JP5062391B2 - 不均一型触媒および該触媒を用いたオキシラン化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
しかし、上記の方法では、反応溶媒としてクロロホルム、ジクロロメタン、ベンゼン等の通常の工業的な製造方法では使用しない溶媒を用いる等、工業的製造方法としては必ずしも満足のいくものではなかった。また、上記文献では、塩化メチルトリオクチルアンモニウム塩等のアルキル系アンモニウム塩を使用して酸化触媒を調製しているが、該酸化触媒は有機溶媒への分配率が高く、有機相に溶解している生成物との分離が難しい。そのため、酸化触媒の分離、再利用の点で問題がある。
一方、シリカゲル等の無機化合物を担体として酸化触媒を不均一化させる方法等も報告されている(例えば、特開2001−17863号公報および特開2001−17864号公報参照。)。この方法は不均一化のための補助剤として高価なシランカップリング剤等を必要とし、必ずしも満足いくものではなく、工業的にはさらに好ましい酸化触媒が望まれている。
従って、本発明はクリーンで工業的に有利なオキシラン化合物の製造方法、および該製造方法に用いることが可能であって、反応液からの分離、再利用の点で優れたオレフィンの酸化触媒を提供することにある。
即ち、本発明は:
第1観点として、次式(1)
[式中、
R11、R12およびR13はそれぞれ独立して、水素原子、C1−10アルキル基(該C1−10アルキル基は、C6−10アリール基で置換されてもよい。)、C3−10シクロアルキル基、C6−10アリール基、C1−6アルキルカルボニル基(該C1−6アルキルカルボニル基は、C6−10アリール基で置換されてもよい。)またはC6−10アリールカルボニル基を表す。]で表される有機化合物または高分子化合物と、
タングステン酸類と、
リン酸と、
過酸化水素と、
次式(2)または(3)
[式中、
R5、R6、R7、R8およびR9はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、C1−10アルキル基(該C1−10アルキル基は、C6−10アリール基、C1−10アルコキシ基またはベンジルオキシ基で置換されてもよい。)、C1−10アルコキシ基、ベンジルオキシ基またはフェニル基を表すか、または
R5、R6、R7、R8およびR9の何れか二つが一緒になって、1または2の縮合ベンゼン環を形成してもよく、
R10、R14、R15、R16、R17はそれぞれ独立して、C1−20アルキル基を表し、そして
Xはハロゲン原子を表す。]で表される4級アンモニウム塩
とから調製されるオレフィンの酸化触媒;
第2観点として、次式(1)
[式中、
R11、R12およびR13はそれぞれ独立して、水素原子、C1−10アルキル基(該C1−10アルキル基は、C6−10アリール基で置換されてもよい。)、C3−10シクロアルキル基、C6−10アリール基、C1−6アルキルカルボニル基(該C1−6アルキルカルボニル基は、C6−10アリール基で置換されてもよい。)またはC6−10アリールカルボニル基を表す。]で表される有機化合物または高分子化合物と、
タングステン化合物と、
次式(2)または(3)
[式中、
R5、R6、R7、R8およびR9はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、C1−10アルキル基(該C1−10アルキル基は、C6−10アリール基、C1−10アルコキシ基またはベンジルオキシ基で任意に置換されてもよい。)、C1−1 0アルコキシ基、ベンジルオキシ基またはフェニル基を表すか、または
R5、R6、R7、R8およびR9の何れか二つが一緒になって、1または2の縮合ベンゼン環を形成してもよく、
R10、R14、R15、R16、R17はそれぞれ独立して、C1−20アルキル基を表し、そして
Xはハロゲン原子を表す。]で表される4級アンモニウム塩
とから調製されるオレフィンの酸化触媒;
第3観点として、前記高分子化合物は、次式(8)
[式中、
R18はテトラカルボン酸から誘導される4価の有機基を表し、そして
R19はジアミンから誘導される2価の有機基を表す。]で表される繰り返し単位からなり、数平均分子量が5×103以上のポリイミド類である、第一または第二観点に記載のオレフィンの酸化触媒;
第4観点として、前記4級アンモニウム塩は次式(2)
[式中、
R5、R6、R7、R8およびR9はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、C1−10アルキル基(該C1−10アルキル基は、C6−10アリール基、C1−10アルコキシ基またはベンジルオキシ基で置換されてもよい。)、C1−10アルコキシ基、ベンジルオキシ基またはフェニル基を表すか、または
R5、R6、R7、R8およびR9の何れか二つが一緒になって、1または2の縮合ベンゼン環を形成してもよく、
R10はC1−20アルキル基を表し、そして
Xはハロゲン原子を表す。]である第1、第2または第3観点に記載のオレフィンの酸化触媒;
第5観点として、式中、R5、R6、R7、R8およびR9は水素原子を表す式(2)で表される4級アンモニウム塩を用いる、第4観点に記載のオレフィンの酸化触媒;および
第6観点として、次式(4)
[式中、
R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、C1−1 0アルキル基、C3−10シクロアルキル基(該C1−10アルキル基およびC3−10シクロアルキル基は何れも、ハロゲン原子、フェニル基、水酸基またはC1−6アルコキシ基で置換されてもよい。)、カルボキシル基、C1−6アルキルカルボニル基、C1−6アルコキシカルボニル基(該C1−6アルキルカルボニル基およびC1−6アルコキシカルボニル基は何れも、ハロゲン原子、フェニル基、水酸基またはC1−6アルコキシ基で置換されてもよい。)またはフェノキシカルボニル基(該フェノキシカルボニル基は、ハロゲン原子、フェニル基、C1−6アルキル基またはC1−6アルコキシ基で置換されてもよい。)を表すか、または
R1、R2、R3およびR4の何れか二つが一緒になって、−(CH2)m−(式中、mは、3、4または5を表す。)、−CO2(CH2)n−(式中、nは、1、2または3を表す。)、−CO(CH2)o−(式中、oは、2、3または4を表す。)、−(CH2)p−O−(CH2)q−(式中、pおよびqはそれぞれ独立して、0、1、2、3または4を表すが、pとqの総和は、2、3または4を表す。)、
(式中、R20およびR21はそれぞれ独立して、水素原子またはC1−6アルコキシ基{該C1−6アルコキシ基は、C2−4アルケニル基またはフェニル基〔該フェニル基は、ハロゲン原子、C1−6アルキル基またはC1−6アルコキシ基で置換されてもよい。〕で置換されてもよい。}を表す。)を表す。]で表されるオレフィン類を、第1、第2、第3、第4または第5観点に記載のオレフィンの酸化触媒の存在下、過酸化水素で処理することを特徴とする、次式(5)
[式中、R1、R2、R3およびR4は上記と同じ意味を表す。]で表されるオキシラン化合物の製造方法;
に関する。
尚、本願明細書中で、「n」はノルマルを、「i」はイソを、「s」はセカンダリーを、「t」はターシャリーを、そして「c」はシクロを表す。
先ず、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21およびXの各置換基の定義について説明する。
C1−6アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチル−n−ブチル基、2−メチル−n−ブチル基、3−メチル−n−ブチル基、1,1−ジメチル−n−プロピル基、1,2−ジメチル−n−プロピル基、2,2−ジメチル−n−プロピル基、1−エチル−n−プロピル基、n−ヘキシル基、1−メチル−n−ペンチル基、2−メチル−n−ペンチル基、3−メチル−n−ペンチル基、4−メチル−n−ペンチル基、1,1−ジメチル−n−ブチル基、1,2−ジメチル−n−ブチル基、1,3−ジメチル−n−ブチル基、2,2−ジメチル−n−ブチル基、2,3−ジメチル−n−ブチル基、3,3−ジメチル−n−ブチル基、1−エチル−n−ブチル基、2−エチル−n−ブチル基、1,1,2−トリメチル−n−プロピル基、1,2,2−トリメチル−n−プロピル基、1−エチル−1−メチル−n−プロピル基、1−エチル−2−メチル−n−プロピル基等が挙げられる。
C1−10アルキル基としては、上記に加え、1−メチル−1−エチル−n−ペンチル基、1−ヘプチル基、2−ヘプチル基、1−エチル−1,2−ジメチル−n−プロピル基、1−エチル−2,2−ジメチル−n−プロピル基、1−オクチル基、3−オクチル基、4−メチル−3−n−ヘプチル基、6−メチル−2−n−ヘプチル基、2−プロピル−1−n−ヘプチル基、2,4,4−トリメチル−1−n−ペンチル基、1−ノニル基、2−ノニル基、2,6−ジメチル−4−n−ヘプチル基、3−エチル−2,2−ジメチル−3−n−ペンチル基、3,5,5−トリメチル−1−n−ヘキシル基、1−デシル基、2−デシル基、4−デシル基、3,7−ジメチル−1−n−オクチル基、3,7−ジメチル−3−n−オクチル基等が挙げられる。
C1−20アルキル基としては、上記に加え、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイコシル基等が挙げられる。
C3−10シクロアルキル基としては、c−プロピル基、c−ブチル基、1−メチル−c−プロピル基、2−メチル−c−プロピル基、c−ペンチル基、1−メチル−c−ブチル基、2−メチル−c−ブチル基、3−メチル−c−ブチル基、1,2−ジメチル−c−プロピル基、2,3−ジメチル−c−プロピル基、1−エチル−c−プロピル基、2−エチル−c−プロピル基、c−ヘキシル基、1−メチル−c−ペンチル基、2−メチル−c−ペンチル基、3−メチル−c−ペンチル基、1−エチル−c−ブチル基、2−エチル−c−ブチル基、3−エチル−c−ブチル基、1,2−ジメチル−c−ブチル基、1,3−ジメチル−c−ブチル基、2,2−ジメチル−c−ブチル基、2,3−ジメチル−c−ブチル基、2,4−ジメチル−c−ブチル基、3,3−ジメチル−c−ブチル基、1−n−プロピル−c−プロピル基、2−n−プロピル−c−プロピル基、1−i−プロピル−c−プロピル基、2−i−プロピル−c−プロピル基、1,2,2−トリメチル−c−プロピル基、1,2,3−トリメチル−c−プロピル基、2,2,3−トリメチル−c−プロピル基、1−エチル−2−メチル−c−プロピル基、2−エチル−1−メチル−c−プロピル基、2−エチル−2−メチル−c−プロピル基、2−エチル−3−メチル−c−プロピル基、c−ヘプチル基、c−オクチル基、c−ノニル基、c−デシル基等が挙げられる。
C6−10アリールカルボニル基としては、ベンゾイル基、1−インデニルカルボニル基、2−インデニルカルボニル基、3−インデニルカルボニル基、4−インデニルカルボニル基、5−インデニルカルボニル基、6−インデニルカルボニル基、7−インデニルカルボニル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基、1−テトラヒドロナフトイル基、2−テトラヒドロナフトイル基、5−テトラヒドロナフトイル基、6−テトラヒドロナフトイル基等が挙げられる。
C1−6アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、i−ブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、1−メチル−n−ブトキシ基、2−メチル−n−ブトキシ基、3−メチル−n−ブトキシ基、1,1−ジメチル−n−プロポキシ基、1,2−ジメチル−n−プロポキシ基、2,2−ジメチル−n−プロポキシ基、1−エチル−n−プロポキシ基、n−ヘキシルオキシ基、1−メチル−n−ペンチルオキシ基、2−メチル−n−ペンチルオキシ基、3−メチル−n−ペンチルオキシ基、4−メチル−n−ペンチルオキシ基、1,1−ジメチル−n−ブトキシ基、1,2−ジメチル−n−ブトキシ基、1,3−ジメチル−n−ブトキシ基、2,2−ジメチル−n−ブトキシ基、2,3−ジメチル−n−ブトキシ基、3,3−ジメチル−n−ブトキシ基、1−エチル−n−ブトキシ基、2−エチル−n−ブトキシ基、1,1,2−トリメチル−n−プロポキシ基、1,2,2−トリメチル−n−プロポキシ基、1−エチル−1−メチル−n−プロポキシ基、1−エチル−2−メチル−n−プロポキシ基等が挙げられる。
C1−10アルコキシ基としては、上記に加え、1−メチル−1−エチル−n−ペンチルオキシ基、1−ヘプチルオキシ基、2−ヘプチルオキシ基、1−エチル−1,2−ジメチル−n−プロポキシ基、1−エチル−2,2−ジメチル−n−プロポキシ基、1−オクチルオキシ基、3−オクチルオキシ基、4−メチル−3−n−ヘプチルオキシ基、6−メチル−2−n−ヘプチルオキシ基、2−プロピル−1−n−ヘプチルオキシ基、2,4,4−トリメチル−1−n−ペンチルオキシ基、1−ノニルオキシ基、2−ノニルオキシ基、2,6−ジメチル−4−n−ヘプチルオキシ基、3−エチル−2,2−ジメチル−3−n−ペンチルオキシ基、3,5,5−トリメチル−1−n−ヘキシルオキシ基、1−デシルオキシ基、2−デシルオキシ基、4−デシルオキシ基、3,7−ジメチル−1−n−オクチルオキシ基、3,7−ジメチル−3−n−オクチルオキシ基等が挙げられる。
C1−6アルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、i−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、i−ブチルカルボニル基、s−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、1−メチル−n−ブチルカルボニル基、2−メチル−n−ブチルカルボニル基、3−メチル−n−ブチルカルボニル基、1,1−ジメチル−n−プロピルカルボニル基、1,2−ジメチル−n−プロピルカルボニル基、2,2−ジメチル−n−プロピルカルボニル基、1−エチル−n−プロピルカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、1−メチル−n−ペンチルカルボニル基、2−メチル−n−ペンチルカルボニル基、3−メチル−n−ペンチルカルボニル基、4−メチル−n−ペンチルカルボニル基、1,1−ジメチル−n−ブチルカルボニル基、1,2−ジメチル−n−ブチルカルボニル基、1,3−ジメチル−n−ブチルカルボニル基、2,2−ジメチル−n−ブチルカルボニル基、2,3−ジメチル−n−ブチルカルボニル基、3,3−ジメチル−n−ブチルカルボニル基、1−エチル−n−ブチルカルボニル基、2−エチル−n−ブチルカルボニル基、1,1,2−トリメチル−n−プロピルカルボニル基、1,2,2−トリメチル−n−プロピルカルボニル基、1−エチル−1−メチル−n−プロピルカルボニル基、1−エチル−2−メチル−n−プロピルカルボニル基等が挙げられる。
C1−6アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、i−プロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、i−ブトキシカルボニル基、s−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、1−メチル−n−ブトキシカルボニル基、2−メチル−n−ブトキシカルボニル基、3−メチル−n−ブトキシカルボニル基、1,1−ジメチル−n−プロポキシカルボニル基、1,2−ジメチル−n−プロポキシカルボニル基、2,2−ジメチル−n−プロポキシカルボニル基、1−エチル−n−プロポキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、1−メチル−n−ペンチルオキシカルボニル基、2−メチル−n−ペンチルオキシカルボニル基、3−メチル−n−ペンチルオキシカルボニル基、4−メチル−n−ペンチルオキシカルボニル基、1,1−ジメチル−n−ブトキシカルボニル基、1,2−ジメチル−n−ブトキシカルボニル基、1,3−ジメチル−n−ブトキシカルボニル基、2,2−ジメチル−n−ブトキシカルボニル基、2,3−ジメチル−n−ブトキシカルボニル基、3,3−ジメチル−n−ブトキシカルボニル基、1−エチル−n−ブトキシカルボニル基、2−エチル−n−ブトキシカルボニル基、1,1,2−トリメチル−n−プロポキシカルボニル基、1,2,2−トリメチル−n−プロポキシカルボニル基、1−エチル−1−メチル−n−プロポキシカルボニル基、1−エチル−2−メチル−n−プロポキシカルボニル基等が挙げられる。
C6−10アリール基としては、フェニル基、1−インデニル基、2−インデニル基、3−インデニル基、4−インデニル基、5−インデニル基、6−インデニル基、7−インデニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−テトラヒドロナフチル基、2−テトラヒドロナフチル基、5−テトラヒドロナフチル基、6−テトラヒドロナフチル基等が挙げられる。
C2−4アルケニル基としては、エテニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−メチル−1−プロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基、1−エチル−1−エテニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。
次に、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19およびXの具体例について説明する。
R1、R2、R3およびR4の具体例としては、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、c−ヘキシル基、フェニル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヒドロキシメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、フェノキシメチル基、カルボキシル基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等が挙げられる。
R1、R2、R3およびR4の何れか二つが一緒になって形成する基の具体例としては、次式
で表されるもの等が挙げられる。
R5、R6、R7、R8およびR9の具体例としては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、、ヨウ素原子、シアノ基、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブトキシ基、i−ブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、ベンジルオキシ基、ベンジル基、3−フェニルプロピル基等が挙げられ、水素原子が好ましい。
R5、R6、R7、R8およびR9の何れか二つが一緒になって、1または2の縮合ベンゼン環を形成する具体例としては、R5とR6が一緒になって−CH=CH−CH=CH−を形成する場合、R6とR7が一緒になって−CH=CH−CH=CH−を形成する場合並びにR5とR6およびR8とR9の双方がそれぞれ一緒になってそれぞれ−CH=CH−CH=CH−および−CH=CH−CH=CH−を形成する場合が挙げられる。
R10の具体例としては、CH3−、H(CH2)2−、H(CH2)3−、H(CH2)4−、H(CH2)5−、H(CH2)6−、H(CH2)7−、H(CH2)8−、H(CH2)9−、H(CH2)10−、H(CH2)11−、H(CH2)12−、H(CH2)13−、H(CH2)14−、H(CH2)15−、H(CH2)16−、H(CH2)17−、H(CH2)18−、H(CH2)19−、H(CH2)20−等が挙げられ、H(CH2)14−、H(CH2)16−、H(CH2)18−およびH(CH2)20−が好ましい。
R11、R12およびR13の具体例としては、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチル−n−ブチル基、2−メチル−n−ブチル基、3−メチル−n−ブチル基、1,1−ジメチル−n−プロピル基、1,2−ジメチル−n−プロピル基、2,2−ジメチル−n−プロピル基、1−エチル−n−プロピル基、n−ヘキシル基、1−メチル−n−ペンチル基、2−メチル−n−ペンチル基、3−メチル−n−ペンチル基、4−メチル−n−ペンチル基、1,1−ジメチル−n−ブチル基、1,2−ジメチル−n−ブチル基、1,3−ジメチル−n−ブチル基、2,2−ジメチル−n−ブチル基、2,3−ジメチル−n−ブチル基、3,3−ジメチル−n−ブチル基、1−エチル−n−ブチル基、2−エチル−n−ブチル基、1,1,2−トリメチル−n−プロピル基、1,2,2−トリメチル−n−プロピル基、1−エチル−1−メチル−n−プロピル基、1−エチル−2−メチル−n−プロピル基、1−メチル−1−エチル−n−ペンチル基、1−ヘプチル基、2−ヘプチル基、1−エチル−1,2−ジメチル−n−プロピル基、1−エチル−2,2−ジメチル−n−プロピル基、1−オクチル基、3−オクチル基、4−メチル−3−n−ヘプチル基、6−メチル−2−n−ヘプチル基、2−プロピル−1−n−ヘプチル基、2,4,4−トリメチル−1−n−ペンチル基、1−ノニル基、2−ノニル基、2,6−ジメチル−4−n−ヘプチル基、3−エチル−2,2−ジメチル−3−n−ペンチル基、3,5,5−トリメチル−1−n−ヘキシル基、1−デシル基、2−デシル基、4−デシル基、3,7−ジメチル−1−n−オクチル基、3,7−ジメチル−3−n−オクチル基、c−プロピル基、c−ブチル基、1−メチル−c−プロピル基、2−メチル−c−プロピル基、c−ペンチル基、1−メチル−c−ブチル基、2−メチル−c−ブチル基、3−メチル−c−ブチル基、1,2−ジメチル−c−プロピル基、2,3−ジメチル−c−プロピル基、1−エチル−c−プロピル基、2−エチル−c−プロピル基、c−ヘキシル基、1−メチル−c−ペンチル基、2−メチル−c−ペンチル基、3−メチル−c−ペンチル基、1−エチル−c−ブチル基、2−エチル−c−ブチル基、3−エチル−c−ブチル基、1,2−ジメチル−c−ブチル基、1,3−ジメチル−c−ブチル基、2,2−ジメチル−c−ブチル基、2,3−ジメチル−c−ブチル基、2,4−ジメチル−c−ブチル基、3,3−ジメチル−c−ブチル基、1−n−プロピル−c−プロピル基、2−n−プロピル−c−プロピル基、1−i−プロピル−c−プロピル基、2−i−プロピル−c−プロピル基、1,2,2−トリメチル−c−プロピル基、1,2,3−トリメチル−c−プロピル基、2,2,3−トリメチル−c−プロピル基、1−エチル−2−メチル−c−プロピル基、2−エチル−1−メチル−c−プロピル基、2−エチル−2−メチル−c−プロピル基、2−エチル−3−メチル−c−プロピル基、c−ヘプチル基、c−オクチル基、c−ノニル基、c−デシル基、ベンジル基、フェニル基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、i−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、ベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基等が挙げられ、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基およびフェニル基が好ましい。
R14、R15、R16およびR17の具体例としては、ベンジル基、CH3−、H(CH2)2−、H(CH2)3−、H(CH2)4−、H(CH2)5−、H(CH2)6−、H(CH2)7−、H(CH2)8−、H(CH2)9−、H(CH2)10−、H(CH2)11−、H(CH2)12−、H(CH2)13−、H(CH2)14−、H(CH2)15−、H(CH2)16−、H(CH2)17−、H(CH2)18−、H(CH2)19−、H(CH2)20−等が挙げられ、ベンジル基、CH3−、H(CH2)2−、H(CH2)8−、H(CH2)14−、H(CH2)16−、H(CH2)18−およびH(CH2)20−が好ましい。
R18を形成するテトラカルボン酸として、その具体例を挙げれば、ピロメリット酸、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸、2,3,6,7−アントラセンテトラカルボン酸、1,2,5,6−アントラセンテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,3,3’,4−ビフェニルテトラカルボン酸、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジメチルシラン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジフェニルシラン、2,3,4,5−ピリジンテトラカルボン酸、2,6−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ピリジン等の芳香族テトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロヘプタンテトラカルボン酸、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸、5−コハク酸−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1−コハク酸等の脂環式テトラカルボン酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、2,3,5−トリカルボキシ−2−シクロペンタン酢酸、3,5,6−トリカルボキシ−2−ノルボルナン酢酸等の脂肪族テトラカルボン酸等が挙げられ、これらを2種類以上混合して用いることもでき、好ましくは3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸、5−コハク酸−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1−コハク酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸等が挙げられる。
R19を形成するジアミンとしては、その具体例を挙げれば、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,5−ジアミノトルエン、2,6−ジアミノトルエン、4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−イソプロピリデンビスアニリン、ビス(3,5−ジエチル−4−アミノフェニル)メタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、1,4−ジアミノナフタレン、1,5−ジアミノナフタレン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼン、9,10−ビス(4−アミノフェニル)アントラセン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン等の芳香族ジアミン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシル)メタン等の脂環式ジアミンおよび1,2−ジアミノエタン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、1,6−ジアミノヘキサン等の脂肪族ジアミン等が挙げられ、これらを2種類以上混合して用いることもでき、好ましくはp−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、ビス(3,5−ジエチル−4−アミノフェニル)メタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、1,5−ジアミノナフタレン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシル)メタン、1,2−ジアミノエタン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、1,6−ジアミノヘキサン等が挙げられる。
Xの具体例としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、塩素原子が好ましい。
好ましい式(1)で表される有機化合物としては、R11、R12、R13の何れか二つが水素原子を表し、残りの一つがメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、フェニル基等を表す化合物が挙げられる。
好ましい式(2)で表される4級アンモニウム塩としては以下に示す化合物が挙げられる:
1)R10がH(CH2)14−、H(CH2)16−、H(CH2)18−またはH(CH2)20−を表す式(2)で表される4級アンモニウム塩;
2)R5、R6、R7、R8およびR9が水素原子を表す式(2)で表される4級アンモニウム塩;および
3)R10がH(CH2)14−、H(CH2)16−、H(CH2)18−またはH(CH2)20−を表し、R5、R6、R7、R8およびR9が水素原子を表す式(2)で表される4級アンモニウム塩。
好ましい式(3)で表される4級アンモニウム塩としては、市販のトリオクチルメチルアンモニウム塩類、ベンジルセチルジメチルアンモニウム塩類、ベンジルジメチルステアリルアンモニウム塩類、セチルジメチルエチルアンモニウム塩類、ジメチルジステアリルアンモニウム塩類、ステアリルトリメチルアンモニウム塩類等が挙げられる。
式(8)で表される繰り返し単位からなるポリイミド類としては、タングステン酸類と、リン酸と、過酸化水素と、4級アンモニウム塩とから調製されるオレフィンの酸化触媒、またはタングステン化合物と、4級アンモニウム塩とから調製されるオレフィンの酸化触媒を不均一化できる化合物であれば特に制限はないが、その数平均分子量の下限値は、通常5×103、好ましくは8×103であり、上限値は、通常2×105、例えば1×105、また好ましくは例えば3×104である。
R18を形成するテトラカルボン酸とR19を形成するジアミンの好ましい組み合わせは、以下の通りである:
1)R18を形成するテトラカルボン酸が、ピロメリット酸、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸、2,3,6,7−アントラセンテトラカルボン酸、1,2,5,6−アントラセンテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,3,3’,4−ビフェニルテトラカルボン酸、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジメチルシラン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジフェニルシラン、2,3,4,5−ピリジンテトラカルボン酸、2,6−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ピリジン、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロヘプタンテトラカルボン酸、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸、5−コハク酸−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1−コハク酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、2,3,5−トリカルボキシ−2−シクロペンタン酢酸または3,5,6−トリカルボキシ−2−ノルボルナン酢酸、またはこれら2種類以上よりなる混合物であり、R19を形成するジアミンが、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、ビス(3,5−ジエチル−4−アミノフェニル)メタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、1,5−ジアミノナフタレン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシル)メタン、1,2−ジアミノエタン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタンまたは1,6−ジアミノヘキサンである式(8)で表される繰り返し単位からなるポリイミド類;
2)R18を形成するテトラカルボン酸が、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸、5−コハク酸−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1−コハク酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸または1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸であり、R19を形成するジアミンが、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,5−ジアミノトルエン、2,6−ジアミノトルエン、4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−イソプロピリデンビスアニリン、ビス(3,5−ジエチル−4−アミノフェニル)メタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、1,4−ジアミノナフタレン、1,5−ジアミノナフタレン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼン、9,10−ビス(4−アミノフェニル)アントラセン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシル)メタン、1,2−ジアミノエタン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタンまたは1,6−ジアミノヘキサン、またはこれら2種類以上よりなる混合物である式(8)で表される繰り返し単位からなるポリイミド類;および
3)R18を形成するテトラカルボン酸が、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸、5−コハク酸−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1−コハク酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸または1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸であり、R19を形成するジアミンが、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、ビス(3,5−ジエチル−4−アミノフェニル)メタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、1,5−ジアミノナフタレン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシル)メタン、1,2−ジアミノエタン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタンまたは1,6−ジアミノヘキサンである式(8)で表される繰り返し単位からなるポリイミド類。
本発明の高分子化合物としては、タングステン酸類と、リン酸と、過酸化水素と、4級アンモニウム塩とから調製されるオレフィンの酸化触媒、またはタングステン化合物と、4級アンモニウム塩とから調製されるオレフィンの酸化触媒を不均一化できるものであれば特に制限はないが、例えば、ポリイミド類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ポリアミド類、ポリウレタン類等が挙げられ、その数平均分子量の下限値は、通常5×103、好ましくは8×103であり、上限値は、通常2×105、例えば1×105、また好ましくは例えば3×104である。
好ましいポリイミド類としては、式(8)で表される繰り返し単位からなるポリイミド類が挙げられる。
本発明のタングステン化合物としては、12−タングストリン酸、12−タングストリン酸のナトリウム塩、12−タングストリン酸のカリウム塩、12−タングストリン酸のアンモニウム塩等が挙げられ、12−タングストリン酸が好ましい。
尚、12−タングストリン酸の塩は、12−タングストリン酸から容易に製造することができる。
本発明のタングステン酸類としては、タングステン酸、タングステン酸のナトリウム塩、タングステン酸のカリウム塩、タングステン酸のアンモニウム塩等が挙げられ、タングステン酸が好ましい。
本発明の、式(1)で表される有機化合物または高分子化合物と、タングステン酸類と、リン酸と、過酸化水素と、式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩とから調製されるオレフィンの酸化触媒、並びに式(1)で表される有機化合物または高分子化合物と、タングステン化合物と、式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩とから調製されるオレフィンの酸化触媒は、J.Org.Chem.,Vol.53,p.1552−1557(1988)およびJ.Org.Chem.,Vol.53 p.3587−3593(1988)に記載されている方法を改良することにより製造することができる。
本発明の、式(1)で表される有機化合物または高分子化合物と、タングステン酸類と、リン酸と、過酸化水素と、式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩とから調製されるオレフィンの酸化触媒は、過酸化水素の水溶液にタングステン酸類を加え、加温した後、室温下でリン酸を加え、水で希釈した後、これに式(1)で表される有機化合物または高分子化合物を分散させ、次いで溶媒で希釈した式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩の溶液を滴下することにより製造することができる。
使用する式(1)で表される有機化合物または高分子化合物の量は、リン酸1ミリモルに対して1〜200グラムである。
使用する過酸化水素は市販の水溶液をそのまま、または希釈して使用でき、その使用量は、式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩に対して2〜50モル当量、好ましくは2〜30モル当量である。
使用するタングステン酸類の量としては、式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩に対して1〜3モル当量である。
使用するリン酸の量としては、式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩に対して0.1〜1モル当量である。
使用する溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に限定はないが、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン等のウレア類、水、およびこれら溶媒の混合物が挙げられ、水、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、およびこれら溶媒の混合物が好ましい。
前記加温の温度としては40〜80℃が挙げられる。
次いで、式(1)で表される有機化合物または高分子化合物と、タングステン化合物と、式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩とから調製される、本発明のオレフィンの酸化触媒について説明する。
前記酸化触媒は、溶媒で希釈した式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩の溶液に、式(1)で表される有機化合物または高分子化合物を分散させ、これにタングステン化合物の水溶液を滴下するか、またはタングステン化合物の水溶液に式(1)で表される有機化合物または高分子化合物を分散させ、これに溶媒で希釈した式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩の溶液を滴下することにより製造することができる。
使用する式(1)で表される有機化合物または高分子化合物の量は、タングステン化合物1ミリモルに対して1〜200グラムである。
使用するタングステン化合物の量は、式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩に対して0.2〜0.5モル当量である。
使用する溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に限定はないが、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン等のウレア類、水、およびこれら溶媒の混合物が挙げられ、水、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、およびこれら溶媒の混合物が好ましい。
また反応の際の温度としては0〜100℃が挙げられる。
上述の製造方法により調製された本発明のオレフィンの酸化触媒は、通常、溶媒に不溶なため、反応後、溶媒と水相を取り除くことで、該オレフィンの酸化触媒を単離することができる。
尚、オレフィンの酸化触媒を溶媒に溶解してなる溶液のまま、式(5)で表されるオキシラン化合物の製造に用いることもできる。
使用する溶媒が、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類またはヘキサン、ヘプタン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類の場合、生成するオレフィンの酸化触媒は、通常、溶媒に溶解しないため、水相、有機相、触媒相の3相を形成する。
この場合、反応後、水相および有機相を取り除けば、オレフィンの酸化触媒を単離することができる。
溶媒として水を使用する場合も、生成するオレフィンの酸化触媒は、通常、溶媒に溶解しないため、濾過または水を取り除くことにより、該オレフィンの酸化触媒を単離することができる。
本発明の、式(1)で表される有機化合物または高分子化合物と、タングステン酸類と、リン酸と、過酸化水素と、式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩とから調製されるオレフィンの酸化触媒の構造については、J.Org.Chem.,Vol.53,p.1553−1557(1988)の記載から、以下に示す構造の化合物が式(1)で表される有機化合物または高分子化合物に吸着あるいは溶解し、不均一化されたものである可能性が示唆される。
また、式(1)で表される有機化合物または高分子化合物と、タングステン化合物と、式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩とから調製されるオレフィンの酸化触媒の構造については、J.Org.Chem.,Vol.53,p.3587−3593(1988)の記載から、以下に示す構造の化合物が式(1)で表される有機化合物または高分子化合物に吸着あるいは溶解し、不均一化されたものである可能性が示唆される。
次に、本発明のオレフィンの酸化触媒を用いた式(5)で表されるオキシラン化合物の製造方法について説明する。
本発明によれば、式(4)で表されるオレフィン類を有機溶媒中、本発明のオレフィンの酸化触媒の存在下、過酸化水素で処理することにより、式(5)で表されるオキシラン化合物を製造することができる。
使用する本発明のオレフィンの酸化触媒の量は、本発明のオレフィンの酸化触媒を製造する際に用いた4級アンモニウム塩の使用量で表すと、式(4)で表されるオレフィン類に対して0.03〜15モル%である。
使用する溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に限定はないが、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン等のウレア類およびこれら溶媒の混合物が挙げられ、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、およびこれら溶媒の混合物が好ましい。
反応温度としては0〜150℃が挙げられるが、オキシラン化合物の合成には90℃以下が好ましい。
反応系内のpHとしては特に限定はないが、好ましくは0.5〜7が挙げられる。
反応系のpHのコントロールは、pHメーターで確認しながら、リン酸水溶液または水酸化ナトリウム水溶液を適量加えることにより行うことができる。
反応は常圧でも加圧下でも行うことができる。
反応終了後、生成物を含んだ有機相と使用した触媒とを濾過操作により容易に分離できる。そして、反応生成物を所要により蒸留およびカラムクロマトグラフィーで精製して、目的物を得ることができる。
本反応は、通常、過酸化水素の水溶液(過酸化水素水)を使用するため、水に溶解しない溶媒を使用する場合、有機相と水相が分離することとなる。この場合、本発明のオレフィンの酸化触媒は、通常、有機溶媒への溶解性が低く、かつ水への溶解度も高くないために、多くの場合、有機相、触媒相および水相の3相に分離した状態のまま反応が進行することとなる。
有機相には触媒が殆ど溶解していないため、反応後に有機相のみを取り出すだけで、式(5)で表されるオキシラン化合物の溶液を得ることができる。
即ち、式(1)で表される有機化合物または高分子化合物を用いてオレフィンの酸化触媒を調製することにより、オレフィンの酸化触媒の分離を容易にすることができる。
また、反応後に濾過により回収した酸化触媒に、式(4)で表されるオレフィン類および過酸化水素を加えることにより、再び式(5)で表されるオキシラン化合物を製造することができる。
即ち、本発明の製造方法を用いることにより、オレフィンの酸化触媒の再利用も可能となる。
また、水に溶解する溶媒を使用する場合、通常、均一系の反応となるが、反応終了後に、水および水に溶解しない溶媒を加えて相を分離させることにより、上述のように、オレフィンの酸化触媒の分離および再利用を可能とすることができる。
次に、本発明の、式(1)で表される有機化合物または高分子化合物と、タングステン酸類と、リン酸と、過酸化水素と、式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩とから調製されるオレフィンの酸化触媒を、別途調製することなく、式(5)で表されるオキシラン化合物を製造する方法について説明する。
上述の製造方法は、下記の反応スキームで表される:
[式中、R1、R2、R3およびR4は前記と同じ意味を表す。]。
即ち、式(4)で表されるオレフィン類を有機溶媒中、式(1)で表される有機化合物または高分子化合物と、タングステン酸と、リン酸と、式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩と、過酸化水素とで処理することにより、式(5)で表されるオキシラン化合物を製造することができる。
使用する、式(1)で表される有機化合物または高分子化合物、タングステン酸、リン酸、式(2)または式(3)で表される4級アンモニウム塩および過酸化水素の添加順序は特に限定されない。
式(1)で表される有機化合物または高分子化合物の量は、リン酸1ミリモルに対して1〜200グラムである。
使用する4級アンモニウム塩の量は、式(4)で表されるオレフィン類に対して0.003〜0.15モル当量である。
使用するタングステン酸の量は、式(4)で表されるオレフィン類に対して0.004〜0.20モル当量である。
使用するリン酸の量は、式(4)で表されるオレフィン類に対して0.001〜0.05モル当量である。
過酸化水素は市販の水溶液をそのまま、または希釈して使用でき、その使用量は、式(4)で表されるオレフィン類に対して0.5〜3モル当量、好ましくは0.8〜1.5モル当量である。
尚、反応条件については、式(1)で表される有機化合物または高分子化合物と、タングステン酸類と、リン酸と、過酸化水素と、式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩とから調製される本発明のオレフィンの酸化触媒を用いる式(5)で表されるオキシラン化合物の製造方法と同様の条件で反応を行うことができる。
また、生成物の単離精製、およびオレフィンの酸化触媒の分離および再利用についても、本発明のオレフィンの酸化触媒を用いる式(5)で表されるオキシラン化合物の製造方法と同様である。
本発明に使用する式(1)で表される有機化合物は、既存の方法、例えば日本化学会誌1990年版2号173〜178頁およびBull.Soc.Chim.Fr.,p.251(1972)に記載されている方法によって製造することができる。
本発明に使用する式(2)で表される4級アンモニウム塩は、一般的な4級アンモニウム塩の合成法に従って、下記に示す方法により製造することができる:
即ち、ピリジン類(6)とアルキルハライド類(7)を反応させることにより式(2)で表される4級アンモニウム塩を製造することができる。
また、イオン交換樹脂等を用いることにより、4級アンモニウム塩の塩を交換することができる。
本発明に使用する式(3)で表される4級アンモニウム塩は、市販のものを用いることができる。
本発明に使用する高分子化合物の中で、式(8)で表される繰り返し単位からなるポリイミド類は、既存の方法、例えば米国特許第3489725号明細書および特開平6−136120号公報に記載されている方法によって製造することができる。
また、その他のポリイミド類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ポリアミド類、ポリウレタン類等の高分子化合物としては、市販品等を使用することができる。
尚、ICP発光分析装置としては、SPS1200A(セイコーインスツルメンツ社製)を用いた。
5,6−ジヒドロジシクロペンタジエンおよび3,4−エポキシトリシクロデカンは以下の条件で分析した:
分析機器:GC(ガスクロマトグラフィー)
分析条件:カラム;HP−INNOWax(30.0m×320μm×0.25μm)、オーブン;100℃(2分保持)20℃/分(昇温)250℃(5分保持)、圧力;58.7kPa、カラム流量;1.4mL/分、カラム平均線速度;27cm/秒、スプリット比;40:1、注入口温度;240℃、検出器温度;240℃、内部標準物質;テレフタル酸ジエチル
実施例に使用した、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1−コハク酸と4,4’−ジアミノジフェニルメタンよりなるポリイミドは、特開平6−136120号公報の実施例2の記載に従って製造した。
尚、前記ポリイミドは、以下の条件で分析した:
分析機器:センシュー科学社製SSC−7200 GPC SYSTEM
カラム:KD−805、KD−803(直列連結)
溶離液:DMF
流量:1mL/分
検出器:RI
また、実施例に使用した、エトキシトリシクロデセン、アリルオキシトリシクロデセンおよびベンジルオキシトリシクロデセンは、特開平1−40446号公報の実施例1に記載の製造方法に従って製造したジシクロペンテノールアセテートを加水分解(水−メタノール中で水酸化ナトリウムを反応させる。)の後、エーテル化(アルキルハライド(ヨウ化エチル、アリルクロリド、ベンジルブロミド)を水素化ナトリウムの存在下、DMF溶媒中で反応させる。)することにより製造した。
実施例1 シアヌール酸を用いた不均一型触媒の調製
ジムロート冷却器、撹拌装置を備えた200mlのナスフラスコに、タングステン酸(H2WO4)1.250g(5.00mmol)と35%過酸化水素水3.00g(30.9mmoL)を加え、60℃で1時間攪拌した。生じた白色懸濁液を室温まで冷却した後、85%リン酸(H3PO4)0.144g(1.25mmol)と水30mLを加えた。この溶液にシアヌール酸5gを加え充分に分散させた後、セチルピリジニウムクロリド一水和物0.895g(2.50mmol)の水溶液を30分かけて滴下し、室温で終夜攪拌した。反応溶液を濾過し、固体を濾取した。これをさらに水およびトルエンで洗浄した後、乾燥することで、表題のシアヌール酸を用いた不均一型触媒6.005gを白色固体として得た。
ICP発光分析:P;0.18、W;4.9
実施例2 N−メチルシアヌール酸を用いた不均一型触媒の調製
シアヌール酸の代わりにN−メチルシアヌール酸を使用すること以外は実施例1と同様な操作を行うことで、表題のN−メチルシアヌール酸を用いた不均一型触媒5.595gを白色固体として得た。
ICP発光分析:P;0.34、W;10.1
実施例3 N−ブチルシアヌール酸を用いた不均一型触媒の調製
シアヌール酸の代わりにN−ブチルシアヌール酸を使用すること以外は実施例1と同様な操作を行うことで、表題のN−ブチルシアヌール酸を用いた不均一型触媒6.150gを白色固体として得た。
ICP発光分析:P;0.29、W;11.7
実施例4 ポリイミドを用いた不均一型触媒の調製
シアヌール酸の代わりに3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1−コハク酸と4,4’−ジアミノジフェニルメタンよりなるポリイミドを使用すること以外は実施例1と同様な操作を行うことで、表題のポリイミドを用いた不均一型触媒6.471gを白色固体として得た。
数平均分子量(Mn)=1.0×104
ICP発光分析:P;0.37、W;15.6
実施例5 3,4−エポキシトリシクロデカンの合成(シアヌール酸を用いた不均一型触媒の再利用)
温度計、ジムロート冷却器、撹拌装置を備えた50mLの4つ口フラスコに、実施例1で調製したシアヌール酸を用いた不均一型触媒1.49g(0.10mmol)と5,6−ジヒドロジシクロペンタジエン(C10H14)2.68g(20.0mmol)、溶媒としてトルエン3.49gをそれぞれ秤り込み、撹拌しながら80℃まで加熱した。これに同温にて35%過酸化水素水2.14g(22.0mmol)を30分かけて滴下し、さらに1時間攪拌した後、攪拌を停止し常温まで冷却した。この反応混合物を濾過し、濾別された触媒をトルエン(100mL)で洗浄した。洗液と濾液をトルエン(100mL)で抽出し、表題の3,4−エポキシトリシクロデカン(C10H14O)を収率93.6%(GC内部標準法による定量分析)で得た。
(触媒の再利用1回目)
上記操作で濾別回収した触媒を、再び、温度計、ジムロート冷却器、撹拌装置を備えた50mLの4つ口フラスコに入れ、これに5,6−ジヒドロジシクロペンタジエン(C10H14)2.68g(20.0mmol)とトルエン3.49gをそれぞれ秤り込み、以降上記と同様に、撹拌しながら80℃まで加熱した。これに同温にて35%過酸化水素水2.14g(22.0mmol)を30分かけて滴下し、さらに2時間攪拌した後、攪拌を停止し常温まで冷却した。この反応混合物を濾過し、濾別された触媒をトルエン(100mL)で洗浄した。洗液と濾液をトルエン(100mL)で抽出し、表題の3,4−エポキシトリシクロデカン(C10H14O)を収率95.9%(GC内部標準法による定量分析)で得た。
(触媒の再利用2回目)
再利用1回目で回収した触媒を用いて、上記と同様に再利用2回目を行ない(反応時間6時間)、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率93.3%で得た。
(触媒の再利用3回目)
再利用2回目で回収した触媒を用いて、上記と同様に再利用3回目を行ない(反応時間6時間)、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率94.0%で得た。
実施例6 3,4−エポキシトリシクロデカンの合成(N−メチルシアヌール酸を用いた不均一型触媒の再利用)
シアヌール酸を用いた不均一型触媒の代わりに、実施例2で調製したN−メチルシアヌール酸を用いた不均一型触媒0.909g(0.10mmol)を使用する以外は実施例5と同様の操作を行ない(反応時間1時間)、触媒を回収し、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率97.6%で得た。
(触媒の再利用1回目)
上記で回収した触媒を用いて、実施例5と同様に再利用1回目を行ない(反応時間1時間)、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率95.5%で得た。
実施例7 3,4−エポキシトリシクロデカンの合成(N−ブチルシアヌール酸を用いた不均一型触媒の再利用)
シアヌール酸を用いた不均一型触媒の代わりに、実施例3で調製したN−ブチルシアヌール酸を用いた不均一型触媒1.06g(0.10mmol)を使用する以外は実施例5と同様の操作を行ない(反応時間1時間)、触媒を回収し、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率95.8%で得た。
(触媒の再利用1回目)
上記で回収した触媒を用いて、実施例5と同様に再利用1回目を行ない(反応時間2時間)、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率92.3%で得た。
(触媒の再利用2回目)
上記で回収した触媒を用いて、同様に再利用2回目を行ない(反応時間2時間)、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率96.4%で得た。
実施例8 3,4−エポキシトリシクロデカンの合成(ポリイミドを用いた不均一型触媒の再利用)
温度計、ジムロート冷却器、撹拌装置を備えた50mLの4つ口フラスコに、実施例4で調製したポリイミドを用いた不均一型触媒0.836g(0.10mmol)と5,6−ジヒドロジシクロペンタジエン(C10H14)2.68g(20.0mmol)、溶媒としてトルエン3.81gをそれぞれ秤り込み、撹拌しながら80℃まで加熱した。これに同温にて35%過酸化水素水2.14g(22.0mmol)を30分かけて滴下し、さらに30分攪拌した後、攪拌を停止し常温まで冷却した。この反応混合物を濾過し、濾別された触媒をトルエン(100mL)で洗浄した。洗液と濾液をトルエン(100mL)で抽出し、表題の3,4−エポキシトリシクロデカン(C10H14O)を収率99.2%(GC内部標準法による定量分析)で得た。
(触媒の再利用1回目)
上記操作で濾別回収した触媒を、再び、温度計、ジムロート冷却器、撹拌装置を備えた50mLの4つ口フラスコに入れ、これに5,6−ジヒドロジシクロペンタジエン(C10H14)2.68g(20.0mmol)とトルエン3.81gをそれぞれ秤り込み、以降上記と同様に、撹拌しながら80℃まで加熱した。これに同温にて35%過酸化水素水2.14g(22.0mmol)を30分かけて滴下し、さらに30分攪拌した後、攪拌を停止し常温まで冷却した。この反応混合物を濾過し、濾別された触媒をトルエン(100mL)で洗浄した。洗液と濾液をトルエン(100mL)で抽出し、表題の3,4−エポキシトリシクロデカン(C10H14O)を収率99.8%(GC内部標準法による定量分析)で得た。
(触媒の再利用2回目)
再利用1回目で回収した触媒を用いて、上記と同様に再利用2回目を行ない(反応時間30分)、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率99.8%で得た。
(触媒の再利用3回目)
再利用2回目で回収した触媒を用いて、上記と同様に再利用3回目を行ない(反応時間5時間)、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率96.0%で得た。
(触媒の再利用4回目)
再利用3回目で回収した触媒を用いて、上記と同様に再利用4回目を行ない(反応時間8時間)、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率94.3%で得た。
実施例9 3,4−エポキシトリシクロデカンの合成(ポリイミドを用いた不均一型触媒の再利用)
温度計、ジムロート冷却器、撹拌装置を備えた50mLの4つ口フラスコに、実施例4で調製したポリイミドを用いた不均一型触媒0.836g(0.10mmol)と5,6−ジヒドロジシクロペンタジエン(C10H14)2.68g(20.0mmol)、溶媒としてトルエン3.81gをそれぞれ秤り込み、撹拌しながら80℃まで加熱した。これに同温にて35%過酸化水素水2.14g(22.0mmol)を30分かけて滴下し、さらに30分攪拌した後、攪拌を停止し常温まで冷却した。この反応混合物を濾過し、濾別された触媒をトルエン(100mL)で洗浄した。洗液と濾液をトルエン(100mL)で抽出し、表題の3,4−エポキシトリシクロデカン(C10H14O)を収率96.9%(GC内部標準法による定量分析)で得た。
(触媒の再利用1回目)
上記操作で濾別回収した触媒を、再び、温度計、ジムロート冷却器、撹拌装置を備えた50mLの4つ口フラスコに入れ、これに5,6−ジヒドロジシクロペンタジエン(C10H14)2.68g(20.0mmol)、タングステン酸(H2WO4)20.0mg(0.08mmol)、リン酸(H3PO4)2.35mg(0.02mmol)とトルエン3.81gをそれぞれ秤り込み、以降上記と同様に、撹拌しながら80℃まで加熱した。これに同温にて35%過酸化水素水2.14g(22.0mmol)を30分かけて滴下し、さらに30分攪拌した後、攪拌を停止し常温まで冷却した。この反応混合物を濾過し、濾別された触媒をトルエン(100mL)で洗浄した。洗液と濾液をトルエン(100mL)で抽出し、表題の3,4−エポキシトリシクロデカン(C10H14O)を収率95.9%(GC内部標準法による定量分析)で得た。
(触媒の再利用2回目)
再利用1回目で回収した触媒を用いて、上記と同様に再利用2回目を行ない(反応時間30分)、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率93.2%で得た。
(触媒の再利用3回目)
再利用2回目で回収した触媒を用いて、上記と同様に再利用3回目を行ない(反応時間30分)、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率93.8%で得た。
(触媒の再利用4回目)
再利用3回目で回収した触媒を用いて、上記と同様に再利用4回目を行ない(反応時間1時間)、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率92.1%で得た。
(触媒の再利用5回目)
再利用4回目で回収した触媒を用いて、上記と同様に再利用5回目を行ない(反応時間2時間)、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率92.1%で得た。
(触媒の再利用6回目)
再利用5回目で回収した触媒を用いて、上記と同様に再利用6回目を行ない(反応時間2時間)、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを収率93.1%で得た。
実施例10 3,4−エポキシトリシクロデカンの合成(ポリイミドを用いた不均一型触媒の再利用)
温度計、ジムロート冷却器、撹拌装置を備えた20L大型反応容器に、実施例4で調製したポリイミドを用いた不均一型触媒298g(29.8mmol)と5,6−ジヒドロジシクロペンタジエン(C10H14)800g(5.96mol)、溶媒としてトルエン1.04kgをそれぞれ秤り込み、撹拌しながら60℃まで加熱した。これに同温にて35%過酸化水素水637g(6.56mol)を5時間かけて滴下し、さらに1時間攪拌した後、攪拌を停止し0℃まで冷却した。この反応混合物を(グラスフィルターによって吸出し)濾過し、濾別された触媒をトルエン(1.49L)で洗浄した。洗液と濾液から、表題の3,4−エポキシトリシクロデカン(C10H14O)を得た。
(触媒の再利用1回目)
上記反応で、濾別した触媒が入っている上記20L大型反応容器に、再び5,6−ジヒドロジシクロペンタジエン(C10H14)800g(5.96mol)とトルエン1.04kgをそれぞれ秤り込み、以降上記と同様に、撹拌しながら60℃まで加熱した。これに同温にて35%過酸化水素水637g(6.56mol)を5.3時間かけて滴下し、さらに2時間攪拌した後、攪拌を停止し常温まで冷却した。この反応混合物を(グラスフィルターによって吸出し)濾過し、濾別された触媒をトルエン(1.49L)で洗浄した。洗液と濾液から、表題の3,4−エポキシトリシクロデカン(C10H14O)を得た。
(触媒の再利用2回目)
再利用1回目で濾別した触媒を用いて、上記と同様に再利用2回目を行ない(反応時間全8時間)、表題の3,4−エポキシトリシクロデカンを得た。
以上、3バッチの平均収率は93%(GC内部標準法による定量分析)であった。
実施例11 エトキシ−3,4−エポキシトリシクロデカンの合成
温度計、ジムロート冷却器、撹拌装置を備えた50mLの4つ口フラスコに、実施例1で調製したシアヌール酸を用いた不均一型触媒1.29g(0.10mmol)とエトキシ−トリシクロデセン(C12H18O)3.57g(20.0mmol)、溶媒としてトルエン5.06gをそれぞれ秤り込み、撹拌しながら80℃まで加熱した。これに同温にて35%過酸化水素水2.14g(22.0mmol)を30分かけて滴下し、さらに30分攪拌した後、攪拌を停止し氷冷した。この反応混合物を濾過し、濾別された触媒をトルエン(100mL)で洗浄した。洗液と濾液をトルエン(100mL)で抽出し、表題のエトキシ−3,4−エポキシトリシクロデカン(C12H18O2)を収率85.6%(GC内部標準法による定量分析)で得た。
実施例12 アリルオキシ3,4−エポキシトリシクロデカンの合成
温度計、ジムロート冷却器、撹拌装置を備えた50mLの4つ口フラスコに、実施例1で調製したシアヌール酸を用いた不均一型触媒1.29g(0.10mmol)とアリルオキシ−トリシクロデセン(C13H18O)3.81g(20.0mmol)、溶媒としてトルエン5.40gをそれぞれ秤り込み、撹拌しながら40℃まで加熱した。これに同温にて35%過酸化水素水2.14g(22.0mmol)を30分かけて滴下し、さらに3時間攪拌した後、攪拌を停止し氷冷した。この反応混合物を濾過し、濾別された触媒をトルエン(100mL)で洗浄した。洗液と濾液をトルエン(100mL)で抽出し、表題のアリルオキシ3,4−エポキシトリシクロデカン(C13H18O2)を収率66.6%(GC内部標準法による定量分析)で得た。
実施例13 ベンジルオキシ3,4−エポキシトリシクロデカンの合成
温度計、ジムロート冷却器、撹拌装置を備えた50mLの4つ口フラスコに、実施例1で調製したシアヌール酸を用いた不均一型触媒1.29g(0.10mmol)とベンジルオキシ−トリシクロデセン(C17H20O)3.57g(20.0mmol)、溶媒としてトルエン6.83gをそれぞれ秤り込み、撹拌しながら80℃まで加熱した。これに同温にて35%過酸化水素水2.14g(22.0mmol)を30分かけて滴下し、さらに30分攪拌した後、攪拌を停止し氷冷した。この反応混合物を濾過し、濾別された触媒をトルエン(100mL)で洗浄した。洗液と濾液をトルエン(100mL)で抽出し、表題のベンジルオキシ3,4−エポキシトリシクロデカン(C17H20O2)を収率78.5%(GC内部標準法による定量分析)で得た。
実施例14 3,4−エポキシペンタンニトリルの合成
温度計、ジムロート冷却器、撹拌装置を備えた50mLの4つ口フラスコに、実施例1で調製したシアヌール酸を用いた不均一型触媒1.29g(0.10mmol)と3−ペンテンニトリル(C5H7N)1.71g(20.0mmol)、溶媒としてトルエン2.43gをそれぞれ秤り込み、撹拌しながら80℃まで加熱した。これに同温にて35%過酸化水素水2.14g(22.0mmol)を30分かけて滴下し、さらに30分攪拌した後、攪拌を停止し氷冷した。この反応混合物を濾過し、濾別された触媒をトルエン(100mL)で洗浄した。洗液と濾液をトルエン(100mL)で抽出し、表題の3,4−エポキシペンタンニトリル(C5H7NO)を収率44.0%(GC内部標準法による定量分析)で得た。
Claims (4)
- 次式(1)
R11、R12およびR13はそれぞれ独立して、水素原子、C1-10アルキル基(該C1-10アルキル基は、C6-10アリール基で置換されてもよい。)、C3-10シクロアルキル基、C6-10アリール基、C1-6アルキルカルボニル基(該C1-6アルキルカルボニル基は、C6-10アリール基で置換されてもよい。)またはC6-10アリールカルボニル基を表す。]で表される有機化合物または
次式(8)
R 18 はテトラカルボン酸から誘導される4価の有機基を表し、そして
R 19 はジアミンから誘導される2価の有機基を表す。]で表される繰り返し単位からなり、数平均分子量が5×10 3 以上のポリイミド類である高分子化合物と、
タングステン酸類と、
リン酸と、
過酸化水素と、
次式(2)または(3)
R5、R6、R7、R8およびR9はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、C1-10アルキル基(該C1-10アルキル基は、C6-10アリール基、C1-10アルコキシ基またはベンジルオキシ基で置換されてもよい。)、C1-10アルコキシ基、ベンジルオキシ基またはフェニル基を表すか、または
R5、R6、R7、R8およびR9の何れか二つが一緒になって、1または2の縮合ベンゼン環を形成してもよく、
R10、R14、R15、R16、R17はそれぞれ独立して、C1-20アルキル基を表し、そして
Xはハロゲン原子を表す。]で表される4級アンモニウム塩
とから調製されるオレフィンの酸化触媒。 - 式中、R5、R6、R7、R8およびR9は水素原子を表す式(2)で表される4級アンモニウム塩を用いる、請求項2記載のオレフィンの酸化触媒。
- 次式(4)
R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、C1-10アルキル基、C3-10シクロアルキル基(該C1-10アルキル基およびC3-10シクロアルキル基は何れも、ハロゲン原子、フェニル基、水酸基またはC1-6アルコキシ基で置換されてもよい。)、カルボキシル基、C1-6アルキルカルボニル基、C1-6アルコキシカルボニル基(該C1-6アルキルカルボニル基およびC1-6アルコキシカルボニル基は何れも、ハロゲン原子、フェニル基、水酸基またはC1-6アルコキシ基で置換されてもよい。)またはフェノキシカルボニル基(該フェノキシカルボニル基は、ハロゲン原子、フェニル基、C1-6アルキル基またはC1-6アルコキシ基で置換されてもよい。)を表すか、または
R1、R2、R3およびR4の何れか二つが一緒になって、−(CH2)m−(式中、mは、3、4または5を表す。)、−CO2(CH2)n−(式中、nは、1、2または3を表す。)、−CO(CH2)o−(式中、oは、2、3または4を表す。)、−(CH2)p−O−(CH2)q−(式中、pおよびqはそれぞれ独立して、0、1、2、3または4を表すが、pとqの総和は、2、3または4を表す。)、
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