JP5052062B2 - 高濃度ボルドー液組成物の製造方法 - Google Patents

高濃度ボルドー液組成物の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、高濃度ボルドー液組成物の製造方法に関する。
ボルドー液は、りんご、ぶどう、柑橘類、桃をはじめとする果樹などの様々な農作物の殺菌用農薬として古くから使用されている。ボルドー液の調整は、通常生石灰を水と水中で反応させる湿式消化により消石灰の水懸濁液とした後、この際の反応熱により高温になった該消石灰水懸濁液を冷却し、更に、適宜水を加えて希釈した消石灰水懸濁液に、別個に硫酸銅希釈水溶液を常温付近の温度で撹拌しながら徐々に加えることにより行われている。しかし、上記のようなボルドー液の調整作業は、生石灰の消化や、その冷却及び硫酸銅の溶解及びその混合作業に大変な労力と手間を要し、また、生石灰の消化方法や消石灰水懸濁液と硫酸銅水溶液との濃度、温度等の反応条件により、生成するボルドー液の品質にバラツキを生じ、微粒子で水中における良好な懸垂性、一定の品質を有するボルドー液を調整するには熟練と手間を要する。更に、このようにして得られたボルドー液は時間の経過に伴い、粒子が成長または凝集して粒子経が大きくなり、水中での懸垂性が悪化し、散布時に農作物への付着性が悪くなったり、容器内で沈降して濃度変化を生じたり、噴霧器のノズル詰まりの原因となる場合がある事から、ボルドー液を調整後は速やかに使用する必要がある。加えて、現状市販されている高濃度ボルドーは、有効成分値が低いために、運搬にかなりの労力と作業を必要とする。そのため、より高濃度にすることにより、作業性を改善する必要がある。しかし、ボルドー液の濃度が高くなるとその粘度が高くなり、生産に支障が生ずる問題がある。これらの問題を改善するため、特許文献1〜10には種々の界面活性剤を使用した濃縮ボルドー液の製造方法が開示されている。
また、特許文献11には工程1で消石灰粉末あるいは消石灰スラリーと硫酸銅水溶液とを混合反応する過程において、スチリルフェニルエーテル系界面活性剤を添加し反応を完結させ、工程2で反応完結後にアニオン系界面活性剤を添加する濃縮ボルドー液の製造法の記載がある。また、特許文献12には、工程1で消石灰粉末あるいは消石灰スラリーと硫酸銅水溶液とを混合反応する過程において、ポリアクリル酸系界面活性剤および/またはポリメタクリル酸系界面活性剤を添加し反応を完結させ、工程2で反応完結後に、アニオン系界面活性剤を添加して湿式粉砕することによる濃縮ボルドー液の製造方法および濃縮ボルドー液組成物が記載されている。しかしながら、これらに記載の濃縮ボルドー液組成物は、消石灰と硫酸銅の固形分の合計濃度が多くはほぼ40重量%以下であり、これ以上の高濃度で製造しようとするとボルドー液の粘度が高くなり流動性がなく実用性に欠け製造するのが困難であった。さらに、製造工程を2工程に分けて界面活性剤も2段階に分けて添加し製造しているが、このような製造方法では、熟成工程が2回必要となるため製造時間が大幅にかかる点で問題がある。
特開昭53−52622 特開平2−279610 特開平2−279611 特開平2−279612 特開平4−198102 特開平4−198103 特開平8−73307 特開2000−26222 特開2000−26223 特開2002−12510 特開2002−293707 特開2004−250409
本発明は、高濃度ボルドー液を調整するため、消石灰の粉末または消石灰の水との混合物と硫酸銅粉末または硫酸銅水溶液を混合反応する過程で、反応を遅延させることのない界面活性剤を添加して反応を短時間に完結させ、また製造工程を簡略化でき、長期間保存時において製剤の分散安定性に優れ、流動性を有し、また水希釈時の分散性が良い高濃度ボルドー液組成物を提供することを課題とする。
本発明者は、消石灰の粉末または消石灰と水との混合物と硫酸銅粉末または硫酸銅水溶液を、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルとα−オレフィンスルホン酸塩またはポリスチレンスルホン酸塩を加えて混合撹拌して反応させた後、湿式粉砕を行い得られたボルドー液が長期間保存時において製剤の分散安定性に優れ、流動性を有し、また水希釈時の分散性が良い性能が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、消石灰の粉末または消石灰と水との混合物と硫酸銅粉末または硫酸銅水溶液を混合反応させる際に、(A)ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルと、(B)α−オレフィンスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩およびスチレンスルホン酸と(メタ)アクリル酸との共重合体の中和塩から選ばれる1種または2種以上を添加することを特徴とする高濃度ボルドー液組成物の製造方法に関する。
本発明に使用される界面活性剤は、ボルドー製剤の粘度を下げて流動性を付与し、また製剤の長期間保存においてハードケーキング、分離・沈降を抑制し、さらに水希釈時の分散性を向上させることができる。また、消石灰と硫酸銅由来の固形分の合計濃度が40%を超えても、40℃、湿度70%、1ヵ年間の長期保存条件下において分散安定性に優れ、流動性を有し、また水希釈時の分散性が良い性能が確認された。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明に用いられるポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルのアルキル基の炭素数は特に限定されないが、ボルドー液用分散剤として十分な分散効果を得るためにはアルキル基の炭素数は8〜14が好ましい。また、当該アルキル基は、天然高級脂肪酸の還元により得られる高級アルコール由来のものであっても、合成アルコール由来のものであってもよい。エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの付加モル数も特に限定されないが、ボルドー製剤の長期保存安定性の点や増粘が生じにくい点でポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルの分子量が300〜3000となれば好ましく、400〜2000となればより好ましい。また、水希釈時の良好な分散性を得るためにはエチレンオキサイドの付加量がエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの合計量のうち20〜80重量%となれば好ましく、30〜70重量%となればより好ましい。一方、良好な流動性を得るためにはプロピレンオキサイドの付加量がエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの合計量のうち20〜80重量%となれば好ましく、30〜70重量%となればより好ましい。エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの付加順序は特に限定されるものでなく、付加形態はブロック状、ランダム状のいずれでもよい。エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの付加は公知の方法により行うことができるが、高級アルコールに塩基性触媒の存在下にて行うことが一般的である。
本発明に用いられるα−オレフィンスルホン酸塩も公知の方法により合成することができるが、ボルドー製剤の分散性向上と粘度を下げ流動性を付与できる点で、炭素数14〜18のα−オレフィンをスルホン化してアルカリで中和したものが好ましい。スルホン化反応には無水硫酸(SO)を用いることができ、またその後の中和に使用するアルカリも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、アミン類のいずれであってもよい。
本発明に用いられるポリスチレンスルホン酸塩は、スチレンスルホン酸塩を重合するか或いはポリスチレンをスルホン化することにより製造することができるが、ボルドー懸濁製剤の分散性向上と粘度を下げ流動性を付与できる点で、ポリスチレンスルホン酸塩の分子量は1000〜50万が好ましく、5000〜30万がさらに好ましい。当該重合体の塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明に用いられるスチレンスルホン酸と(メタ)アクリル酸との共重合体の中和塩は、スチレンスルホン酸と(メタ)アクリル酸とを共重合するかスチレンと(メタ)アクリル酸の共重合体をスルホン化することにより製造することができるが、ボルドー懸濁製剤の分散性向上と粘度を下げ流動性を付与できる点でスチレンスルホン酸由来の構成単位が30重量%以上であれば好ましく、50重量%以上であればより好ましく、70重量%以上であれば特に好ましい。また、分子量については5000〜30万であれば好ましい。当該重合体の塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
(A)ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルと(B)α−オレフィンスルホン酸塩の重量比は分散性を考慮すると1:0.1〜2が好ましく、1:0.5〜1がより好ましい。また、それらの添加量はボルドー製剤中に0.1〜10重量%が好ましく、1〜8重量%がより好ましい。また、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルおよびα−オレフィンスルホン酸塩に加え、他のアニオン界面活性剤またはノニオン界面活性剤を併用してもよい。
(A)ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルと(B)ポリスチレンスルホン酸塩および/またはスチレンスルホン酸と(メタ)アクリル酸との共重合体の中和塩の重量比は分散性を考慮すると1:0.1〜3が好ましく、1:0.5〜2がより好ましい。また、それらの添加量はボルドー製剤中に0.1〜10重量%が好ましく、1〜8重量%がより好ましい。また、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルおよびポリスチレンスルホン酸塩等に加え、他のアニオン界面活性剤またはノニオン界面活性剤を併用してもよい。
本発明で使用される消石灰は、粒子径や比表面積に特に制約はないが、例えば、平均粒子径が約10μm、比表面積が約10m/gのものが好ましい。
(A)ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルおよび(B)α−オレフィンスルホン酸塩またはポリスチレンスルホン酸塩は、消石灰の粉末または消石灰と水との混合物、硫酸銅粉末はまた硫酸銅水溶液のいずれかに予め添加しても良く、また、消石灰の粉末または消石灰と水との混合物と硫酸銅粉末または硫酸銅水溶液の混合中または混合後に添加しても良い。
本発明の製造方法によって得られる高濃度ボルドー液組成物は、種々の濃度で調製が可能であり、例えば、慣用のボルドー液と同程度の濃度のものであっても良いが、運搬の効率性の点でできるだけ高濃度であることが望ましく、消石灰と硫酸銅由来の固形分の合計濃度が40重量%以上であれば好ましい。
本発明の製造方法によって得られる高濃度ボルドー液用組成物には、凍結防止剤としてエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコール等の1種または2種以上を添加することもできる。また、製剤の懸濁分散性を向上する目的で、ザンサンガム、ポリビニルアルコール、コロイド性含水ケイ酸アルミニウム、カルボキシメチルセルロース等の1種または2種以上を添加することもできる。さらに、シリコーン系、脂肪酸系等の消泡剤を1種または2種以上を添加することもできる。
消石灰の粉末または消石灰と水との混合物と、硫酸銅粉末または硫酸銅水溶液を混合するための混合機は特に限定されるものではないが、例えばリボンミキサー、ホモジイナイザー、バグミキサー、ナウタミキサー、ニーダー等を用いることができる。消石灰の粉末または消石灰と水との混合物に硫酸銅粉末または硫酸銅水溶液を添加する際の温度は、生成したボルドー液が黒く変色することを防ぐ点で50℃以下が好ましく、35〜40℃がより好ましい。また、反応を完結させるための熟成温度は40〜45℃が好ましい。
上記のようにして調製した高濃度ボルドー液を湿式粉砕する湿式粉砕機としては、ダイノミル、ビーズミル、サンドグラインダー等を用いることができる。また湿式粉砕の際に用いるメディアとしては、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、アルミナ等を用いることができる。
以下に実施例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定解釈されるものではない。また、ここで用いられている部は重量部を示す。
実施例1 平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末259.1gとポリオキシエチレン(9)ポリオキシプロピレン(3)ラウリルエーテル(ソルポール7949、東邦化学工業(株)製)20g、炭素数14〜18からなるα−オレフィンスルホン酸ナトリウム塩(ソルポール 5313、東邦化学工業(株)製)15gを水509.4gにホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末196.5gを徐々に加え10,000rpmで5分間混合し、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分45.6%の6−6式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
実施例2
平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末259.1gとポリオキシプロピレン(4)ポリオキシエチレン(3)C12〜C14第二級アルコールエーテル(ソルポール7951、東邦化学工業(株)製)20g、炭素数14〜18からなるα−オレフィンスルホン酸ナトリウム塩(ソルポール 5313、東邦化学工業(株)製)15g、水344.4mlをホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末196.5gを水165gに45〜50℃で溶解した硫酸銅水溶液を徐々に加え10,000rpmで5分間混合し、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分45.6%の6−6式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
実施例3
平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末450gとポリオキシプロピレン(4)ポリオキシエチレン(3)C12〜C14第二級アルコールエーテル(ソルポール 7951、東邦化学工業(株)製)20g、炭素数14〜18からなるα−オレフィンスルホン酸ナトリウム塩(ソルポール5313、東邦化学工業(株)製)15gを水401gにホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末114gを徐々に加え10,000rpmで5分間混合し、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分56.4%の4−12式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
実施例4
平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末450gとポリオキシエチレン(6)ポリオキシプロピレン(2)ラウリルエーテル(ソルポール7950、東邦化学工業(株)製)20g、炭素数14〜18からなるα−オレフィンスルホン酸ナトリウム塩(ソルポール5313、東邦化学工業(株)製)15g、水301gをホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末114gを水100gに45〜50℃で溶解した硫酸銅水溶液を徐々に加え、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分56.4%の4−12式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
実施例5
平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末364gとポリオキシエチレン(22)ポリオキシプロピレン(14)2−エチルヘキサノールエーテル(ソルポール7952、東邦化学工業(株)製)40g、炭素数14〜18からなるα−オレフィンスルホン酸ナトリウム塩(ソルポール 5313、東邦化学工業(株)製)30g、水290gにホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末276gを徐々に加え10,000rpmで5分間混合し、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分64.0%の6−6式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
実施例6
平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末364gとポリオキシプロピレン(4)ポリオキシエチレン(3)C12〜C14第二級アルコールエーテル(ソルポール7951、東邦化学工業(株)製)40g、炭素数14〜18からなるα−オレフィンスルホン酸ナトリウム塩(ソルポール5313、東邦化学工業(株)製)30g、水190gをホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末276gを水100gに45〜50℃で溶解した硫酸銅水溶液を徐々に加え、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分64.0%の4−12式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
実施例7
平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末500gとポリオキシエチレン(22)ポリオキシプロピレン(14)2−エチルヘキサノールエーテル(ソルポール
7952、東邦化学工業(株)製)40g、炭素数14〜18からなるα−オレフィンスルホン酸ナトリウム塩(ソルポール5313、東邦化学工業(株)製)30gを水304gにホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末126gを徐々に加え10,000rpmで5分間混合し、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分62.6%の4−12式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
実施例8 平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末259.1gとポリオキシエチレン(9)ポリオキシプロピレン(3)ラウリルエーテル(ソルポール7949、東邦化学工業(株)製)20g、分子量5000〜4万からなるポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩(ソルポール 7958、東邦化学工業(株)製)20gを水504.4gにホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末196.5gを徐々に加え10,000rpmで5分間混合し、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分45.6%の6−6式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
実施例9
平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末450gとポリオキシプロピレン(4)ポリオキシエチレン(3)C12〜C14第二級アルコールエーテル(ソルポール 7951、東邦化学工業(株)製)20g、分子量5万〜10万なるポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩(ソルポール7959、東邦化学工業(株)製)20gを水396gにホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末114gを徐々に加え10,000rpmで5分間混合し、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分56.4%の4−12式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
実施例10
平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末364gとポリオキシエチレン(22)ポリオキシプロピレン(14)2−エチルヘキサノールエーテル(ソルポール7952、東邦化学工業(株)製)40g、分子量20万〜50万からなるポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩(ソルポール 7960、東邦化学工業(株)製)30g、水290gにホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末276gを徐々に加え10,000rpmで5分間混合し、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分64.0%の6−6式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
比較例1
平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末259.1gとポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテルホスフェート(ソプロフォールFL、ローディア日華(株))20g、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩(デモール T、花王(株)製)15gを水509.4gにホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末196.5gを徐々に加え10,000rpmで5分間混合し、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分45.6%の6−6式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
比較例2
平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末259.1gとポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテルホスフェート(ソプロフォールFL、ローディア日華(株))20g、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩(デモール T、花王(株)製)15g、水344.4mlをホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末196.5gを水165gに45〜50℃で溶解した硫酸銅水溶液を徐々に加え10,000rpmで5分間混合し、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)社製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分45.6%の6−6式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
比較例3
平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末259.1gとポリアクリル酸ナトリウム(ジュリマー AC−103、日本純薬(株)製)20g、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩(デモール T、花王(株)製)15gを水509.4gにホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末196.5gを徐々に加え10,000rpmで5分間混合し、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分45.6%の6−6式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
比較例4
平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末259.1gとポリアクリル酸ナトリウム(ジュリマー AC−103、日本純薬(株)製)20g、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩(デモール T、花王(株)製)15g、水344.4mlをホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末196.5gを水165gに45〜50℃で溶解した硫酸銅水溶液を徐々に加え10,000rpmで5分間混合し、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分45.6%の6−6式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
比較例5 平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末450gとポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル(ソプロフォール CY/8、ローディア日華(株))20g、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩(デモール T、花王(株)製)15gを水401gにホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末114gを徐々に加え10,000rpmで5分間混合し、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分56.4%の4−12式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
比較例6 平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末450gとポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテルホスフェート(ソプロフォールCY/8、ローディア日華(株))20g、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩(デモール T、花王(株)製)15g、水301gをホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末114gを水100gに45〜50℃で溶解した硫酸銅水溶液を徐々に加え、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分56.4%の4−12式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
比較例7
平均粒子経10μm、比表面積10m/gの消石灰粉末500gとポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテルホスフェート(ソプロフォールFL、ローディア日華(株))20g、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩(デモール T、花王(株))製)30gを水324gにホモミキサー(形式UH−2 日本精機(株)製)で分散・溶解する。次に硫酸銅5水塩粉末126gを徐々に加え10,000rpmで5分間混合し、その後40℃で1時間熟成する。更に湿式粉砕機サンドグラインダー(アイメックス(株)製)を用いてガラスビーズをメディアとして周速5.8m/secで20分間処理した後、ガラスビーズを除去することにより、固形分62.6%の4−12式高濃度ボルドー液約1kgを製造した。
以上の様にして得られた実施例及び比較例の高濃度ボルドー液を用いて、下記の試験方法により物性試験を行った。
実施例及び比較例で製造した各高濃度ボルドー液1kgを250×150mmのポリエチレン袋に充填し密封して、40℃、湿度70%の条件下に1年間保存し、下記の物性試験により製造直後と物性を比較した。
試験例1.
粒子径測定:マイクロトラック粒度分析計(形式;9340UPA150
日機装(株))により測定した結果を表1に示す。
試験例2.
懸濁安定性測定:試料(6−6式高濃度ボルドー液タイプは慣行ボルドー液の6−6式に相当するように、又4−12式高濃度ボルドー液タイプは慣行ボルドー液の4−12式に相当するように重量をはかる。)をビーカーに計り取り、20℃の水を加えて全量を125mlとする。スターラーで十分攪拌し、100ml有栓メスシリンダーに100mlを分取する。1分間に30回激しく倒立して振り混ぜ静置する。0分、5分、10分、20分、30分、60分後の分離状態をメスシリンダー中の懸濁層が下層に沈降し上層に生じた水層(上スキ層)と全層の高さ(cm)を測定し、下記式により算出した。結果を表1に示す。
Figure 0005052062
試験例3.
懸垂率測定:試料(6−6式高濃度ボルドー液タイプは慣行ボルドー液の6−6式に相当するように、又4−12式高濃度ボルドー液タイプは慣行ボルドー液の4−12式に相当するように重量をはかる。)をビーカーに0.01gまで正確に測り取り、20℃の水50mlを加え、よく練り混ぜて十分に分散させる。250mlの有栓メスシリンダーに移し、上記と同じ20℃の水を加えて定量とする。15分間静置した後、1分間に30回激しく転倒して振り混ぜ、5分間静置する。25mlホールピペットを液中に入れ、先端を液の中央部に保ち、25mlを静かに吸い取り、原子吸光光度計で有効成分の含量を測定する。結果を表1に示す。
試験例4.
製剤の状態:製剤を入れたポリエチレン袋を静かに転倒させた際の製剤の状態を目視により観察し、評価は下記の基準に従って判定した。結果を表1に示す。
○:沈降物もなく流動性良好。
△:若干沈降物があり流れにくい。
×:流動性なし。
Figure 0005052062
懸濁安定性、懸垂率は、数値が大きい値ほど良好。
表1に示す試験結果から明らかなように、界面活性剤にポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルとα−オレフィンスルホン酸塩またはポリスチレンスルホン酸塩を用いた、本発明の高濃度ボルドー液組成物は、硫酸銅5水塩と消石灰の固形分の合計濃度が40%重量以上で、長期保存において製剤の分散性、流動性に優れ、水希釈時の分散性も良好であり、また、製造工程も1工程で可能であり、設備、製造工程も簡略し製造することが出来る。

Claims (5)

  1. 消石灰の粉末または消石灰と水との混合物と硫酸銅粉末または硫酸銅水溶液を混合反応させる際に、(A)ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルと、(B)α−オレフィンスルホン酸塩および/またはポリスチレンスルホン酸塩を添加することを特徴とする高濃度ボルドー液組成物の製造方法。
  2. ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルが、平均分子量が300〜3000であり、かつ、炭素数8〜14の高級アルコールにエチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイドを、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの合計量のうちエチレンオキサイドが20〜80重量%となるようにブロック状、またはランダム状に付加重合させたものである請求項1に記載の高濃度ボルドー液組成物の製造方法。
  3. α−オレフィンスルホン酸塩が、炭素数14〜18のα−オレフィンをスルホン化して中和したものである請求項1又は2に記載の高濃度ボルドー液組成物の製造方法。
  4. ポリスチレンスルホン酸塩が、分子量1000〜50万のポリスチレンスルホン酸塩である請求項1〜3のいずれか1項に記載の高濃度ボルドー液組成物の製造方法。
  5. 前記高濃度ボルドー液組成物の消石灰と硫酸銅由来の固形分の合計濃度が40重量%以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の高濃度ボルドー液組成物の製造方法。
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