JP5052113B2 - 半導体集積回路装置 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体集積回路装置に関し、例えば、内部回路からのデジタルデータを、パッドを介して外部へ出力する半導体集積回路装置に関する。
近年、NAND型フラッシュメモリ等の半導体集積回路装置において、データ出力に用いられるI/O電源電圧は、低消費電力およびノイズ低減の理由から低下傾向にある。I/O電源電圧が低下すると、データ出力回路のコンダクタンスが低下するという問題が生じる。例えば、P型トランジスタを介してI/O電源をI/Oパッドにスイッチングしている場合、I/O電源電圧の低下によって、ON動作時におけるP型トランジスタのゲート−ソース間電圧が低下する。これにより、P型トランジスタのコンダクタンスが低下し、出力スルーレートが低下する。即ち、半導体集積回路装置のデータ出力速度が低下する。
特開平11−120784号公報
データ出力用の高電圧源が低い場合であっても、データ出力速度の遅れを抑制することができる半導体集積回路装置を提供する。
本発明に係る実施形態に従った半導体集積回路装置は、内部回路からのデジタルデータを、パッドを介して外部へ出力する半導体集積回路装置であって、
第1論理値に対応する出力用低電圧と前記パッドとの間に接続され、前記デジタルデータが第1論理値である場合に、前記出力用低電圧を前記パッドに接続する第1導電型の第1のトランジスタと、前記第1論理値とは逆論理の第2論理値に対応する出力用高電圧と前記パッドとの間に接続され、前記デジタルデータが第2論理値である場合に、前記出力用高電圧を前記パッドに接続する第2導電型の第2のトランジスタと、前記出力用高電圧と前記パッドとの間に前記第2のトランジスタに対して並列接続され、前記デジタルデータが第2論理値である場合に、前記出力用高電圧に依存せず前記デジタルデータの論理値に依存するゲート電圧を受けて前記出力用高電圧を前記パッドに接続する第1導電型の第3のトランジスタとを備えている。
本発明による半導体集積回路装置は、データ出力用の高電圧源が低い場合であっても、データ出力速度の遅れを抑制することができる。
以下、図面を参照して本発明に係る実施形態を説明する。本実施形態は、本発明を限定するものではない。
(第1の実施形態)
図1は、本発明に係る実施形態に従ったフラッシュメモリの全体の構成を示すブロック図である。メモリセルアレイ100は、複数個のスタックト・ゲート構造の電気的書き換え可能な不揮発性メモリセルを直列接続したNANDセルユニット(図示せず)を備えている。各NANDセルユニットは、ドレイン側がビット線に接続され、ソース側が共通ソース線に接続される。ロウ方向に並ぶメモリセルの制御ゲートは共通にワード線に接続される。書き換え/読み出し回路140は、ページ単位のデータ書き込み及び読み出しを行うために、ビット線毎に設けられたセンスアンプ回路およびラッチ回路を含み、以後ページバッファと称する。
入出力バッファ3は、データの入出力及びアドレス信号の入力に用いられる。即ち、入出力バッファ3を介して、I/O端子I/O0〜I/O7とデータ書き換え/読み出し回路140の間でデータの転送が行われる。I/O端子から入力されるアドレス信号
は、アドレスレジスタ180に保持され、ロウデコーダ120及びカラムデコーダ150に送られてデコードされる。
I/O端子からは動作制御のコマンドも入力される。入力されたコマンドはデコードされてコマンドレジスタ170に保持され、これにより制御回路110が制御される。チップイネーブル信号CEB、コマンドラッチイネーブルCLE、アドレスラッチイネーブル信号ALE、書き込みイネーブル信号WEB、読み出しイネーブル信号REB等の外部制御信号は動作ロジックコントロール回路190に取り込まれ、動作モードに応じて内部制御信号が発生される。内部制御信号は、入出力バッファ3でのデータラッチ、転送等の制御に用いられ、また制御回路110に送られて、動作制御が行われる。レディ/ビジーレジスタ210は、チップがレディ状態にあるか、ビジー状態にあるかを外部に知らせる。
尚、ここでは半導体集積回路装置の実施形態としてNAND型フラッシュメモリを開示している。しかし、本発明は、DRAM、CPU、ロジックLSI等、デジタルデータを出力する総ての半導体集積回路装置に適用することができる。
図2は、データ入出力回路3内のデータ出力部の構成を示す図である。データ出力部は、データ制御回路10と、第1の駆動回路としてのTN1駆動回路20と、第2の駆動回路としてのTP駆動回路30と、第3の駆動回路としてのTN2駆動回路40と、第1のトランジスタとしてのN型電界効果型トランジスタTN1と、第2のトランジスタとしてのP型電界効果型トランジスタTPと、第3のトランジスタとしてのN型電界効果型トランジスタTN2とを備えている。トランジスタTN1がロウレベル(VSS)出力用のトランジスタであり、トランジスタTPおよびTN2がハイレベル(VCCQ)出力用のトランジスタである。
データ出力部は、電圧源として、VCC、VDD、VCCQ、VSSを用いる。VCCは、上述の通りチップ外部から端子13を介してチップ内へ供給される外部電源電圧である。VDDは、外部電源電圧VCCを降圧回路15で降圧した電圧(以下、内部降圧電位という)である。VCCQは、メモリセルに格納されたデジタルデータが論理ハイ(データBDATAが論理ロウ)であるときに、入出力端子4を介して外部へ出力される電圧(以下、出力用高電圧という)である。VSSは、メモリセルに格納されたデジタルデータが論理ロウ(データBDATAが論理ハイ)であるときに、入出力端子4を介して外部へ出力される電圧(以下、出力用低電圧という)である。これらの電源電圧は、VCC>VDD>VCCQ>VSSという関係を有する。VCCは、例えば、3Vとすると、VDDは、VCCを降圧した電圧、例えば、2〜2.7Vである。VCCQは、例えば、1.8Vであり、VSSは、接地電位である。以下、論理ハイは、単に、ハイまたはハイレベルといい、論理ロウは、単に、ロウまたはロウレベルという。尚、VCCQおよびVSSは、データ入力時にも使用され得る。
トランジスタTN1は、出力用低電圧VSSと入出力端子4との間に接続されており、デジタルデータがロウ(BDATAがハイ)である場合に、出力用低電圧VSSを入出力端子4に接続する。トランジスタTPは、出力用高電圧VCCQと入出力端子4との間に接続されており、デジタルデータがハイ(BDATAがロウ)である場合に、出力用高電圧VCCQを入出力端子4に接続する。トランジスタTN2は、出力用高電圧VCCQと入出力端子4との間にトランジスタTPに対して並列接続され、デジタルデータがハイである場合に、出力用高電圧VCCQを入出力端子4に接続する。即ち、トランジスタTN1は、メモリセルに格納されたデータがロウであるときに活性化され、それがハイであるときに非活性になる。トランジスタTPおよびTN2は、メモリセルに格納されたデータがハイであるときに活性化され、それがロウであるときに非活性になる。
TN1駆動回路20は、トランジスタTN1のゲートに接続され、メモリセルに格納されたデジタルデータがロウ(BDATAがハイ)である場合にトランジスタTN1をオンにし、このデータがハイ(BDATAがロウ)である場合にトランジスタTN1をオフにする。TP駆動回路30は、トランジスタTPのゲートに接続され、デジタルデータがロウ(BDATAがハイ)である場合にトランジスタTPをオフにし、このデータがハイ(BDATAがロウ)である場合にトランジスタTN2をオンにする。TN2駆動回路40は、トランジスタTN2のゲートに接続され、デジタルデータがロウ(BDATAがハイ)である場合にトランジスタTN2をオフにし、デジタルデータがハイ(BDATAがロウ)である場合にトランジスタTN2をオンにする。
データ制御回路10は、メモリセルに格納されたデータを図1に示す読出し回路140を介して得る。尚、本実施形態では、データ出力部は、メモリセルに格納されたデータの反転データBDATAを受け取る。データ制御回路10は、BDATAの論理値に応じてTN1駆動回路20、TP駆動回路30およびTN2駆動回路40が上述のように動作するように制御する。
図3は、データ制御回路10の構成を示す図である。図4は、TN1駆動回路20、TP駆動回路30、TN2駆動回路40およびデータ出力回路の各構成を示す図である。
データ制御回路10は、第1の遅延回路DLY1、第2の遅延回路DLY2、NANDゲートG1およびNORゲートG2を含む。NANDゲートG1は、第1の遅延回路DLY1の出力と、信号BDATAとを入力し、それらのAND演算結果を信号out_lowとして出力する。NORゲートG2は、第2の遅延回路DLY2の出力と、信号BDATAとを入力し、それらのOR演算結果を信号out_hiとして出力する。これにより、データ制御回路10は、BDATAがロウからハイに遷移した場合に、信号out_hiおよびout_lowを論理ハイにし、BDATAがハイからロウに遷移した場合に、信号out_hiおよびout_lowをロウにする。
信号outは、BDATAをデータ制御回路10に入力するタイミングを決定する信号である。信号outを契機にデータ出力部が動作を開始し、BDATAに基づく出力信号を入出力端子4から出力する。
第1の遅延回路DLY1および第2の遅延回路DLY2は、信号out_hiおよびout_lowの立上がりまたは立下がりのタイミングを相互にシフトさせる。より詳細には、BDATAがハイである場合に、NORゲートG2は、第2の遅延回路DLY2による信号の遅延に関わらず、信号out_hiをハイに立ち上げる。このとき、NANDゲートG1は、NORゲートG2に比べて、第1の遅延回路DLY1の出力信号の遅延分T1だけ遅れて信号out_lowをハイに立ち上げる。逆に、BDATAがロウである場合に、NANDゲートG1は、第1の遅延回路DLY1による信号の遅延に関わらず、信号out_lowをロウに立ち下げる。このとき、NORゲートG2は、NANDゲートG1に比べて、第2の遅延回路DLY2の出力信号の遅延分T2だけ遅れて信号out_hiをロウに立ち下げる。
データ制御回路10がこのように動作することによって、デジタルデータがハイからロウに遷移するとき(BDATAがロウからハイに遷移するとき)、トランジスタTPおよびTN2をオフにした後に、トランジスタTN1をオンにする。逆に、デジタルデータがロウからハイに遷移するとき(BDATAがハイからロウに遷移するとき)、トランジスタTN1をオフにした後に、トランジスタTPおよびTN2をオンにする。これにより、トランジスタTN1とトランジスタTP、TN2とが同時にオンする期間を無くす。その結果、図2に示す電圧減VCCQからVSSへの貫通電流を防止することができる。
図4に示すように、TN1駆動回路20は、信号out_lowを受け取り、これをトランジスタTN1のゲート信号NLOとして出力する。TP駆動回路30は、信号out_hiを受け取り、これをVCCQまたはVSSに変換するレベルシフタ回路を具備している。TP駆動回路30は、VCCQまたはVSSのいずれかをトランジスタTPのゲート電圧PHIとして出力する。TN2駆動回路40は、信号out_hiを受け取り、これをトランジスタTN2のゲート信号NHIとして出力する。本実施形態では、TN1駆動回路20は、内部降圧電位VDDまたはVSSをトランジスタTN1のゲート電圧NLOとして出力する。TN2駆動回路40は、内部降圧電位VDDまたはVSSをトランジスタTN2のゲート電圧NHIとして出力する。
尚、通常の製品では、出力ピンと入力ピンとが共通に接触するI/O(インプット/アウトプット)パッドを有する場合が多い。従って、外部データをメモリ内へ取り込む時には、データ出力部は、高インピーダンス状態にする必要がある。このために、通常、出力イネーブル制御回路が設けられているが、本実施形態では省略されている。
図5は、本実施形態によるデータ出力部の動作を示すタイミング図である。まず、BDATAがロウからハイに立ち上がる。即ち、メモリセルから読み出されたデータはロウである。t1において、信号outが活性化されることによって、データ出力部がBDATAに基づいた動作を開始する。t1の直後、信号out_hiは、ハイに立ち上がる。これにより、TP駆動回路30およびTN2駆動回路40は信号PHIおよびNHIをそれぞれハイおよびロウにする。その結果、トランジスタTPおよびトランジスタTN2はオフになる。一方、t2において、信号out_lowは、上述の通り、信号out_hiよりも第1の遅延回路DLY1の遅延時間T1だけ遅れてハイに立ち上がる。これにより、TN1駆動回路20は信号NLOをハイにする。その結果、トランジスタTN1はオンになる。
t3において、トランジスタTN1がオンになると、入出力端子4からの出力信号の電圧は、ロウ(VSS)になる。その後t7まで、入出力端子4は、ロウレベルの出力信号を出力する。
t4において、信号outがロウに立ち下がるが、BDATAは、データ制御回路10内でラッチされているので、信号out_hiおよびout_lowは維持される。信号outがロウレベルになることによって、データ制御回路10は、BDATAの受信を停止する。
次に、BDATAがロウに立ち下がる。即ち、このときメモリセルから読み出されたデータはハイである。t5において、信号outが活性化されることによって、データ出力部が信号BDATAに基づいた動作を再度開始する。t5の直後、信号out_lowは、ロウに立ち下がる。これにより、TN1駆動回路20は信号NLOをロウにする。その結果、トランジスタTN1はオフになる。一方、t6において、信号out_hiは、上述の通り、信号out_lowよりも第2の遅延回路DLY2の遅延時間T2だけ遅れてロウに立ち下がる。これにより、TP駆動回路30およびTN2駆動回路40は信号PHIおよびNHIをそれぞれロウおよびハイにする。その結果、トランジスタTPおよびTN2はオンになる。
t7において、トランジスタTPおよびTN2がオンになると、入出力端子4からの出力信号の電圧は、ハイ(VCCQ)になる。このときの入出力端子4からの出力信号がVSSからVCCQ/2まで立ち上がる時間をT0とする。
図6は、出力信号の立ち上がり時間T0と出力用高電圧VCCQとの関係を示すグラフである。一般に、NAND型フラッシュメモリの出力データの立上がり速度は、VSSからVCCQ/2までの立上がり時間T0で判断する。従って、時間T0が短いほど、データ出力速度が速いと言うことができる。
従来技術では、図2に示すトランジスタTN2およびTN2駆動回路40が設けられておらず、トランジスタTPのみで出力用高電圧VCCQを入出力端子4へ接続していた。尚、この従来技術に使用されたトランジスタTPのサイズ(ゲート幅)は、約850μmである。この場合、出力用高電圧VCCQが低下すると、立上がり時間T0は、長くなる。これは、データ出力速度が遅くなることを意味する。
出力用高電圧VCCQの低下により、時間T0が長くなる理由は次の通りである。P型トランジスタTPがオンであるときに、P型トランジスタTPのゲートにVSS=0Vを印加する。よって、P型トランジスタTPのゲート−ソース間電圧の絶対値(|VCCQ−PHI|)は、実質的にVCCQに等しくなる。従って、VCCQが低下すると、トランジスタTPのコンダクタンスが低下し、その結果、データ出力部のスルーレートが低下する。つまり、従来、データ出力部のスルーレートは、I/O電源電圧としての出力用高電圧VCCQに大きく依存する。このため、出力用高電圧VCCQの低下により、時間T0が長くなってしまうのである。
これに対処するために、トランジスタTPのサイズ(ゲート幅)を大きくすることが考えられる。しかし、例えば、VCCQが1.8Vとすると、電圧保証範囲は、通常、1.65〜1.95Vである。さらに、動作マージンを考慮すれば、VCCQは、1.55〜2.05の範囲で立上がり時間T0のスペックを満足しなければならない。ここで、トランジスタTPのサイズは、VCCQ=1.55Vのときの時間T0がスペックを満たすように設定される必要がある。この場合、トランジスタTPのサイズは、非常に大きなサイズとなる。しかし、トランジスタTPのサイズが過剰に大きいと、VCCQ=2.05Vの場合には、必要以上にトランジスタTPの駆動能力が大きくなり、出力ノイズが大きくなるという問題が生じる。
これに対し、本実施形態では、N型トランジスタTN2がP型トランジスタTPに対して並列に接続されることにより、相補的にVCCQを入出力端子4へ接続する。トランジスタTN2のゲート−ソース間電圧(NHIと入出力端子4の電位との差)は、VCCQの大きさに依存せず、NHIの電位に依存する。従って、本実施形態では、VCCQを低下させても、NHIの電位を高く維持することによって、トランジスタTN2のスイッチング速度を高速に維持することができる。その結果、図6に示すように、本実施形態では、VCCQが低下しても、立上がり時間T0が上昇しない。即ち、データ出力速度は、速い状態を維持する。
尚、このとき用いたトランジスタTPのサイズ(ゲート幅)は500μmであり、トランジスタTN2のサイズは200μmである。つまり、本実施形態のトランジスタTPおよびトランジスタTN2のサイズの和(750μm)は、従来のトランジスタTPのサイズ(800μm)よりも小さい。それにもかかわらず、本実施形態によるデータ出力部のデータ出力速度は、従来のそれよりも速い。
上述の通り、N型トランジスタTN2のゲート−ソース間電圧は、VCCQの大きさに依存せず、NHIの電位に依存する。従って、N型トランジスタTN2は、信号NHIの立上がり当初において、入出力端子4の電位を速く立ち上げる。しかし、入出力端子4の電位が上昇することによってNHIと入出力端子4との電位差が小さくなると、トランジスタTN2の駆動能力が低下する。一方、P型トランジスタTPの駆動能力は、トランジスタTN2の駆動能力と比べて、入出力端子4の電位の上昇による低下率が小さい。このため、入出力端子4の電位が上昇した後でも、P型トランジスタTPは、飽和領域で動作している限り、ゲート−ソース間電圧の絶対値(|VCCQ−PHI|)に基づいた駆動能力を維持する。従って、トランジスタTPは、トランジスタTN2が立ち上げた入出力端子4の電位をさらに高速に上昇させる。このように、トランジスタTPおよびTN2は、互いに相補的に作用し、出力用高電圧VCCQが低下しても、入出力端子4からの出力電位を短時間で立ち上げることができる。その結果、本実施形態によるフラッシュメモリは、出力用高電圧VCCQが低い場合であっても、データ出力速度の遅れを抑制できる。
また、トランジスタTPが設けられていない場合、トランジスタTN2は、入出力端子4の電位を、NHIの電位からトランジスタTN2の閾値電圧を減算した電位(VNHI−Vth)までしか充電できない。従って、トランジスタTPが無い場合、NHIの電位は必ずVCCQ+Vth+α(マージン)まで上昇させないと、入出力端子4の電位をVCCQとすることができない。しかしながら、トランジスタTPを設けることによって、入出力端子4の電位を、NHIの電位まで上昇させることができる。このように、トランジスタTPおよびTN2は、データ出力速度の観点だけでなく、入出力端子4からの出力電圧の観点においても、互いに相補的に作用している。
さらに、高電圧出力のためのトランジスタを相補型にすることによって、トランジスタTPおよびTN2のサイズを従来よりも小さくすることができる。これは、ピン容量および出力ノイズの低減につながる。
本実施形態において、トランジスタTN2のゲート電位NHIのハイレベル電位(メモリセルのデータがハイのときのNHIの電位)は、PHIのハイレベル電位VCCQ(メモリセルのデータがロウのときのPHIの電位)よりも高い内部降圧電位VDDである。しかし、トランジスタTN2のゲート電位NHIのハイレベル電位は、低消費電力のためにPHIのハイレベル電位VCCQと等しくてもよい。ただし、データ出力の高速化の観点からは、NHIのハイレベル電位はPHIのハイレベル電位より高い方が好ましい。
(第2の実施形態)
図7は、本発明に係る第2の実施形態に従ったデータ出力部の構成を示す図である。第2の実施形態では、ハイレベル出力用トランジスタTPおよびTN2のゲート電圧がロウレベル出力用のTN1駆動回路20へフィードバックされている。ロウレベル出力用トランジスタTN1のゲート電圧がハイレベル出力用のTP駆動回路30およびTN2駆動回路40へフィードバックされている。
メモリセルのデータがハイであるときに、トランジスタTN2のゲート電圧NHIは、内部降圧電位VDDに等しい。
TN1駆動回路20は、VDDとVSSとの間に介在するP型フィードバックトランジスタTPF1を含む。トランジスタTPF1は、トランジスタTPのゲート電位PHIの反転信号をゲート電圧として受ける。即ち、トランジスタTPF1は、ゲート電位PHIの反転信号のフィードバックを受けて、トランジスタTPとは逆のスイッチング動作を行う。例えば、メモリセルのデータがロウであるときに、TN1駆動回路20は、トランジスタTPのゲート電位VCCQを受ける。トランジスタTPF1は、ハイレベルVCCQの反転信号VSSを受けて、オンし、ハイレベル電位VDDを信号NLOとして出力する。トランジスタTN1は、ハイレベル電位VDDを受けて自己整合的にオンになる。これにより、ロウレベルVSSが端子4から出力される。尚、トランジスタTPF1は、トランジスタTN2のゲート電位NHIをゲート電圧として受けてもよい。この場合も、TN1駆動回路20は、同様に動作する。
TP駆動回路30は、VDDとVSSとの間に介在するN型フィードバックトランジスタTNF1を含む。トランジスタTNF1は、トランジスタTN1のゲート電位NLOの反転信号をゲート電圧として受ける。即ち、トランジスタTNF1は、トランジスタTN1とは逆のスイッチング動作を行う。例えば、メモリセルのデータがハイであるときに、TP駆動回路30は、トランジスタTN1のゲート電位VSSを受ける。トランジスタTNF1は、ロウレベルVSSの反転信号VDDを受けて、ロウレベル電位VSSを信号PHIとして出力する。トランジスタTPは、ロウレベル電位VSSを受けて自己整合的にオンになる。
TN2駆動回路40は、VDDとVSSとの間に介在するP型フィードバックトランジスタTPF2を含む。トランジスタTPF2は、電位NLOをゲート電圧として受ける。即ち、トランジスタTPF2は、トランジスタTN1とは逆のスイッチング動作を行う。例えば、メモリセルのデータがハイであるときに、TN2駆動回路40は、トランジスタTN1のゲート電位VSSを受ける。トランジスタTPF2は、ロウレベル電位VSSを受けて、ハイレベル電位VDDを信号NHIとして出力する。トランジスタTN2は、信号NHIを受けて自己整合的にオンになる。
このように、TN1駆動回路20、TP駆動回路30およびTN2駆動回路40を駆動させることにより、トランジスタTN1がオンするときには、トランジスタTPおよびTN2を自己整合的にオフにし、トランジスタTPおよびTN2がオンするときには、トランジスタTN1を自己整合的にオフにする。その結果、VCCQからVSSへの貫通電流を自己整合的(自動的)に抑制することができる。
第2の実施形態において、データ制御回路10は単一の信号out_dataを出力すれば足りる。従って、データ制御回路10は、遅延回路DLY1、DLY2、ゲートG1およびG2を不要とし、簡略化される。さらに、第2の実施形態は、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
NHIの電位は、VCCQよりも高いことが好ましい。第2の実施形態では、NHIのハイレベル電位(メモリセルのデータがハイのときのNHIの電位)は内部降圧電位VDDであり、NLOのハイレベル電位(メモリセルのデータがロウのときのNLOの電位)は内部降圧電位VDDである。ただし、NHIおよびNLOが等電位である必要は必ずしも無い。
(第3の実施形態)
図8は、本発明に係る第3の実施形態に従ったデータ出力部の構成を示す図である。第3の実施形態は、TN2駆動回路40の電源として外部電源電圧VCCを用いている点で第1および第2の実施形態と異なる。第3の実施形態のその他の構成は、第2の実施形態と同様である。即ち、第3の実施形態は、ハイレベル出力用トランジスタTPおよびTN2のゲート電圧がロウレベル出力用のTN1駆動回路20へフィードバックされている点で第2の実施形態と同様である。これにより、メモリセルのデータがロウであるときにトランジスタTPのゲート電圧PHIは、出力用高電圧VCCQに等しい。また、メモリセルのデータがハイであるときにトランジスタTN2のゲート電圧NHIは、外部電源電圧VCCに等しい。
外部電源電圧VCCは、内部降圧電位VDDよりの高いので、第3の実施形態は、第2の実施形態よりもトランジスタTN2の駆動能力を高めることができる。これにより、第3の実施形態は、データ出力速度の遅れをさらに抑制することができる。例えば、第3の実施形態は、外部電源電圧VCC=3.3V、出力用高電圧VCCQ=1.8Vの製品に適用することができる。
(第4の実施形態)
図9は、本発明に係る第4の実施形態に従ったデータ出力部の構成を示す図である。図10は、TN2駆動回路40の構成を示す回路図である。第4の実施形態は、TN2駆動回路40のハイレベル電源として、内部降圧電位VDDを昇圧した内部昇圧電位を用いている点で第2の実施形態と異なる。第4の実施形態のその他の構成は、第2の実施形態と同様でよい。
TN2駆動回路40は、内部降圧電位VDDを昇圧するように構成されている。より詳細には、TN2駆動回路40は、信号out_dataの入力部50と信号NHIの出力部60との間に接続されたN型トランジスタTBNと、内部降圧電位VDDと出力部60との間に接続されたP型トランジスタTBPと、出力部60の電位を昇圧するキャパシタCBとを備えている。トランジスタTBNのゲートは、内部降圧電位VDDに接続されており、そのソースは、入力部50側に接続され、そのドレインは、出力部60側に接続されている。トランジスタTBNの閾値電圧をVtnとする。入力部50は、NANDゲートG3を介してトランジスタTBPに接続されている。ゲートG3は、信号out_dataと、遅延回路DLY3によって遅延された信号out_dataの反転信号とを受け、その演算結果をトランジスタTBPのゲートへ出力する。キャパシタCBは、ソースとドレインとが短絡されたN型トランジスタから成る。キャパシタCBのソースおよびドレインは遅延回路DLY3によって遅延された信号out_dataを受け取るように構成され、そのゲートは出力部60に接続されている。
次に、本実施形態によるTN2駆動回路40の動作を説明する。例えば、信号out_dataがロウからハイに遷移するものとする。信号out_dataがロウであるとき、ゲートG3は、ハイレベル(VDD)を出力する。よって、トランジスタTBPは、オフ状態である。トランジスタTBNのソースは、ロウレベルであるので、出力部60はロウレベル(VSS)である。キャパシタCBのソースおよびドレインも、ロウレベルであるので、昇圧動作は行われない。
信号out_dataがロウからハイに遷移した直後、入力部50はハイレベルになるが、信号In_aは、遅延回路DLY3により、暫くハイレベルを維持する。よって、トランジスタTBPは、信号out_dataがハイに遷移してから遅延回路DLY3の遅延時間だけオン状態になる。また、トランジスタTBNのソースが内部降圧電位VDDに立ち上がるので、出力部60の電位は、VDD−Vtnに充電される。よって、出力部60は、トランジスタTBPおよびTBNの両方によってほぼVDDまで充電される。
信号In_aがロウベルになると、トランジスタTBPはオフになり、トランジスタTBNが出力部60の電位を維持する。このとき、キャパシタCBのソースおよびドレインがハイレベルになり、出力部60の電位をVDDから昇圧する。キャパシタCBのソースおよびドレインの電位をVαとすると、出力部60の電位は、VDD+Vαに昇圧される。NHIの昇圧量Vαは、キャパシタCBの容量とNHIのノード部分の容量との比、および、キャパシタCBのソースおよびドレインの振幅量により決定される。TN2駆動回路40は、この内部昇圧電位VDD+Vαを信号NHIのハイレベル電位として出力する。即ち、メモリセルのデータがハイであるときにトランジスタTN2のゲート電圧は、内部降圧電位VDDを昇圧した内部昇圧電位VDD+Vαである。これにより、図9に示すトランジスタTN2の駆動能力を高めることができる。その結果、本実施形態による半導体集積回路装置のデータ出力速度の遅れを抑制することができる。
尚、TN2駆動回路40は、内部降圧電位VDDに代えて、外部電源電圧VCCの昇圧電位VCC+Vαを信号NHIのハイレベル電位として出力してもよい。即ち、メモリセルのデータがハイであるときにトランジスタTN2のゲート電圧は、外部電源電圧VCCを昇圧した内部昇圧電位VCC+Vαでよい。これにより、トランジスタTN2の駆動能力をさらに高めることができる。その結果、本実施形態による半導体集積回路装置のデータ出力速度の遅れをさらに抑制することができる。第4の実施形態は、さらに第2の実施形態の効果も得ることができる。
信号out_dataがハイからロウに遷移した場合、トランジスタTBPはオフ状態となり、キャパシタCBは昇圧動作を行わない。トランジスタTBNがロウレベル(VSS)を出力部60に伝達する。これにより、TN2駆動回路40は、VSSを信号NHIのロウレベル電位として出力する。
本発明に係るフラッシュメモリの全体の構成を示すブロック図。 データ入出力回路3内のデータ出力部の構成を示す図。 データ制御回路10の構成を示す図。 TN1駆動回路20、TP駆動回路30、TN2駆動回路40およびデータ出力回路の各構成を示す図。 本実施形態によるデータ出力部の動作を示すタイミング図。 出力信号の立ち上がり時間T0と出力用高電圧VCCQとの関係を示すグラフ。 本発明に係る第2の実施形態に従ったデータ出力部の構成を示す図。 本発明に係る第3の実施形態に従ったデータ出力部の構成を示す図。 本発明に係る第4の実施形態に従ったデータ出力部の構成を示す図。 TN2駆動回路40の構成を示す回路図。
符号の説明
4…入出力用パッド
20…TN1駆動回路
30…TP駆動回路
40…TN2駆動回路
TN1…N型トランジスタ
TP…P型トランジスタ
TN2…N型トランジスタ
VCC…外部電源電圧
VSS…接地電圧、入出力用低電圧
VCCQ…入出力用高電圧
VDD…内部降圧電位

Claims (5)

  1. 内部回路からのデジタルデータを、パッドを介して外部へ出力する半導体集積回路装置であって、
    第1論理値に対応する出力用低電圧と前記パッドとの間に接続され、前記デジタルデータが第1論理値である場合に、前記出力用低電圧を前記パッドに接続する第1導電型の第1のトランジスタと、
    前記第1論理値とは逆論理の第2論理値に対応する出力用高電圧と前記パッドとの間に接続され、前記デジタルデータが第2論理値である場合に、前記出力用高電圧を前記パッドに接続する第2導電型の第2のトランジスタと、
    前記出力用高電圧と前記パッドとの間に前記第2のトランジスタに対して並列接続され、前記デジタルデータが第2論理値である場合に、前記出力用高電圧に依存せず前記デジタルデータの論理値に依存するゲート電圧を受けて前記出力用高電圧を前記パッドに接続する第1導電型の第3のトランジスタとを備えた半導体集積回路装置。
  2. 前記第1のトランジスタのゲートに接続され、前記デジタルデータが第1論理値である場合に前記第1のトランジスタをオンにし、前記デジタルデータが第2論理値である場合に前記第1のトランジスタをオフにする第1の駆動回路と、
    前記第2のトランジスタのゲートに接続され、前記デジタルデータが第1論理値である場合に前記第2のトランジスタをオフにし、前記デジタルデータが第2論理値である場合に前記第2のトランジスタをオンにする第2の駆動回路と、
    前記第3のトランジスタのゲートに接続され、前記デジタルデータが第1論理値である場合に前記第3のトランジスタをオフにし、前記デジタルデータが第2論理値である場合に前記第3のトランジスタをオンにする第3の駆動回路とを備えたことを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
  3. 前記デジタルデータが第2論理値から第1論理値に遷移するときに、前記第2および前記第3のトランジスタをオフにした後に、前記第1のトランジスタをオンにする第1の遅延回路と、
    前記デジタルデータが第1論理値から第2論理値に遷移するときに、前記第1のトランジスタをオフにした後に、前記第2および前記第3のトランジスタをオンにする第2の遅延回路とを含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
  4. 前記デジタルデータが前記第2論理値であるときの前記第3のトランジスタのゲート電圧は、前記デジタルデータが前記第1論理値であるときの前記第1のトランジスタのゲート電圧と等しいことを特徴とする請求項2に記載の半導体集積回路装置。
  5. 前記第1の駆動回路は、前記デジタルデータが前記第1論理値であるときに、前記第2のトランジスタのゲート電圧に応じて前記第1のトランジスタを自己整合的にオンにし、前記第2の駆動回路は、前記デジタルデータが前記第2論理値であるときに、前記第1のトランジスタのゲート電圧に応じて前記第2のトランジスタを自己整合的にオンにし、前記第3の駆動回路は、前記デジタルデータが前記第2論理値であるときに、前記第1のトランジスタのゲート電圧に応じて前記第3のトランジスタを自己整合的にオンにすることを特徴とする請求項2に記載の半導体集積回路装置。
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JPS63146511A (ja) 1986-07-24 1988-06-18 Nec Corp 出力回路
JPH05102827A (ja) 1991-10-04 1993-04-23 Nec Ic Microcomput Syst Ltd バツフア回路
WO1993012525A1 (en) * 1991-12-09 1993-06-24 Fujitsu Limited Flash memory improved in erasing characteristic, and circuit therefor
KR100206921B1 (ko) * 1996-07-22 1999-07-01 구본준 출력버퍼회로
KR100238247B1 (ko) * 1997-05-16 2000-01-15 윤종용 고속 저전력 신호라인 드라이버 및 이를 이용한 반도체메모리장치
JPH11120784A (ja) * 1997-10-16 1999-04-30 Toshiba Corp 半導体装置および半導体記憶装置
JP2002152030A (ja) * 2000-11-09 2002-05-24 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
JP2003133938A (ja) * 2001-10-26 2003-05-09 Mitsubishi Electric Corp 出力回路

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