含ませた前記帯電バイアスを前記帯電バイアス電
源によって印加して前記残存する残存トナーを前記像担
持体に吐き出させる吐き出し手段と、を備えている。
め、本発明の画像形成装置は、トナー像を担持する像担
持体と、前記像担持体に帯電部材を接触作動して帯電バ
イアス電源の帯電バイアスを印加することによって前記
像担持体の帯電を行う帯電手段と、前記帯電手段によっ
て帯電された前記像担持体の帯電面に静電潜像を形成す
る静電潜像手段と、前記静電潜像をトナーによって可視
化して前記トナー像とする現像手段と、前記帯電手段の
帯電部材の表面上に存在する残存トナーの量を検知し、
該トナー量が所定量になったとき、前記帯電部材に交流
電圧を含ませた前記帯電バイアスを前記帯電バイアス電
源によって印加して前記残存する残存トナーを前記像担
持体に吐き出させる吐き出し手段と、を備えている。
【0056】上記目的を達成するため、本発明の画像形
成装置は、トナー像を担持する像担持体と、前記像担持
体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電源の帯電バ
イアスを印加することによって前記像担持体の帯電を行
う帯電手段と、前記帯電手段によって帯電された前記像
担持体の帯電面に静電潜像を形成する静電潜像手段と、
前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナー像
とする現像手段と、前記帯電手段の帯電部材の表面上に
存在する残存トナーの量を検知し、該トナー量が所定量
になったとき、前記帯電部材の作動速度を速めて、前記
帯電部材に前記残存する残存トナーを前記像担持体に吐
き出させる吐き出し手段と、を備えている。
成装置は、トナー像を担持する像担持体と、前記像担持
体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電源の帯電バ
イアスを印加することによって前記像担持体の帯電を行
う帯電手段と、前記帯電手段によって帯電された前記像
担持体の帯電面に静電潜像を形成する静電潜像手段と、
前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナー像
とする現像手段と、前記帯電手段の帯電部材の表面上に
存在する残存トナーの量を検知し、該トナー量が所定量
になったとき、前記帯電部材の作動速度を速めて、前記
帯電部材に前記残存する残存トナーを前記像担持体に吐
き出させる吐き出し手段と、を備えている。
【0057】本発明の画像形成装置の前記吐き出し手段
は、前記残留トナーの量を検知する残留トナー検知部を
備えている。
は、前記残留トナーの量を検知する残留トナー検知部を
備えている。
【0058】上記目的を達成するため、本発明の画像形
成装置は、トナー像を担持する像担持体と、前記像担持
体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電源の帯電バ
イアスを印加することによって前記像担持体の帯電を行
う帯電手段と、前記帯電手段によって帯電された前記像
担持体の帯電面に静電潜像を形成する静電潜像手段と、
前記静電潜像手段に画像情報信号を送る画像処理手段
と、前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナ
ー像とする現像手段と、前記画像処理手段の濃度信号の
ビデオカウント数が所定数になったとき、前記帯電部材
に交流電圧を含ませた前記帯電バイアスを前記バイアス
電源によって印加して前記残存する残存トナーを前記像
担持体に吐き出させる吐き出し手段と、を備えている。
成装置は、トナー像を担持する像担持体と、前記像担持
体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電源の帯電バ
イアスを印加することによって前記像担持体の帯電を行
う帯電手段と、前記帯電手段によって帯電された前記像
担持体の帯電面に静電潜像を形成する静電潜像手段と、
前記静電潜像手段に画像情報信号を送る画像処理手段
と、前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナ
ー像とする現像手段と、前記画像処理手段の濃度信号の
ビデオカウント数が所定数になったとき、前記帯電部材
に交流電圧を含ませた前記帯電バイアスを前記バイアス
電源によって印加して前記残存する残存トナーを前記像
担持体に吐き出させる吐き出し手段と、を備えている。
【0059】上記目的を達成するため、本発明の画像形
成装置は、トナー像を担持する像担持体と、前記像担持
体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電源の帯電バ
イアスを印加することによって前記像担持体の帯電を行
う帯電手段と、前記帯電手段によって帯電された前記像
担持体の帯電面に静電潜像を形成する静電潜像手段と、
前記静電潜像手段に画像情報信号を送る画像処理手段
と、前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナ
ー像とする現像手段と、前記画像処理手段の濃度信号の
ビデオカウント数が所定数になったとき、前記帯電部材
の作動速度を速めて、前記帯電部材に前記残存する残存
トナーを前記像担持体に吐き出させる吐き出し手段と、
を備えている。
成装置は、トナー像を担持する像担持体と、前記像担持
体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電源の帯電バ
イアスを印加することによって前記像担持体の帯電を行
う帯電手段と、前記帯電手段によって帯電された前記像
担持体の帯電面に静電潜像を形成する静電潜像手段と、
前記静電潜像手段に画像情報信号を送る画像処理手段
と、前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナ
ー像とする現像手段と、前記画像処理手段の濃度信号の
ビデオカウント数が所定数になったとき、前記帯電部材
の作動速度を速めて、前記帯電部材に前記残存する残存
トナーを前記像担持体に吐き出させる吐き出し手段と、
を備えている。
【0060】上記目的を達成するため、本発明の画像形
成装置は、トナー像を担持する像担持体と、前記像担持
体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電源の帯電バ
イアスを印加することによって前記像担持体の帯電を行
う帯電手段と、前記帯電手段によって帯電された前記像
担持体の帯電面に静電潜像を形成する静電潜像手段と、
前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナー像
とする現像手段と、前記像担持体に担持した前記トナー
像を転写材に転写する転写手段と、前記転写手段によっ
て転写された転写材をカウントとして、カウント数が所
定のカウント数になったとき、前記帯電部材に交流電圧
を含ませた前記帯電バイアスを前記帯電バイアス電源に
よって印加して前記残存する残存トナーを前記像担持体
に吐き出させる吐き出し手段と、を備えている。
成装置は、トナー像を担持する像担持体と、前記像担持
体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電源の帯電バ
イアスを印加することによって前記像担持体の帯電を行
う帯電手段と、前記帯電手段によって帯電された前記像
担持体の帯電面に静電潜像を形成する静電潜像手段と、
前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナー像
とする現像手段と、前記像担持体に担持した前記トナー
像を転写材に転写する転写手段と、前記転写手段によっ
て転写された転写材をカウントとして、カウント数が所
定のカウント数になったとき、前記帯電部材に交流電圧
を含ませた前記帯電バイアスを前記帯電バイアス電源に
よって印加して前記残存する残存トナーを前記像担持体
に吐き出させる吐き出し手段と、を備えている。
【0061】上記目的を達成するため、本発明の画像形
成装置は、トナー像を担持する像担持体と、前記像担持
体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電源の帯電バ
イアスを印加することによって前記像担持体の帯電を行
う帯電手段と、前記帯電手段によって帯電された前記像
担持体の帯電面に静電潜像を形成する静電潜像手段と、
前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナー像
とする現像手段と、前記像担持体に担持した前記トナー
像を転写材に転写する転写手段と、前記転写手段によっ
て転写された転写材をカウントとして、カウント数が所
定のカウント数になったとき、前記帯電部材の作動速度
を速めて、前記帯電部材に前記残存する残存トナーを前
記像担持体に吐き出させる吐き出し手段と、を備えてい
る。
成装置は、トナー像を担持する像担持体と、前記像担持
体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電源の帯電バ
イアスを印加することによって前記像担持体の帯電を行
う帯電手段と、前記帯電手段によって帯電された前記像
担持体の帯電面に静電潜像を形成する静電潜像手段と、
前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナー像
とする現像手段と、前記像担持体に担持した前記トナー
像を転写材に転写する転写手段と、前記転写手段によっ
て転写された転写材をカウントとして、カウント数が所
定のカウント数になったとき、前記帯電部材の作動速度
を速めて、前記帯電部材に前記残存する残存トナーを前
記像担持体に吐き出させる吐き出し手段と、を備えてい
る。
【0062】本発明の画像形成装置の前記吐き出し手段
が前記帯電部材に印加する帯電バイアスは、直流電圧に
交流電圧を重畳した電圧である。
が前記帯電部材に印加する帯電バイアスは、直流電圧に
交流電圧を重畳した電圧である。
【0063】本発明の画像形成装置の前記交流電圧の波
形は、矩形波である。
形は、矩形波である。
【0064】本発明の画像形成装置の前記帯電部材の表
面の移動速度と前記像担持体の表面の移動速度とが異な
っている。
面の移動速度と前記像担持体の表面の移動速度とが異な
っている。
【0065】本発明の画像形成装置の前記帯電部材の表
面の移動方向と前記像担持体の表面の移動方向とが異な
っている。
面の移動方向と前記像担持体の表面の移動方向とが異な
っている。
【0066】本発明の画像形成装置の前記帯電手段は、
トナー像を転写材に転写した後に前記像担持体上に残留
した転写残トナーを回収するクリーニング手段を兼ねて
いる。
トナー像を転写材に転写した後に前記像担持体上に残留
した転写残トナーを回収するクリーニング手段を兼ねて
いる。
【0067】本発明の画像形成装置の前記帯電部材は、
アスカーC硬度が約25度乃至約50度のローラ部材で
ある。
アスカーC硬度が約25度乃至約50度のローラ部材で
ある。
【0068】本発明の画像形成装置の前記帯電部材は、
体積固有抵抗約103Ω・cm乃至約108Ω・cmの
ローラ部材である。
体積固有抵抗約103Ω・cm乃至約108Ω・cmの
ローラ部材である。
【0069】本発明の画像形成装置の前記帯電手段は、
前記帯電部材と前記像担持体との間に導電性を備えた導
電性微粉体が存在した状態で前記像担持体を帯電するよ
うになっており、前記導電性微粉体の体積固有抵抗は、
1×10−1乃至1×109Ω・cmである。
前記帯電部材と前記像担持体との間に導電性を備えた導
電性微粉体が存在した状態で前記像担持体を帯電するよ
うになっており、前記導電性微粉体の体積固有抵抗は、
1×10−1乃至1×109Ω・cmである。
【0070】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態の画像形
成装置を図に基づいて説明する。本実施形態は本発明を
なんら限定するものではない。なお、以下の配合におけ
る部数は全て重量部である。また、数値は、参考数値で
あり、かつ大凡の数値である。
成装置を図に基づいて説明する。本実施形態は本発明を
なんら限定するものではない。なお、以下の配合におけ
る部数は全て重量部である。また、数値は、参考数値で
あり、かつ大凡の数値である。
【0071】(実施形態1の画像形成装置)(アモルフ
ァスシリコン系感光体)ここで、本発明の実施形態の画
像形成装置である複写機50に用いる、帯電部材(例え
ば、帯電ローラ)、導電性微粉体、像担持体である感光
体に関して説明する。
ァスシリコン系感光体)ここで、本発明の実施形態の画
像形成装置である複写機50に用いる、帯電部材(例え
ば、帯電ローラ)、導電性微粉体、像担持体である感光
体に関して説明する。
【0072】(帯電部材)本実施形態における画像形成
装置の帯電部は、像担持体である感光体に、ローラ型
(帯電ローラ)、ファーブラシ型、ブレード型等の導電
性の帯電部材(接触帯電部材・接触帯電器)を接触さ
せ、接触帯電部材に所定の帯電バイアスを印加して像担
持体面を所定の極性・電位に帯電させる接触帯電装置を
用いている。接触帯電部材に対する印加帯電バイアスは
直流電圧のみでも良好な帯電性を得ることが可能である
が、直流電圧に交番電圧(交流電圧)を重畳してもよ
い。
装置の帯電部は、像担持体である感光体に、ローラ型
(帯電ローラ)、ファーブラシ型、ブレード型等の導電
性の帯電部材(接触帯電部材・接触帯電器)を接触さ
せ、接触帯電部材に所定の帯電バイアスを印加して像担
持体面を所定の極性・電位に帯電させる接触帯電装置を
用いている。接触帯電部材に対する印加帯電バイアスは
直流電圧のみでも良好な帯電性を得ることが可能である
が、直流電圧に交番電圧(交流電圧)を重畳してもよ
い。
【0073】交番電圧の波形としては、正弦波、矩形
波、三角波等適宜使用可能である。また、直流電源を周
期的にオン/オフすることによって形成されたパルス波
であっても良い。このように交番電圧の波形としては周
期的にその電圧値が変化するようなバイアスが使用でき
る。
波、三角波等適宜使用可能である。また、直流電源を周
期的にオン/オフすることによって形成されたパルス波
であっても良い。このように交番電圧の波形としては周
期的にその電圧値が変化するようなバイアスが使用でき
る。
【0074】本実施形態においては、接触帯電部材が、
この接触帯電部材と像担持体との間に導電性微粉体を介
在させる当接部を設ける上で弾性を備えていることが好
ましく、接触帯電部材に電圧を印加することにより像担
持体を帯電するのに導電性に優れていることが好まし
い。
この接触帯電部材と像担持体との間に導電性微粉体を介
在させる当接部を設ける上で弾性を備えていることが好
ましく、接触帯電部材に電圧を印加することにより像担
持体を帯電するのに導電性に優れていることが好まし
い。
【0075】したがって、接触帯電部材は、導電性弾性
ローラである帯電ローラ、磁性粒子を磁気拘束させた磁
気ブラシ部を有し該磁気ブラシ部を像担持体に接触させ
た磁気ブラシ接触帯電部材、或いは導電性繊維から構成
されるブラシであることが好ましい。
ローラである帯電ローラ、磁性粒子を磁気拘束させた磁
気ブラシ部を有し該磁気ブラシ部を像担持体に接触させ
た磁気ブラシ接触帯電部材、或いは導電性繊維から構成
されるブラシであることが好ましい。
【0076】導電性弾性ローラの硬度は、硬度が低すぎ
ると形状が安定しないため、像担持体との接触性が悪く
なり、さらに、接触帯電部材と像担持体との当接部に導
電性微粉体を介在させることで導電性弾性ローラの表層
を削り、或いは傷つけ、安定した帯電性が得られない。
また、硬度が高すぎると像担持体との間に帯電当接部を
確保できないだけでなく、像担持体の表面へのミクロ的
な接触性が悪くなる。このため、像担持体の表面の硬度
は、アスカーC硬度で、約25度乃至約50度の範囲が
好ましい。
ると形状が安定しないため、像担持体との接触性が悪く
なり、さらに、接触帯電部材と像担持体との当接部に導
電性微粉体を介在させることで導電性弾性ローラの表層
を削り、或いは傷つけ、安定した帯電性が得られない。
また、硬度が高すぎると像担持体との間に帯電当接部を
確保できないだけでなく、像担持体の表面へのミクロ的
な接触性が悪くなる。このため、像担持体の表面の硬度
は、アスカーC硬度で、約25度乃至約50度の範囲が
好ましい。
【0077】導電性弾性ローラは、弾性を持たせて像担
持体との充分な接触状態を得ると同時に、移動する像担
持体を充電するに、例えば、可撓性部材としてのゴムあ
るいは発泡体の中抵抗層を形成することにより作製され
ている。中抵抗層は樹脂(例えば、ウレタン)、導電性
粒子(例えば、カーボンブラック)、硫化剤、発泡剤等
により処方され、芯金31の上にローラ状に形成する。
その後、必要に応じて切削、表面を研磨して形状を整え
導電性弾性ローラを作成することができる。なお、該ロ
ーラ表面は導電性微粉体を介在させるため、微少なセル
または凹凸を有していることが好ましい。
持体との充分な接触状態を得ると同時に、移動する像担
持体を充電するに、例えば、可撓性部材としてのゴムあ
るいは発泡体の中抵抗層を形成することにより作製され
ている。中抵抗層は樹脂(例えば、ウレタン)、導電性
粒子(例えば、カーボンブラック)、硫化剤、発泡剤等
により処方され、芯金31の上にローラ状に形成する。
その後、必要に応じて切削、表面を研磨して形状を整え
導電性弾性ローラを作成することができる。なお、該ロ
ーラ表面は導電性微粉体を介在させるため、微少なセル
または凹凸を有していることが好ましい。
【0078】導電性弾性ローラの材質としては、弾性発
泡体に限定するものでは無く、弾性体の材料として、エ
チレン−プロピレン−ジエンポリエチレン(EPD
M)、ウレタン、ブタジエンアクリロニトリルゴム(N
BR)、シリコーンゴムや、イソプレンゴム等に抵抗調
整のため、カーボンブラックや金属酸化物等の導電性物
質を分散したゴム材や、またこれらを発泡させたものが
あげられる。また、導電性物質を分散せずに、或いは導
電性物質と併用してイオン導電性の材料を用いて抵抗調
整をすることも可能である。
泡体に限定するものでは無く、弾性体の材料として、エ
チレン−プロピレン−ジエンポリエチレン(EPD
M)、ウレタン、ブタジエンアクリロニトリルゴム(N
BR)、シリコーンゴムや、イソプレンゴム等に抵抗調
整のため、カーボンブラックや金属酸化物等の導電性物
質を分散したゴム材や、またこれらを発泡させたものが
あげられる。また、導電性物質を分散せずに、或いは導
電性物質と併用してイオン導電性の材料を用いて抵抗調
整をすることも可能である。
【0079】接触帯電部材は、可撓性を備えていること
が接触帯電部材と像担持体との当接部において、導電性
微粉体が像担持体に接触する機会が増加して、高い接触
性を得ることができ、直接注入帯電性を向上させる点で
好ましい。つまり、接触帯電部材が導電性微粉体を介し
て密に像担持体に接触して、接触帯電部材と像担持体の
当接部に存在する導電性微粉体が像担持体表面を隙間な
く摺擦することで、接触帯電部材による像担持体の帯電
は帯電促進粒子の存在により放電現象を用いない安定か
つ安全な直接注入帯電が支配的となる。
が接触帯電部材と像担持体との当接部において、導電性
微粉体が像担持体に接触する機会が増加して、高い接触
性を得ることができ、直接注入帯電性を向上させる点で
好ましい。つまり、接触帯電部材が導電性微粉体を介し
て密に像担持体に接触して、接触帯電部材と像担持体の
当接部に存在する導電性微粉体が像担持体表面を隙間な
く摺擦することで、接触帯電部材による像担持体の帯電
は帯電促進粒子の存在により放電現象を用いない安定か
つ安全な直接注入帯電が支配的となる。
【0080】接触帯電部材である導電性弾性ローラは、
弾性を備えて、像担持体との充分な接触状態を得ると同
時に、移動する像担持体を充電するに充分低い抵抗を備
えた電極として機能することが重要である。
弾性を備えて、像担持体との充分な接触状態を得ると同
時に、移動する像担持体を充電するに充分低い抵抗を備
えた電極として機能することが重要である。
【0081】一方、像担持体にピンホールなどの欠陥部
位が存在した場合に電圧のリークを防止する必要があ
る。像担持体として電子写真用感光体を用いた場合、導
電性弾性ローラは、充分な帯電性と耐リークを得るには
103Ω乃至108Ωの抵抗を備えていることが好まし
く、より好ましくは104Ω乃至107Ωの抵抗を備え
ていることが良い。
位が存在した場合に電圧のリークを防止する必要があ
る。像担持体として電子写真用感光体を用いた場合、導
電性弾性ローラは、充分な帯電性と耐リークを得るには
103Ω乃至108Ωの抵抗を備えていることが好まし
く、より好ましくは104Ω乃至107Ωの抵抗を備え
ていることが良い。
【0082】このローラの抵抗は、該ローラの芯金に総
圧1kgの加重がかかるようφ30mmの円筒状アルミ
ドラムに該ローラを圧着した状態で、芯金とアルミドラ
ムとの間に100Vを印加し、計測した。
圧1kgの加重がかかるようφ30mmの円筒状アルミ
ドラムに該ローラを圧着した状態で、芯金とアルミドラ
ムとの間に100Vを印加し、計測した。
【0083】接触帯電部材と像担持体との速度差は、具
体的には接触帯電部材面を移動駆動して像担持体との間
に速度差を設けることになる。好ましくは接触帯電部材
を回転駆動し、さらにその回転方向は像担持体表面の移
動方向とは逆方向に回転するように構成するのがよい。
体的には接触帯電部材面を移動駆動して像担持体との間
に速度差を設けることになる。好ましくは接触帯電部材
を回転駆動し、さらにその回転方向は像担持体表面の移
動方向とは逆方向に回転するように構成するのがよい。
【0084】接触帯電部材面を像担持体表面の移動方向
と同じ方向に移動させて速度差を持たせることも可能で
あるが、直接注入帯電の帯電性は像担持体の周速と接触
帯電部材の周速の比に依存するため、逆方向と同じ周速
差を得るには順方向では接触帯電部材の回転数が逆方向
の時に比べて大きくなるので、接触帯電部材を逆方向に
移動させる方が回転数が有利である。
と同じ方向に移動させて速度差を持たせることも可能で
あるが、直接注入帯電の帯電性は像担持体の周速と接触
帯電部材の周速の比に依存するため、逆方向と同じ周速
差を得るには順方向では接触帯電部材の回転数が逆方向
の時に比べて大きくなるので、接触帯電部材を逆方向に
移動させる方が回転数が有利である。
【0085】ここで記述した相対移動速度比は、
相対移動速度比(%)=(接触帯電部材周速−像担持体
周速)/像担持体周速×100 である(接触帯電部材周速は帯電当接部において接触帯
電部材表面が像担持体表面と同じ方向に移動する時、正
の値である)。
周速)/像担持体周速×100 である(接触帯電部材周速は帯電当接部において接触帯
電部材表面が像担持体表面と同じ方向に移動する時、正
の値である)。
【0086】さらに、帯電当接部を形成する接触帯電部
材の表面の移動速度と像担持体の表面の移動速度とに相
対的速度差を設けることで、接触帯電部材と像担持体の
当接部において導電性微粉体が像担持体に接触する機会
が格段に増加して、より高い接触性を得ることができ
る。したがって、接触帯電部材と像担持体とに、相対的
速度差を設けることは、直接注入帯電性を向上させる点
で好ましい。
材の表面の移動速度と像担持体の表面の移動速度とに相
対的速度差を設けることで、接触帯電部材と像担持体の
当接部において導電性微粉体が像担持体に接触する機会
が格段に増加して、より高い接触性を得ることができ
る。したがって、接触帯電部材と像担持体とに、相対的
速度差を設けることは、直接注入帯電性を向上させる点
で好ましい。
【0087】接触帯電部材と像担持体との当接部に導電
性微粉体を介在させることにより、導電性微粉体の潤滑
効果(摩擦低減効果)によって、接触帯電部材と像担持
体との間に大幅なトルクの増大及び接触帯電部材及び像
担持体表面の顕著な削れ等を伴うことなく速度差を設け
ることが可能となる。
性微粉体を介在させることにより、導電性微粉体の潤滑
効果(摩擦低減効果)によって、接触帯電部材と像担持
体との間に大幅なトルクの増大及び接触帯電部材及び像
担持体表面の顕著な削れ等を伴うことなく速度差を設け
ることが可能となる。
【0088】像担持体と接触帯電部材との当接部におけ
る導電性微粉体の介在量は、少なすぎると、該粒子によ
る潤滑効果が充分に得られず、像担持体と接触帯電部材
との摩擦が大きくなり、接触帯電部材を像担持体に速度
差を持って回転駆動させることが困難になる。つまり、
駆動トルクが過大になり、無理に回転させると接触帯電
部材や像担持体の表面が削れることになる。さらに、導
電性微粉体による接触機会増加の効果が得られないこと
もあり充分な帯電性能が得られない。一方、導電性微粉
体の介在量が多過ぎると、導電性微粉体の接触帯電部材
からの脱落が著しく増加し作像上に悪影響が出る。
る導電性微粉体の介在量は、少なすぎると、該粒子によ
る潤滑効果が充分に得られず、像担持体と接触帯電部材
との摩擦が大きくなり、接触帯電部材を像担持体に速度
差を持って回転駆動させることが困難になる。つまり、
駆動トルクが過大になり、無理に回転させると接触帯電
部材や像担持体の表面が削れることになる。さらに、導
電性微粉体による接触機会増加の効果が得られないこと
もあり充分な帯電性能が得られない。一方、導電性微粉
体の介在量が多過ぎると、導電性微粉体の接触帯電部材
からの脱落が著しく増加し作像上に悪影響が出る。
【0089】(帯電部材の製造例)6φ、264mmの
SUSローラを芯金とし、芯金上にウレタン樹脂、導電
性粒子としてのカーボンブラック、硫化剤、発泡剤等を
処方した中抵抗の発泡ウレタン層をローラ状に形成し、
さらに切削研磨し形状及び表面性を整え、可撓性部材と
して12φ、234mmの帯電ローラを作成した。
SUSローラを芯金とし、芯金上にウレタン樹脂、導電
性粒子としてのカーボンブラック、硫化剤、発泡剤等を
処方した中抵抗の発泡ウレタン層をローラ状に形成し、
さらに切削研磨し形状及び表面性を整え、可撓性部材と
して12φ、234mmの帯電ローラを作成した。
【0090】得られた帯電ローラは、抵抗が105Ω・
cmであり、硬度は、アスカーC硬度で30度であっ
た。
cmであり、硬度は、アスカーC硬度で30度であっ
た。
【0091】(導電性微粉体)一次粒子径0.1μm乃
至0.3μmの酸化亜鉛一次粒子を圧力により造粒して
得られた粒子を風力分級して得られた、体積平均粒径
1.5μm、粒度分布における0.5μm以下が35体
積%、5μm以上が0個数%の微粒子酸化亜鉛(抵抗1
500Ω・cm、透過率35%)を導電性微粉体とす
る。
至0.3μmの酸化亜鉛一次粒子を圧力により造粒して
得られた粒子を風力分級して得られた、体積平均粒径
1.5μm、粒度分布における0.5μm以下が35体
積%、5μm以上が0個数%の微粒子酸化亜鉛(抵抗1
500Ω・cm、透過率35%)を導電性微粉体とす
る。
【0092】この導電性微粉体は、走査型電子顕微鏡に
て300倍及び3万倍で観察したところ、0.1μm乃
至0.3μmの酸化亜鉛一次粒子と1μm乃至4μmの
凝集体からなっていた。
て300倍及び3万倍で観察したところ、0.1μm乃
至0.3μmの酸化亜鉛一次粒子と1μm乃至4μmの
凝集体からなっていた。
【0093】本実施形態の画像形成装置で画像露光に用
いられるレーザービームスキャナの露光光波長740n
mにあわせて、波長740nmの光源を用いて、この波
長域における透過率をX−Rite社製310T透過型
濃度計を用い測定したところ、この導電性微粉体の透過
率はおよそ35%であった。
いられるレーザービームスキャナの露光光波長740n
mにあわせて、波長740nmの光源を用いて、この波
長域における透過率をX−Rite社製310T透過型
濃度計を用い測定したところ、この導電性微粉体の透過
率はおよそ35%であった。
【0094】(a)含有量
導電性微粉体のトナー全体に対する含有量は、1重量%
乃至10重量%であることが好ましい。導電性微粉体の
トナー全体に対する含有量が1重量%よりも少ないと、
帯電を良好に行なわせるのに充分な量の導電性微粉体
を、接触帯電部材と像担持体との当接部、或いはその近
傍の帯電領域に介在させることができず、帯電性が低下
して、帯電不良を生じる。また、含有量が10重量%よ
りも多いと、現像同時クリーニングによって回収される
導電性微粉体が多くなり過ぎて、現像部でのトナーの帯
電性能、現像性が低下して、画像濃度低下やトナー飛散
を生ずる。導電性微粉体のトナー全体に対する含有量
は、1.5重量%乃至5重量%であることが好ましい。
乃至10重量%であることが好ましい。導電性微粉体の
トナー全体に対する含有量が1重量%よりも少ないと、
帯電を良好に行なわせるのに充分な量の導電性微粉体
を、接触帯電部材と像担持体との当接部、或いはその近
傍の帯電領域に介在させることができず、帯電性が低下
して、帯電不良を生じる。また、含有量が10重量%よ
りも多いと、現像同時クリーニングによって回収される
導電性微粉体が多くなり過ぎて、現像部でのトナーの帯
電性能、現像性が低下して、画像濃度低下やトナー飛散
を生ずる。導電性微粉体のトナー全体に対する含有量
は、1.5重量%乃至5重量%であることが好ましい。
【0095】(b)抵抗
また、導電性微粉体の抵抗は、109Ω・cm以下であ
る。導電性微粉体の抵抗が、109Ω・cmよりも大き
いと、導電性微粉体を接触帯電部材と像担持体との当接
部、或いはその近傍の帯電領域に介在させ、接触帯電部
材の導電性微粉体を介しての像担持体への緻密な接触性
を維持させても、良好な帯電性を得るための帯電促進効
果が得られない。
る。導電性微粉体の抵抗が、109Ω・cmよりも大き
いと、導電性微粉体を接触帯電部材と像担持体との当接
部、或いはその近傍の帯電領域に介在させ、接触帯電部
材の導電性微粉体を介しての像担持体への緻密な接触性
を維持させても、良好な帯電性を得るための帯電促進効
果が得られない。
【0096】導電性微粉体の帯電促進効果を充分に引き
出し、良好な帯電性を安定して得るためには、導電性微
粉体の抵抗が、接触帯電部材の表面部或いは像担持体と
の接触部の抵抗よりも小さいことが好ましい。
出し、良好な帯電性を安定して得るためには、導電性微
粉体の抵抗が、接触帯電部材の表面部或いは像担持体と
の接触部の抵抗よりも小さいことが好ましい。
【0097】さらに、導電性微粉体の抵抗が、106Ω
・cm以下であることが、接触帯電部材への絶縁性の転
写残トナーへの付着・混入による帯電阻害に打ち勝って
像担持体の帯電をより良好に行なわせる上で好ましい。
・cm以下であることが、接触帯電部材への絶縁性の転
写残トナーへの付着・混入による帯電阻害に打ち勝って
像担持体の帯電をより良好に行なわせる上で好ましい。
【0098】一方、導電性微粉体の抵抗が、10−1Ω
・cm以上であることが、該微粉末が帯電し非画像部に
現像され帯電を促進するために好ましい。
・cm以上であることが、該微粉末が帯電し非画像部に
現像され帯電を促進するために好ましい。
【0099】(c)平均粒径
導電性微粉体の体積平均粒子径は0.5μm乃至10μ
mであることが好ましい。導電性微粉体の平均粒子径が
小さいと、現像性の低下を防ぐため、導電性微粉体のト
ナー全体に対する含有量を小さく設定しなければならな
い。導電性微粉体の平均粒子径が0.5μm未満では、
導電性微粉体の有効量を確保できず、帯電工程におい
て、接触帯電部材への絶縁性の転写残トナーへの付着・
混入による帯電阻害に打ち勝って像担持体の帯電を良好
に行なわせるのに充分な量の導電性微粉体を接触帯電部
材と像担持体との当接部或いはその近傍の帯電領域に介
在させることができず、帯電不良を生じ易くなる。この
観点から、導電性微粉体の平均粒子径は、好ましくは
0.8μm以上、さらに好ましくは1.1μm以上、5
μm未満が良い。
mであることが好ましい。導電性微粉体の平均粒子径が
小さいと、現像性の低下を防ぐため、導電性微粉体のト
ナー全体に対する含有量を小さく設定しなければならな
い。導電性微粉体の平均粒子径が0.5μm未満では、
導電性微粉体の有効量を確保できず、帯電工程におい
て、接触帯電部材への絶縁性の転写残トナーへの付着・
混入による帯電阻害に打ち勝って像担持体の帯電を良好
に行なわせるのに充分な量の導電性微粉体を接触帯電部
材と像担持体との当接部或いはその近傍の帯電領域に介
在させることができず、帯電不良を生じ易くなる。この
観点から、導電性微粉体の平均粒子径は、好ましくは
0.8μm以上、さらに好ましくは1.1μm以上、5
μm未満が良い。
【0100】また、導電性微粉体の平均粒子径が10μ
mよりも大きいと、接触帯電部材から脱落した導電性微
粉体は静電潜像を書き込む露光光を遮光或いは拡散し、
静電潜像の欠陥を生じ画像品位を低下させる。さらに、
導電性微粉体の平均粒子径が大きいと、単位重量当りの
粒子数が減少するため、接触帯電部材からの導電性微粉
体の脱落等による減少、劣化を考慮して導電性微粉体を
接触帯電部材と像担持体との当接部或いはその近傍の帯
電領域に逐次に導電性微粉体が供給し続け介在させるた
めに、また、接触帯電部材が導電性微粉体を介して像担
持体への緻密な接触性を維持し良好な帯電性を安定して
得るためには、導電性微粉体のトナー全体に対する含有
量を大きくしなければならない。しかし、導電性微粉体
の含有量を大きくし過ぎると、特に、高湿環境下でのト
ナー全体としての帯電能、現像性を低下させ、画像濃度
低下やトナー飛散を生ずる。このような観点から、導電
性微粉体の平均粒子径は好ましくは5μm以下が良い。
mよりも大きいと、接触帯電部材から脱落した導電性微
粉体は静電潜像を書き込む露光光を遮光或いは拡散し、
静電潜像の欠陥を生じ画像品位を低下させる。さらに、
導電性微粉体の平均粒子径が大きいと、単位重量当りの
粒子数が減少するため、接触帯電部材からの導電性微粉
体の脱落等による減少、劣化を考慮して導電性微粉体を
接触帯電部材と像担持体との当接部或いはその近傍の帯
電領域に逐次に導電性微粉体が供給し続け介在させるた
めに、また、接触帯電部材が導電性微粉体を介して像担
持体への緻密な接触性を維持し良好な帯電性を安定して
得るためには、導電性微粉体のトナー全体に対する含有
量を大きくしなければならない。しかし、導電性微粉体
の含有量を大きくし過ぎると、特に、高湿環境下でのト
ナー全体としての帯電能、現像性を低下させ、画像濃度
低下やトナー飛散を生ずる。このような観点から、導電
性微粉体の平均粒子径は好ましくは5μm以下が良い。
【0101】(d)光透過性
また、導電性微粉体は、透明、白色或いは淡色の導電性
微粉体であることが、転写材上に転写される導電性微粉
体がカブリとして目立たないため好ましい。潜像形成工
程における露光光の妨げとならない意味でも導電性微粉
体は、透明、白色或いは淡色の導電性微粉体であること
がよく、より好ましくは、導電性微粉体の露光光に対す
る透過率が30%以上であることが良い。
微粉体であることが、転写材上に転写される導電性微粉
体がカブリとして目立たないため好ましい。潜像形成工
程における露光光の妨げとならない意味でも導電性微粉
体は、透明、白色或いは淡色の導電性微粉体であること
がよく、より好ましくは、導電性微粉体の露光光に対す
る透過率が30%以上であることが良い。
【0102】本実施形態においては、粒子の光透過性に
ついては以下の手順で測定した。片面に接着層を備えた
透明のフィルムの導電性微粉体を一層分固定した状態で
透過率を測定する。光はシートの鉛直方向から照射しフ
ィルム背面に透過した光を集光し光量を測定した。フィ
ルムのみと粒子を付着したときの光量から正味の光量と
して粒子の透過率を算出した。実際にはX−Rite社
製310T透過型濃度計を用いて測定した。
ついては以下の手順で測定した。片面に接着層を備えた
透明のフィルムの導電性微粉体を一層分固定した状態で
透過率を測定する。光はシートの鉛直方向から照射しフ
ィルム背面に透過した光を集光し光量を測定した。フィ
ルムのみと粒子を付着したときの光量から正味の光量と
して粒子の透過率を算出した。実際にはX−Rite社
製310T透過型濃度計を用いて測定した。
【0103】(e)材料
本実施形態における導電性微粉体としては、例えば、カ
ーボンブラック、グラファイトなどの炭素微粉末;銅、
金、銀、アルミニウム、ニッケルなどの金属微粉末;酸
化亜鉛、酸化チタン、酸化すず、酸化アルミニウム、酸
化インジウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化バリ
ウム、酸化モリブデン、酸化鉄、酸化タングステンなど
の金属酸化物;硫化モリブデン、硫化カドミウム、チタ
ン酸カリなどの金属化合物、あるいはこれらの複合酸化
物などが必要に応じて粒度及び粒度分布を調整すること
で使用できる。これらの中でも酸化亜鉛、酸化すず、酸
化チタン等の無機酸化物微粒子が特に好ましい。
ーボンブラック、グラファイトなどの炭素微粉末;銅、
金、銀、アルミニウム、ニッケルなどの金属微粉末;酸
化亜鉛、酸化チタン、酸化すず、酸化アルミニウム、酸
化インジウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化バリ
ウム、酸化モリブデン、酸化鉄、酸化タングステンなど
の金属酸化物;硫化モリブデン、硫化カドミウム、チタ
ン酸カリなどの金属化合物、あるいはこれらの複合酸化
物などが必要に応じて粒度及び粒度分布を調整すること
で使用できる。これらの中でも酸化亜鉛、酸化すず、酸
化チタン等の無機酸化物微粒子が特に好ましい。
【0104】また、導電性無機酸化物の抵抗値を制御す
る等の目的で、アンチモン、アルミニウムなどの元素を
ドープした金属酸化物、導電性材料を表面に有する微粒
子なども使用できる。例えば、酸化スズ・アンチモンで
表面処理された酸化チタン微粒子、アンチモンでドープ
された酸化第二スズ微粒子、あるいは酸化第二スズ微粒
子などである。
る等の目的で、アンチモン、アルミニウムなどの元素を
ドープした金属酸化物、導電性材料を表面に有する微粒
子なども使用できる。例えば、酸化スズ・アンチモンで
表面処理された酸化チタン微粒子、アンチモンでドープ
された酸化第二スズ微粒子、あるいは酸化第二スズ微粒
子などである。
【0105】(測定方法)
(a)平均粒径および粒度分布
本実施形態における導電性微粉体の平均粒径及び粒度分
布の測定には、コールター社製、LS−230型レーザ
回折式粒度分布測定装置にリキッドモジュールを取付け
て0.04μm乃至2000μmの測定範囲で測定し
た。測定法としては、純水10ccに微量の界面活性剤
を添加して、これに導電性微粉体の試料10mgを加
え、超音波分散機(超音波ホモジナイザー)にて10分
間分散した後、測定時間90秒、測定回数1回で測定
し、その結果を元に体積平均粒径を算出した。
布の測定には、コールター社製、LS−230型レーザ
回折式粒度分布測定装置にリキッドモジュールを取付け
て0.04μm乃至2000μmの測定範囲で測定し
た。測定法としては、純水10ccに微量の界面活性剤
を添加して、これに導電性微粉体の試料10mgを加
え、超音波分散機(超音波ホモジナイザー)にて10分
間分散した後、測定時間90秒、測定回数1回で測定
し、その結果を元に体積平均粒径を算出した。
【0106】本実施形態において、導電性微粉体の粒度
及び粒度分布の調整方法としては、導電性微粉体の一次
粒子が製造時において所望の粒度及び粒度分布が得られ
るように製造法、製造条件を設定する方法以外にも、一
次粒子の小さな粒子を凝集させる方法、一次粒子の大き
な粒子を粉砕する方法或いは分級による方法等が可能で
あり、さらには、所望の粒度及び粒度分布の基材粒子の
表面の一部もしくは全部に導電性粒子を付着或いは固定
化する方法、所望の粒度及び粒度分布の粒子に導電性成
分が分散された形態を有する導電性微粉体を用いる方法
等も可能であり、これらの方法を組み合わせて導電性微
粉体の粒度及び粒度分布を調整することも可能である。
及び粒度分布の調整方法としては、導電性微粉体の一次
粒子が製造時において所望の粒度及び粒度分布が得られ
るように製造法、製造条件を設定する方法以外にも、一
次粒子の小さな粒子を凝集させる方法、一次粒子の大き
な粒子を粉砕する方法或いは分級による方法等が可能で
あり、さらには、所望の粒度及び粒度分布の基材粒子の
表面の一部もしくは全部に導電性粒子を付着或いは固定
化する方法、所望の粒度及び粒度分布の粒子に導電性成
分が分散された形態を有する導電性微粉体を用いる方法
等も可能であり、これらの方法を組み合わせて導電性微
粉体の粒度及び粒度分布を調整することも可能である。
【0107】導電性微粉体の粒子が凝集体として構成さ
れている場合の粒径は、その凝集体としての平均粒径と
して定義される。導電性微粉体は、一次粒子の状態で存
在するばかりでなく二次粒子の凝集した状態で存在する
ことも問題はない。どのような凝集状態であれ、凝集体
として接触帯電部材と像担持体との当接部或いはその近
傍の帯電領域に介在し、帯電補助或いは促進の機能が実
現できればその形態は問わない。
れている場合の粒径は、その凝集体としての平均粒径と
して定義される。導電性微粉体は、一次粒子の状態で存
在するばかりでなく二次粒子の凝集した状態で存在する
ことも問題はない。どのような凝集状態であれ、凝集体
として接触帯電部材と像担持体との当接部或いはその近
傍の帯電領域に介在し、帯電補助或いは促進の機能が実
現できればその形態は問わない。
【0108】(b)抵抗
本実施形態において、導電性微粉体の抵抗測定は、錠剤
法により測定し正規化して求めた。すなわち、底面積
2.26cm2の円筒内に約0.5gの粉体試料を入れ
上下電極に15kgの加圧を行うと同時に100Vの電
圧を印加して、抵抗値を計測し、その後、正規化して比
抵抗を算出した。
法により測定し正規化して求めた。すなわち、底面積
2.26cm2の円筒内に約0.5gの粉体試料を入れ
上下電極に15kgの加圧を行うと同時に100Vの電
圧を印加して、抵抗値を計測し、その後、正規化して比
抵抗を算出した。
【0109】ここで、本実施形態に用いた感光体に関し
て説明する。
て説明する。
【0110】直接注入帯電方式には、通常用いられてい
る有機感光体等を用いることができるが、望ましくは、
有機感光体上にその抵抗が109Ω・cm乃至1014
Ω・cmの材質を有する表面層を持つものや、アモルフ
ァスシリコン系感光体などを用いると、電荷注入帯電を
実現でき、オゾン発生の防止、ならびに消費電力の低減
に効果がある。また、帯電性についても向上させること
が可能となる。
る有機感光体等を用いることができるが、望ましくは、
有機感光体上にその抵抗が109Ω・cm乃至1014
Ω・cmの材質を有する表面層を持つものや、アモルフ
ァスシリコン系感光体などを用いると、電荷注入帯電を
実現でき、オゾン発生の防止、ならびに消費電力の低減
に効果がある。また、帯電性についても向上させること
が可能となる。
【0111】(有機感光体(OPC))帯電ローラ30
に対向する積層型感光体の感光層の構成としては、導電
性支持体上に電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に積層
したものを用いている。導電性支持体は導電性を有する
ものであれば、いずれのものでもよく、例えば、アルミ
ニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛及びステンレス等
の金属をドラムあるいはシート状に成形したもの、アル
ミニウム及び銅等の金属箔をプラスチックフィルムにラ
ミネートしたもの、アルミニウム、酸化インジウム及び
酸化スズ等をプラスチックフィルムに蒸着したもの、導
電性物質を単独またはバインダー樹脂とともに塗布して
導電層を設けた金属、プラスチックフィルムあるいは紙
等が挙げられる。
に対向する積層型感光体の感光層の構成としては、導電
性支持体上に電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に積層
したものを用いている。導電性支持体は導電性を有する
ものであれば、いずれのものでもよく、例えば、アルミ
ニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛及びステンレス等
の金属をドラムあるいはシート状に成形したもの、アル
ミニウム及び銅等の金属箔をプラスチックフィルムにラ
ミネートしたもの、アルミニウム、酸化インジウム及び
酸化スズ等をプラスチックフィルムに蒸着したもの、導
電性物質を単独またはバインダー樹脂とともに塗布して
導電層を設けた金属、プラスチックフィルムあるいは紙
等が挙げられる。
【0112】これらの導電性支持体の上に形成する感光
層の塗工方法は、スプレーコーティング、ビームコーテ
ィング及び浸漬コーティング等の方法が用いられる。そ
の際、通常導電性支持体を固定して支持することが必要
であり、その支持部材に塗工液が付着しないように維持
するため、支持体端部に未塗工領域が残る場合がある。
また、端部まで塗工する場合、塗工液が縁にだれる場合
が生じる。感光体を本体に支持するために装着する端部
支持部材であるフランジが正しい角度で装着され、感光
体のアライメント精度を維持するためには導電性支持部
材端部の研磨行程が必要となるため、感光体製造上はで
きる限り未塗工領域の存在を許容することが望ましい。
層の塗工方法は、スプレーコーティング、ビームコーテ
ィング及び浸漬コーティング等の方法が用いられる。そ
の際、通常導電性支持体を固定して支持することが必要
であり、その支持部材に塗工液が付着しないように維持
するため、支持体端部に未塗工領域が残る場合がある。
また、端部まで塗工する場合、塗工液が縁にだれる場合
が生じる。感光体を本体に支持するために装着する端部
支持部材であるフランジが正しい角度で装着され、感光
体のアライメント精度を維持するためには導電性支持部
材端部の研磨行程が必要となるため、感光体製造上はで
きる限り未塗工領域の存在を許容することが望ましい。
【0113】本実施形態においては、負帯電の有機感光
体で、直径30mmのアルミニウム製のドラム基体上に
下記の第1乃至第5の5つの層を下から順に設けた感光
ドラムを用いた。
体で、直径30mmのアルミニウム製のドラム基体上に
下記の第1乃至第5の5つの層を下から順に設けた感光
ドラムを用いた。
【0114】第1層は、下引き層であり、アルミニウム
基体(以下アルミ基体と称する)の欠陥等をならすため
に設けられている厚さ20μmの導電層である。
基体(以下アルミ基体と称する)の欠陥等をならすため
に設けられている厚さ20μmの導電層である。
【0115】第2層は、正電荷注入防止層であり、アル
ミ基体から注入された正電荷が感光体表面に帯電された
負電荷を打ち消すのを防止する役割を果たし、アミラン
樹脂とメトキシメチル化ナイロン(商標名)によって1
×106Ω・cm程度に抵抗調整された厚さ1μmの中
抵抗層である。
ミ基体から注入された正電荷が感光体表面に帯電された
負電荷を打ち消すのを防止する役割を果たし、アミラン
樹脂とメトキシメチル化ナイロン(商標名)によって1
×106Ω・cm程度に抵抗調整された厚さ1μmの中
抵抗層である。
【0116】第3層は、電荷発生層であり、ジスアゾ系
の顔料を樹脂に分散した厚さ約0.3μmの層であり、
露光を受けることによって正負の電荷対を発生する。
の顔料を樹脂に分散した厚さ約0.3μmの層であり、
露光を受けることによって正負の電荷対を発生する。
【0117】第4層は、電荷輸送層であり、ポリカーボ
ネート樹脂にヒドラゾンを分散したものであり、P型半
導体である。したがって、感光体表面に帯電された負電
荷はこの層を移動することができず、電荷発生層で発生
した正電荷のみを感光体表面に輸送することができる。
ネート樹脂にヒドラゾンを分散したものであり、P型半
導体である。したがって、感光体表面に帯電された負電
荷はこの層を移動することができず、電荷発生層で発生
した正電荷のみを感光体表面に輸送することができる。
【0118】第5層は、電荷注入層であり、絶縁性樹脂
のバインダーにSnO2超微粒子を分散した材料の塗工
層である。具体的には絶縁性樹脂に光透過性の絶縁フィ
ラーであるアンチモンをドーピングして低抵抗化(導電
化)した粒径約0.03μmのSnO2粒子を樹脂に対
して70重量パーセント分散した材料の塗工層である。
のバインダーにSnO2超微粒子を分散した材料の塗工
層である。具体的には絶縁性樹脂に光透過性の絶縁フィ
ラーであるアンチモンをドーピングして低抵抗化(導電
化)した粒径約0.03μmのSnO2粒子を樹脂に対
して70重量パーセント分散した材料の塗工層である。
【0119】このように調合した塗工液をディッピング
塗工法で厚さ約4μmに塗工して電荷注入層とした。こ
の際、感光体の奥側端部に5mmの感光層未塗工領域が
存在した。
塗工法で厚さ約4μmに塗工して電荷注入層とした。こ
の際、感光体の奥側端部に5mmの感光層未塗工領域が
存在した。
【0120】(アモルファスシリコン系感光体(a−S
i))電子写真において、感光体における感光層を形成
する光導電材料としては、高感度で、SN比〔光電流
(Ip)/暗電流(Id)〕が高く、照射する電磁波の
スペクトル特性に適合した吸収スペクトルを有するこ
と、光応答性が早く、所望の暗抵抗値を有すること、使
用時において人体に対して無害であること、等の特性が
要求される。特に、事務機としてオフィスで使用される
画像形成装置内に組み込まれる画像形成装置用感光体の
場合には、大量に、かつ長期にわたり使用される事を考
えると、画質、画像濃度の長期安定性も重要な点であ
る。
i))電子写真において、感光体における感光層を形成
する光導電材料としては、高感度で、SN比〔光電流
(Ip)/暗電流(Id)〕が高く、照射する電磁波の
スペクトル特性に適合した吸収スペクトルを有するこ
と、光応答性が早く、所望の暗抵抗値を有すること、使
用時において人体に対して無害であること、等の特性が
要求される。特に、事務機としてオフィスで使用される
画像形成装置内に組み込まれる画像形成装置用感光体の
場合には、大量に、かつ長期にわたり使用される事を考
えると、画質、画像濃度の長期安定性も重要な点であ
る。
【0121】この様な点に優れた性質を示す光導電材料
に水素化アモルファスシリコン(以下、「a−Si:
H」と表記する)があり、例えば、特公昭60−350
59号公報には画像形成装置用感光体としての応用が記
載されている。
に水素化アモルファスシリコン(以下、「a−Si:
H」と表記する)があり、例えば、特公昭60−350
59号公報には画像形成装置用感光体としての応用が記
載されている。
【0122】このような画像形成装置用感光体は、一般
的には、導電性支持体を50℃乃至400℃に加熱し、
該支持体上に真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプ
レーティング法、熱CVD法、光CVD法、プラズマC
VD法等の成膜法によりa−Siからなる光導電層を形
成する。なかでもプラズマCVD法、すなわち、原料ガ
スを直流または高周波あるいはマイクロ波グロー放電に
よって分解し、支持体上にa−Si堆積膜を形成する方
法が好適なものとして実用に付されている。
的には、導電性支持体を50℃乃至400℃に加熱し、
該支持体上に真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプ
レーティング法、熱CVD法、光CVD法、プラズマC
VD法等の成膜法によりa−Siからなる光導電層を形
成する。なかでもプラズマCVD法、すなわち、原料ガ
スを直流または高周波あるいはマイクロ波グロー放電に
よって分解し、支持体上にa−Si堆積膜を形成する方
法が好適なものとして実用に付されている。
【0123】また、特開昭54−83746号公報にお
いては、導電性支持体と、ハロゲン原子を構成要素とし
て含むa−Si(以下、「a−Si:X」と表記する)
光導電層からなる画像形成装置用感光体が提案されてい
る。当該公報においては、a−Siにハロゲン原子を1
乃至40原子%含有させることにより、耐熱性が高く、
画像形成装置用感光体の光導電層として良好な電気的、
光学的特性を得ることができるとしている。
いては、導電性支持体と、ハロゲン原子を構成要素とし
て含むa−Si(以下、「a−Si:X」と表記する)
光導電層からなる画像形成装置用感光体が提案されてい
る。当該公報においては、a−Siにハロゲン原子を1
乃至40原子%含有させることにより、耐熱性が高く、
画像形成装置用感光体の光導電層として良好な電気的、
光学的特性を得ることができるとしている。
【0124】また、特開昭57−115556号公報に
は、a−Si堆積膜で構成された光導電層を有する光導
電部材の、暗抵抗値、光感度、光応答性等の電気的、光
学的、光導電的特性及び耐湿性等の使用環境特性、さら
には経時的安定性について改善を図るため、シリコン原
子を母体としたアモルファス材料で構成された光導電層
上に、シリコン原子及び炭素原子を含む非光導電性のア
モルファス材料で構成された表面障壁層を設ける技術が
記載されている。
は、a−Si堆積膜で構成された光導電層を有する光導
電部材の、暗抵抗値、光感度、光応答性等の電気的、光
学的、光導電的特性及び耐湿性等の使用環境特性、さら
には経時的安定性について改善を図るため、シリコン原
子を母体としたアモルファス材料で構成された光導電層
上に、シリコン原子及び炭素原子を含む非光導電性のア
モルファス材料で構成された表面障壁層を設ける技術が
記載されている。
【0125】さらに、特開昭60−67951号公報に
は、アモルファスシリコン、炭素、酸素及び弗素を含有
してなる透光絶縁性オーバーコート層を積層する感光体
についての技術が記載され、特開昭62−168161
号公報には、表面層として、シリコン原子と炭素原子と
41原子%乃至70原子%の水素原子を構成要素として
含む非晶質材料を用いる技術が記載されている。
は、アモルファスシリコン、炭素、酸素及び弗素を含有
してなる透光絶縁性オーバーコート層を積層する感光体
についての技術が記載され、特開昭62−168161
号公報には、表面層として、シリコン原子と炭素原子と
41原子%乃至70原子%の水素原子を構成要素として
含む非晶質材料を用いる技術が記載されている。
【0126】また、さらに、特開昭57−158650
号公報には、水素を10原子%乃至40原子%含有し、
赤外吸収スペクトルの2100cm−1と2000cm
−1の吸収ピークの吸収係数比が0.2乃至1.7であ
るa−Si:Hを光導電層に用いることにより高感度で
高抵抗な画像形成装置用感光体が得られることが記載さ
れている。
号公報には、水素を10原子%乃至40原子%含有し、
赤外吸収スペクトルの2100cm−1と2000cm
−1の吸収ピークの吸収係数比が0.2乃至1.7であ
るa−Si:Hを光導電層に用いることにより高感度で
高抵抗な画像形成装置用感光体が得られることが記載さ
れている。
【0127】一方、特開昭60−95551号公報に
は、アモルファスシリコン感光体の画像品質向上のため
に、感光体表面近傍の温度を30乃至40℃に維持して
帯電、露光、現像および転写といった画像形成行程を行
なうことにより、感光体表面での水分の吸着による表面
抵抗の低下とそれに伴って発生する画像流れを防止する
技術が開示されている。
は、アモルファスシリコン感光体の画像品質向上のため
に、感光体表面近傍の温度を30乃至40℃に維持して
帯電、露光、現像および転写といった画像形成行程を行
なうことにより、感光体表面での水分の吸着による表面
抵抗の低下とそれに伴って発生する画像流れを防止する
技術が開示されている。
【0128】これらの技術により、画像形成装置用感光
体の電気的、光学的、光導電的特性及び使用環境特性が
向上し、それに伴って画像品質も向上してきた。
体の電気的、光学的、光導電的特性及び使用環境特性が
向上し、それに伴って画像品質も向上してきた。
【0129】図5は、本実施形態の画像形成装置用感光
体の層構成を説明するための模式的構成図である。
体の層構成を説明するための模式的構成図である。
【0130】図5(a)に示す画像形成装置用感光体2
00は、感光体用としての支持体201の上に、感光層
202が設けられている。該感光層202はa−Si:
H,Xからなり光導電性を有する光導電層203で構成
されている。
00は、感光体用としての支持体201の上に、感光層
202が設けられている。該感光層202はa−Si:
H,Xからなり光導電性を有する光導電層203で構成
されている。
【0131】図5(b)は、本実施形態の画像形成装置
用感光体の他の層構成を説明するための模式的構成図で
ある。画像形成装置用感光体200は、感光体用として
の支持体201の上に、感光層202が設けられてい
る。該感光層202はa−Si:H,Xからなり光導電
性を有する光導電層203と、アモルファスシリコン
系、及び/又はアモルファスカーボン系表面層204と
から構成されている。
用感光体の他の層構成を説明するための模式的構成図で
ある。画像形成装置用感光体200は、感光体用として
の支持体201の上に、感光層202が設けられてい
る。該感光層202はa−Si:H,Xからなり光導電
性を有する光導電層203と、アモルファスシリコン
系、及び/又はアモルファスカーボン系表面層204と
から構成されている。
【0132】図5(c)は、本実施形態の画像形成装置
用感光体の他の層構成を説明するための模式的構成図で
ある。画像形成装置用感光体200は、感光体用として
の支持体201の上に、感光層202が設けられてい
る。該感光層202はa−Si:H,Xからなり光導電
性を有する光導電層203と、アモルファスシリコン
系、及び/又はアモルファスカーボン系表面層204
と、光導電層203と支持体201の間のアモルファス
シリコン系電荷注入阻止層205、また光導電層203
と表面層204との間の同205aとから構成されてい
る。
用感光体の他の層構成を説明するための模式的構成図で
ある。画像形成装置用感光体200は、感光体用として
の支持体201の上に、感光層202が設けられてい
る。該感光層202はa−Si:H,Xからなり光導電
性を有する光導電層203と、アモルファスシリコン
系、及び/又はアモルファスカーボン系表面層204
と、光導電層203と支持体201の間のアモルファス
シリコン系電荷注入阻止層205、また光導電層203
と表面層204との間の同205aとから構成されてい
る。
【0133】図5(d)及び(e)は、本実施形態の画
像形成装置用感光体のさらに他の層構成を説明するため
の模式的構成図である。画像形成装置用感光体200
は、感光体用としての支持体201の上に、感光層20
2が設けられている。該感光層202は光導電層203
を構成するa−Si:H,Xからなる電荷発生層207
ならびに電荷輸送層208と、アモルファスシリコン
系、及び/又はアモルファスカーボン系表面層204
と、光導電層203と支持体201との間、及び/また
は光導電層203とアモルファスカーボン系表面層20
4との間の電荷注入阻止層205,205aとから構成
されている。
像形成装置用感光体のさらに他の層構成を説明するため
の模式的構成図である。画像形成装置用感光体200
は、感光体用としての支持体201の上に、感光層20
2が設けられている。該感光層202は光導電層203
を構成するa−Si:H,Xからなる電荷発生層207
ならびに電荷輸送層208と、アモルファスシリコン
系、及び/又はアモルファスカーボン系表面層204
と、光導電層203と支持体201との間、及び/また
は光導電層203とアモルファスカーボン系表面層20
4との間の電荷注入阻止層205,205aとから構成
されている。
【0134】図5(f)は、本実施形態の画像形成装置
用感光体のさらに他の層構成を説明するための模式的構
成図である。画像形成装置用感光体200は、感光体用
としての支持体201の上に、感光層202が設けられ
ている。該感光層202は光導電層203を構成するa
−Si:H,Xからなる電荷発生層207ならびに電荷
輸送層208と、アモルファスシリコン系、及び/又は
アモルファスカーボン系表面層204とから構成されて
いる。特に図示はしていないが、光導電層203と支持
体201との間、及び/または光導電層203とアモル
ファスカーボン系表面層204との間に電荷注入阻止層
205があっても良い。
用感光体のさらに他の層構成を説明するための模式的構
成図である。画像形成装置用感光体200は、感光体用
としての支持体201の上に、感光層202が設けられ
ている。該感光層202は光導電層203を構成するa
−Si:H,Xからなる電荷発生層207ならびに電荷
輸送層208と、アモルファスシリコン系、及び/又は
アモルファスカーボン系表面層204とから構成されて
いる。特に図示はしていないが、光導電層203と支持
体201との間、及び/または光導電層203とアモル
ファスカーボン系表面層204との間に電荷注入阻止層
205があっても良い。
【0135】VHF−PCVD法によるバッファありマ
イナス帯電ドラム図5に記載のVHFによるプラズマC
VD装置を用いて以下に示した条件により円筒形のAL
基体上に下部阻止層、光導電層、バッファ層、表面層を
順次積層し、負帯電で用いられる光受容部材を完成させ
た。
イナス帯電ドラム図5に記載のVHFによるプラズマC
VD装置を用いて以下に示した条件により円筒形のAL
基体上に下部阻止層、光導電層、バッファ層、表面層を
順次積層し、負帯電で用いられる光受容部材を完成させ
た。
【0136】
下部阻止層 SiH4 200mL/min(normal)
H2 400mL/min(normal)
PH3 500ppm(SiH4に対して)
NO 15mL/min(normal)
パワー 180W (105MHz)
内圧 1.3Pa
基体温度 300℃
膜厚 2μm
光導電層 SiH4 300mL/min(normal)
H2 500mL/min(normal)
B2H6 0.3ppm(SiH4に対して)
パワー 450W (105MHz)
内圧 1.3Pa
基体温度 300℃
膜厚 28μm
バッファ層 SiH4 50ml/min(normal)
CH4 50ml/min(normal)
パワー 450W (105MHz)
内圧 1.3Pa
基体温度 300℃
膜厚 0.5μm
表面層 CH4 150ml/min(normal)
パワー 1000W (105MHz)
内圧 1.3Pa
基体温度 100℃
膜厚 0.1μm
【0137】(a)支持体
支持体としては、導電性でも電気絶縁性であってもよ
い。導電性支持体としては、Al、Cr、Mo、Au、
In、Nb、Te、V、Ti、Pt、Pd、Fe等の金
属、およびこれらの合金、例えば、ステンレス等が挙げ
られる。また、ポリエステル、ポリエチレン、ポリカー
ボネート、セルロースアセテート、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリアミド等の合成樹脂
のフィルムまたはシート、ガラス、セラミック等の電気
絶縁性支持体の少なくとも感光層を形成する側の表面を
導電処理した支持体も用いることができる。
い。導電性支持体としては、Al、Cr、Mo、Au、
In、Nb、Te、V、Ti、Pt、Pd、Fe等の金
属、およびこれらの合金、例えば、ステンレス等が挙げ
られる。また、ポリエステル、ポリエチレン、ポリカー
ボネート、セルロースアセテート、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリアミド等の合成樹脂
のフィルムまたはシート、ガラス、セラミック等の電気
絶縁性支持体の少なくとも感光層を形成する側の表面を
導電処理した支持体も用いることができる。
【0138】(b)光導電層
本実施形態に於いて、その目的を効果的に達成するため
に支持体201上、必要に応じて下引き層(不図示)上
に形成され、感光層202の一部を構成する光導電層2
03は真空堆積膜形成方法によって、所望特性が得られ
るように適宜成膜パラメーターの数値条件が設定されて
作成される。具体的には、例えば、グロー放電法(低周
波CVD法、高周波CVD法またはマイクロ波CVD法
等の交流放電CVD法、あるいは直流放電CVD法
等)、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーテ
ィング法、光CVD法、熱CVD法などの数々の薄膜堆
積法によって形成することができる。これらの薄膜堆積
法は、製造条件、設備資本投資下の負荷程度、製造規
模、作成される画像形成装置用感光体に所望される特性
等の要因によって適宜選択されて採用されるが、所望の
特性を有する画像形成装置用感光体を製造するに当たっ
ての条件の制御が比較的容易であることからしてグロー
放電法、特にRF帯、μW帯またはVHF帯の電源周波
数を用いた高周波グロー放電法が好適である。
に支持体201上、必要に応じて下引き層(不図示)上
に形成され、感光層202の一部を構成する光導電層2
03は真空堆積膜形成方法によって、所望特性が得られ
るように適宜成膜パラメーターの数値条件が設定されて
作成される。具体的には、例えば、グロー放電法(低周
波CVD法、高周波CVD法またはマイクロ波CVD法
等の交流放電CVD法、あるいは直流放電CVD法
等)、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーテ
ィング法、光CVD法、熱CVD法などの数々の薄膜堆
積法によって形成することができる。これらの薄膜堆積
法は、製造条件、設備資本投資下の負荷程度、製造規
模、作成される画像形成装置用感光体に所望される特性
等の要因によって適宜選択されて採用されるが、所望の
特性を有する画像形成装置用感光体を製造するに当たっ
ての条件の制御が比較的容易であることからしてグロー
放電法、特にRF帯、μW帯またはVHF帯の電源周波
数を用いた高周波グロー放電法が好適である。
【0139】グロー放電法によって光導電層203を形
成するには、基本的には周知のようにシリコン原子(S
i)を供給し得るSi供給用の原料ガスと、水素原子
(H)を供給し得るH供給用の原料ガスまたは/及びハ
ロゲン原子(X)を供給し得るX供給用の原料ガスを、
内部が減圧にし得る反応容器内に所望のガス状態で導入
して、該反応容器内にグロー放電を生起させ、あらかじ
め所定の位置に設置されてある所定の支持体201上に
a−Si:H,Xからなる層を形成すればよい。
成するには、基本的には周知のようにシリコン原子(S
i)を供給し得るSi供給用の原料ガスと、水素原子
(H)を供給し得るH供給用の原料ガスまたは/及びハ
ロゲン原子(X)を供給し得るX供給用の原料ガスを、
内部が減圧にし得る反応容器内に所望のガス状態で導入
して、該反応容器内にグロー放電を生起させ、あらかじ
め所定の位置に設置されてある所定の支持体201上に
a−Si:H,Xからなる層を形成すればよい。
【0140】また、本実施形態において使用されるハロ
ゲン原子供給用の原料ガスとして有効なのは、例えば、
ハロゲンガス、ハロゲン化物、ハロゲンを含むハロゲン
間化合物、ハロゲンで置換されたシラン誘導体等のガス
状のまたはガス化し得るハロゲン化合物が好ましく挙げ
られる。また、さらにはシリコン原子とハロゲン原子と
を構成要素とするガス状のまたはガス化し得る、ハロゲ
ン原子を含む水素化珪素化合物も有効なものとして挙げ
ることができる。
ゲン原子供給用の原料ガスとして有効なのは、例えば、
ハロゲンガス、ハロゲン化物、ハロゲンを含むハロゲン
間化合物、ハロゲンで置換されたシラン誘導体等のガス
状のまたはガス化し得るハロゲン化合物が好ましく挙げ
られる。また、さらにはシリコン原子とハロゲン原子と
を構成要素とするガス状のまたはガス化し得る、ハロゲ
ン原子を含む水素化珪素化合物も有効なものとして挙げ
ることができる。
【0141】一般にa−Siは伝導性を制御する原子を
含有させない場合、弱いn型伝導特性を有するため、本
実施形態のネガa−Siにおいては、伝導性を制御する
原子を含有(ドープ)させなくても良いが、i型にする
為、あるいは製造安定性のラチチュードを広げる為等、
必要に応じて伝導性を制御する原子を含有させてもよ
い。
含有させない場合、弱いn型伝導特性を有するため、本
実施形態のネガa−Siにおいては、伝導性を制御する
原子を含有(ドープ)させなくても良いが、i型にする
為、あるいは製造安定性のラチチュードを広げる為等、
必要に応じて伝導性を制御する原子を含有させてもよ
い。
【0142】前記伝導性を制御する原子としては、半導
体分野における、いわゆる不純物を挙げることができ、
p型伝導特性を与える周期律表III b族に属する原子
(以後「第III b族原子」と略記する)またはn型伝導
特性を与える周期律表Vb族に属する原子(以後「第V
b族原子」と略記する)を用いることができる。
体分野における、いわゆる不純物を挙げることができ、
p型伝導特性を与える周期律表III b族に属する原子
(以後「第III b族原子」と略記する)またはn型伝導
特性を与える周期律表Vb族に属する原子(以後「第V
b族原子」と略記する)を用いることができる。
【0143】第III b族原子としては、具体的には、硼
素(B)、アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)、
インジウム(In)、タリウム(Tl)等があり、特に
B、Al、Gaが好適である。第Vb族原子としては、
具体的には燐(P)、砒素(As)、アンチモン(S
b)、ビスマス(Bi)等があり、特にP、Asが好適
である。
素(B)、アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)、
インジウム(In)、タリウム(Tl)等があり、特に
B、Al、Gaが好適である。第Vb族原子としては、
具体的には燐(P)、砒素(As)、アンチモン(S
b)、ビスマス(Bi)等があり、特にP、Asが好適
である。
【0144】第Vb族原子導入用の原料物質として有効
に使用されるのは、燐原子導入用としては、PH3、P
2H4等の水素化燐、PH4I、PF3、PF5、PC
l3、PCl5、PBr3、PBr5、PI3等のハロ
ゲン化燐が挙げられる。この他、AsH3、AsF3、
AsCl3、AsBr3、AsF5、SbH3、SbF
3、SbF5、SbCl3、SbCl5、BiH3、B
iCl3、BiBr3等も第Vb族原子導入用の出発物
質の有効なものとして挙げることができる。
に使用されるのは、燐原子導入用としては、PH3、P
2H4等の水素化燐、PH4I、PF3、PF5、PC
l3、PCl5、PBr3、PBr5、PI3等のハロ
ゲン化燐が挙げられる。この他、AsH3、AsF3、
AsCl3、AsBr3、AsF5、SbH3、SbF
3、SbF5、SbCl3、SbCl5、BiH3、B
iCl3、BiBr3等も第Vb族原子導入用の出発物
質の有効なものとして挙げることができる。
【0145】(c)表面層
本実施形態においては、上述のようにして支持体201
上に形成された光導電層203の上に、さらにアモルフ
ァスシリコン系及び/またはアモルファスカーボン系の
表面層204を形成することが好ましい。この表面層2
04は自由表面を有し、主に耐湿性、連続繰り返し使用
特性、電気的耐圧性、使用環境特性、耐久性においての
目的を達成するために設けられる。
上に形成された光導電層203の上に、さらにアモルフ
ァスシリコン系及び/またはアモルファスカーボン系の
表面層204を形成することが好ましい。この表面層2
04は自由表面を有し、主に耐湿性、連続繰り返し使用
特性、電気的耐圧性、使用環境特性、耐久性においての
目的を達成するために設けられる。
【0146】表面層204は、アモルファスシリコン系
の材料であればいれずの材質でも可能であるが、例え
ば、水素原子(H)及び/またはハロゲン原子(X)を
含有し、さらに炭素原子を含有するアモルファスシリコ
ン(以下「a−SiC:H,X」と表記する)、水素原
子(H)及び/またはハロゲン原子(X)を含有し、さ
らに酸素原子を含有するアモルファスシリコン(以下
「a−SiO:H,X」と表記する)、水素原子(H)
及び/またはハロゲン原子(X)を含有し、さらに窒素
原子を含有するアモルファスシリコン(以下「a−Si
N:H,X」と表記する)、水素原子(H)及び/また
はハロゲン原子(X)を含有し、さらに炭素原子、酸素
原子、窒素原子の少なくとも1つを含有するアモルファ
スシリコン(以下「a−SiCON:H,X」と表記す
る)等の材料が好適に用いられる。
の材料であればいれずの材質でも可能であるが、例え
ば、水素原子(H)及び/またはハロゲン原子(X)を
含有し、さらに炭素原子を含有するアモルファスシリコ
ン(以下「a−SiC:H,X」と表記する)、水素原
子(H)及び/またはハロゲン原子(X)を含有し、さ
らに酸素原子を含有するアモルファスシリコン(以下
「a−SiO:H,X」と表記する)、水素原子(H)
及び/またはハロゲン原子(X)を含有し、さらに窒素
原子を含有するアモルファスシリコン(以下「a−Si
N:H,X」と表記する)、水素原子(H)及び/また
はハロゲン原子(X)を含有し、さらに炭素原子、酸素
原子、窒素原子の少なくとも1つを含有するアモルファ
スシリコン(以下「a−SiCON:H,X」と表記す
る)等の材料が好適に用いられる。
【0147】該表面層204は、例えば、グロー放電法
(低周波CVD法、高周波CVD法またはマイクロ波C
VD法等の交流放電CVD法、あるいは直流放電CVD
法等)、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレー
ティング法、光CVD法、熱CVD法など周知の薄膜堆
積法によって形成することができる。これらの薄膜堆積
法は、製造条件、設備資本投資下の負荷程度、製造規
模、作成される画像形成装置用感光体に所望される特性
等の要因によって適宜選択されて採用される。
(低周波CVD法、高周波CVD法またはマイクロ波C
VD法等の交流放電CVD法、あるいは直流放電CVD
法等)、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレー
ティング法、光CVD法、熱CVD法など周知の薄膜堆
積法によって形成することができる。これらの薄膜堆積
法は、製造条件、設備資本投資下の負荷程度、製造規
模、作成される画像形成装置用感光体に所望される特性
等の要因によって適宜選択されて採用される。
【0148】本実施形態に於ける表面層204の層厚と
しては、通常0.01μm乃至3μm、好適には0.0
5μm乃至2μm、最適には0.1μm乃至1μmとさ
れるのが望ましいものである。層厚が0.01μmより
も薄いと感光体を使用中に摩耗等の理由により表面層が
失われてしまい、3μmを越えると残留電位の増加等の
電子写真特性の低下がみられる場合がある。
しては、通常0.01μm乃至3μm、好適には0.0
5μm乃至2μm、最適には0.1μm乃至1μmとさ
れるのが望ましいものである。層厚が0.01μmより
も薄いと感光体を使用中に摩耗等の理由により表面層が
失われてしまい、3μmを越えると残留電位の増加等の
電子写真特性の低下がみられる場合がある。
【0149】その他に、表面層として炭素を主体とした
非晶質炭素膜(以下「交流:H」と表記する)を使用す
ることが好ましい。さらに、内部かつ/又は最表面にフ
ッ素との結合を有する非晶質炭素膜(以下「交流:H:
F」と表記する)を使用することが好ましい。
非晶質炭素膜(以下「交流:H」と表記する)を使用す
ることが好ましい。さらに、内部かつ/又は最表面にフ
ッ素との結合を有する非晶質炭素膜(以下「交流:H:
F」と表記する)を使用することが好ましい。
【0150】交流:Hは撥水性に優れ、低摩擦であり、
また、a−SiCと同等乃至はそれ以上の高硬度で有
り、環境対策ヒーターを除去した状態においても高湿環
境下での画像のぼけを防止する効果がある。また、帯電
促進粒子や磁性粒子の機械的な摩擦による感光体への移
動や感光体の摩耗を低減できる。
また、a−SiCと同等乃至はそれ以上の高硬度で有
り、環境対策ヒーターを除去した状態においても高湿環
境下での画像のぼけを防止する効果がある。また、帯電
促進粒子や磁性粒子の機械的な摩擦による感光体への移
動や感光体の摩耗を低減できる。
【0151】(d)電荷注入阻止層
本実施形態の画像形成装置用感光体においては、導電性
支持体201と光導電層203との間に、導電性支持体
201側からの電荷の注入を阻止する働きのある電荷注
入阻止層205を、また光導電層203と表面層204
の間に、表面層側からの電荷の注入を阻止する働きのあ
る電荷注入阻止層205aを設けてもよい。
支持体201と光導電層203との間に、導電性支持体
201側からの電荷の注入を阻止する働きのある電荷注
入阻止層205を、また光導電層203と表面層204
の間に、表面層側からの電荷の注入を阻止する働きのあ
る電荷注入阻止層205aを設けてもよい。
【0152】前述の電荷注入阻止層205を下部注入阻
止層(UBL;Under Blocking Lay
er)、後述の電荷注入阻止層205aを上部注入阻止
層(Top Blocking Layer)と称す
る。
止層(UBL;Under Blocking Lay
er)、後述の電荷注入阻止層205aを上部注入阻止
層(Top Blocking Layer)と称す
る。
【0153】これらの電荷注入阻止層は、感光層が一定
極性の帯電処理をその自由表面に受けた際、支持体側、
或いは表面層側より光導電層側に電荷が注入されるのを
阻止する機能を有している。逆の極性の帯電処理を受け
た際にはそのような機能は発揮されない、いわゆる極性
依存性を有している事が好ましい。
極性の帯電処理をその自由表面に受けた際、支持体側、
或いは表面層側より光導電層側に電荷が注入されるのを
阻止する機能を有している。逆の極性の帯電処理を受け
た際にはそのような機能は発揮されない、いわゆる極性
依存性を有している事が好ましい。
【0154】そのような機能を付与するために、電荷注
入阻止層には伝導性を制御する原子等を光導電層に比べ
比較的多く含有させる。
入阻止層には伝導性を制御する原子等を光導電層に比べ
比較的多く含有させる。
【0155】該層に含有される伝導性を制御する原子
は、該層中に万偏なく均一に分布されても良いし、ある
いは層厚方向には万偏なく含有されてはいるが、不均一
に分布する状態で含有している部分があってもよい。分
布濃度が不均一な場合には、UBL205では支持体側
に、またTBL205aでは表面層側に多く分布するよ
うに含有させるのが好適である。いずれの場合にも支持
体の表面と平行面内方向においては、均一な分布で万偏
なく含有されることが面内方向における特性の均一化を
図る点からも必要である。
は、該層中に万偏なく均一に分布されても良いし、ある
いは層厚方向には万偏なく含有されてはいるが、不均一
に分布する状態で含有している部分があってもよい。分
布濃度が不均一な場合には、UBL205では支持体側
に、またTBL205aでは表面層側に多く分布するよ
うに含有させるのが好適である。いずれの場合にも支持
体の表面と平行面内方向においては、均一な分布で万偏
なく含有されることが面内方向における特性の均一化を
図る点からも必要である。
【0156】電荷注入阻止層に含有される伝導性を制御
する原子としては、半導体分野における、いわゆる不純
物を挙げることができ、「第III 族原子」または「第V
族原子」を用いることができる。
する原子としては、半導体分野における、いわゆる不純
物を挙げることができ、「第III 族原子」または「第V
族原子」を用いることができる。
【0157】本実施形態において、電荷注入阻止層の層
厚は所望の電子写真特性が得られること、及び経済的効
果等の点から好ましくは0.05μm乃至5μm、より
好ましくは0.1μm乃至4μm、最適には0.5μm
乃至3μmとされるのが望ましい。
厚は所望の電子写真特性が得られること、及び経済的効
果等の点から好ましくは0.05μm乃至5μm、より
好ましくは0.1μm乃至4μm、最適には0.5μm
乃至3μmとされるのが望ましい。
【0158】また、本例の画像形成装置用感光体に於い
ては、支持体201と光導電層203あるいはUBL2
05との間の密着性の一層の向上を図る目的で、例え
ば、Si3N4、SiO2、SiO、あるいはシリコン
原子を母体とし、水素原子及び/またはハロゲン原子
と、炭素原子及び/または酸素原子及び/または窒素原
子とを含む非晶質材料等で構成される密着層を設けても
良い。さらに、前述のように、支持体からの反射光によ
る干渉模様の発生を防止するための光吸収層を設けても
良い。
ては、支持体201と光導電層203あるいはUBL2
05との間の密着性の一層の向上を図る目的で、例え
ば、Si3N4、SiO2、SiO、あるいはシリコン
原子を母体とし、水素原子及び/またはハロゲン原子
と、炭素原子及び/または酸素原子及び/または窒素原
子とを含む非晶質材料等で構成される密着層を設けても
良い。さらに、前述のように、支持体からの反射光によ
る干渉模様の発生を防止するための光吸収層を設けても
良い。
【0159】上記の各層は、例えば、13.56MHz
等のRF帯を用いた高周波プラズマCVD法(RF−P
CVD)や50MHz乃至450MHzのVHF帯を用
いた高周波プラズマCVD法(VHF−PCVD)など
の周知の装置および膜形成方法にて製造される。
等のRF帯を用いた高周波プラズマCVD法(RF−P
CVD)や50MHz乃至450MHzのVHF帯を用
いた高周波プラズマCVD法(VHF−PCVD)など
の周知の装置および膜形成方法にて製造される。
【0160】図2は画像形成装置である複写機50の概
略断面図である。図3は接触帯電装置である帯電器10
3の模式図である。
略断面図である。図3は接触帯電装置である帯電器10
3の模式図である。
【0161】図2において、コピー開始信号が入力され
ると感光体1が矢印方向に回転する。感光体1は、前露
光ランプ8で均一に除電を受けた後、接触帯電装置であ
る帯電器3により所定の電位になるように一様に帯電さ
れるようになっている。
ると感光体1が矢印方向に回転する。感光体1は、前露
光ランプ8で均一に除電を受けた後、接触帯電装置であ
る帯電器3により所定の電位になるように一様に帯電さ
れるようになっている。
【0162】本実施形態の感光体1は、回転ドラム型の
電子写真感光体である。感光体1は、直径30mmの交
流:H(アモルファスシリコン系感光体、図5(c)に
示す層構成)を用いており、矢示の時計方向に210m
m/secプロセス・スピード(周速度)で回転する。
電子写真感光体である。感光体1は、直径30mmの交
流:H(アモルファスシリコン系感光体、図5(c)に
示す層構成)を用いており、矢示の時計方向に210m
m/secプロセス・スピード(周速度)で回転する。
【0163】帯電手段である帯電器103は、感光体1
に当接した接触帯電部材としての導電性弾性ローラ(以
下、「帯電ローラ」という)30を有している。帯電ロ
ーラ30は、帯電当接部Bにおいて、感光体1の回転方
向とは逆方向である矢示の時計方向に回転する。感光体
1の外周面は、帯電当接部Bにおいて、導電性微粉体3
3を保持した帯電ローラ30によって、摺擦される。
に当接した接触帯電部材としての導電性弾性ローラ(以
下、「帯電ローラ」という)30を有している。帯電ロ
ーラ30は、帯電当接部Bにおいて、感光体1の回転方
向とは逆方向である矢示の時計方向に回転する。感光体
1の外周面は、帯電当接部Bにおいて、導電性微粉体3
3を保持した帯電ローラ30によって、摺擦される。
【0164】この帯電器103は、帯電バイアス電圧印
加電源S1によって、帯電ローラ30を介して導電性微
粉体33に帯電バイアスが印加されており、直接注入帯
電によって感光体1の外周面をほぼ−450Vに一様に
帯電する(帯電工程)。
加電源S1によって、帯電ローラ30を介して導電性微
粉体33に帯電バイアスが印加されており、直接注入帯
電によって感光体1の外周面をほぼ−450Vに一様に
帯電する(帯電工程)。
【0165】一方、リーダ部20では、原稿台10上に
置かれた原稿Gに対し原稿照射用ランプ、短焦点レンズ
アレイ、及びCCDセンサが一体のユニット9となって
原稿を照射しながら走査することにより、その照明走査
光の原稿面反射光が、短焦点レンズアレイによって結像
されてCCDセンサに入射される。CCDセンサは受光
部、転送部、出力部より構成されている。CCD受光部
において光信号が電荷信号に変えられ、転送部でクロッ
クパルスに同期して順次出力部へ転送され、出力部にお
いて電荷信号を電圧信号に変換し、増幅、低インピーダ
ンス化して出力する。得られたアナログ信号は周知の画
像処理を行われデジタル信号に変換されプリンタ部21
に送られる。
置かれた原稿Gに対し原稿照射用ランプ、短焦点レンズ
アレイ、及びCCDセンサが一体のユニット9となって
原稿を照射しながら走査することにより、その照明走査
光の原稿面反射光が、短焦点レンズアレイによって結像
されてCCDセンサに入射される。CCDセンサは受光
部、転送部、出力部より構成されている。CCD受光部
において光信号が電荷信号に変えられ、転送部でクロッ
クパルスに同期して順次出力部へ転送され、出力部にお
いて電荷信号を電圧信号に変換し、増幅、低インピーダ
ンス化して出力する。得られたアナログ信号は周知の画
像処理を行われデジタル信号に変換されプリンタ部21
に送られる。
【0166】静電潜像手段であるプリンタ部21におい
て、この感光体1の帯電面に対して、固体レーザ素子、
高速で回転するポリゴン・ミラー22等を含むレーザ露
光部2から出力される上記の画像情報のデジタル信号に
対応して強度変調されたレーザビームによる走査露光E
がなされて、感光体1の周面に対して原稿画像の画像情
報に対応した静電潜像が形成される(画像形成工程、静
電潜像工程)。その静電潜像は磁性一成分絶縁トナーを
用いた現像手段である現像器4によりトナー像として現
像されて、可視化される(現像工程)。
て、この感光体1の帯電面に対して、固体レーザ素子、
高速で回転するポリゴン・ミラー22等を含むレーザ露
光部2から出力される上記の画像情報のデジタル信号に
対応して強度変調されたレーザビームによる走査露光E
がなされて、感光体1の周面に対して原稿画像の画像情
報に対応した静電潜像が形成される(画像形成工程、静
電潜像工程)。その静電潜像は磁性一成分絶縁トナーを
用いた現像手段である現像器4によりトナー像として現
像されて、可視化される(現像工程)。
【0167】現像スリーブ41はマグネット・ローラ
(不図示)を内包する直径16mmの非磁性体である。
この現象スリーブ41は、上記ネガトナーをコートさ
れ、感光体1表面との距離を200μmに保った状態
で、感光体1と等速で回転して、現像バイアス印加電源
S2から現像バイアス電圧を印加される。印加電圧は、
−350Vの直流電圧と、周波数1.8MHz、ピーク
間電圧1.6kVの矩形の交流電圧を重畳したものであ
り、現像スリーブ41と感光体1との間でトナーのジャ
ンピング現象を行なわせる。
(不図示)を内包する直径16mmの非磁性体である。
この現象スリーブ41は、上記ネガトナーをコートさ
れ、感光体1表面との距離を200μmに保った状態
で、感光体1と等速で回転して、現像バイアス印加電源
S2から現像バイアス電圧を印加される。印加電圧は、
−350Vの直流電圧と、周波数1.8MHz、ピーク
間電圧1.6kVの矩形の交流電圧を重畳したものであ
り、現像スリーブ41と感光体1との間でトナーのジャ
ンピング現象を行なわせる。
【0168】一方、給紙部23から記録材としての転写
材Pが供給されて、感光体1と、これに所定の押圧力で
当接させた接触転写手段としての、中抵抗の転写ローラ
7との圧接ニップ部(転写部)Tに所定のタイミングで
導入される。転写手段である転写ローラ7には転写バイ
アス印加電源S3から所定の転写バイアス電圧が印加さ
れる。
材Pが供給されて、感光体1と、これに所定の押圧力で
当接させた接触転写手段としての、中抵抗の転写ローラ
7との圧接ニップ部(転写部)Tに所定のタイミングで
導入される。転写手段である転写ローラ7には転写バイ
アス印加電源S3から所定の転写バイアス電圧が印加さ
れる。
【0169】本実施形態の複写機50は、転写ローラ7
に抵抗値5×108Ωのものを使用し、+2000Vの
直流電圧を印加して転写を行っている。
に抵抗値5×108Ωのものを使用し、+2000Vの
直流電圧を印加して転写を行っている。
【0170】転写部Tに導入された転写材Pはこの転写
部Tを挟持搬送されて、その表面側に感光体1の表面に
形成されて担持されているトナー画像が順次に静電気力
と押し圧力によって転写されていく(転写工程)。
部Tを挟持搬送されて、その表面側に感光体1の表面に
形成されて担持されているトナー画像が順次に静電気力
と押し圧力によって転写されていく(転写工程)。
【0171】さらに、トナー画像の転写を受けた転写材
Pは、感光体1の面から分離されて熱定着方式等の定着
装置6へ導入されてトナー画像の定着を受け、画像形成
物(プリント、コピー)として複写機50の外部に排出
される。
Pは、感光体1の面から分離されて熱定着方式等の定着
装置6へ導入されてトナー画像の定着を受け、画像形成
物(プリント、コピー)として複写機50の外部に排出
される。
【0172】なお、本実施形態の複写機50は、感光体
1、帯電器103、現像装置4の4つのプロセス機器を
カートリッジ11に包含させて複写機50の装置本体5
1に対して一括して着脱交換自在のカートリッジ方式の
装置であるが、これに限るものではない。
1、帯電器103、現像装置4の4つのプロセス機器を
カートリッジ11に包含させて複写機50の装置本体5
1に対して一括して着脱交換自在のカートリッジ方式の
装置であるが、これに限るものではない。
【0173】次に、本実施形態の複写機50に使用した
帯電器103を説明する。
帯電器103を説明する。
【0174】図3において、帯電器103は、接触帯電
部材として帯電ローラ30を用いた装置である。帯電器
103は、芯金31上に可撓性部材であるゴム或いは発
泡体の中抵抗層32を形成することにより作成された帯
電ローラ30と、帯電ローラ30をほぼ定速で回転させ
る駆動モータ54と、帯電ローラ30の外周面(すなわ
ち中抵抗層32の外周面)に初期においては帯電ローラ
30上に塗布され、その後は転写残トナー34と共に供
給される導電性微粉体33と、帯電ローラ30に帯電バ
イアスを印加する帯電バイアス電圧印加電源S1、後述
する反射濃度センサ35と、制御部53等を備えてい
る。この内、帯電ローラ30に帯電バイアスを印加する
帯電バイアス電圧印加電源S1、後述する残留トナー検
知部である反射濃度センサ35と、制御部53等は、吐
き出し手段である吐き出し部36を構成している。
部材として帯電ローラ30を用いた装置である。帯電器
103は、芯金31上に可撓性部材であるゴム或いは発
泡体の中抵抗層32を形成することにより作成された帯
電ローラ30と、帯電ローラ30をほぼ定速で回転させ
る駆動モータ54と、帯電ローラ30の外周面(すなわ
ち中抵抗層32の外周面)に初期においては帯電ローラ
30上に塗布され、その後は転写残トナー34と共に供
給される導電性微粉体33と、帯電ローラ30に帯電バ
イアスを印加する帯電バイアス電圧印加電源S1、後述
する反射濃度センサ35と、制御部53等を備えてい
る。この内、帯電ローラ30に帯電バイアスを印加する
帯電バイアス電圧印加電源S1、後述する残留トナー検
知部である反射濃度センサ35と、制御部53等は、吐
き出し手段である吐き出し部36を構成している。
【0175】帯電ローラ30は、感光体1に対しほぼ平
行にして芯金31の両端部を軸受けされて、中抵抗層3
2の弾性に抗して所定の押圧力で感光体1に圧接し、帯
電ローラ30と感光体1の当接部である帯電当接部Bを
形成している。この帯電当接部Bの幅nは特に制限され
るものではないが、帯電ローラ30と感光体1の安定し
て密な密着性を得るため1mm以上、より好ましくは2
mm以上が良い。
行にして芯金31の両端部を軸受けされて、中抵抗層3
2の弾性に抗して所定の押圧力で感光体1に圧接し、帯
電ローラ30と感光体1の当接部である帯電当接部Bを
形成している。この帯電当接部Bの幅nは特に制限され
るものではないが、帯電ローラ30と感光体1の安定し
て密な密着性を得るため1mm以上、より好ましくは2
mm以上が良い。
【0176】この帯電ローラ30は、帯電当接部Bにお
いて感光体1の回転方向とは逆方向である矢示の時計方
向、或いは帯電当接部Bにおいて感光体1の回転方向と
順方向である反時計方向に回転駆動されるようになって
いる。このため、感光体1の外周面1aは、帯電当接部
Bにおいて導電性微粉体33を保持した中抵抗層32に
摺擦されるようになっている。
いて感光体1の回転方向とは逆方向である矢示の時計方
向、或いは帯電当接部Bにおいて感光体1の回転方向と
順方向である反時計方向に回転駆動されるようになって
いる。このため、感光体1の外周面1aは、帯電当接部
Bにおいて導電性微粉体33を保持した中抵抗層32に
摺擦されるようになっている。
【0177】そして帯電バイアス電圧印加電源S1によ
り帯電ローラ30を介して導電性微粉体33に対して、
所定の帯電バイアスが所定の極性・電位の直流電圧(V
直流単独:直流印加方式)、或いは交番電圧Vを重畳し
た振動電圧(V直流+V交流:交流印加方式)が印加さ
れて、回転駆動している感光体1の外周面1aが直接注
入帯電方式にて所定の極性・電位に均一に帯電される。
り帯電ローラ30を介して導電性微粉体33に対して、
所定の帯電バイアスが所定の極性・電位の直流電圧(V
直流単独:直流印加方式)、或いは交番電圧Vを重畳し
た振動電圧(V直流+V交流:交流印加方式)が印加さ
れて、回転駆動している感光体1の外周面1aが直接注
入帯電方式にて所定の極性・電位に均一に帯電される。
【0178】次に、トナー母粒子に導電性微粉体33を
外部添加した場合の画像形成プロセス中でのトナー母粒
子及び導電性微粉体33の挙動を説明する。
外部添加した場合の画像形成プロセス中でのトナー母粒
子及び導電性微粉体33の挙動を説明する。
【0179】トナーに含有した導電性微粉体33は、感
光体1上の静電潜像の現像時にトナー母粒子とともに適
当量が感光体1に移行して静電潜像を可視化する(現像
工程)。
光体1上の静電潜像の現像時にトナー母粒子とともに適
当量が感光体1に移行して静電潜像を可視化する(現像
工程)。
【0180】感光体1上のトナー画像は転写工程におい
て転写材Pに転移する。感光体1上の導電性微粉体33
も一部は転写材Pに付着するが残りは感光体1上に付着
保持されて残留する。トナーとは逆極性の転写バイアス
を転写ローラ7に印加して転写を行う場合、トナーは転
写材側に引かれて積極的に転移するが、感光体1上の導
電性微粉体33は導電性であるので転写材側には積極的
には転移せず、一部は転写材側に付着するものの残りは
感光体1上に付着保持されて残留する。
て転写材Pに転移する。感光体1上の導電性微粉体33
も一部は転写材Pに付着するが残りは感光体1上に付着
保持されて残留する。トナーとは逆極性の転写バイアス
を転写ローラ7に印加して転写を行う場合、トナーは転
写材側に引かれて積極的に転移するが、感光体1上の導
電性微粉体33は導電性であるので転写材側には積極的
には転移せず、一部は転写材側に付着するものの残りは
感光体1上に付着保持されて残留する。
【0181】クリーニング装置が存在しない本実施形態
の複写機50では、転写後の感光体1の表面に残存の転
写残トナー34および上記の残存導電性微粉体33は、
感光体1と帯電ローラ30の当接部である帯電当接部B
に感光体1の移動でそのまま持ち運ばれて帯電ローラ3
0に付着・混入する。
の複写機50では、転写後の感光体1の表面に残存の転
写残トナー34および上記の残存導電性微粉体33は、
感光体1と帯電ローラ30の当接部である帯電当接部B
に感光体1の移動でそのまま持ち運ばれて帯電ローラ3
0に付着・混入する。
【0182】したがって、感光体1と帯電ローラ30と
の当接部に導電性微粉体33が介在した状態で感光体1
の直接注入帯電が行なわれる(帯電工程)。
の当接部に導電性微粉体33が介在した状態で感光体1
の直接注入帯電が行なわれる(帯電工程)。
【0183】帯電ローラ30に付着・混入した転写残ト
ナー34は、帯電バイアスと同極性に帯電を揃えられて
帯電ローラ30から徐々に感光体1上に吐き出されて、
感光体1の回転とともに現像器4に至り、現像工程にお
いて現像と同時にクリーニング(回収)される。
ナー34は、帯電バイアスと同極性に帯電を揃えられて
帯電ローラ30から徐々に感光体1上に吐き出されて、
感光体1の回転とともに現像器4に至り、現像工程にお
いて現像と同時にクリーニング(回収)される。
【0184】さらに、画像形成工程が繰り返されること
で、トナーに含有させてある導電性微粉体33が、現像
器4で感光体1に移行し感光体1の回転により転写部T
を経て帯電当接部Bに持ち運ばれて帯電器103に逐次
導電性微粉体33が供給され続けるため、帯電当接部B
において導電性微粉体33が脱落等で減少したり、劣化
したり等しても、帯電性の低下が生じることが防止され
て良好な帯電性が安定して維持される。
で、トナーに含有させてある導電性微粉体33が、現像
器4で感光体1に移行し感光体1の回転により転写部T
を経て帯電当接部Bに持ち運ばれて帯電器103に逐次
導電性微粉体33が供給され続けるため、帯電当接部B
において導電性微粉体33が脱落等で減少したり、劣化
したり等しても、帯電性の低下が生じることが防止され
て良好な帯電性が安定して維持される。
【0185】以下、本実施形態において用いた帯電ロー
ラ汚染防止の制御方法について説明する。本実施形態で
は、図3に示すように接触帯電部材である帯電ローラ3
0の表面上のトナー量を検知するために帯電ローラ30
の、例えば上方に反射濃度センサ35を設置してある。
なお、反射濃度センサ35は、帯電ローラ30の脇に設
置してあってもよい。本実施形態での導電性微粉体33
は上述したように遮光の問題などから白色のものを用い
ているため、反射濃度計によるトナー濃度の測定が可能
である。
ラ汚染防止の制御方法について説明する。本実施形態で
は、図3に示すように接触帯電部材である帯電ローラ3
0の表面上のトナー量を検知するために帯電ローラ30
の、例えば上方に反射濃度センサ35を設置してある。
なお、反射濃度センサ35は、帯電ローラ30の脇に設
置してあってもよい。本実施形態での導電性微粉体33
は上述したように遮光の問題などから白色のものを用い
ているため、反射濃度計によるトナー濃度の測定が可能
である。
【0186】本実施形態では図4に示すように帯電ロー
ラ30の長手方向に3つのセンサ35を設置し、帯電ロ
ーラ30が長手方向に不均一な汚染をした時にも対処で
きる構成になっている。具体的には3つの濃度センサ3
5のうち1つでも反射濃度の値として0.3を越えると
制御部53によって複写機50は、吐き出しシーケンス
動作に移行するようになっている。なお、濃度センサ3
5は、必ずしも、3つ備える必要がなく、数は、限定さ
れない。
ラ30の長手方向に3つのセンサ35を設置し、帯電ロ
ーラ30が長手方向に不均一な汚染をした時にも対処で
きる構成になっている。具体的には3つの濃度センサ3
5のうち1つでも反射濃度の値として0.3を越えると
制御部53によって複写機50は、吐き出しシーケンス
動作に移行するようになっている。なお、濃度センサ3
5は、必ずしも、3つ備える必要がなく、数は、限定さ
れない。
【0187】次に本実施形態で用いた吐き出しシーケン
スについて説明する。
スについて説明する。
【0188】本実施形態では吐き出しシーケンス時に帯
電バイアス電圧印加電源S1から帯電ローラ30への印
加バイアスとして直流成分に交流成分を重畳したものを
用いた。交流成分を重畳するとトナーに振動電界が加わ
り、帯電ローラ30から感光体に吐き出されるトナー量
が増加し、帯電ローラ30上に連れ回る成分が減少す
る。
電バイアス電圧印加電源S1から帯電ローラ30への印
加バイアスとして直流成分に交流成分を重畳したものを
用いた。交流成分を重畳するとトナーに振動電界が加わ
り、帯電ローラ30から感光体に吐き出されるトナー量
が増加し、帯電ローラ30上に連れ回る成分が減少す
る。
【0189】一般に用いられるAC波形としては矩形
波、正弦波、三角波が挙げられる。本実施形態の複写機
50ではデューティー(duty)比50%の矩形波
で、放電しない領域のピーク間電圧:200Vppを用
いている。周波数は1KHzとした。矩形波の方が正弦
波、三角波等に比べて電圧の立ち上がりが速いため感光
体1の表面電位と帯電ローラ30の電位との電位差が瞬
間的に大きくなるため、トナーの吐き出し効率が高くな
る。また、交流成分の周波数が同じであるならばピーク
間電圧を大きくした方が吐き出し性は向上するが、大き
くし過ぎると放電が起こったり、AC帯電音のレベルが
悪くなったりするため好ましくない。また、周波数を低
周波にしすぎると被帯電体の表面電位が周波数に応じた
AC帯電ムラを持ってしまい、画像に悪影響を及ぼす可
能性がある。逆に、大きくし過ぎるとトナーが高周波電
界に応答できなくなり吐き出し性は低下する。AC帯電
ムラを発生させないようにするためにはプロセススピー
ドが大きいほど高周波にする必要がある。本実施形態で
はプロセススピードが210mm/secであるので1
KHz程度の周波数が必要となる。
波、正弦波、三角波が挙げられる。本実施形態の複写機
50ではデューティー(duty)比50%の矩形波
で、放電しない領域のピーク間電圧:200Vppを用
いている。周波数は1KHzとした。矩形波の方が正弦
波、三角波等に比べて電圧の立ち上がりが速いため感光
体1の表面電位と帯電ローラ30の電位との電位差が瞬
間的に大きくなるため、トナーの吐き出し効率が高くな
る。また、交流成分の周波数が同じであるならばピーク
間電圧を大きくした方が吐き出し性は向上するが、大き
くし過ぎると放電が起こったり、AC帯電音のレベルが
悪くなったりするため好ましくない。また、周波数を低
周波にしすぎると被帯電体の表面電位が周波数に応じた
AC帯電ムラを持ってしまい、画像に悪影響を及ぼす可
能性がある。逆に、大きくし過ぎるとトナーが高周波電
界に応答できなくなり吐き出し性は低下する。AC帯電
ムラを発生させないようにするためにはプロセススピー
ドが大きいほど高周波にする必要がある。本実施形態で
はプロセススピードが210mm/secであるので1
KHz程度の周波数が必要となる。
【0190】帯電ローラ30の回転速度は対感光体1の
当接部Bにおいて逆方向に回転(移動)し、周速比が4
0%となるようにした。
当接部Bにおいて逆方向に回転(移動)し、周速比が4
0%となるようにした。
【0191】以上の条件で、実際に画像デューティー
(duty)比10%のチャートで耐久試験を行ったと
ころ、従来の構成では10万枚程度の耐久で接触帯電部
材の表面のトナー汚染によるハキムラ等の帯電不良が生
じていたが、本実施形態の吐き出しシーケンスが入った
構成では15万枚の耐久試験でも帯電不良による画像欠
陥は見受けられなかった。また耐久中の濃度検知センサ
の値を示すと、図1、図6に示すようになっていて、反
射濃度の値として0.3を超えることなく著しいトナー
汚染が無い事が分かる。
(duty)比10%のチャートで耐久試験を行ったと
ころ、従来の構成では10万枚程度の耐久で接触帯電部
材の表面のトナー汚染によるハキムラ等の帯電不良が生
じていたが、本実施形態の吐き出しシーケンスが入った
構成では15万枚の耐久試験でも帯電不良による画像欠
陥は見受けられなかった。また耐久中の濃度検知センサ
の値を示すと、図1、図6に示すようになっていて、反
射濃度の値として0.3を超えることなく著しいトナー
汚染が無い事が分かる。
【0192】また本実施形態で用いた交流バイアスの条
件であるが、本実施形態の値に限定されるものではな
く、上述したようにAC帯電ムラ、AC帯電音等の弊害
が無く、吐き出し性が向上するものであれば何ら問題は
無い。
件であるが、本実施形態の値に限定されるものではな
く、上述したようにAC帯電ムラ、AC帯電音等の弊害
が無く、吐き出し性が向上するものであれば何ら問題は
無い。
【0193】なお、画像デューティー(duty)比4
0%のチャートで転写残トナーが多く、帯電ローラ30
が汚染され易い条件下の場合についても、耐久試験を行
ってみた。その他の条件は上記と同じにした。その結
果、従来の構成では3万枚程度の耐久で帯電不良が見ら
れたのに対して本実施形態の構成では15万枚の耐久試
験でも帯電不良は見られなかった。また、耐久中の濃度
検知センサの値を示すと図7に示すように、上記画像デ
ューティー(duty)比10%の場合と比べて吐き出
しシーケンスの作動する頻度は増しているが、反射濃度
の値として0.3を超えることなく安定した帯電が行え
る状態にあることが分かる。
0%のチャートで転写残トナーが多く、帯電ローラ30
が汚染され易い条件下の場合についても、耐久試験を行
ってみた。その他の条件は上記と同じにした。その結
果、従来の構成では3万枚程度の耐久で帯電不良が見ら
れたのに対して本実施形態の構成では15万枚の耐久試
験でも帯電不良は見られなかった。また、耐久中の濃度
検知センサの値を示すと図7に示すように、上記画像デ
ューティー(duty)比10%の場合と比べて吐き出
しシーケンスの作動する頻度は増しているが、反射濃度
の値として0.3を超えることなく安定した帯電が行え
る状態にあることが分かる。
【0194】[実施形態2の画像形成装置]本実施形態
では吐き出しシーケンスとして帯電ローラ30の回転速
度を上げる手法を取り入れている。本実施形態の複写機
60に装備した帯電器104は、芯金31上に可撓性部
材であるゴム或いは発泡体の中抵抗層32を形成するこ
とにより作成された帯電ローラ30と、帯電ローラ30
の外周面(すなわち中抵抗層32の外周面)に初期にお
いては帯電ローラ30上に塗布され、その後は転写残ト
ナー34と共に供給される導電性微粉体33と、帯電ロ
ーラ30に帯電バイアスを印加する帯電バイアス電圧印
加電源S1と、後述する反射濃度センサ35と、制御部
61と、帯電ローラ30を回転させて制御部61によっ
て帯電ローラ30の回転速度を可変する可変モータ62
等を備えている。この内、反射濃度センサ35と、制御
部61等は、吐き出し手段である吐き出し部55を構成
している。
では吐き出しシーケンスとして帯電ローラ30の回転速
度を上げる手法を取り入れている。本実施形態の複写機
60に装備した帯電器104は、芯金31上に可撓性部
材であるゴム或いは発泡体の中抵抗層32を形成するこ
とにより作成された帯電ローラ30と、帯電ローラ30
の外周面(すなわち中抵抗層32の外周面)に初期にお
いては帯電ローラ30上に塗布され、その後は転写残ト
ナー34と共に供給される導電性微粉体33と、帯電ロ
ーラ30に帯電バイアスを印加する帯電バイアス電圧印
加電源S1と、後述する反射濃度センサ35と、制御部
61と、帯電ローラ30を回転させて制御部61によっ
て帯電ローラ30の回転速度を可変する可変モータ62
等を備えている。この内、反射濃度センサ35と、制御
部61等は、吐き出し手段である吐き出し部55を構成
している。
【0195】本実施形態では、帯電ローラ30は感光体
1との当接部Bにおいて感光体1とは逆方向に回転(移
動)しており、転写残トナーは図3と同様に図8に示す
ような経路で帯電器104から吐きだされることが確認
されており、帯電ローラ30上を何周も連れ回る成分が
存在する。そこで帯電ローラ30の回転数を増加すると
連れ回り成分の吐き出し機会が増し、単位時間当たりに
帯電ローラ30上から吐き出される転写残トナーの量が
増加することが分かっている。
1との当接部Bにおいて感光体1とは逆方向に回転(移
動)しており、転写残トナーは図3と同様に図8に示す
ような経路で帯電器104から吐きだされることが確認
されており、帯電ローラ30上を何周も連れ回る成分が
存在する。そこで帯電ローラ30の回転数を増加すると
連れ回り成分の吐き出し機会が増し、単位時間当たりに
帯電ローラ30上から吐き出される転写残トナーの量が
増加することが分かっている。
【0196】実際に帯電ローラ30の周速比と単位時間
当たりに帯電ローラ30から吐き出されるトナー量を調
べたところ、図9に示すような関係になっていることが
実験結果から確認された。すなわち、帯電ローラ30の
回転速度を速くすると、トナー量の吐き出し量が多くな
る。また、周速比を大きくした方が導電性微粉体33の
対感光体当接部Bでの接触機会が増し、多少、帯電ロー
ラ30の表面が転写残トナーで汚染されてもハキムラに
対して有利となる。
当たりに帯電ローラ30から吐き出されるトナー量を調
べたところ、図9に示すような関係になっていることが
実験結果から確認された。すなわち、帯電ローラ30の
回転速度を速くすると、トナー量の吐き出し量が多くな
る。また、周速比を大きくした方が導電性微粉体33の
対感光体当接部Bでの接触機会が増し、多少、帯電ロー
ラ30の表面が転写残トナーで汚染されてもハキムラに
対して有利となる。
【0197】しかし、やみくもに帯電ローラ30の周速
比を大きくするのは、感光体1の削れが促進されて好ま
しくない。一般に感光体の削れと帯電ローラの周速比と
の関係は図10に示すようになっているため、周速比は
少ない方向とする。
比を大きくするのは、感光体1の削れが促進されて好ま
しくない。一般に感光体の削れと帯電ローラの周速比と
の関係は図10に示すようになっているため、周速比は
少ない方向とする。
【0198】周速比は、可変モータ62の回転速度を替
えて行うようになっている。また、帯電ローラの表面の
トナー汚染度を検知する手法を実施形態1と同様にし、
吐き出しシーケンスを作動させるタイミングも実施形態
1と同様に、反射濃度センサの値が0.3を超えたとき
とした。
えて行うようになっている。また、帯電ローラの表面の
トナー汚染度を検知する手法を実施形態1と同様にし、
吐き出しシーケンスを作動させるタイミングも実施形態
1と同様に、反射濃度センサの値が0.3を超えたとき
とした。
【0199】したがって、3つの濃度センサ35のうち
1つでも反射濃度の値として0.3を越えると制御部6
1によって複写機60が、吐き出しシーケンス動作に移
行するようになっている。制御部61は、反射濃度が
0.3を超えると、可変モータ62を制御して、帯電ロ
ーラの周速比を120%となるようにする。
1つでも反射濃度の値として0.3を越えると制御部6
1によって複写機60が、吐き出しシーケンス動作に移
行するようになっている。制御部61は、反射濃度が
0.3を超えると、可変モータ62を制御して、帯電ロ
ーラの周速比を120%となるようにする。
【0200】以上のような条件で画像duty40%の
条件で耐久試験を行ったところ、従来の構成では3万枚
程度の耐久で帯電不良が見られたのに対して本実施形態
の構成では15万枚の耐久試験でも帯電不良は見られな
かった。
条件で耐久試験を行ったところ、従来の構成では3万枚
程度の耐久で帯電不良が見られたのに対して本実施形態
の構成では15万枚の耐久試験でも帯電不良は見られな
かった。
【0201】また、耐久中の濃度検知センサの値も実施
形態1と同様に、反射濃度の値として0.3を超えるこ
となく安定した帯電が行える状態であった。
形態1と同様に、反射濃度の値として0.3を超えるこ
となく安定した帯電が行える状態であった。
【0202】また、本実施形態で用いた吐き出しシーケ
ンス時の周速に限定されるものではなく、感光体の表面
が削れ易いものであるならば、周速を下げて吐き出し性
との兼ね合いから条件を出すべきものである。
ンス時の周速に限定されるものではなく、感光体の表面
が削れ易いものであるならば、周速を下げて吐き出し性
との兼ね合いから条件を出すべきものである。
【0203】また、本実施形態1,2では帯電ローラの
表面の反射濃度値が0.3を超えたときに吐き出しシー
ケンスが作動するように設定しているが、より低い値に
設定することも可能である。あるいは、反射濃度レベル
に対応した吐き出しシーケンスレベルをテーブルとして
作っても良い。例えば、反射濃度が0.1以下では接触
帯電部材の周速比40%、反射濃度が0.1乃至0.2
では周速比80%、反射濃度0.2乃至0.3では周速
比100%、反射濃度0.3以上では周速比120%と
するような制御方法でも良い。
表面の反射濃度値が0.3を超えたときに吐き出しシー
ケンスが作動するように設定しているが、より低い値に
設定することも可能である。あるいは、反射濃度レベル
に対応した吐き出しシーケンスレベルをテーブルとして
作っても良い。例えば、反射濃度が0.1以下では接触
帯電部材の周速比40%、反射濃度が0.1乃至0.2
では周速比80%、反射濃度0.2乃至0.3では周速
比100%、反射濃度0.3以上では周速比120%と
するような制御方法でも良い。
【0204】また、実施形態1のような帯電バイアスに
よる吐き出しシーケンスと実施形態2のような接触帯電
部材の回転数による吐き出しシーケンスを併用しても良
い。
よる吐き出しシーケンスと実施形態2のような接触帯電
部材の回転数による吐き出しシーケンスを併用しても良
い。
【0205】なお、実施形態1,2はいずれもクリーナ
レス・システムについて記述しているが、本発明はそれ
に限定されるものではなく、帯電ローラがトナーにより
汚染されるものであればその効果を発揮する。例えば、
クリーナを装備したシステムにおいても、長期耐久後に
は現像飛散トナーによる汚染が容易に予想される。その
様な場合においても本発明の構成を用いれば帯電ローラ
を常に清浄に保つことができ、安定した帯電性能を確保
できる。
レス・システムについて記述しているが、本発明はそれ
に限定されるものではなく、帯電ローラがトナーにより
汚染されるものであればその効果を発揮する。例えば、
クリーナを装備したシステムにおいても、長期耐久後に
は現像飛散トナーによる汚染が容易に予想される。その
様な場合においても本発明の構成を用いれば帯電ローラ
を常に清浄に保つことができ、安定した帯電性能を確保
できる。
【0206】また、上述した実施形態はいずれも帯電ロ
ーラの表面上を反射濃度センサにより実際に測定しトナ
ー汚染度を検知して吐き出しシーケンス制御をしている
が、リーダ部20で読み取った画像情報を処理する画像
処理手段である画像処理部43(図2参照)の画像情報
信号の濃度信号のビデオカウント数を用いて、現像トナ
ー消費量を見積もり、そこから転写効率も踏まえて計算
するとある程度、帯電ローラの汚染具合が予測されるの
で、ビデオカウント値がある値に達すると吐き出しシー
ケンスが作動するという制御方法にしてもよい。
ーラの表面上を反射濃度センサにより実際に測定しトナ
ー汚染度を検知して吐き出しシーケンス制御をしている
が、リーダ部20で読み取った画像情報を処理する画像
処理手段である画像処理部43(図2参照)の画像情報
信号の濃度信号のビデオカウント数を用いて、現像トナ
ー消費量を見積もり、そこから転写効率も踏まえて計算
するとある程度、帯電ローラの汚染具合が予測されるの
で、ビデオカウント値がある値に達すると吐き出しシー
ケンスが作動するという制御方法にしてもよい。
【0207】すなわち、図3に示す帯電器103におい
て、反射濃度センサ35を省略して、制御部53が、ビ
デオカウント値に基づいて、帯電バイアス電圧印加電源
S1から帯電ローラ30への印加バイアスとして直流成
分に交流成分を重畳した電圧を印加するようにしてもよ
い。この場合、制御部53、帯電バイアス電圧印加電源
S1等が、吐き出し手段になる。
て、反射濃度センサ35を省略して、制御部53が、ビ
デオカウント値に基づいて、帯電バイアス電圧印加電源
S1から帯電ローラ30への印加バイアスとして直流成
分に交流成分を重畳した電圧を印加するようにしてもよ
い。この場合、制御部53、帯電バイアス電圧印加電源
S1等が、吐き出し手段になる。
【0208】また、図8に示す帯電手段である帯電器1
04においても、反射濃度センサ35を省略して、制御
部61が、ビデオカウント値に基づいて、可変モータ6
2を制御して、帯電ローラ30の周速比が120%にな
るようにしてもよい。この場合、制御部61等が、吐き
出し手段になる。
04においても、反射濃度センサ35を省略して、制御
部61が、ビデオカウント値に基づいて、可変モータ6
2を制御して、帯電ローラ30の周速比が120%にな
るようにしてもよい。この場合、制御部61等が、吐き
出し手段になる。
【0209】この実施形態の場合、反射濃度センサ35
を用いる必要がなく、他の構成を利用して吐き出しシー
ケンスを行うことができるので、複写機の構成を簡単に
することができる。
を用いる必要がなく、他の構成を利用して吐き出しシー
ケンスを行うことができるので、複写機の構成を簡単に
することができる。
【0210】また、図2において、画像を形成された転
写材Pを検知するセンサ44によって、転写材Pを検知
して、制御部45内のカウンタでカウントし、表示部4
6に画像形成枚数を表示する機構を利用して、吐き出し
シーケンスを実行してもよい。この制御部45は、複写
機全体を制御する制御部であるが、図3において、反射
濃度センサ35を省略して、制御部45の代わりに、制
御部53を使用してもよい。
写材Pを検知するセンサ44によって、転写材Pを検知
して、制御部45内のカウンタでカウントし、表示部4
6に画像形成枚数を表示する機構を利用して、吐き出し
シーケンスを実行してもよい。この制御部45は、複写
機全体を制御する制御部であるが、図3において、反射
濃度センサ35を省略して、制御部45の代わりに、制
御部53を使用してもよい。
【0211】すなわち、制御部45(或いは、制御部5
3)が、カウンタのカウント値に基づいて、帯電バイア
ス電圧印加電源S1から帯電ローラ30への印加バイア
スとして直流成分に交流成分を重畳した電圧を印加す
る。この場合、センサ44、制御部45(或いは、制御
部53)、帯電バイアス電圧印加電源S1等が、吐き出
し手段になる。
3)が、カウンタのカウント値に基づいて、帯電バイア
ス電圧印加電源S1から帯電ローラ30への印加バイア
スとして直流成分に交流成分を重畳した電圧を印加す
る。この場合、センサ44、制御部45(或いは、制御
部53)、帯電バイアス電圧印加電源S1等が、吐き出
し手段になる。
【0212】また、図8に示す帯電器104において
も、反射濃度センサ35を省略して、制御部45(或い
は、制御部53)がカウンタのカウント値に基づいて、
可変モータ62を制御して、帯電ローラ30の周速比が
120%になるようにしてもよい。この場合、センサ4
4、制御部45(或いは、制御部53)等が、吐き出し
手段になる。
も、反射濃度センサ35を省略して、制御部45(或い
は、制御部53)がカウンタのカウント値に基づいて、
可変モータ62を制御して、帯電ローラ30の周速比が
120%になるようにしてもよい。この場合、センサ4
4、制御部45(或いは、制御部53)等が、吐き出し
手段になる。
【0213】この実施形態の場合も、反射濃度センサ3
5を用いる必要がなく、他の構成を利用して吐き出しシ
ーケンスを行うことができるので、複写機の構成を簡単
にすることができる。
5を用いる必要がなく、他の構成を利用して吐き出しシ
ーケンスを行うことができるので、複写機の構成を簡単
にすることができる。
【0214】
【発明の効果】本発明の画像形成装置は、転写材にトナ
ー像を形成していない部分に対してトナー像を形成する
比率が高比率の画像を出力し続けた場合においても、長
期に渡って安定した帯電が行えて、かつ像担持体の削れ
も極力抑えることができて、像担持体に対する帯電不良
が殆んど生じることなく、品質のよい画像を転写材に形
成することができるとともに、長期間使用することがで
きる。
ー像を形成していない部分に対してトナー像を形成する
比率が高比率の画像を出力し続けた場合においても、長
期に渡って安定した帯電が行えて、かつ像担持体の削れ
も極力抑えることができて、像担持体に対する帯電不良
が殆んど生じることなく、品質のよい画像を転写材に形
成することができるとともに、長期間使用することがで
きる。
【図1】本発明の実施形態の画像形成装置において、吐
き出しシーケンスを実行したときの転写材の画像形成枚
数に対する帯電ローラ表面の反射濃度の推移を示したグ
ラフである。
き出しシーケンスを実行したときの転写材の画像形成枚
数に対する帯電ローラ表面の反射濃度の推移を示したグ
ラフである。
【図2】本発明の実施形態1の画像形成装置である複写
機の概略正面断面図である。
機の概略正面断面図である。
【図3】図2の帯電手段である帯電器の概略拡大図であ
る。
る。
【図4】図3の帯電器の側面図である。
【図5】帯電ローラの表面近くの断面概略図である。
(a) 支持体の上に光導電層が設けられた帯電ローラ
の断面図である。 (b) 支持体の上に光導電層、アモルファスカーボン
系表面層が順に設けられた帯電ローラの断面図である。 (c) 支持体の上にアモルファスシリコン系電荷注入
阻止層、光導電層、アモルファスシリコン系電荷注入阻
止層、アモルファスカーボン系表面層が順に設けられた
帯電ローラの断面図である。 (d) 支持体の上に2層の電荷輸送層、アモルファス
シリコン系電荷注入阻止層、アモルファスカーボン系表
面層が順に設けられた帯電ローラの断面図である。 (e) 支持体の上にアモルファスシリコン系電荷注入
阻止層、2層の電荷輸送層、アモルファスカーボン系表
面層が順に設けられた帯電ローラの断面図である。 (f) 支持体の上にアモルファスシリコン系電荷注入
阻止層、2層の電荷輸送層、アモルファスカーボン系表
面層が順に設けられた帯電ローラの断面図である。
の断面図である。 (b) 支持体の上に光導電層、アモルファスカーボン
系表面層が順に設けられた帯電ローラの断面図である。 (c) 支持体の上にアモルファスシリコン系電荷注入
阻止層、光導電層、アモルファスシリコン系電荷注入阻
止層、アモルファスカーボン系表面層が順に設けられた
帯電ローラの断面図である。 (d) 支持体の上に2層の電荷輸送層、アモルファス
シリコン系電荷注入阻止層、アモルファスカーボン系表
面層が順に設けられた帯電ローラの断面図である。 (e) 支持体の上にアモルファスシリコン系電荷注入
阻止層、2層の電荷輸送層、アモルファスカーボン系表
面層が順に設けられた帯電ローラの断面図である。 (f) 支持体の上にアモルファスシリコン系電荷注入
阻止層、2層の電荷輸送層、アモルファスカーボン系表
面層が順に設けられた帯電ローラの断面図である。
【図6】本発明の実施形態1の画像形成装置である複写
機において、吐き出しシーケンスを実行したときの転写
材の画像形成枚数に対する帯電ローラ表面の反射濃度の
推移を示したグラフである。
機において、吐き出しシーケンスを実行したときの転写
材の画像形成枚数に対する帯電ローラ表面の反射濃度の
推移を示したグラフである。
【図7】本発明の実施形態1の画像形成装置である複写
機において、図6の場合より画像デューティー比が大き
い場合において、吐き出しシーケンスを実行したときの
転写材の画像形成枚数に対する帯電ローラ表面の反射濃
度の推移を示したグラフである。
機において、図6の場合より画像デューティー比が大き
い場合において、吐き出しシーケンスを実行したときの
転写材の画像形成枚数に対する帯電ローラ表面の反射濃
度の推移を示したグラフである。
【図8】本発明の実施形態2の画像形成装置である複写
機の帯電器の概略拡大図である。
機の帯電器の概略拡大図である。
【図9】図8における帯電ローラの周速比と単位時間当
たりに帯電ローラから吐き出されるトナー量との関係を
示したグラフである。
たりに帯電ローラから吐き出されるトナー量との関係を
示したグラフである。
【図10】図8における帯電ローラと感光体との周速比
に対する感光体削れの相関図である。
に対する感光体削れの相関図である。
【図11】従来の帯電器における帯電効率を示すグラフ
である。
である。
【図12】従来の画像形成装置である複写機の帯電器の
概略拡大図である。
概略拡大図である。
B 帯電当接部
P 転写材
T 転写部
S1 帯電バイアス電圧印加電源
S2 現像バイアス印加電源
S3 転写バイアス印加電源
1 感光体(像担持体)
1a 外周面
2 レーザ露光手段
4 現像器(現像手段)
6 定着装置
7 転写ローラ(転写手段)
20 リーダ部
21 プリンタ部(静電潜像手段)
30 導電性弾性ローラ、帯電ローラ(帯電部材)
35 反射濃度センサ
36 吐き出し部(吐き出し手段)
43 画像処理部(画像処理手段)
44 センサ
45 制御部
50 複写機(画像形成装置)
51 装置本体
52 プリンタ部
53 制御部
54 モータ
55 吐き出し部(吐き出し手段)
60 複写機(画像形成装置)
61 制御部
62 可変モータ
103 接触帯電装置、帯電器(帯電手段)
104 接触帯電装置、帯電器(帯電手段)
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Fターム(参考) 2H134 GA01 GB02 HF12 HF13 KG01
KG03 KG07 KG08 KH01 KH10
MA04 MA07 MA09 MA14 MA17
2H200 FA03 FA08 FA17 FA18 GA23
GA34 GA45 GA54 GA56 GA57
GB22 GB37 HA03 HA28 HA29
HA30 HB12 HB17 HB22 HB45
HB46 HB47 HB48 JA02 JA29
JA30 LC01 LC02 LC09 MA01
MA03 MA06 MA17 MA20 MB01
MB04 MB06 MC01 MC02 MC13
MC15 NA02 NA04 NA05 NA06
PA03 PA09 PA11 PA20 PA22
PB22 PB34 PB38 PB39 PB40
Claims (15)
- 【請求項1】 トナー像を担持する像担持体と、 前記像担持体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電
源の帯電バイアスを印加することによって前記像担持体
の帯電を行う帯電手段と、 前記帯電手段によって帯電された前記像担持体の帯電面
に静電潜像を形成する静電潜像手段と、 前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナー像
とする現像手段と、 前記帯電手段の帯電部材の表面上に存在する残存トナー
の量を検知し、該トナー量が所定量になったとき、前記
帯電部材に交流電圧を含ませた前記帯電バイアスを前記
帯電バイアス電源によって印加して前記残存する残存ト
ナーを前記像担持体に吐き出させる吐き出し手段と、 を備えたことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項2】 トナー像を担持する像担持体と、 前記像担持体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電
源の帯電バイアスを印加することによって前記像担持体
の帯電を行う帯電手段と、 前記帯電手段によって帯電された前記像担持体の帯電面
に静電潜像を形成する静電潜像手段と、 前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナー像
とする現像手段と、 前記帯電手段の帯電部材の表面上に存在する残存トナー
の量を検知し、該トナー量が所定量になったとき、前記
帯電部材の作動速度を速めて、前記帯電部材に前記残存
する残存トナーを前記像担持体に吐き出させる吐き出し
手段と、 を備えたことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項3】 前記吐き出し手段は、前記残留トナーの
量を検知する残留トナー検知部を備えていることを特徴
とする請求項1又は2に記載の画像形成装置。 - 【請求項4】 トナー像を担持する像担持体と、 前記像担持体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電
源の帯電バイアスを印加することによって前記像担持体
の帯電を行う帯電手段と、 前記帯電手段によって帯電された前記像担持体の帯電面
に静電潜像を形成する静電潜像手段と、 前記静電潜像手段に画像情報信号を送る画像処理手段
と、 前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナー像
とする現像手段と、 前記画像処理手段の濃度信号のビデオカウント数が所定
数になったとき、前記帯電部材に交流電圧を含ませた前
記帯電バイアスを前記バイアス電源によって印加して前
記残存する残存トナーを前記像担持体に吐き出させる吐
き出し手段と、 を備えたことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項5】 トナー像を担持する像担持体と、 前記像担持体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電
源の帯電バイアスを印加することによって前記像担持体
の帯電を行う帯電手段と、 前記帯電手段によって帯電された前記像担持体の帯電面
に静電潜像を形成する静電潜像手段と、 前記静電潜像手段に画像情報信号を送る画像処理手段
と、 前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナー像
とする現像手段と、 前記画像処理手段の濃度信号のビデオカウント数が所定
数になったとき、前記帯電部材の作動速度を速めて、前
記帯電部材に前記残存する残存トナーを前記像担持体に
吐き出させる吐き出し手段と、 を備えたことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項6】 トナー像を担持する像担持体と、 前記像担持体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電
源の帯電バイアスを印加することによって前記像担持体
の帯電を行う帯電手段と、 前記帯電手段によって帯電された前記像担持体の帯電面
に静電潜像を形成する静電潜像手段と、 前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナー像
とする現像手段と、 前記像担持体に担持した前記トナー像を転写材に転写す
る転写手段と、 前記転写手段によって転写された転写材をカウントとし
て、カウント数が所定のカウント数になったとき、前記
帯電部材に交流電圧を含ませた前記帯電バイアスを前記
帯電バイアス電源によって印加して前記残存する残存ト
ナーを前記像担持体に吐き出させる吐き出し手段と、 を備えたことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項7】 トナー像を担持する像担持体と、 前記像担持体に帯電部材を接触作動して帯電バイアス電
源の帯電バイアスを印加することによって前記像担持体
の帯電を行う帯電手段と、 前記帯電手段によって帯電された前記像担持体の帯電面
に静電潜像を形成する静電潜像手段と、 前記静電潜像をトナーによって可視化して前記トナー像
とする現像手段と、 前記像担持体に担持した前記トナー像を転写材に転写す
る転写手段と、 前記転写手段によって転写された転写材をカウントとし
て、カウント数が所定のカウント数になったとき、前記
帯電部材の作動速度を速めて、前記帯電部材に前記残存
する残存トナーを前記像担持体に吐き出させる吐き出し
手段と、 を備えたことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項8】 前記吐き出し手段が前記帯電部材に印加
する帯電バイアスは、直流電圧に交流電圧を重畳した電
圧であることを特徴とする請求項1,4,6のいずれか
1項に記載の画像形成装置。 - 【請求項9】 前記交流電圧の波形は、矩形波であるこ
とを特徴とする請求項1,4,6,8のいずれか1項に
記載の画像形成装置。 - 【請求項10】 前記帯電部材の表面の移動速度と前記
像担持体の表面の移動速度とが異なっていることを特徴
とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の画像形成
装置。 - 【請求項11】 前記帯電部材の表面の移動方向と前記
像担持体の表面の移動方向とが異なっていることを特徴
とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の画像形成
装置。 - 【請求項12】 前記帯電手段は、トナー像を転写材に
転写した後に前記像担持体上に残留した転写残トナーを
回収するクリーニング手段を兼ねていることを特徴とす
る請求項1,2,4乃至8に記載の画像形成装置。 - 【請求項13】 前記帯電部材は、アスカーC硬度が約
25度乃至約50度のローラ部材であることを特徴とす
る請求項1,2,4乃至8,10のいずれか1項に記載
の画像形成装置。 - 【請求項14】 前記帯電部材は、体積固有抵抗約10
3Ω・cm乃至約108Ω・cmのローラ部材であるこ
とを特徴とする1,2,4乃至8,10,11のいずれ
か1項に記載の画像形成装置。 - 【請求項15】 前記帯電手段は、前記帯電部材と前記
像担持体との間に導電性を備えた導電性微粉体が存在し
た状態で前記像担持体を帯電するようになっており、前
記導電性微粉体の体積固有抵抗は、1×10−1乃至1
×109Ω・cmであることを特徴とする請求項1,
2,4乃至8,10乃至14のいずれか1項に記載の画
像形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002084186A JP2003280334A (ja) | 2002-03-25 | 2002-03-25 | 画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002084186A JP2003280334A (ja) | 2002-03-25 | 2002-03-25 | 画像形成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003280334A true JP2003280334A (ja) | 2003-10-02 |
Family
ID=29231651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002084186A Pending JP2003280334A (ja) | 2002-03-25 | 2002-03-25 | 画像形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003280334A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005234481A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置 |
JP2006058476A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 画像形成装置 |
US8942581B2 (en) | 2011-10-31 | 2015-01-27 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus |
US9195164B2 (en) | 2013-10-29 | 2015-11-24 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus |
-
2002
- 2002-03-25 JP JP2002084186A patent/JP2003280334A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005234481A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置 |
JP4507631B2 (ja) * | 2004-02-23 | 2010-07-21 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置 |
JP2006058476A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 画像形成装置 |
US8942581B2 (en) | 2011-10-31 | 2015-01-27 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus |
US9195164B2 (en) | 2013-10-29 | 2015-11-24 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus |
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