JP5068466B2 - 基板ウエハの汚染を監視するための方法および装置 - Google Patents
基板ウエハの汚染を監視するための方法および装置 Download PDFInfo
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Description
搬送エンクロージャの壁を通る通路と、
アダプタとを含むことができ、アダプタは、搬送エンクロージャがアダプタに結合され得るように、ガス分析装置につながるパイプと通じるように選択的に配置された通路と合わせられる。
防塵空調室の汚染レベルに対応する背景雑音を定量化するために、オリフィス8、分岐接続7、および弁10を介して、アダプタ5と結合された搬送エンクロージャ1の付近の外部雰囲気を測定するため、
ガス分析装置2の測定セルをパージするために、中性ガス供給源11からの窒素などの中性ガスを供給するため、
ガス分析装置2の測定セルの較正を検証するために、基準ガスを測定するためである。
2 ガス分析装置
3 パイプ
4 扉
5 アダプタ
6、10、12、14 弁
7、13、21 分岐接続
8、20 オリフィス
9 コンピュータ
11 中性ガス供給源
16 プロセッサ
17 放出管
18、19 コレクタ
18a 底部オリフィス
19a 側面オリフィス
Claims (26)
- 基板ウエハまたは他の部品の搬送エンクロージャ内への搬送ステップおよび/または保管ステップを含む、半導体または電子機械マイクロシステム製造プロセス中の前記基板ウエハまたは他の部品の汚染を監視するための装置であって、ガス分析装置を含み、該ガス分析装置が、ガスをイオン化するためのガスイオン化手段と、イオンのパラメータを測定することによってイオン化されたガスを識別するための識別手段とを含み、ガスイオン化手段が、大気圧でガスをイオン化するように構成され、前記装置が、さらに、搬送エンクロージャの内部雰囲気中に含まれるガスの実時間分析を実施するために、前記ガス分析装置と前記搬送エンクロージャの内部雰囲気との間の直接連絡を確立するためのインターフェース手段を含み、
前記インターフェース手段が、
アダプタを含み、該アダプタは、前記搬送エンクロージャが前記アダプタと結合されることができるように、前記ガス分析装置につながるパイプと通じるように選択的に配置された前記搬送エンクロージャの壁を通る通路に合わせられる、装置。 - 基板ウエハまたは他の部品の搬送エンクロージャ内への搬送ステップおよび/または保管ステップを含む、半導体または電子機械マイクロシステム製造プロセス中の前記基板ウエハまたは他の部品の汚染を監視するための装置であって、ガス分析装置を含み、該ガス分析装置が、ガスをイオン化するためのガスイオン化手段と、イオンのパラメータを測定することによってイオン化されたガスを識別するための識別手段とを含み、ガスイオン化手段が、大気圧でガスをイオン化するように構成され、前記装置が、さらに、搬送エンクロージャの内部雰囲気中に含まれるガスの実時間分析を実施するために、前記ガス分析装置と前記搬送エンクロージャの内部雰囲気との間の直接連絡を確立するためのインターフェース手段を含み、
前記インターフェース手段が、針を含み、該針が、前記ガス分析装置に接続され、かつ前記搬送エンクロージャの壁を貫通するように構成される、装置。 - 基板ウエハまたは他の部品の搬送エンクロージャ内への搬送ステップおよび/または保管ステップを含む、半導体または電子機械マイクロシステム製造プロセス中の前記基板ウエハまたは他の部品の汚染を監視するための装置であって、ガス分析装置を含み、該ガス分析装置が、ガスをイオン化するためのガスイオン化手段と、イオンのパラメータを測定することによってイオン化されたガスを識別するための識別手段とを含み、ガスイオン化手段が、大気圧でガスをイオン化するように構成され、前記装置が、さらに、搬送エンクロージャの内部雰囲気中に含まれるガスの実時間分析を実施するために、前記ガス分析装置と前記搬送エンクロージャの内部雰囲気との間の直接連絡を確立するためのインターフェース手段を含み、
前記インターフェース手段が、前記ガス分析装置の入口と前記搬送エンクロージャの周囲雰囲気との間の直接連絡を選択的に設定するための手段を含む、装置。 - 前記インターフェース手段が、分析されるガスの流れを、前記搬送エンクロージャの前記内部雰囲気から前記ガス分析装置に、直接に大きい外部入力なしに伝えるように構成される、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記インターフェース手段が、パーフルオロアルコキシ(PFA)である材料からなる、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記インターフェース手段が、分離手段を含み、該分離手段は、前記ガス分析装置に到達する分析されるガスの流れが、大部分は前記搬送エンクロージャから来るものであり、また前記搬送エンクロージャの外部雰囲気からの漏れによって生じる流れが少しであることを保証する、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記搬送エンクロージャをさらに含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記ガス分析装置が、前記イオンの移動度を測定するように構成されたタイプのガス分析装置である、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記ガス分析装置が、前記イオンの飛行時間を測定するように構成されたタイプのガス分析装置である、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記ガス分析装置が、前記イオンの質量を測定するように構成されたタイプのガス分析装置である、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記ガスが、電子衝撃によってイオン化される、請求項8または請求項9に記載の装置。
- 前記ガスが、前記ガスの分子に付着するようになるアルカリイオンを用いた電子衝撃によってイオン化される、請求項8に記載の装置。
- 前記アダプタは、前記通路が前記ガス分析装置につながる前記パイプのオリフィスに面するように、前記搬送エンクロージャを配置するための位置決め手段を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記位置決め手段が、対応する穴に係合するように構成された突起を含む、請求項13に記載の装置。
- 前記搬送エンクロージャが扉を有し、前記装置が、アダプタを含み、該アダプタが、前記扉を選択的に開くための手段と、前記搬送エンクロージャからガスをサンプリングし、前記ガスを前記ガス分析装置に移動させ、周囲雰囲気から漏れ入るガスのサンプリングを制限するためのコレクタ手段とを含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記アダプタが、搬送ポッドロード手段に直接に組み込まれる、請求項1または請求項15に記載の装置。
- パージ中性ガスを前記ガス分析装置に選択的に注入するための手段を含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 中性ガスを選択的に注入するための前記手段が、窒素源を含む、請求項17に記載の装置。
- 前記アダプタ、前記ガス分析装置、および前記インターフェース手段の動作を制御するための電子制御手段を含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記ガス分析装置によって供給される測定結果を処理しかつ格納するための電子処理手段を含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記電子制御手段が、プロセッサと関連プログラムとを含み、前記関連プログラムが、前記プロセッサが前記搬送エンクロージャと前記ガス分析装置との間の連絡を命じる測定シーケンスと、前記プロセッサが前記ガス分析装置への中性ガス注入を命じるパージシーケンス、前記プロセッサが前記ガス分析装置への基準ガス注入を命じる較正シーケンス、および前記プロセッサが前記ガス分析装置と周囲雰囲気との間の連絡の設定を命じる外部監視シーケンスのうちの少なくとも1つのシーケンスとを含む、請求項19に記載の装置。
- 搬送エンクロージャへの搬送ステップおよび/または保管ステップを含む、半導体または電気機械マイクロシステム製造プロセス中のウエハ基板または他の部品の汚染を監視する方法であって、測定ステップを含み、該測定ステップにおいて、ガス分析装置と搬送エンクロージャの内部雰囲気との間の直接連絡を確立するためのインターフェース手段により、ガスが、搬送エンクロージャの内部雰囲気からサンプリングされかつ分離され、大気圧でガスをイオン化するように構成されガスイオン化手段によりサンプリングされたガスがイオン化され、前記搬送エンクロージャの内部雰囲気中に含まれるガスの実時間分析を実施するために、前記サンプリングされたガスが、イオン化によって得られたイオンのパラメータを測定することによって分析され、
外部分析ステップをさらに含み、該外部分析ステップの間に、ガスが、前記搬送エンクロージャの周囲雰囲気中でサンプリングされ、サンプリングされたガスがイオン化され、前記サンプリングされたガスが、イオン化によって得られたイオンのパラメータを測定することによって分析される、方法。 - パージステップをさらに含み、該パージステップの間に、窒素などの中性ガスが、前記ガス分析装置に注入される、請求項22に記載の方法。
- 較正ステップをさらに含み、該較正ステップの間に、基準ガスが、前記ガス分析装置に注入される、請求項22に記載の方法。
- 処理プロセスが前記搬送エンクロージャ内に含まれる基板ウエハに適用される前の前記搬送エンクロージャ内の汚染の測定と、前記処理プロセス後の前記搬送エンクロージャ内の汚染の測定とを含む差分測定シーケンス、および処理された基板ウエハを前記搬送エンクロージャ内に再挿入することをさらに含む、請求項22に記載の方法。
- 予備の監視ステップをさらに含み、該予備の監視ステップの間に、開いたまたは閉じた搬送エンクロージャ内の汚染が、基板ウエハまたは他の部品を搬送エンクロージャに挿入する前に測定される、請求項22に記載の方法。
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