JP5065665B2 - カチオン重合性の光像形成可能な厚膜組成物、電極およびその形成方法 - Google Patents
カチオン重合性の光像形成可能な厚膜組成物、電極およびその形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5065665B2 JP5065665B2 JP2006336880A JP2006336880A JP5065665B2 JP 5065665 B2 JP5065665 B2 JP 5065665B2 JP 2006336880 A JP2006336880 A JP 2006336880A JP 2006336880 A JP2006336880 A JP 2006336880A JP 5065665 B2 JP5065665 B2 JP 5065665B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composition
- particles
- electrode
- thick film
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0047—Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
- H01B1/22—Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/115—Cationic or anionic
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
Description
(I)(a)導電性粒子、電気抵抗性粒子および誘電性粒子から選択される機能相粒子と、
(b)325〜600℃の範囲内のガラス転移温度、10m2/g以下の表面積を有し、少なくとも85重量%の粒子が0.1〜10μmの寸法を有する無機バインダーと、を含む微細粒子を、
(II)(c)コポリマーまたはインターポリマーのそれぞれが(1)C1〜10アルキルアクリレート、C1〜10アルキルメタクリレート、スチレン、置換スチレンまたはこれらの組み合わせを含む非酸性コモノマーおよび(2)エチレン性不飽和カルボン酸を含む部分を含有する酸性のコモノマーを含むコポリマー、インターポリマーまたはこれらの混合物である水現像性ポリマーと、
(d)カチオン重合性モノマーと
(e)光開始系と、
(d)有機溶媒と、を含む有機媒体に、
分散された状態で含む光像形成可能な組成物を対象とするものである。
テープまたはシートは、有機溶媒を除去するために十分な時間および温度で組成物を乾燥することによって本発明の組成物から形成することができる。このような種類のテープは、限定されないが、積層することによって基板に被着させることができる。次いで、積層されたテープは、印刷されたペーストのようにさらに加工することができる。
A.機能相−電気的に機能性の粉末(粒子)
i.導電体用途
導電体用途においては、機能相は、電気的に機能性の導電体粉末を含む。与えられた厚膜組成物における電気的に機能性の粉末は、単独のタイプの粉末、粉末の混合物、数種の元素の合金または化合物を含むことができる。本発明において使用することができる電気的に機能性の導電性粉末は、次のものに限定されないが、金、銀、ニッケル、アルミニウム、パラジウム、モリブデン、タングステン、タンタル、スズ、インジウム、ランタン、ガドリニウム、ホウ素、ルテニウム、コバルト、タンタル、イットリウム、ユウロピウム、ガリウム、硫黄、亜鉛、珪素、マグネシウム、バリウム、セリウム、ストロンチウム、鉛、アンチモン、導電性炭素、白金、銅、またはこれらの混合物を含む。
電気抵抗体組成物においては、一般に、機能相は、導電性酸化物である。電気抵抗体組成物における機能相の例は、Pd/Ag、RuO2、パイロクロア酸化物および当該技術において知られている他のものを含む。
Mは、イットリウム、タリウム、インジウム、カドミウム、鉛、銅および希土類物質からなる群から選ばれ、
M’は、白金、チタニウム、クロム、ロジウムおよびアンチモンからなる群から選ばれ、
M”は、ルテニウム、イリジウムまたはそれらの混合物であり、
xは、0〜2であるが、1価の銅については、xは1以下であり、
yは、0〜0.5であるが、M’がロジウムであるか、または白金、チタニウム、クロム、ロジウムまたはアンチモンが1より多い場合、yは0〜1であり、
zは、0〜1であるが、Mが2価の鉛、またはカドミウムである場合、これは少なくとも約x/2に等しい。
誘電性組成物においては、機能相は、ガラスまたはセラミックとすることができる。誘電性厚膜組成物は、電荷を切り離し、電荷の蓄積をもたらすことができる非導電組成物または絶縁体組成物である。したがって、このような厚膜誘電体組成物は、セラミック粉末、酸化物および非酸化物のフリット、結晶化の開始剤、または抑制剤、界面活性剤、着色剤、有機媒体およびこのような厚膜誘電性組成物の技術における常用の他の成分を含むことができる。セラミック固体の例は、次のものに限定されないが、アルミナ、チタン酸塩、ジルコン酸塩、スズ酸塩、BaTiO3、CaTiO3、SrTiO3、PbTiO3、CaZrO3、BaZrO3、CaSnO3、BaSnO3およびAl2O3、ガラスおよびガラスセラミックを含む。また、それは、このような物質の前駆体、すなわち焼成時に誘電性固体に変換される固体物質、およびこれらの混合物にもあてはまる。
本発明において使用される無機バインダーおよび一般的に使用されるガラスフリットの機能は、焼成後に粒子をお互いに、および基板に結着させることである。無機バインダーの例は、ガラスバインダー(フリット)、金属酸化物およびセラミックスを含む。本組成物において使用されるガラスバインダーは、当該技術における従来のものである。いくつかの例は、ホウケイ酸塩ガラスおよびアルミノケイ酸ガラスを含む。さらに限定されない例は、ガラスバインダーを形成するために例えばB2O3、SiO2、A12O3、CdO、CaO、BaO、ZnO、SiO2、Na2O、Li2O、PbOおよびZrOなどの酸化物の組合せを含み、これらは単独でもまたは組合せても使用することができる。厚膜組成物に有用な金属酸化物は、当該技術における従来のものであり、例えばZnO、MgO、CoO、NiO、FeO、MnOおよびこれらの混合物である。
本明細書に記載された組成物におけるポリマーバインダーは、水性現像性を有し、高い解像力を与える。
本発明においては、例えばエポキシ化合物、エノール系エーテルおよびアレン系エーテルなどの従来のカチオン重合性モノマーおよびオリゴマーを使用することができる。モノマー成分は、乾燥した光重合性層の全重量に関して20重量%以下の量で存在することができる。さらなる実施形態において、モノマーの量は、全て乾燥した光重合性層の全重量に対して1〜20重量%、1〜5重量%、3〜5重量%の範囲内で存在する。1つの実施形態においては、カチオン重合性モノマーの量は、乾燥した光重合性層の全重量に対して3〜10重量%の範囲内である。
好適な光開始系は、周囲温度で化学光線へ露光したときに超強酸カチオンを発生させるものである。これらは、次のものに限定されないが、例えばヨードニウム塩およびスルホニウム塩などの置換または非置換のオニウム塩を含む。光開始剤または光開始剤システムは、乾燥した光重合性層の全重量に基づいて0.05〜10重量%で存在する。
有機媒体の有機溶媒成分は、1つの溶媒または溶媒の混合物であってもよく、ポリマーおよびその他の有機成分の本明細書中の溶液を得るように選択される。この溶媒は、非プロトン性であって、本組成物の他の成分に対して不活性(非反応性)であるべきである。特定の実施形態において、溶媒は、大気圧下で比較的低いレベルの熱の適用により分散体から溶媒を蒸発されるように十分に高い揮発性を有することができる。この実施形態の1つのさらなる態様においては、溶媒は、印刷プロセス中に通常の室温で、ペーストがスクリーン上で急速に乾燥するほど揮発性であることはよくないかもしれない。これらの溶媒は、例えばスクリーン印刷性および光像形成可能なペーストにとって有用であり得る。さらなる態様においては、ペースト組成物中に使用のための溶媒は、大気圧で300℃未満の沸点を有することができ;他の態様においては、溶媒は、大気圧で250℃未満の沸点を有する。このような溶媒は、次のものに限定されないが、キシレン、エチレングリコールモノブチルエーテルおよびブチルセロソルブアセテートならびにこれらの混合物を含む。
また、しばしば有機媒体は、早期に形成される超強酸を中和するための1つまたは複数の安定剤、および基板への良好な積層を確実にし、組成物の非露光領域の現像性を高めるための可塑剤を含む。安定剤の選択は、光開始剤および配合によって決定される。トリアルキルアミンが通常選択される。可塑剤の選択は、修飾されるポリマーによって主として決定される。様々なバインダーシステム中でこれまで使用されてきた可塑剤の中に、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ジベンジル、リン酸アルキルおよびポリエステルの可塑剤がある。当該技術で知られている追加成分が、本組成物中にも存在してもよく、この追加成分は、分散剤、離型剤、分散作用剤、剥離剤、消泡剤および湿潤剤を含む。好適な物質の一般的な開示は、参照によって本明細に組み込まれる特許文献3に提示されている。
本発明は、フラットパネルディスプレイの用途(黒色電極)の1つの実施形態において有用であるとして以下に記載されるが、それが多数の電子用途において有用であることが当業者によって理解される。例えば様々なフラットパネルディスプレイ用途に加えて、本発明はまた、自動車の用途において有用性を有している。
(i)基板の上に黒色電極組成物をのせるプロセス。この黒色電極組成物は、前記の本発明の黒色導電組成物である。
(ii)基板の上に感光性導電組成物をのせるプロセス。この感光性導電組成物は以下に記載される。
(iii)化学放射線による黒色組成物および導電組成物の像様の露光によって電極パターンを設定するプロセス。
(iv)化学放射線に露光されなかった領域の除去のために塩基性水溶液で露光された黒色組成物および導電組成物を現像するプロセス。
(v)現像された導電組成物を焼成するプロセス。
(有機媒体の調製)
有機媒体は、ガラスまたはその他の基板に容易に適用できるように組成物の微細に分割された固体の分散のための媒体として役目を果たすことができる。有機媒体は、第1に、固体が適度の安定性を持ちながら分散できるものであり得る。第2に、有機媒体のレオロジー特性は、これらが分散体に良好な用途特性を与えるようなものであり得る。
典型的には、厚膜組成物は、ペースト様の粘稠性を有するように配合され、「ペースト」と呼ばれる。一般に、ペーストは、黄色光の下で混合容器中において有機媒体、モノマーおよびその他の有機成分を混合することによって調製される。次いで、無機物質が有機成分の混合物に加えられる。次いで、無機粉末が有機物質で湿潤されるまで、全ての組成物を混合する。次に、3本ロールミルを使用してこの混合物をロールミルする。この時点でのペースト粘度を、適当な媒体または溶媒で調整して、加工するための最適な粘度にすることができる。
本発明の組成物は、例えばテープ、シート、ロールまたはその他の類似する形状などを形成するために使用することができる。我々は、例えばテープ形成の用語に限定されないで、一般的に形体について述べる。
ガラスフリットは、入手可能であるから使用され、または必要なら、0.5インチ(12.7ミリ)の直径で0.5インチ(12.7ミリ)の長さのアルミナシリンダーを使用してスウェコミル(Sweco Mill)中で水粉砕によって調製された。次に、ガラスフリット混合物は、凍結乾燥されたか、または熱気乾燥された。熱気乾燥は、150℃の温度で通常に行われた。ガラスフリット調製の他の方法も、等しく効果的であり得る。
実施例の黒色ペーストは、最初に、355メッシュのポリエステルスクリーンを使用するスクリーン印刷によってガラス基板上に被着された。次いで、大気雰囲気オーブン中で約20分間、この部分を50〜70℃で乾燥した。乾燥された被覆の厚さは、5〜8ミクロンと測定された。
フォトツールとサンプル表面の間の約100ミクロンの空隙をあけて照射方向に平行になるUV光源を使用してフォトツールを通してこの部分を露光した。使用したエネルギーレベルは200および1000mJ/平方センチメートルであった。いくつかの場合、現像される前に露光した部分を50℃で、10分間焼成した。現像液として水中に炭酸ナトリウム0.5重量%を含むコンベアー移動のスプレイ加工装置を使用して、この露光、焼成した部分を現像した。現像溶液温度を約30℃に維持し、10〜20 psiで現像液をスプレイした。現像後、強制空気流で余分の水を吹き飛ばすことによって、現像した部品を乾燥した。
本発明の組成物は、焼成プロファイル(焼成方法)を使用して処理することができる。焼成プロファイルは、厚膜技術分野の当業者には良く知られている。有機媒体の除去および無機物質の焼結は、焼成プロファイルに依存する。このプロファイルは、この媒体が最終製品から実質的に除去されるかどうか、および無機物質が最終製品中で実質的に焼結されるかどうかを決定する。本明細書に使用される「実質的に」という用語は、意図した使用または適用のために少なくとも適切な抵抗性または導電性を与えるように、ある程度、少なくとも95%の媒体を除去し、そして無機物質を焼結させることを意味する。
有機媒体:60%のアクリレートポリマーと、35%の溶媒と、4.5%の光開始剤と、0.5%の抑制剤とから調製された溶液。
アクリレートポリマー:ノベオン(Noveon)社から購入した重量平均分子量Mw=〜7,000、酸価=〜125である、80重量%のメチルメタクリレートと、20重量%のメタクリル酸とのコポリマー。
溶媒:アルドリッチ(Aldrich)社から購入したメチルエチルケトン。
光開始剤:UCBケミカル社から市販されているユバキュア(Uvacure、登録商標)1600、すなわち、フェニル−p−オクチルオキシフェニル−ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート。
抑制剤:アルドリッチ(Aldrich)社から購入したトリエチルアミン。
銀導電体粉末:デュポンによって製造された銀粉末。
黒色導電体粉末:デュポン社によって作られたBi2Sr2CaCu2O8の組成式を有するもの。
ガラスフリット:12.5%のB2O3と、9.1%のSiO2と、1.4%のAl2O3と、77.0%のPbOとの組成(重量%)を有するガラスフリット(ビオックス(Viox)で製造され、デュポン社によってY−ミル化されたガラス製品番号24109)。
UV硬化性エポキシモノマー:UCBケミカル社から市販されているUVアキュア(UVacure、登録商標)1500、脂環式ジエポキシドモノマー。
Claims (9)
- (I)(a)導電性粒子、電気抵抗性粒子および誘電性粒子から選択される機能相粒子と、
(b)325〜600℃の範囲内のガラス転移温度、10m2/g以下の表面積を有し、少なくとも85重量%の粒子が0.1〜10μmの寸法を有する無機バインダーと、を含む微細粒子を、
(II)(a)コポリマーまたはインターポリマーのそれぞれが(1)C1〜10アルキルアクリレート、C1〜10アルキルメタクリレート、スチレン、置換スチレンまたはこれらの組み合わせを含む非酸性コモノマーおよび(2)エチレン性不飽和カルボン酸を含む部分を含有する酸性のコモノマーを含むコポリマー、インターポリマーまたはこれらの混合物である水現像性ポリマーと、
(b)カチオン重合性モノマーと、
(c)光開始系と、
(d)有機溶媒と、を含む有機媒体に、
分散された状態で含むことを特徴とする光像形成可能な厚膜組成物。 - 光開始系が、スルホニウム塩、ヨードニウム塩およびこれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項1に記載の厚膜組成物。
- 前記機能相粒子が、Au、Ag、Pd、Pt、Cu、Ni、Alおよびこれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項1に記載の組成物。
- 前記機能相粒子が、RuO2、ルテニウムに基づく多元酸化物およびこれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項1に記載の組成物。
- 前記機能相粒子が、Ba、Ru、Ca、Cu、Sr、Bi、Pbおよび希土類金属から選択される2種以上の元素の酸化物から選択される金属導電性または半金属導電性を有する金属酸化物であり、前記金属酸化物が、2〜20m2/gの範囲内の表面対重量比を有することを特徴とする請求項1に記載の組成物。
- 組成物が乾燥され、有機溶媒を除去した請求項1に記載の組成物の層を含むことを特徴とするシート。
- 組成物を加熱することにより、実質的に有機媒体を除去し、実質的に無機物質を焼結した、請求項1に記載の組成物の層を含むことを特徴とする物品。
- 請求項1に記載の組成物から形成された電極を含むことを特徴とする装置。
- (I)(a)導電性粒子、電気抵抗性粒子および誘電性粒子から選択される機能相粒子と、
(b)325〜600℃の範囲内のガラス転移温度、10m2/g以下の表面積を有し、少なくとも85重量%の粒子が0.1〜10μmの寸法を有する無機バインダーと、を含む微細粒子を、
(II)(a)コポリマーまたはインターポリマーのそれぞれが(1)C1〜10アルキルアクリレート、C1〜10アルキルメタクリレート、スチレン、置換スチレンまたはこれらの組み合わせを含む非酸性コモノマーおよび(2)エチレン性不飽和カルボン酸を含む部分を含有する酸性のコモノマーを含むコポリマー、インターポリマーまたはこれらの混合物である水現像性ポリマーと、
(b)カチオン重合性モノマーと、
(c)光開始系と、
(d)有機溶媒と、を含む有機媒体に、
分散された状態で含むことを特徴とする光像形成可能な厚膜組成物を含有する組成物を使用して電極を形成する方法であって、
(a)ガラス基板上に前記組成物を印刷または被覆し、
(b)前記組成物を高い温度で乾燥させて溶媒を除去し、
(c)UVに露光し、
(d)現像し、そして
(e)焼成する
工程を含むことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/302,618 US7214466B1 (en) | 2005-12-14 | 2005-12-14 | Cationically polymerizable photoimageable thick film compositions, electrodes, and methods of forming thereof |
US11/302,618 | 2005-12-14 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007171953A JP2007171953A (ja) | 2007-07-05 |
JP2007171953A5 JP2007171953A5 (ja) | 2010-02-04 |
JP5065665B2 true JP5065665B2 (ja) | 2012-11-07 |
Family
ID=37606837
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006336880A Expired - Fee Related JP5065665B2 (ja) | 2005-12-14 | 2006-12-14 | カチオン重合性の光像形成可能な厚膜組成物、電極およびその形成方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7214466B1 (ja) |
EP (1) | EP1798597A2 (ja) |
JP (1) | JP5065665B2 (ja) |
KR (1) | KR100887013B1 (ja) |
CN (1) | CN1983030B (ja) |
TW (1) | TWI340293B (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4863599B2 (ja) * | 2001-05-16 | 2012-01-25 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 電気抵抗を低下させた誘電体組成物 |
CN100422274C (zh) * | 2001-11-08 | 2008-10-01 | 东丽株式会社 | 黑色浆料及等离子体显示板及其制造方法 |
KR20050116431A (ko) * | 2004-06-07 | 2005-12-12 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 페이스트 조성물, 이를 이용하여 제조된 pdp전극, 및 이를 포함하는 pdp |
US7381353B2 (en) * | 2005-03-09 | 2008-06-03 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US7384577B2 (en) * | 2005-03-09 | 2008-06-10 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US7326370B2 (en) * | 2005-03-09 | 2008-02-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US7678296B2 (en) * | 2006-05-04 | 2010-03-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US20100167032A1 (en) * | 2008-12-29 | 2010-07-01 | E.I.Du Pont De Nemours And Company | Front electrode for pdp |
TWI563042B (en) * | 2010-02-05 | 2016-12-21 | Cambrios Technologies Corp | Photosensitive ink compositions and transparent conductors and method of using the same |
US20120006395A1 (en) * | 2010-07-08 | 2012-01-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coated stainless steel substrate |
CN102768464B (zh) * | 2011-05-04 | 2013-11-13 | 上海鑫力新材料科技有限公司 | 感光导电银浆及制备方法 |
CN108517500A (zh) * | 2018-03-28 | 2018-09-11 | 天津大学 | 一种ST/Ag/ST结构多层透明导电薄膜的制备方法 |
CN112650024B (zh) * | 2020-12-17 | 2023-08-01 | 江苏艾森半导体材料股份有限公司 | 一种应用于芯片封装工艺的高膜厚负性光刻胶 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3583931A (en) | 1969-11-26 | 1971-06-08 | Du Pont | Oxides of cubic crystal structure containing bismuth and at least one of ruthenium and iridium |
US4912019A (en) | 1988-05-31 | 1990-03-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive aqueous developable ceramic coating composition |
US4925771A (en) | 1988-05-31 | 1990-05-15 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Process of making photosensitive aqueous developable ceramic coating composition including freeze drying the ceramic solid particles |
US5049480A (en) | 1990-02-20 | 1991-09-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive aqueous developable silver conductor composition |
US5486545A (en) | 1992-12-09 | 1996-01-23 | Rensselaer Polytechnic Institute | Process for making propenyl ethers and photopolymerizable compositions containing them |
JPH07268065A (ja) * | 1993-11-17 | 1995-10-17 | Sophia Syst:Kk | 紫外線硬化型の無溶媒導電性ポリマー材料 |
EP0747911A1 (en) * | 1995-06-06 | 1996-12-11 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method of manufacturing thick-film resistor |
US5886115A (en) | 1997-02-18 | 1999-03-23 | Rensselaer Polytechnic Institute | Process for the direct polymerization of allyl ethers, crotyl ethers and allyl alcohols |
US5851732A (en) * | 1997-03-06 | 1998-12-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Plasma display panel device fabrication utilizing black electrode between substrate and conductor electrode |
TW484033B (en) * | 1998-02-10 | 2002-04-21 | Hitachi Chemical Co Ltd | Production of back plate for plasma display panel |
WO1999041296A1 (en) | 1998-02-11 | 1999-08-19 | Rensselaer Polytechnic Institute | Photopolymerizable compositions containing cycloaliphatic epoxyalcohol monomers |
JP3920449B2 (ja) * | 1998-03-13 | 2007-05-30 | 太陽インキ製造株式会社 | アルカリ現像型光硬化性組成物及びそれを用いて得られる焼成物パターン |
US6075155A (en) | 1998-06-22 | 2000-06-13 | Rensselaer Polytechnic Institute | Radiation-curable cycloaliphatic epoxy compounds, uses thereof, and compositions containing them |
US20030124461A1 (en) * | 2001-10-12 | 2003-07-03 | Suess Terry R. | Aqueous developable photoimageable thick film compositions for making photoimageable black electrodes |
CA2485516A1 (en) | 2002-05-16 | 2003-11-27 | Rensselaer Polytechnic Institute | Photopolymerizable compositions comprising thianthrenium salt cationic photoinitiators |
KR100472375B1 (ko) * | 2002-05-20 | 2005-02-21 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널의 광중합형 감광성 전극페이스트 조성물 및 이를 이용한 전극 제조방법 |
JP3804016B2 (ja) * | 2003-05-23 | 2006-08-02 | 富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社 | 無機材料膜、無機材料膜構造物、およびその製造方法並びに転写フィルム |
JP2005113002A (ja) * | 2003-10-08 | 2005-04-28 | Kikusui Chemical Industries Co Ltd | 水系型発泡耐火塗料 |
US7135267B2 (en) * | 2004-08-06 | 2006-11-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous developable photoimageable compositions for use in photo-patterning methods |
-
2005
- 2005-12-14 US US11/302,618 patent/US7214466B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-11-10 EP EP06023407A patent/EP1798597A2/en not_active Withdrawn
- 2006-12-05 TW TW095145078A patent/TWI340293B/zh not_active IP Right Cessation
- 2006-12-13 CN CN2006101685162A patent/CN1983030B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-12-14 KR KR1020060127859A patent/KR100887013B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2006-12-14 JP JP2006336880A patent/JP5065665B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI340293B (en) | 2011-04-11 |
CN1983030B (zh) | 2012-06-20 |
KR20070063457A (ko) | 2007-06-19 |
KR100887013B1 (ko) | 2009-03-04 |
JP2007171953A (ja) | 2007-07-05 |
EP1798597A2 (en) | 2007-06-20 |
TW200739262A (en) | 2007-10-16 |
CN1983030A (zh) | 2007-06-20 |
US7214466B1 (en) | 2007-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5065665B2 (ja) | カチオン重合性の光像形成可能な厚膜組成物、電極およびその形成方法 | |
JP4769803B2 (ja) | 光パターン化方法において使用するための水性の現像可能な光画像形成性前駆組成物 | |
JP5108239B2 (ja) | 黒色導電性組成物、黒色電極、およびその形成方法 | |
JP3779297B2 (ja) | 光形成性黒色電極および黒色電極組成物 | |
JP5080743B2 (ja) | 黒色導電性厚膜組成物、黒色電極、およびこれらの形成方法 | |
KR100803498B1 (ko) | 흑색 전도성 조성물, 흑색 전극 및 그의 형성 방법 | |
KR101100490B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널용 전극 페이스트 및 플라즈마 디스플레이 패널용 블랙 버스 전극 | |
JP2011503240A (ja) | オフセット印刷用電極組成物及びそれによる電極製造方法、並びにそれらを用いたプラズマディスプレイパネル | |
JP4240577B2 (ja) | 誘電体ペーストおよびそれを用いたディスプレイ基板の製造方法 | |
KR20040073991A (ko) | 전계방출형 표시장치용 전극 형성 조성물 및 이러한조성물의 사용 방법 | |
EP0008782B1 (en) | Process for providing overglaze for fired metallizations and ac plasma display panel comprising two overglazed substrates | |
JP3674116B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル用電極およびプラズマディスプレイパネル | |
JP3674261B2 (ja) | プラズマディスプレイ | |
JP5421391B2 (ja) | Pdpの前部電極 | |
US8591278B1 (en) | Method of manufacturing PDP bus electrode | |
JP2000133121A (ja) | 電極の形成方法 | |
JPH11149872A (ja) | プラズマディスプレイ | |
JP2000067744A (ja) | プラズマディスプレイの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091211 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091211 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111004 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20111221 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20111227 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120305 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120308 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120404 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120713 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120810 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150817 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |