JP5069516B2 - 静電潜像評価方法及び静電潜像評価装置 - Google Patents
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Description
a.光導電性の感光体を均一に帯電させる帯電工程
b.感光体に光を照射して光導電性により静電潜像を形成する露光工程
c.帯電したトナー粒子を用いて、感光体上に可視画像を形成する現像工程
d.現像された可視画像を紙片等の転写材に転写する転写工程
e.転写された画像を転写材上に融着・固定する定着工程
f.可視画像転写後の感光体上の残留トナーを清掃するクリーニング工程
g.感光体上の残留電荷を除電する除電工程
更に、「パターンが解像できているか否か」の2値での判断であるが故に、潜像パターンの解像レベルの情報(即ち「つぶれ度合い」や「かすれ度合い」といった中間的な情報)を判断結果に反映させることができない。このことにより、例えば、わずかに解像力の異なる感光体に関して比較を行った際に、その差異を抽出することが困難となる。
(1) 帯電と所定の露光パターンにより静電潜像パターンが形成された光導電性試料の、該静電潜像パターンが形成された面を、荷電粒子ビームにより2次元的に走査し、前記静電潜像パターンによる電気的影響を受けた荷電粒子を捕獲して、その強度信号を前記面上の位置に対応させて検出し、前記静電潜像パターンにおける電荷分布状態を観測することで、静電潜像を評価する静電潜像評価方法であって、空間周波数の異なる露光パターンで複数の静電潜像パターンを形成して、前記空間周波数ごとに検出した強度信号から静電潜像パターンを含む断面プロファイルを抽出し、かつ、該断面プロファイルの露光部の強度信号から特徴量を抽出し、該特徴量に基づく潜像のレスポンス関数を光導電性試料の潜像解像力として算出することを特徴とする静電潜像評価方法。
(2) 前記(1)記載の静電潜像評価方法において、前記特徴量は、前記断面プロファイルの露光部の強度信号積分値から算出されるものであることを特徴とする静電潜像評価方法。
(3) 前記(1)記載の静電潜像評価方法において、前記特徴量は、前記静電潜像パターンの前記露光パターンとの一致度であることを特徴とする静電潜像評価方法。
(4) 前記(1)記載の静電潜像評価方法において、前記レスポンス関数を構成する前記特徴量の平均値を光導電性試料の潜像解像力として算出することを特徴とする静電潜像評価方法。
(5) 前記(1)記載の静電潜像評価方法において、前記空間周波数ごとの前記特徴量は、露光エネルギの異なる複数の静電潜像パターンを形成して、前記露光エネルギごとに抽出された前記特徴量のうち最高となる特徴量であることを特徴とする静電潜像評価方法。
(6) 所定の露光パターンから静電潜像パターンを形成する帯電手段及び光像露光手段と、前記静電潜像パターンが形成された光導電性試料の、該静電潜像パターンが形成された面を荷電粒子ビームで2次元的に走査する荷電粒子ビーム走査手段と、前記静電潜像パターンによる電気的影響を受けた荷電粒子を捕獲して、その強度信号を前記面上の位置に対応させて検出し、前記静電潜像パターンにおける電荷分布状態を観測する評価手段と、を備えた静電潜像評価装置であって、空間周波数の異なる露光パターンで複数の静電潜像パターンを形成して、前記空間周波数ごとに検出した強度信号から静電潜像パターンを含む断面プロファイルを抽出し、該断面プロファイルの露光部の強度信号から特徴量を抽出し、該特徴量に基づく潜像のレスポンス関数を光導電性試料の潜像解像力として算出する前記評価手段を備えることを特徴とする静電潜像評価装置。
(7) 前記(6)記載の静電潜像評価装置において、前記特徴量は、前記断面プロファイルの露光部の強度信号積分値から算出されるものであることを特徴とする静電潜像評価装置。
(8) 前記(6)記載の静電潜像評価装置において、前記特徴量は、前記静電潜像パターンの前記露光パターンとの一致度であることを特徴とする静電潜像評価装置。
(9) 前記(6)記載の静電潜像評価装置において、前記レスポンス関数を構成する前記特徴量の平均値を光導電性試料の潜像解像力として算出する前記評価手段を備えることを特徴とする静電潜像評価装置。
(10) 前記(6)記載の静電潜像評価装置において、前記空間周波数ごとの前記特徴量は、露光エネルギの異なる複数の静電潜像パターンを形成して、前記露光エネルギごとに抽出された前記特徴量のうち最高となる特徴量であること特徴とする静電潜像評価装置。
また、特徴量(潜像パターンと露光パターンとの一致度)を広い空間周波数帯域にて算出することにより、数値的指標に基づく定量的な静電潜像解像力を広い空間周波数帯域にわたり評価することが可能な静電潜像評価方法及び評価装置を提供することができる。
請求項2、3、7、8の発明によれば、潜像パターンの断面プロファイルから得られる強度信号に基づいて、露光パターンと潜像パターンとの一致度を算出することにより、潜像の深さ及び幅を反映した数値的指標に基づき定量的に静電潜像解像力の評価が可能な静電潜像評価方法及び評価装置を提供することができる。
請求項4、9の発明によれば、特徴量(潜像パターンと露光パターンとの一致度)を広い空間周波数帯域にて算出し、該空間周波数帯域での平均値などの代表値を求めることにより、複数の光導電性試料における上記代表値を以って、各々の静電潜像解像力の優劣を明瞭に比較、評価することが可能な静電潜像評価方法及び評価装置を提供することができる。
請求項5、10の発明によれば、特徴量(潜像パターンと露光パターンとの一致度)を、異なる複数の光像露光エネルギ条件において算出、比較することにより、特徴量(一致度)を最高とする光像露光エネルギ条件を特定するとともに、最高の特徴量を以って、各々の静電潜像解像力の優劣を明瞭に比較、評価することが可能な静電潜像評価方法及び評価装置を提供することができる。
発明者らは、これらの点の改善も含めて鋭意検討を行い、本発明を成すに至った。
まず、静電潜像評価装置の概要、及び本発明の静電潜像評価方法に基づく評価過程を、図1の装置図を基に説明する。
図1は、静電潜像評価装置の実施の一形態を示す図である。
図1において、符号11は荷電粒子銃、12はアパーチャ、13は荷電粒子に対するコンデンサレンズ、14はビームブランカ、15は荷電粒子ビームに対する走査レンズ、16は荷電粒子ビームに対する対物レンズを示す。
これら、荷電粒子銃11、アパーチャ12、コンデンサレンズ13、ビームブランカ14、走査レンズ15および対物レンズ16は、荷電粒子ビーム照射部10bを構成し、荷電粒子ビーム照射部10bの各構成部は荷電粒子ビーム制御部10aにより制御されるようになっている。また、荷電粒子ビーム照射部10bと荷電粒子ビーム制御部10aとは「荷電粒子ビーム走査手段」を構成し、かつ静電潜像パターンを形成するための「帯電手段」としての機能も有している。
光像露光手段においては、半導体レーザ17bの発光の点滅や発光強度の調整・設定を司るほか、結像レンズ21,22,23とマスクパターン20との位置関係の調整によるフォーカシングや倍率変換を行い得るようになっている。
上記各部は、図示の如くケーシング30内に配設され、ケーシング内部は、真空制御部31により高度に減圧できるようになっている。即ち、ケーシング30は「真空チャンバ」としての機能を有している。
上記の如くして得られる強度画像データは、図3に示した基本パターンP1〜P6を含むマスクパターン20により形成された静電潜像パターンL1〜L6を含むものとなる。
潜像解像力の算出は解像力演算部25bが行い、以下の手順で図4の強度画像データから導き出される静電潜像パターンを含む断面プロファイルに基づいた、該静電潜像パターンの露光パターンとの一致の程度を示す一致度U(Uniformity)の算出を行う。
(S12)つぎに、図5(a)の断面プロファイルの強度信号を用い、下記式により、露光パターンに基づく強度信号基準値である輝度基準値St、断面プロファイルの露光部の強度信号積分値である輝度積分値SIを得る。
、IVL、W、Mpに関しては、実験等により予め取得しておく。
一致度U=1−(|St−SI|/St) ・・・ (1)
図6に、同一の露光パターンを用いた場合の露光エネルギの高低とその際の静電潜像パターンにおける断面プロファイル変化の概略を示す。露光エネルギが高い場合には、破線のように露光エネルギが適正な場合(実線)よりもパターンの幅が広がり輝度積分値SIが大きくなる。また露光エネルギが低い場合には長破線のように露光エネルギが適正な場合(実線)よりもパターンの幅が狭くなり、輝度積分値SIが小さくなる(潜像が浅くなり、パターンがかすれている状態となる)。
10a 荷電粒子ビーム制御部
10b 荷電粒子ビーム照射部
11 荷電粒子銃
12,19 アパーチャ
13 コンデンサレンズ
14 ビームブランカ
15 走査レンズ
16 対物レンズ
17a LD制御部
17b 半導体レーザ
18 コリメートレンズ
20 マスクパターン
21,22,23 レンズ
24 荷電粒子検出器
25a 信号処理部
25b 解像力演算部
26 表示部
27 出力部
28 試料戴置台
29 除電用発光素子
30 ケーシング
31 真空制御部
32 ホストPC
33 光軸
41 導電層
42 電荷発生層
43 電荷輸送層
LT 光
L1,L2,L3,L4,L5,L6 静電潜像パターン
P1,P2,P3,P4,P5,P6 基本パターン
Claims (10)
- 帯電と所定の露光パターンにより静電潜像パターンが形成された光導電性試料の、該静電潜像パターンが形成された面を、荷電粒子ビームにより2次元的に走査し、前記静電潜像パターンによる電気的影響を受けた荷電粒子を捕獲して、その強度信号を前記面上の位置に対応させて検出し、前記静電潜像パターンにおける電荷分布状態を観測することで、静電潜像を評価する静電潜像評価方法であって、
空間周波数の異なる露光パターンで複数の静電潜像パターンを形成して、前記空間周波数ごとに検出した強度信号から静電潜像パターンを含む断面プロファイルを抽出し、
かつ、該断面プロファイルの露光部の強度信号から特徴量を抽出し、該特徴量に基づく潜像のレスポンス関数を光導電性試料の潜像解像力として算出することを特徴とする静電潜像評価方法。 - 請求項1記載の静電潜像評価方法において、
前記特徴量は、前記断面プロファイルの露光部の強度信号積分値から算出されるものであることを特徴とする静電潜像評価方法。 - 請求項1記載の静電潜像評価方法において、
前記特徴量は、前記静電潜像パターンの前記露光パターンとの一致度であることを特徴とする静電潜像評価方法。 - 請求項1記載の静電潜像評価方法において、
前記レスポンス関数を構成する前記特徴量の平均値を光導電性試料の潜像解像力として算出することを特徴とする静電潜像評価方法。 - 請求項1記載の静電潜像評価方法において、
前記空間周波数ごとの前記特徴量は、露光エネルギの異なる複数の静電潜像パターンを形成して、前記露光エネルギごとに抽出された前記特徴量のうち最高となる特徴量であることを特徴とする静電潜像評価方法。 - 所定の露光パターンから静電潜像パターンを形成する帯電手段及び光像露光手段と、
前記静電潜像パターンが形成された光導電性試料の、該静電潜像パターンが形成された面を荷電粒子ビームで2次元的に走査する荷電粒子ビーム走査手段と、
前記静電潜像パターンによる電気的影響を受けた荷電粒子を捕獲して、その強度信号を前記面上の位置に対応させて検出し、前記静電潜像パターンにおける電荷分布状態を観測する評価手段と、を備えた静電潜像評価装置であって、
空間周波数の異なる露光パターンで複数の静電潜像パターンを形成して、前記空間周波数ごとに検出した強度信号から静電潜像パターンを含む断面プロファイルを抽出し、該断面プロファイルの露光部の強度信号から特徴量を抽出し、該特徴量に基づく潜像のレスポンス関数を光導電性試料の潜像解像力として算出する前記評価手段を備えることを特徴とする静電潜像評価装置。 - 請求項6記載の静電潜像評価装置において、
前記特徴量は、前記断面プロファイルの露光部の強度信号積分値から算出されるものであることを特徴とする静電潜像評価装置。 - 請求項6記載の静電潜像評価装置において、
前記特徴量は、前記静電潜像パターンの前記露光パターンとの一致度であることを特徴とする静電潜像評価装置。 - 請求項6記載の静電潜像評価装置において、
前記レスポンス関数を構成する前記特徴量の平均値を光導電性試料の潜像解像力として算出する前記評価手段を備えることを特徴とする静電潜像評価装置。 - 請求項6記載の静電潜像評価装置において、
前記空間周波数ごとの前記特徴量は、露光エネルギの異なる複数の静電潜像パターンを形成して、前記露光エネルギごとに抽出された前記特徴量のうち最高となる特徴量であること特徴とする静電潜像評価装置。
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