JP5053165B2 - インク組成物、有機el素子の作製方法 - Google Patents
インク組成物、有機el素子の作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5053165B2 JP5053165B2 JP2008118440A JP2008118440A JP5053165B2 JP 5053165 B2 JP5053165 B2 JP 5053165B2 JP 2008118440 A JP2008118440 A JP 2008118440A JP 2008118440 A JP2008118440 A JP 2008118440A JP 5053165 B2 JP5053165 B2 JP 5053165B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic
- solvent
- ink composition
- ink
- composition according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
本発明のインク組成物は、インクジェット法により有機EL素子用の有機薄膜層を形成するために用いられるインク組成物であって、前記インク組成物は、有機EL素子用有機材料に含まれる高分子材料が2質量%以上4質量%未満の濃度でインク用溶媒に溶解されてなり、9.4〜20mPa・sの粘度を有しており、前記高分子材料は質量平均分子量が50万以下であり、前記インク用溶媒は、前記有機EL素子用有機材料を溶解する第1溶媒と、20mPa・s以上の粘度を有するとともに前記第1溶媒よりも低い沸点を有する第2溶媒と、の少なくとも2種類以上の溶媒を含むことを特徴とする。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態である有機EL素子の作製方法を用いて作製された有機EL素子の一例を示す図である。図1に示すように、有機EL素子10は、素子基板1の上に、第1電極2、有機薄膜層3および第2電極4が、この順序で積層されて構成されている。
素子基板1としては、透明な材料が好ましく、たとえば、ガラス、石英、その他プラスチックフィルム等を例示することができる。
<第1電極>
スパッタ法などの公知の方法により第1電極2を素子基板1上に形成する。第1電極2としては、インジウム−錫−酸化物(以下、ITO)あるいはインジウム−亜鉛−酸化物(以下、IZO)などの導電性透明酸化物を用いることができる。
有機薄膜層3は、少なくとも1層の発光層を有してなる。たとえば、有機薄膜層3は発光層のみの単層構造からなる場合がある。また、電荷輸送層と発光層の2層構造からなる場合があり、さらに3層以上の多層構造からなる場合がある。なお、有機薄膜層3の少なくとも一層をインクジェット法で形成すれば良く、有機薄膜層3の他の層は、たとえば、スピンコート法や真空蒸着法など他の成膜方法で形成しても良い。
本発明の実施形態であるインク組成物は、インクジェット法により有機EL素子用の有機薄膜層3を形成するために用いられるインク組成物である。前記インク組成物は、有機EL素子用有機材料がインク用溶媒に溶解されてなる。
有機EL素子用有機材料は、電荷輸送材料(正孔輸送材料、電子輸送材料など)、発光材料あるいは正孔阻止材料などのような機能性有機材料である。インク組成物がインクジェット法により素子基板上に吐出された後、前記インク組成物から溶媒が除去されることにより、有機EL素子用有機材料が素子基板上に残留されて有機薄膜層3を形成する。
たとえば、電荷輸送材料は、電子または正孔を輸送する能力に優れる材料が用いられ、電荷輸送層を形成する。また、発光材料は、発光効率に優れた材料が用いられ、発光層を形成する。これらは、低分子系または高分子系の有機材料のいずれをも選択することができ、低分子系発光材料、高分子系発光材料、低分子系電荷輸送材料、高分子系電荷輸送材料などがある。
低分子系発光材料としては、有機EL素子に一般的に使用されるテトラフェニルブタジエン(TPB)、クマリン、ナイルレッド、オキサジアゾール誘導体、金属錯体などがある。金属錯体は、蛍光性発光材料のほかに燐光性発光材料があり、燐光性発光材料としては、イリジウム錯体、プラチナ錯体などを挙げることができるが、本発明は、特にこれらに限定されるものではない。
高分子系材料としては、たとえば、ポリメチルメタククリレート(PMMA)、ポリビニルカルバゾール(PVCz)や、側鎖に電荷輸送能を有する置換基やイリジウム錯体などのような重原子化合物からなる発光性置換基が接合された共重合非共役系高分子などを挙げることができるが、非共役系高分子であれば、本発明は、特にこれらに限定されるものではない。
特に、イリジウム錯体などのような重原子化合物からなる発光性置換基が接合された共重合非共役系高分子を、有機EL素子の発光材料として用いた場合には、有機EL素子から高効率な燐光発光を得ることができ、有機EL素子の発光効率を向上させることができる。
これにより、インクジェット法で良好な吐出を得ることができ、インクジェット法により有機EL素子用の有機薄膜層3を良好に形成することができる。
有機EL素子用有機材料が0.1質量%未満の場合には、有機EL素子用有機材料の量が少なすぎるため、インクジェット法によりインク組成物を素子基板上に吐出させて、乾燥させたときに、有機薄膜層3の膜厚が薄すぎるものとなる。
逆に、有機EL素子用有機材料が4質量%以上の場合には、インク用溶媒に対して有機EL素子用有機材料の量が多すぎるので、インクジェット法で吐出量を精度良く制御することができない。その結果、膜厚を高精度で制御することができなくなる。
インク用溶媒は、有機EL素子用有機材料を溶解する第1溶媒と、20mPa・s以上の粘度を有するとともに第1溶媒よりも低い沸点を有する第2溶媒と、の少なくとも2種類以上の溶媒を含むことが好ましい。
非共役系高分子からなる有機EL素子用有機材料の場合には、有機EL素子用有機材料の濃度を増加させることによって多少粘度を増加させることができるがその程度は小さい。また、非共役系高分子からなる有機EL素子用有機材料の場合には、有機EL素子用有機材料の分子量を増加させることによって多少粘度を増加させることができるが、インク組成物に粘弾性が発現してしまい、ノズル殻の円滑な吐出が困難となる。
第1溶媒は、有機EL素子用有機材料の溶解能に優れた材料であることが好ましい。具体的には、第1溶媒100mlあたり有機EL素子用有機材料を2g以上溶解させるものがよい。これにより、有機EL素子用有機材料を析出させることなく十分に溶解することができ、均一なインク組成物を形成することができる。
芳香族化合物としては、たとえば、キシレン、アニソール、o−ジクロロベンゼン、1,2,4−トリメチルベンゼン、1,3,5−トリメチルベンゼン、o−ジメトキシベンゼン、トリクロロメチルベンゼン、フェニルシクロヘキサンなどを挙げることができる。これらは、沸点が140℃以上であり、有機EL素子用有機材料の溶解能に優れた溶媒である。
また、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)などの極性溶媒なども、第1溶媒として用いることができる。
第2溶媒は、室温(25℃)で20mPa・s以上の粘度を有することが好ましい。
第2溶媒が20mPa・s以上の粘度を有する場合、粘度の上がらない有機EL素子用有機材料を溶解させた場合でも、インク組成物の粘度を4〜20mPa・sの粘度とインクジェット法に適した粘度にすることができる。これにより、インクジェット法で好適に塗布成膜することができる。
第2溶媒が第1溶媒よりも低い沸点を有する場合には、第1溶媒よりも先に第2溶媒が蒸発するので、インク組成物を塗布し溶媒を除去したときに、平滑な有機薄膜層3を形成することができる。また、有機薄膜層3の有機EL素子用有機材料の純度を向上させることができる。
逆に、第2溶媒が第1溶媒よりも高い沸点を有する場合には、溶媒の除去工程において、有機材料に対して溶解性のある第1溶媒が第2溶媒よりも早く蒸発してしまい、有機EL素子用有機材料の析出などが発生して、平滑な有機薄膜層3を形成することができない。
なお、第2溶媒は、第1溶媒と容易に混合するものが好ましい。これにより、均一なインク組成物を作製することが出来る。
上記に示した本発明の実施形態であるインク組成物を用いて、第1電極2上に、有機薄膜層3を形成する。有機薄膜層3は発光層単層からなるものとして、以下の説明を行う。
まず、発光層を構成する有機EL素子用有機材料をインク用溶媒に溶解してインク組成物を調整した後、このインク組成物を、インクジェット法により第1電極2上に塗布する。
<溶媒除去工程:予備乾燥工程>
次に、これを大気圧下で加熱して予備乾燥して、インク組成物に含まれるインク用溶媒を除去する。この段階では、第2溶媒が主に除去される。なお、溶媒除去工程の加熱方法は、オーブン、ホットプレートなど従来公知の方法を使用することができる。
<溶媒除去工程:本乾燥工程>
次に、窒素雰囲気中で予備乾燥工程の加熱温度以上の温度で加熱(本乾燥)して、インク組成物に含まれるインク用溶媒を完全に除去することにより有機EL素子用の有機薄膜層3を形成する。この段階では、第1溶媒が主に除去される。
残留溶媒は、有機薄膜層3における導電性および発光特性に影響するが、予備乾燥工程と本乾燥工程の2つの工程により溶媒除去を行うことにより、溶媒を有機薄膜層3に残留させることなく、溶媒を段階的に確実に有機薄膜層3から除去することができ、有機薄膜層3における有機EL素子用有機材料の純度を向上させて、有機EL素子の発光効率を向上させることができる。
特に、真空下で加熱乾燥して溶媒除去を行った場合には、有機薄膜層3の膜密度が変化して、有機EL素子の発光効率が低下したり、有機EL素子が高抵抗化する場合があるが、大気圧下で加熱する予備乾燥工程を行った場合には、有機薄膜層3の膜密度を変化させることはない。
最後に、図1に示すように、有機薄膜層3上に、真空蒸着法、スパッタ法などのような公知の方法により第2電極4を形成する。
第2電極4の材料としては、仕事関数の低い金属が好ましく、たとえば、Li、Na、Csなどのアルカリ金属、Ca、Ba、Mgなどのアルカリ土類金属、LiFなどのアルカリ金属のハロゲン化物またはアルカリ土類金属のハロゲン化物、アルカリ金属、アルカリ土類金属およびそれらのハロゲン化物とAlとの積層構造、または、Mg−Ag合金などを用いることができるが、本発明は、これらに限られるものではない。これにより、第2電極4と有機薄膜層3との間の電子注入障壁を低くすることができ、第2電極4から有機薄膜層3へ電子を注入させやすくすることができる。
以上のような有機EL素子の作製方法を用いて、有機EL素子10を形成することができ、このような有機EL素子10を素子基板上にアレイ状に配列することで有機ELディスプレイを作製することが出来る。
図2は、本発明の実施形態である有機EL素子の作製方法を用いて作製した有機EL素子の別の一例を示す断面図である。図2に示すように、有機EL素子11は、第1電極2上に隔壁5が形成されているほかは実施形態1と同様の構成とされている。なお、実施形態1で用いられた部材と同様の部材には同じ符号を付して示している。
有機薄膜層3は、隔壁5に取り囲まれて形成されている。これにより、有機薄膜層3を明確に区画して高精細な有機ELディスプレイを作製することができる。
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。しかし、本発明はこれらの実施例にのみ限定されるものではない。
本発明のインク組成物を、次にようにして調整した。
まず、表1に示す試験例1〜15の溶媒を用意した。ここで、試験例1〜6および試験例12〜14の溶媒は単一の材料からなる溶媒とし、試験例7〜11および試験例15の溶媒は2種の材料からなる混合溶媒とした。
なお、各溶媒の沸点、蒸気圧、粘度および第1溶媒と第2溶媒の混合比を表1にまとめた。
なお、前記共重合高分子poly(HMTPD−PBD)の質量平均分子量、濃度を表2にまとめた。
なお、下記構造式(3)で示されるPVCzからなる高分子材料の質量平均分子量、濃度を表2にまとめた。
試験例4のインク組成物は、溶媒としてo−ジクロロベンゼン100%を用い、材料濃度を4%と高濃度にすることにより、インクジェットに適した粘度が得られ、吐出が可能となった。
試験例5、6のインク組成物は、溶媒としてテトラリン100%を用いたが、粘度が上がらず良好な吐出はできなかった。
試験例9、10のインク組成物は、溶媒として沸点200℃以上のo−ジメトキシベンゼンやフェニルシクロヘキサンの芳香族化合物溶媒50%とシクロヘキサノール50%の混合溶媒を用いることにより、粘度が上がり、良好な吐出が可能となった。
試験例13のインク組成物は、高分子の質量平均分子量が110万と非常に高くしたのでインクジェット法に適した粘度10.2mPa・sが得られたが、高分子の粘弾性によって、ノズルでインクが切れずに目詰まりが発生して、吐出はできなかった。
試験例14のインク組成物は、粘度が上がらず良好な吐出はできなかった。
試験例15のインク組成物は、o−ジメトキシベンゼン60%とシクロヘキサノール40%の混合溶媒を用いることにより、粘度が上がり、良好な吐出が可能となった。
このように、低分子系材料や非共役系高分子を用いる場合、シクロヘキサノールと、これよりも乾燥速度の遅く、有機材料の溶解性がある溶媒を混合することで、インクジェット法で良好に吐出でき、かつ、有機EL素子に適した平滑な薄膜が得られる。
まず、所定の方法を用いて洗浄した25×35mm角のガラス基板上に、ITO電極(陽極)をパターニングした後、前記ITO電極(陽極)上に厚さ2μmのポリイミド層を形成した。その後、フォトリソグラフィー法により、前記ポリイミド層に、250μm×90μmの楕円形状の開口部を6×9個形成し、ITO表面を露出させた。
次に、O2プラズマ処理により、前記ポリイミド層および前記ITO電極(陽極)の表面をクリーニングした後、CF4プラズマ処理により、前記ポリイミド層の表面を撥液性にした。
最後に、UV硬化樹脂を用いて、ガラスキャップを基板上に接着することにより、前記有機EL素子を封止した。
「大気圧下で加熱予備乾燥」して溶媒を除去して作製した有機EL素子に比べ、「真空環境下で予備乾燥」して溶媒を除去して作製した有機EL素子は同じ電圧での発光効率や電流密度が低かった。一方、「大気圧下で加熱予備乾燥」して溶媒を除去して作製した有機EL素子同士を比較すると、電流密度はほとんど変わらないが、本乾燥を高温で行って作製した有機EL素子の発光効率が高いことが分かった。
Claims (10)
- インクジェット法により有機EL素子用の有機薄膜層を形成するために用いられるインク組成物であって、
前記インク組成物は、有機EL素子用有機材料に含まれる高分子材料が2質量%以上4質量%未満の濃度でインク用溶媒に溶解されてなり、9.4〜20mPa・sの粘度を有しており、
前記高分子材料は質量平均分子量が50万以下であり、
前記インク用溶媒は、前記有機EL素子用有機材料を溶解する第1溶媒と、20mPa・s以上の粘度を有するとともに前記第1溶媒よりも低い沸点を有する第2溶媒と、の少なくとも2種類以上の溶媒を含むことを特徴とするインク組成物。 - 前記第1溶媒が芳香族化合物であることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
- 前記第2溶媒がアルコール化合物であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のインク組成物。
- 前記第2溶媒がシクロヘキサノールであることを特徴とする請求項3に記載のインク組成物。
- 前記有機EL素子用有機材料が非共役系高分子であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のインク組成物。
- 前記非共役系高分子がビニル基を主鎖とすることを特徴とする請求項5に記載のインク組成物。
- 前記有機EL素子用有機材料に重原子化合物が含まれていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のインク組成物。
- 前記重原子化合物がイリジウムを中心元素とする金属錯体であることを特徴とする請求項7に記載のインク組成物。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載のインク組成物をインクジェット法により素子基板上に塗布する塗布工程と、前記インク組成物に含まれるインク用溶媒を除去することにより有機EL素子用の有機薄膜層を形成する溶媒除去工程と、を有することを特徴とする有機EL素子の作製方法。
- 前記溶媒除去工程が、大気圧下で加熱して予備乾燥する予備乾燥工程と、窒素雰囲気中で前記予備乾燥工程の加熱温度以上の温度で加熱する本乾燥工程と、を有することを特徴とする請求項9に記載の有機EL素子の作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008118440A JP5053165B2 (ja) | 2008-04-30 | 2008-04-30 | インク組成物、有機el素子の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008118440A JP5053165B2 (ja) | 2008-04-30 | 2008-04-30 | インク組成物、有機el素子の作製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009267299A JP2009267299A (ja) | 2009-11-12 |
JP5053165B2 true JP5053165B2 (ja) | 2012-10-17 |
Family
ID=41392733
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008118440A Expired - Fee Related JP5053165B2 (ja) | 2008-04-30 | 2008-04-30 | インク組成物、有機el素子の作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5053165B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017210578A (ja) * | 2016-05-27 | 2017-11-30 | 協立化学産業株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20120001734A (ko) * | 2009-03-27 | 2012-01-04 | 후지필름 가부시키가이샤 | 유기 전계 발광 소자용 도포액 |
DE102011008463B4 (de) | 2010-01-15 | 2022-01-13 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Verfahren zur Herstellung einer flüssigen Zusammensetzung für eine organische Halbleitervorrichtung |
JP2011204524A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 発光装置の製造方法 |
US9379323B2 (en) * | 2010-04-12 | 2016-06-28 | Merck Patent Gmbh | Composition having improved performance |
EP2590481B1 (en) | 2010-07-01 | 2021-11-24 | Joled Inc. | Ink for organic light emitting element and method for manufacturing an organic light emitting element |
JPWO2012063656A1 (ja) * | 2010-11-08 | 2014-05-12 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JPWO2012098580A1 (ja) | 2011-01-19 | 2014-06-09 | パナソニック株式会社 | 有機発光素子の製造方法、有機表示パネル、有機発光装置、機能層の形成方法、インク、基板、有機発光素子、有機表示装置、および、インクジェット装置 |
WO2012098577A1 (ja) | 2011-01-19 | 2012-07-26 | パナソニック株式会社 | 有機発光素子の製造方法、有機表示パネル、有機発光装置、機能層の形成方法、インク、基板、有機発光素子、有機表示装置、および、インクジェット装置 |
WO2012098576A1 (ja) | 2011-01-19 | 2012-07-26 | パナソニック株式会社 | 有機発光素子の製造方法、有機表示パネル、有機発光装置、機能層の形成方法、インク、基板、有機発光素子、有機表示装置、および、インクジェット装置 |
US8980678B2 (en) | 2011-01-19 | 2015-03-17 | Panasonic Corporation | Method for producing organic light-emitting element, organic display panel, organic light-emitting device, method for forming functional layer, ink, substrate, organic light-emitting element, organic display device, and inkjet device |
WO2013046592A1 (ja) | 2011-09-28 | 2013-04-04 | 凸版印刷株式会社 | 有機el素子、有機el素子の製造方法 |
JP6031651B2 (ja) | 2012-03-27 | 2016-11-24 | 株式会社Joled | 有機薄膜素子の製造方法、有機薄膜素子の製造装置、有機膜の形成方法および有機el素子の製造方法 |
JPWO2013187026A1 (ja) | 2012-06-13 | 2016-02-04 | 株式会社Joled | 真空チャンバー内の不純物質除去方法、真空装置の使用方法および製品の製造方法 |
WO2013190764A1 (ja) | 2012-06-20 | 2013-12-27 | パナソニック株式会社 | 有機el素子の製造方法、有機el素子、有機el表示パネル、有機el表示装置および有機el発光装置 |
JP6082974B2 (ja) * | 2012-08-09 | 2017-02-22 | 株式会社Joled | 有機膜の製造方法と有機elパネルの製造方法 |
JP6225413B2 (ja) | 2012-11-16 | 2017-11-08 | セイコーエプソン株式会社 | 機能層形成用インク、インク容器、吐出装置、機能層の形成方法、有機el素子の製造方法 |
KR102145424B1 (ko) * | 2013-11-11 | 2020-08-18 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시장치 제조용 잉크 및 이를 이용한 표시장치의 제조방법 |
US10323181B2 (en) | 2015-01-26 | 2019-06-18 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Composition containing phosphorescent compound and light emitting device using the same |
US11069856B2 (en) | 2016-09-07 | 2021-07-20 | Joled Inc. | Solution for organic EL, method of producing organic EL device and organic EL device |
JP2021077783A (ja) | 2019-11-11 | 2021-05-20 | 株式会社Joled | 機能層形成用インクおよび自発光素子の製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005225978A (ja) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 有機電界発光素子用材料およびそれを用いた有機電界発光素子 |
JP4616596B2 (ja) * | 2004-08-27 | 2011-01-19 | 株式会社 日立ディスプレイズ | 電子装置の製造方法 |
JP4984560B2 (ja) * | 2006-02-10 | 2012-07-25 | 凸版印刷株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
-
2008
- 2008-04-30 JP JP2008118440A patent/JP5053165B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017210578A (ja) * | 2016-05-27 | 2017-11-30 | 協立化学産業株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009267299A (ja) | 2009-11-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5053165B2 (ja) | インク組成物、有機el素子の作製方法 | |
JP6578629B2 (ja) | 機能層形成用インク、発光素子の製造方法 | |
JP5314393B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP3918617B2 (ja) | 有機elディスプレイおよびその製造方法 | |
JP4898850B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子用インクジェットインクおよび有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP2001167878A (ja) | 有機led層形成用塗液とそれを用いた有機led素子の製造方法 | |
JP6658043B2 (ja) | 有機el表示装置およびその製造方法 | |
JP2007049153A (ja) | エレクトロルミネセンスデバイスおよびエレクトロルミネセンスデバイスの製造方法 | |
JP2007242272A (ja) | エレクトロルミネッセント素子の製造方法 | |
WO2010104183A1 (ja) | 有機電界発光素子用組成物、有機電界発光素子、有機elディスプレイ及び有機el照明 | |
JP2007134693A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP2010040512A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 | |
JP2007273093A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
WO2009119558A1 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 | |
JP2007250718A (ja) | エレクトロルミネッセント素子およびその製造方法 | |
JP2009021343A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
WO2010024136A1 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 | |
WO2012090560A1 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 | |
JP2009181774A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法、面状光源、照明装置ならびに表示装置 | |
JP2004140004A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス装置並びに電子機器 | |
JP2007242816A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンスデバイス及びその製造方法 | |
JP4980795B2 (ja) | 正孔注入層用溶液、有機el素子の製造方法 | |
JP5499612B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 | |
JP4835467B2 (ja) | 有機発光素子およびその製造方法 | |
JP2007250719A (ja) | 有機エレクトロルミネッセント素子およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101201 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120413 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120515 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120608 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120626 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120725 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5053165 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150803 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |