JP5075337B2 - 半導体基板をプラズマエッチングしてマスクを作るための装置 - Google Patents
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Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
2 電子ビーム
3 透過マスク
4 突出部分
6 薄い膜
30 装置
31c エッチングされない領域
31a、31b エッチングされたパターンの領域
33a、33b、33c、33d、33e 遮蔽板
32 基板を保持するシステム
34 パターン領域の境界
dh 境界から距離
dv エッチングされない領域からの距離
Claims (13)
- 半導体基板をプラズマエッチングしてマスクを作るための装置であって、
エッチングされるべきでない少なくとも1つの領域を保護し、かつエッチングされるべきパターンを含んだ少なくとも1つの領域を露出するマスクで、部分的に覆われた半導体基板と、
前記基板の支持体と、
前記基板の方に向かうイオンの流れの形をしたプラズマを生成する手段と、
少なくとも1つの分離した導電性材料の遮蔽板とを備え、導電性材料の遮蔽板が、エッチングされるべき前記少なくとも1つのパターン領域とエッチングされるべきでない前記領域との間の境界に沿って、基板から一定の垂直距離離れたところに、導電性材料の遮蔽板と基板表面との間にギャップを残して、かつ前記境界の外側の一定の水平距離離れたところに、前記基板の上に配置され、かつ四辺形の形をしたエッチングされるべき前記少なくとも1つのパターン領域の各々の辺に対して平行な垂直板の形をとる、装置。 - 前記遮蔽板が、エッチングされるべきパターン領域の境界から一定距離離れたところにある、請求項1に記載の装置。
- 前記遮蔽板が、エッチングされるべき前記パターン領域の境界の外側に一定水平距離のところにある、請求項2に記載の装置。
- 前記遮蔽板が、前記基板から一定垂直距離離れたところにある、請求項2に記載の装置。
- 前記一定距離が、10mmよりも小さい、請求項2に記載の装置。
- 前記遮蔽板の高さが、5mmから20mmまでである、請求項1に記載の装置。
- 前記基板が、エッチングされるべきでない領域によって互いに分離された、エッチングされるべきパターンを含んだ複数の領域を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記遮蔽板は、前記四辺形の角がエッチングされるべき他のパターン領域から前記一定距離以下のある距離離れたところにある場合、前記四辺形の角で途切れている、請求項7に記載の装置。
- 前記遮蔽板は、前記四辺形の角が他の導電性部分から前記一定距離以下のある距離離れたところにある場合、前記四辺形の角で途切れている、請求項1に記載の装置。
- 前記遮蔽板が金属である、請求項1に記載の装置。
- 前記遮蔽板がアルミニウムである、請求項10に記載の装置。
- 各遮蔽板がエッチングされるべき前記パターン領域の各々を包囲している、請求項7に記載の装置。
- 前記導電材料の遮蔽板が、前記支持体に取り付けられている、請求項1に記載の装置。
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