JP5063124B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
図1は、この発明に従う半導体装置の原理的構成を概略的に示す図である。図1において、半導体装置は、インテリジェント・パワー・モジュール1である。インテリジェント・パワー・モジュール1は、負荷を駆動するパワーデバイスブロック2と、このパワーデバイスブロック2のオン/オフを制御する制御ブロック4と、パワーデバイスブロック2に含まれるパワーデバイス(パワートランジスタ;スイッチング素子)を破壊から保護する検出/保護ブロック6を含む。
図3は、この発明の実施の形態1に従う半導体装置の構成を概略的に示す図である。図3においては、1つのパワーデバイス10と、このパワーデバイス10のオン/オフを制御する制御回路12を代表的に示す。インテリジェント・パワー・モジュールにおいては、パワーデバイス10が、図1に示すパワーデバイスブロック2において複数個設けられる。図1に示す制御ブロック4において、各パワーデバイス10に対応して制御回路12が設けられる。ここでは、パワーデバイス10として、IGBTを代表的に示す。以下、パワーデバイス10を単にIGBTと称す。
図4は、図3に示す温度モニタ16およびセンス可変抵抗14により構成されるセンス電流検出信号ICSを生成する部分の構成をより具体的に示す図である。
図5は、この発明の実施の形態2に従う半導体装置の要部の構成を概略的に示す図である。図5において、1つのパワーデバイス(IGBT)10が、パワーチップ30に形成される。このパワーチップ30と別に、制御IC(チップ)32が設けられる。この制御IC32に、図3に示す制御回路12が形成される。すなわち、図3に示す制御回路12およびパワーデバイス10が、それぞれ別々の半導体チップの形成される。図1との対応において、パワーデバイスブロック2において、各パワーデバイスが別々の半導体チップ(パワーチップ)に設けられる。制御ブロック4において、各パワーチップ30に対応して制御IC32が別々に設けられる。
図7は、この発明の実施の形態3に従う温度モニタの構成を概略的に示す図である。図7において、温度モニタ16は、定電流源37と、定電流源37からの電流により、コレクタ端子にオン電圧Vonを生成するnpnバイポーラトランジスタ36と、このnpnバイポーラトランジスタ36のベースバイアスを発生するバイアス回路38を含む。バイアス回路38は、電源ノードと接地ノードの間に結合され直列される抵抗素子R7およびR8を含む。
図9は、この発明の実施の形態4に従う温度モニタの構成を示す図である。図9において、温度モニタ16は、サーミスタ40を含む。このサーミスタ40の両端の電圧を、温度検出信号として利用する。サーミスタ40に対しては、電流供給回路17に含まれる定電流源42から温度に依存しない一定の電流が供給される。
図10は、この発明の実施の形態5に従う制御IC(チップ)の構成を概略的に示す図である。図10において、制御IC(チップ)60は、対応のパワーデバイスを駆動する制御回路64と、温度検出回路62とを含む。この温度検出回路62は、温度モニタ64と、周辺回路65とを含む。温度モニタ64は、先の実施の形態2から4において説明した温度モニタのいずれかの構成を有する。周辺回路65は、この温度モニタ64に対する電流の供給、センス可変抵抗素子、および温度モニタの検出信号に従ってセンス可変抵抗の抵抗値を調整する回路、および温度モニタ64とセンス電流iseに従ってセンス電流検出信号(ICS)を生成する回路を含む(図4参照)。
Claims (8)
- スイッチング素子、
前記スイッチング素子の動作環境温度を検出する温度モニタ、および
前記温度モニタの検出出力に従って、前記スイッチング素子のスイッチング速度を前記スイッチング素子を流れる電流量増加に応じて遅い速度から速い速度へ切換える切換点を示すしきい値を変更するとともに、駆動信号に従って前記スイッチング素子のオン/オフを制御するゲート制御回路を備え、前記しきい値は、前記温度モニタの検出出力が温度上昇を示すとき低下される、半導体装置。 - 前記ゲート制御回路は、
前記温度モニタの検出出力に従って抵抗値が設定され、該抵抗値に従って前記スイッチング素子を流れる電流を電圧に変換する可変抵抗素子と、
前記可変抵抗素子の生成する電圧に従って前記スイッチング素子のスイッチング速度を設定する速度設定回路を備え、
前記可変抵抗素子の抵抗値は、前記検出出力が高温状態を示すとき、高くされ、
前記速度設定回路は、前記可変抵抗素子の生成する電圧が所定値以上となるとスイッチング速度を早くする、請求項1記載の半導体装置。 - 前記ゲート制御回路は、
前記温度モニタの検出出力と第1の基準値とを比較する第1の比較回路と、
前記第1の比較回路の出力信号に従って出力電圧のレベルが変更可能であり、前記第1の比較回路の出力信号に従って設定された第2の基準値を前記しきい値として生成する基準値生成回路と、
前記スイッチング素子を流れる電流と前記第2の基準値とを比較し、該比較結果を示す信号を生成する第2の比較回路と、
前記第2の比較回路の出力信号に従って、前記スイッチング素子のスイッチング速度を設定する速度設定回路とを備える、請求項1記載の半導体装置。 - 前記温度モニタは、前記スイッチング素子と同一半導体チップ上に形成され、一方方向に電流を流す整流機能を有する整流素子であり、前記整流素子のオン電圧が前記検出出力として用いられる、請求項1記載の半導体装置。
- 前記温度モニタは、前記スイッチング素子が形成される半導体チップと異なる半導体チップに形成されるトランジスタ素子であり、前記トランジスタ素子のオン電圧が前記検出出力として用いられる、請求項1記載の半導体装置。
- 前記半導体装置は、前記スイッチング素子として、それぞれが異なる半導体チップに形成される複数のパワーデバイスを備え、
前記トランジスタ素子は、前記複数のパワーデバイスの複数個のパワーデバイスのグループに対して共通に設けられる、請求項5記載の半導体装置。 - 前記温度モニタは、抵抗値が温度依存性を有するサーミスタであり、前記サーミスタの生成する電圧が前記検出出力として用いられる、請求項1記載の半導体装置。
- 前記温度モニタおよび前記ゲート制御回路は、同一半導体チップに形成され、前記スイッチング素子は、前記温度モニタおよびゲート制御回路とは別の半導体チップに形成される、請求項1記載の半導体装置。
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