JP5044153B2 - 同期式半導体メモリ素子のカラムアドレスイネーブル信号生成器及びその生成方法 - Google Patents

同期式半導体メモリ素子のカラムアドレスイネーブル信号生成器及びその生成方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5044153B2
JP5044153B2 JP2006181520A JP2006181520A JP5044153B2 JP 5044153 B2 JP5044153 B2 JP 5044153B2 JP 2006181520 A JP2006181520 A JP 2006181520A JP 2006181520 A JP2006181520 A JP 2006181520A JP 5044153 B2 JP5044153 B2 JP 5044153B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
memory device
semiconductor memory
inverter
internal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006181520A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007095258A (ja
Inventor
支銀 張
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SK Hynix Inc
Original Assignee
SK Hynix Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020050124355A external-priority patent/KR100670730B1/ko
Application filed by SK Hynix Inc filed Critical SK Hynix Inc
Publication of JP2007095258A publication Critical patent/JP2007095258A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5044153B2 publication Critical patent/JP5044153B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/408Address circuits
    • G11C11/4087Address decoders, e.g. bit - or word line decoders; Multiple line decoders
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/4076Timing circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/22Read-write [R-W] timing or clocking circuits; Read-write [R-W] control signal generators or management 
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/22Read-write [R-W] timing or clocking circuits; Read-write [R-W] control signal generators or management 
    • G11C7/225Clock input buffers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Dram (AREA)

Description

本発明は、半導体設計技術に関し、特に、半導体メモリ素子のカラム経路に関し、さらに詳細には、同期式半導体メモリ素子のカラムアドレスイネーブル信号生成器及びその生成方法に関する。
DRAMをはじめとする半導体メモリ素子は、データを格納するための単位メモリセルの集合体のメモリセルアレイと、所望のデータ入出力動作を制御するための周辺回路で構成される。
メモリセルアレイは、ワードラインと呼ばれる複数のロー(Row)及びビットラインと呼ばれる複数のカラム(Column)からなるマトリックス状をなしている。それぞれのローとカラムには、所定のアドレスが割り当てられており、特定ローの指定にはローアドレスが用いられ、特定カラムの指定にはカラムアドレスが用いられる。
ローアドレス及びカラムアドレスは、コマンドと共に、外部から印加されたアドレス信号をデコードして生成し、特に、読み出し/書き込み動作の際、カラムアドレスにより決められた特定ビットラインに対応するカラム選択信号のアクティブ区間(パルス幅)を画定するために、コマンド信号を受けて生成されたカラムアドレスイネーブル信号が用いられる。
一方、システムや回路においてクロックは、動作タイミングを合せるためのレファレンスとして用いられており、エラーなしでさらに速い動作を保証するためにも用いられる。このように、クロックに同期されて動作する同期式半導体メモリ素子に、SDRAM(Synchronous DRAM)、DDR SDRAM(Double Data Rate Synchronous DRAM)などがある。
図1は、通常の同期式DRAMのカラム経路を示すブロック図である。
同図に示すように、カラム経路には、N+1ビット(Nは、自然数)のアドレス信号A<0:N>をバッファリングするためのアドレスバッファ100と、アドレスバッファ100の出力信号を内部クロックCLKP4でラッチするためのアドレスラッチ102と、アドレスラッチ102の出力信号をカウントし、順次アドレス指定ができるようにするカラムアドレスカウンタ104と、カラムアドレスイネーブル信号BYP_YIに応答し、カラムアドレスカウンタ104の出力信号をデコードし、カラムアドレス信号YI<0:K>(Kは、2(N+1)−1)を生成するためのカラムアドレスデコーダ106とが備えられる。
また、上述のように、カラムアドレスイネーブル信号BYP_YIは、コマンド信号を受けて生成され、具体的には同図に示すように、コマンド信号/RAS、/CAS、/WEをバッファリングするコマンドバッファ300と、コマンドバッファ300の出力信号を内部クロックCLKP4でラッチするコマンドラッチ302と、コマンドラッチ302の出力信号をデコードし、内部コマンド信号を生成するためのコマンドデコーダ304と、コマンドデコーダ304から出力された内部コマンド信号を受信し、カラムアドレスイネーブル信号BYP_YIを生成するためのカラムアドレスイネーブル信号生成器306と、からなるコマンド経路によりカラムアドレスイネーブル信号BYP_YIが生成される。
一方、アドレスラッチ102及びコマンドラッチ302の制御信号として用いられる内部クロックCLKP4は、外部クロックCLK、/CLKをバッファリングするクロックバッファ200から生成されたものである。
図2は、図1におけるクロックバッファ200を示す回路図である。
同図に示すように、クロックバッファ200は、大きく比較部210及びパルス生成部220で構成される。
まず、比較部210は、バッファイネーブル信号BUFFER_ENの制御を受け、外部クロックCLK、/CLKを差動入力とする一般的な差動増幅回路であって、これについての詳細構成の説明は省略する。
一方、パルス生成部220は、比較部210の出力信号CLKMCを遅延させる遅延(TD1の遅延時間を有する)と、遅延の出力信号を反転させるインバータと、インバータの出力信号及び比較部210の出力信号CLKMCを入力とするNANDゲートと、NANDゲートの出力信号を反転させて内部クロックCLKP4として出力するためのインバータで具現される。
図3は、従来の技術に係る図1のカラムアドレスイネーブル信号生成器306の回路図である。
同図に示すように、従来の技術に係るカラムアドレスイネーブル信号生成器306は、読み出し信号CASP6_RD、書き込み信号CASP6_WT、カラムバースト信号ICASP6をそれぞれ反転させる第1、第2、及び第3インバータINV1、INV2、INV3と、第1、第2、及び第3インバータINV1、INV2、INV3の出力信号を受信し、カラムアドレスイネーブル信号BYP_YIを出力するための3−入力NANDゲートNAND1で構成されていることが確認できる。ここで、読み出し信号CASP6_RD、書き込み信号CASP6_WT、カラムバースト信号ICASP6は、カラムコマンドが入力された時にアクティブになる内部コマンド信号であって、読み出し信号CASP6_RDは、読み出しコマンドが印加された時にアクティブになる信号であり、書き込み信号CASP6_WTは、書き込みコマンドが印加された時にアクティブになる信号であり、カラムバースト信号ICASP6は、読み出しコマンド又は書き込みコマンドが印加された時に設定されたバースト長BL分のバースト動作のために、連続してパルスする信号である。
すなわち、従来の技術に係るカラムアドレスイネーブル信号生成器306は、内部カラムコマンド信号のうちいずれかが論理レベルハイにアクティブになる場合、カラムアドレスイネーブル信号BYP_YIをアクティブにする。
図4A及び図4Bは、従来の技術(図1、図2、図3を参照)に係るカラムアドレスイネーブル信号BYP_YIのタイミング図であって、図4Aは、低周波動作の際、図4Bは、高周波動作の際の波形をそれぞれ示すものである。
まず、図4Aに示すように、外部クロックCLKの周波数が低い場合には、カラムアドレスイネーブル信号BYP_YIのパルス幅が「TD1」であって、内部クロックCLKP4と同じパルス幅を有する。内部クロックCLKP4のパルス幅は、図2のパルス生成部220の遅延の遅延時間TD1により決定され、コマンド信号は、内部クロックCLKP4によりラッチされるため、図3のカラムアドレスイネーブル信号生成器306の入力信号である読み出し信号CASP6_RD、書き込み信号CASP6_WT、カラムバースト信号ICASP6と、出力信号であるカラムアドレスイネーブル信号BYP_YIのパルス幅は、内部クロックCLKP4のパルス幅と同様になる。
しかし、図4Bに示すように、外部クロックCLKの周波数が高くなれば、内部クロックCLKP4のパルス幅が図2のパルス生成部220の遅延の遅延時間TD2と関係なく、外部クロックCLKのパルス幅に制限される場合がある。この場合、出力信号であるカラムアドレスイネーブル信号BYP_YIのパルス幅は、低周波動作時に比べて低減し、これによりカラムアドレス信号YI<0:K>のパルス幅も制限されるため、読み出し/書き込み動作の際、マージンの確保が困難となり、結局、素子の誤動作を引き起こすという問題がある。
特開平11−86556号公報
本発明は、上記の従来の技術の問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、動作周波数と関係なく、一定のパルス幅が確保できる同期式半導体メモリ素子のカラムアドレスイネーブル信号生成器及びその生成方法を提供することにある。
上記の目的を達成すべく、本発明に係る第1の半導体メモリ装置は、複数の内部命令語信号に応答し、フラグ信号を生成するための内部動作感知部と、プログラミングされた時間の間に、前記フラグ信号を遅延させて出力するための遅延部と、前記フラグ信号の遷移時点に応答し、イネーブル信号をアクティブにして出力し、前記遅延部により遅延されたフラグ信号の遷移時点に応答し、前記イネーブル信号を非アクティブにして出力するためのイネーブル信号生成部とを備え、入力されたアドレスにより生成された内部アドレスが、前記イネーブル信号に応答してコア領域に伝達されるように構成される。
また、本発明に係る第2の半導体メモリ装置は、上記第1の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記複数の内部命令語信号のそれぞれの命令が内部カラム命令語であることを特徴とする。
また、本発明に係る第3の半導体メモリ装置は、上記第2の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記入力されたアドレスが、カラムアドレスであることを特徴とする。
また、本発明に係る第4の半導体メモリ装置は、上記第3の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記内部動作感知部が、前記複数の内部命令語信号のうち、少なくとも1つに応答し、前記フラグ信号を生成することを特徴とする。
また、本発明に係る第5の半導体メモリ装置は、上記第4の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記内部命令語信号が、読み出し動作のための内部読み出し動作信号、書き込み動作のための内部書き込み動作信号、及びバースト長を制御するためのカラムバースト信号のうちのいずれか1つであることを特徴とする。
また、本発明に係る第6の半導体メモリ装置は、上記第5の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記内部動作感知部が、前記内部読み出し動作信号を反転する第1インバータと、前記内部書き込み動作信号を反転する第2インバータと、前記カラムバースト信号を反転する第3インバータと、前記第1インバータの出力及び前記第2インバータの出力のロジックナンドオペレイションのためのNANDゲートと、を備えたことを特徴とする。
また、本発明に係る第7の半導体メモリ装置は、上記第6の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記フラグ信号及び前記遅延されたフラグ信号を利用し、パルス形態のフラグ信号を生成して、前記イネーブル信号生成部に伝達するためのパルス生成部をさらに備えたことを特徴とする。
また、本発明に係る第8の半導体メモリ装置は、上記第7の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記パルス生成部が、前記遅延されたプラグ信号を反転する第4インバータと、前記第4インバータの出力及び前記フラグ信号のロジックナンドオペレイションのための第2NANDゲートと、前記第2NANDゲートの出力を反転する第5インバータと、を備えたことを特徴とする。
また、本発明に係る第9の半導体メモリ装置は、上記第8の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記イネーブル信号生成部が、フラグ信号の遷移タイミングに応答し、前記イネーブル信号をアクティブにし、アクティブになった前記フラグ信号を、出力端を介して出力させるためのアクティブ遷移感知部と、前記遅延されたフラグ信号の遷移タイミングに応答し、イネーブル信号を非アクティブにし、前記出力端を介して前記非アクティブになったイネーブル信号を出力させるための非アクティブ遷移感知部と、を備えたことを特徴とする。
また、本発明に係る第10の半導体メモリ装置は、上記第9の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記アクティブ遷移感知部が、前記パルス形態のプラグ信号のロジックハイレベルに応答してターンオンする第1伝送ゲートを備え、前記第1伝送ゲートが、ターンオン時に、前記出力端にロジックハイレベルにアクティブになったイネーブル信号を伝達することを特徴とする。
また、本発明に係る第11の半導体メモリ装置は、上記第10の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記第1伝送ゲートにより伝達されたロジックハイレベルが、半導体メモリ装置の周辺回路にロジックハイレベルとして用いられる周辺回路駆動電圧レベルに対応されることを特徴とする。
また、本発明に係る第12の半導体メモリ装置は、上記第11の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記非アクティブ遷移感知部が、前記遅延されたプラグ信号のロジックハイレベルに応答してターンオンする第2伝送ゲートを備え、前記第2伝送ゲートが、ターンオン時に、前記出力端にロジックローレベルに非アクティブになったイネーブル信号を伝達することを特徴とする。
また、本発明に係る第13の半導体メモリ装置は、上記第12の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記第2伝送ゲートにより伝達されたロジックローレベルが、接地電圧レベルに対応されることを特徴とする。
また、本発明に係る第14の半導体メモリ装置は、上記第13の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記イネーブル信号生成部の出力端に接続され、前記イネーブル信号をラッチするラッチ部をさらに備えたことを特徴とする。
また、本発明に係る第15の半導体メモリ装置は、上記第14の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記ラッチ部が、前記イネーブル信号生成部の出力端に提供される信号をラッチするラッチと、予定された信号で前記ラッチを初期化する初期化部と、を備えたことを特徴とする。
また、本発明に係る第16の半導体メモリ装置は、複数の内部命令語信号に応答し、フラグ信号を生成するための内部動作感知部と、前記フラグ信号の第1遷移時点に応答し、イネーブル信号をアクティブにして出力し、前記フラグ信号の第2遷移時点に応答し、前記イネーブル信号を非アクティブにして出力するためのイネーブル信号生成部と、を備え、入力されたアドレスにより生成された内部アドレスが、前記イネーブル信号に応答し、コア領域に伝達されるように構成される。
また、本発明に係る第17の半導体メモリ装置は、上記第16の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記複数の内部命令語信号が、それぞれの命令が内部カラム命令語であることを特徴とする。
また、本発明に係る第18の半導体メモリ装置は、上記第17の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記入力されたアドレスが、カラムアドレスであることを特徴とする。
また、本発明に係る第19の半導体メモリ装置は、上記第18の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記内部動作感知部が、前記複数の内部命令語信号のうち、少なくとも1つに応答し、前記フラグ信号を生成することを特徴とする。
また、本発明に係る第20の半導体メモリ装置は、上記第19の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記内部命令語信号が、読み出し動作のための内部読み出し動作信号、書き込み動作のための内部書き込み動作信号、及びバースト長を制御するためのカラムバースト信号のうち、いずれかであることを特徴とする。
また、本発明に係る第21の半導体メモリ装置は、上記第20の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記内部動作感知部が、前記内部読み出し動作信号を反転する第1インバータと、前記内部書き込み動作信号を反転する第2インバータと、前記カラムバースト信号を反転する第3インバータと、前記第1インバータの出力及び前記第2インバータの出力のロジックナンドオペレイションのためのNANDゲートと、を備えたことを特徴とする請求項20に記載の半導体メモリ装置である
また、本発明に係る第22の半導体メモリ装置は、上記第21の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記フラグ信号を利用してパルス形態のフラグ信号を生成し、前記イネーブル信号生成部に伝達するためのパルス生成部をさらに備えたことを特徴とする。
また、本発明に係る第23の半導体メモリ装置は、上記第22の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記パルス生成部が、前記遅延されたプラグ信号を反転する第4インバータと、前記第4インバータの出力及び前記フラグ信号のロジックナンドオペレイションのための第2NANDゲートと、前記第2NANDゲートの出力を反転する第5インバータと、を備えたことを特徴とする。
また、本発明に係る第24の半導体メモリ装置は、上記第23の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記イネーブル信号生成部が、前記パルス形態のフラグ信号の第1遷移タイミングに応答し、前記イネーブル信号をアクティブにし、アクティブになった前記フラグ信号を出力端を介して出力させるためのアクティブ遷移感知部と、前記パルス形態のフラグ信号の第2遷移タイミングに応答し、イネーブル信号を非アクティブにし、前記出力端を介して前記非アクティブになったイネーブル信号を出力させるための非アクティブ遷移感知部と、を備えたことを特徴とする。
また、本発明に係る第25の半導体メモリ装置は、上記第24の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記アクティブ遷移感知部が、前記パルス形態のプラグ信号のロジックハイレベルに応答してターンオンする第1伝送ゲートを備え、前記第1伝送ゲートが、ターンオン時に、前記出力端にロジックハイレベルにアクティブになったイネーブル信号を伝達することを特徴とする。
また、本発明に係る第26の半導体メモリ装置は、上記第25の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記第1伝送ゲートにより伝達されたロジックハイレベルが、半導体メモリ装置の周辺回路においてロジックハイレベルとして用いられる周辺回路駆動電圧レベルに対応されることを特徴とする。
また、本発明に係る第27の半導体メモリ装置は、上記第25の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記非アクティブ遷移感知部が、前記遅延されたプラグ信号のロジックハイレベルに応答してターンオンする第2伝送ゲートを備え、前記第2伝送ゲートが、ターンオン時に、前記出力端にロジックローレベルに非アクティブになったイネーブル信号を伝達することを特徴とする。
また、本発明に係る第28の半導体メモリ装置は、上記第27の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記第2伝送ゲートにより伝達されたロジックローレベルが、接地電圧レベルに対応されることを特徴とする。
また、本発明に係る第29の半導体メモリ装置は、上記第28の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記イネーブル信号生成部の出力端に接続され、前記イネーブル信号をラッチするラッチ部をさらに備えたことを特徴とする。
また、本発明に係る第30の半導体メモリ装置は、上記第29の半導体メモリ装置の構成に加え、さらに前記ラッチ部が、前記イネーブル信号生成部の出力端に提供される信号をラッチするラッチと、予定された信号で前記ラッチを初期化する初期化部と、を備えたことを特徴とする。
また、本発明に係る第1の半導体メモリ装置の駆動方法は、複数の内部命令語信号に応答し、フラグ信号を生成するステップと、前記フラグ信号をプログラミングされた時間の間に遅延させるステップと、前記フラグ信号の遷移時点に対応してアクティブになり、前記遅延されたフラグ信号の遷移時点に対応し、非アクティブになるイネーブル信号を生成するステップと、入力されたアドレスに対応する内部アドレスを前記イネーブル信号がアクティブになったタイミングに応答してコア領域に伝達するステップと、を含む。
また、本発明に係る第2の半導体メモリ装置の駆動方法は、上記第1の駆動方法において、前記複数の内部命令語信号が、それぞれ複数の内部カラムの動作にそれぞれ対応されることを特徴とする。
また、本発明に係る第3の半導体メモリ装置の駆動方法は、上記第2の駆動方法において、前記内部アドレスを伝達するステップが、入力されるアドレスをデコードするステップと、前記デコードされたアドレスを前記内部アドレスに変換させるステップと、前記イネーブル信号のアクティブ状態に応答し、前記内部アドレスをコア領域に伝達するステップと、を含むことを特徴とする。
また、本発明に係る第4の半導体メモリ装置の駆動方法は、上記第3の駆動方法において、前記フラグ信号を生成するステップが、読み出し動作に対応する内部読み出し命令語信号を生成するステップと、書き込み動作に対応する内部書き込み命令語信号を生成するステップと、出力データのバースト長を制御するカラムバースト信号を生成するステップと、前記内部読み出し命令語信号、前記内部書き込み命令語信号、及び前記カラムバースト信号のうち、少なくとも1つのアクティブ状態に対応し、前記フラグ信号を生成するステップと、を含むことを特徴とする。
また、本発明に係る第5の半導体メモリ装置の駆動方法は、上記第4の駆動方法において、前記イネーブル信号のアクティブ状態の電圧レベルが、半導体メモリ装置の周辺回路においてロジックハイレベルとして用いられる周辺回路駆動電圧レベルに対応されることを特徴とする。
また、本発明に係る第6の半導体メモリ装置の駆動方法は、上記第5の駆動方法において、前記イネーブル信号の非アクティブ状態の電圧レベルが、接地電圧のレベルに対応されることを特徴とする。
また、本発明に係る第31の半導体メモリ装置は、上記第5の半導体メモリ装置の構成に加え、前記内部動作感知部が、前記内部読み出し動作信号を反転する第1インバータと、前記内部書き込み動作信号を反転する第2インバータと、前記カラムバースト信号を反転する第3インバータと、前記第1インバータの出力、前記第2インバータの出力、及び前記第3インバータの出力のロジックナンドオペレイションのためのNANDゲートと、を備えたことを特徴とする。
また、本発明に係る第32の半導体メモリ装置は、上記第20の半導体メモリ装置の構成に加え、前記内部動作感知部が、前記内部読み出し動作信号を反転する第1インバータと、前記内部書き込み動作信号を反転する第2インバータと、前記カラムバースト信号を反転する第3インバータと、前記第1インバータの出力、前記第2インバータの出力、及び前記第3インバータの出力のロジックナンドオペレイションのためのNANDゲートと、を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、動作周波数と関係なく、カラムアドレスイネーブル信号の一定のパルス幅を確保でき、これによって、高周波動作の際、読み出し/書き込み動作のマージンを確保して同期式半導体メモリ素子の誤動作を防止できる。
以下、本発明の最も好ましい実施形態を、添付した図面を参照しながら詳細に説明する。
図5は、本発明の一実施形態に係る同期式半導体メモリ素子のカラムアドレスイネーブル信号生成器の回路図である。
同図に示すように、本実施形態に係る同期式半導体メモリ素子のカラムアドレスイネーブル信号生成器500は、複数の内部カラムコマンド信号CASP6_RD、CASP6_WT、ICASP6を受信し、フラグ信号FLを生成するためのカラムアクセス検出部510と、フラグ信号FLに対し、所望のカラムアドレスイネーブル信号のパルス幅に対応する遅延時間TD3情報を提供するための遅延回路520と、フラグ信号FLのアクティブ時点に対応するパルスフラグ信号FLP及び遅延時間TD3分遅延されたフラグ信号FLのアクティブ時点に対応する遅延フラグ信号FLDに応答し、カラムアドレスイネーブル信号BYP_YIを生成するための信号生成部530とを備える。なお、カラムアクセス検出部510は内部動作感知部の一例であり、遅延回路520は遅延部及びパルス生成部の一例であり、信号生成部530はイネーブル信号生成部の一例である。
ここで、カラムアクセス検出部510は、読み出し信号CASP6_RDを入力とするインバータINV11と、書き込み信号CASP6_WTを入力とするインバータINV12と、カラムバースト信号ICASP6を入力とするインバータINV13と、3つのインバータINV11、INV12、INV13の出力信号を入力とするNANDゲートNAND11とで具現できる。
また、遅延回路520は、フラグ信号FLを遅延させるための遅延部522(TD2の遅延時間を有する)と、遅延部522の出力信号を入力とするインバータINV14と、フラグ信号FL及びインバータINV14の出力信号ND2を入力とするNANDゲートNAND12と、NANDゲートNAND12の出力信号を入力とするインバータINV15とで具現できる。
一方、信号生成部530は、遅延回路520のインバータINV15から出力されたパルスフラグ信号FLPに応答し、出力端にアクティブ電圧レベルを伝達するための信号活性化部532と、遅延回路520の遅延部522から出力された遅延フラグ信号FLDに応答し、出力端に非アクティブ電圧レベルを伝達するための信号非アクティブ部534と、信号アクティブ部532及び信号非アクティブ部534の共通出力端に接続されたラッチ部536とを備える。
このラッチ部536は、前記イネーブル信号生成部の出力端に提供されている信号をラッチするラッチ536_1と、予定された信号で前記ラッチを初期化する初期化部536_2とを備える。なお、信号活性化部532はアクティブ遷移感知部の一例であり、信号非アクティブ部534は非アクティブ遷移感知部の一例であり、ラッチ部536はラッチ部の一例である。また、ラッチ536_1はラッチの一例であり、初期化部536_2は初期化部の一例である。
ここで、信号活性化部532は、パルスフラグ信号FLPを入力とするインバータINV16と、パルスフラグ信号FLPが論理レベルハイである時にターンオンするトランスミッションゲートTG1で具現でき、アクティブ電圧レベルとして、周辺回路電圧VPERIを使用する。
そして、信号非アクティブ部534は、遅延フラグ信号FLDを入力とするインバータINV17と、遅延フラグ信号FLDが論理レベルハイである時にターンオンするトランスミッションゲートTG2で具現でき、非アクティブ電圧レベルとして接地電圧VSSを使用する。
また、ラッチ部536は、共通出力端に接続されたラッチINV18及びINV19で具現でき、パワーアップ信号PWRUPを入力とするインバータINV20と、共通出力端と接地電圧端との間に接続され、インバータINV20の出力信号をゲート入力とするNMOSトランジスタMNとで構成されたラッチ初期化部をさらに備えることが好ましい。
図6A及び図6Bは、それぞれ本発明の一実施形態に係るカラムアドレスイネーブル信号のタイミング図であって、以下、これを参照して、読み出し動作の際、本実施形態に係るカラムアドレスイネーブル信号の生成過程を説明する。
まず、読み出しコマンド(図中RD)が印加され、内部クロックCLKP4でラッチされる読み出し信号CASP6_RDが論理レベルハイにアクティブになれば、カラムアクセス検出部510のNANDゲートNAND11から出力されるフラグ信号FLは、論理レベルハイにアクティブになる。
次に、遅延回路520において、フラグ信号FLの立ち上がりエッジから遅延部522の遅延時間TD3分のパルス幅を有するパルスフラグ信号FLPを生成し、遅延部522の遅延時間TD3分のフラグ信号FLを遅延させて、遅延フラグ信号FLDを生成する。
一方、信号生成部530のトランスミッションゲートTG1は、パルスフラグ信号FLPの立ち上がりエッジを受け、周辺回路電圧VPERIを出力端に伝達し、トランスミッションゲートTG2は、遅延フラグ信号FLDの立ち上がりエッジを受け、接地電圧VSSを出力端に伝達する。ラッチ部536では、出力端にかかった信号をラッチして出力する。
図6Aに示すように、低周波動作の際には、読み出し信号CASP6_RDが内部クロックCLKP4と同じパルス幅TD1を有する(図6A中のB参照)。しかし、最終的に生成されるカラムアドレスイネーブル信号BYP_YIは、読み出し信号CASP6_RDのパルス幅と関係なく、パルスフラグ信号FLP及び遅延フラグ信号FLDの立ち上がりエッジにより、そのパルス幅が決定されるため、カラムアドレスイネーブル信号BYP_YIのパルス幅は、「TD3」で現れる。
一方、図6Bに示すように、高周波動作の際にも、読み出し信号CASP6_RDが内部クロックCLKP4と同じパルス幅を有するが、そのパルス幅は、「TD1」ではない外部クロックCLKのパルス幅に制限される。上述の従来の技術の場合、高周波動作の際には、カラムアドレスイネーブル信号BYP_YIのパルス幅も「TD2」に制限されたため、読み出し/書き込み動作のマージン確保が困難であった。
しかし、本実施形態によれば、読み出し信号CASP6_RDのパルス幅が「B」部分と共に制限される場合にも、最終的に生成されるカラムアドレスイネーブル信号BYP_YIが読み出し信号CASP6_RDのパルス幅と関係なく、パルスフラグ信号FLP及び遅延フラグ信号FLDの立ち上がりエッジにより、そのパルス幅が決定されるため、カラムアドレスイネーブル信号BYP_YIは、「TD3」のパルス幅を確保することができる。
すなわち、本実施形態では、カラムアドレスイネーブル信号BYP_YIがパルスフラグ信号FLPによりセットされ、遅延フラグ信号FLDによりリセットされるため、動作周波数と関係なく、常に一定のパルス幅TD3を表すことができ、これにより、高周波動作の際にも読み出し/書き込み動作マージンを確保することができる。
本発明の他の実施形態に係る同期式半導体メモリ素子のカラムアドレスイネーブル信号生成器について、図5、図6A及び図6Bを参照して説明する。
図6A及び図6Bに示すように、カラムアドレスイネーブル信号BYP_YIがパルスフラグ信号FLPによりセットされ、遅延フラグ信号FLDによりリセットされる状況において、遅延フラグ信号FLDは、パルスフラグ信号FLPの立ち下がりエッジにおいて立ち上がる。すなわち、カラムアドレスイネーブル信号BYP_YIは、パルスフラグ信号FLPによりセット及びリセットされる。これは、図5を参照すれば、さらに明確に確認でき、パルスフラグ信号FLPをカラムアドレスイネーブル信号BYP_YIとして使用できることが証明できる。
すなわち、図5に備えられたカラムアクセス検出部510と遅延回路520とを備えることによって、カラムアドレスイネーブル信号BYP_YIを生成できる。
なお、本発明は、上記した実施形態に限定されるものではなく、本発明に係る技術的思想の範囲から逸脱しない範囲内で様々な変更が可能であり、それらも本発明の技術的範囲に属する。
例えば、上述の実施形態において用いられたロジックの種類及び配置は、入力信号及び出力信号が全てハイアクティブ信号の場合を一例に挙げて具現したものであるため、信号のアクティブ極性が変わる場合、ロジックの具現例も変化されなければならず、このような具現例は、場合の数があまりにも多く、またその具現例の変化が本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者にとって、技術的に容易に想到し得る事項であるため、各々の場合に対する直接的な言及は省略する。
また、上述の実施形態では、信号生成部530を信号活性化部532、信号非活性化部534、ラッチ部536で具現する場合を一例に挙げて説明したが、これも1つの具現例に過ぎず、例えば、パルスフラグ信号FLPをセット信号として使用し、遅延フラグ信号FLDをリセット信号として使用するSR−ラッチを利用することもできる。
なお、別の信号生成部530を備えず、遅延回路520の出力信号であるパルスフラグ信号FLPをカラムアドレスイネーブル信号BYP_YIとして使用する場合にも、本発明は成立する。
通常の同期式DRAMのカラム経路を示すブロック図。 図1におけるクロックバッファの回路図。 従来の技術に係る図1におけるカラムアドレスイネーブル信号生成器の回路図。 従来の技術に係るカラムアドレスイネーブル信号のタイミング図(低周波動作時)。 従来の技術に係るカラムアドレスイネーブル信号のタイミング図(高周波動作時)。 本発明の一実施形態に係る同期式半導体メモリ素子のカラムアドレスイネーブル信号生成器の回路図。 本発明の一実施形態に係るカラムアドレスイネーブル信号のタイミング図(低周波動作時)。 本発明の一実施形態に係るカラムアドレスイネーブル信号のタイミング図(高周波動作時)。
符号の説明
510 カラムアクセス検出部
520 遅延回路
530 信号生成部

Claims (28)

  1. 複数の内部命令語信号に応答し、フラグ信号を生成するための内部動作感知部と、
    プログラミングされた時間の間に、前記フラグ信号を遅延させて出力するための遅延部と、
    前記フラグ信号の遷移時点に応答し、イネーブル信号をアクティブにして出力し、前記遅延部により遅延されたフラグ信号の遷移時点に応答し、前記イネーブル信号を非アクティブにして出力するためのイネーブル信号生成部と、
    前記フラグ信号及び前記遅延されたフラグ信号を利用し、パルス形態のフラグ信号を生成して、前記イネーブル信号生成部に伝達するためのパルス生成部と、を備え、
    入力されたアドレスにより生成された内部アドレスが、前記イネーブル信号に応答してコア領域に伝達されるように構成され、
    前記パルス生成部が、
    前記遅延されたラグ信号を反転する第4インバータと、
    前記第4インバータの出力及び前記フラグ信号のロジックナンドオペレイションのための第2NANDゲートと、
    前記第2NANDゲートの出力を反転する第5インバータと、
    を備えたことを特徴とする半導体メモリ装置。
  2. 前記複数の内部命令語信号のそれぞれの命令が内部カラム命令語であることを特徴とする請求項1に記載の半導体メモリ装置。
  3. 前記入力されたアドレスが、カラムアドレスであることを特徴とする請求項2に記載の半導体メモリ装置。
  4. 前記内部動作感知部が、前記複数の内部命令語信号のうち、少なくとも1つに応答し、前記フラグ信号を生成することを特徴とする請求項3に記載の半導体メモリ装置。
  5. 前記内部命令語信号が、読み出し動作のための内部読み出し動作信号、書き込み動作のための内部書き込み動作信号、及び読み出しコマンド又は書き込みコマンドが印加された時に設定されたバースト長(Burst length、BL)分のバースト動作のために、連続的にパルスするカラムバースト信号のうちのいずれか1つであることを特徴とする請求項4に記載の半導体メモリ装置。
  6. 前記内部動作感知部が、
    前記内部読み出し動作信号を反転する第1インバータと、
    前記内部書き込み動作信号を反転する第2インバータと、
    前記カラムバースト信号を反転する第3インバータと、
    前記第1インバータの出力及び前記第2インバータの出力のロジックナンドオペレイションのためのNANDゲートと、
    を備えたことを特徴とする請求項5に記載の半導体メモリ装置。
  7. 前記イネーブル信号生成部が、
    フラグ信号の遷移タイミングに応答し、前記イネーブル信号をアクティブにし、アクティブになった前記フラグ信号を、出力端を介して出力させるためのアクティブ遷移感知部と、
    前記遅延されたフラグ信号の遷移タイミングに応答し、イネーブル信号を非アクティブにし、前記出力端を介して前記非アクティブになったイネーブル信号を出力させるための非アクティブ遷移感知部と、
    を備えたことを特徴とする請求項に記載の半導体メモリ装置。
  8. 前記アクティブ遷移感知部が、前記パルス形態のプラグ信号のロジックハイレベルに応答してターンオンする第1伝送ゲートを備え、
    前記第1伝送ゲートが、ターンオン時に、前記出力端にロジックハイレベルにアクティブになったイネーブル信号を伝達することを特徴とする請求項に記載の半導体メモリ装置。
  9. 前記第1伝送ゲートにより伝達されたロジックハイレベルが、半導体メモリ装置の周辺回路にロジックハイレベルとして用いられる周辺回路駆動電圧レベルに対応されることを特徴とする請求項に記載の半導体メモリ装置。
  10. 前記非アクティブ遷移感知部が、前記遅延されたプラグ信号のロジックハイレベルに応答してターンオンする第2伝送ゲートを備え、
    前記第2伝送ゲートが、ターンオン時に、前記出力端にロジックローレベルに非アクティブになったイネーブル信号を伝達することを特徴とする請求項に記載の半導体メモリ装置。
  11. 前記第2伝送ゲートにより伝達されたロジックローレベルが、接地電圧レベルに対応されることを特徴とする請求項10に記載の半導体メモリ装置。
  12. 前記イネーブル信号生成部の出力端に接続され、前記イネーブル信号をラッチするラッチ部をさらに備えたことを特徴とする請求項11に記載の半導体メモリ装置。
  13. 前記ラッチ部が、
    前記イネーブル信号生成部の出力端に提供される信号をラッチするラッチと、
    予定された信号で前記ラッチを初期化する初期化部と、
    を備えたことを特徴とする請求項12に記載の半導体メモリ装置。
  14. 複数の内部命令語信号に応答し、フラグ信号を生成するための内部動作感知部と、
    前記フラグ信号の第1遷移時点に応答し、イネーブル信号をアクティブにして出力し、前記遅延されたフラグ信号の第1遷移時点に応答し、前記イネーブル信号を非アクティブにして出力するためのイネーブル信号生成部と
    前記フラグ信号を利用してパルス形態のフラグ信号を生成し、前記イネーブル信号生成部に伝達するためのパルス生成部と、を備え、
    入力されたアドレスにより生成された内部アドレスが、前記イネーブル信号に応答し、コア領域に伝達されるように構成され、
    前記パルス生成部が、
    前記遅延されたラグ信号を反転する第4インバータと、
    前記第4インバータの出力及び前記フラグ信号のロジックナンドオペレイションのための第2NANDゲートと、
    前記第2NANDゲートの出力を反転する第5インバータと、
    を備えたことを特徴とする半導体メモリ装置。
  15. 前記複数の内部命令語信号が、それぞれの命令が内部カラム命令語であることを特徴とする請求項14に記載の半導体メモリ装置。
  16. 前記入力されたアドレスが、カラムアドレスであることを特徴とする請求項15に記載の半導体メモリ装置。
  17. 前記内部動作感知部が、前記複数の内部命令語信号のうち、少なくとも1つに応答し、前記フラグ信号を生成することを特徴とする請求項16に記載の半導体メモリ装置。
  18. 前記内部命令語信号が、読み出し動作のための内部読み出し動作信号、書き込み動作のための内部書き込み動作信号、及び読み出しコマンド又は書き込みコマンドが印加された時に設定されたバースト長(Burst length、BL)分のバースト動作のために、連続的にパルスするカラムバースト信号のうち、いずれかであることを特徴とする請求項17に記載の半導体メモリ装置。
  19. 前記内部動作感知部が、
    前記内部読み出し動作信号を反転する第1インバータと、
    前記内部書き込み動作信号を反転する第2インバータと、
    前記カラムバースト信号を反転する第3インバータと、
    前記第1インバータの出力及び前記第2インバータの出力のロジックナンドオペレイションのためのNANDゲートと、
    を備えたことを特徴とする請求項18に記載の半導体メモリ装置。
  20. 前記イネーブル信号生成部が、
    前記パルス形態のフラグ信号の第1遷移タイミングに応答し、前記イネーブル信号をアクティブにし、アクティブになった前記フラグ信号を出力端を介して出力させるためのアクティブ遷移感知部と、
    前記パルス形態のフラグ信号の第2遷移タイミングに応答し、イネーブル信号を非アクティブにし、前記出力端を介して前記非アクティブになったイネーブル信号を出力させるための非アクティブ遷移感知部と、
    を備えたことを特徴とする請求項14に記載の半導体メモリ装置。
  21. 前記アクティブ遷移感知部が、前記パルス形態のプラグ信号のロジックハイレベルに応答してターンオンする第1伝送ゲートを備え、
    前記第1伝送ゲートが、ターンオン時に、前記出力端にロジックハイレベルにアクティブになったイネーブル信号を伝達することを特徴とする請求項20に記載の半導体メモリ装置。
  22. 前記第1伝送ゲートにより伝達されたロジックハイレベルが、半導体メモリ装置の周辺回路においてロジックハイレベルとして用いられる周辺回路駆動電圧レベルに対応されることを特徴とする請求項21に記載の半導体メモリ装置。
  23. 前記非アクティブ遷移感知部が、前記遅延されたプラグ信号のロジックハイレベルに応答してターンオンする第2伝送ゲートを備え、
    前記第2伝送ゲートが、ターンオン時に、前記出力端にロジックローレベルに非アクティブになったイネーブル信号を伝達することを特徴とする請求項22に記載の半導体メモリ装置。
  24. 前記第2伝送ゲートにより伝達されたロジックローレベルが、接地電圧レベルに対応されることを特徴とする請求項23に記載の半導体メモリ装置。
  25. 前記イネーブル信号生成部の出力端に接続され、前記イネーブル信号をラッチするラッチ部をさらに備えたことを特徴とする請求項24に記載の半導体メモリ装置。
  26. 前記ラッチ部が、
    前記イネーブル信号生成部の出力端に提供される信号をラッチするラッチと、
    予定された信号で前記ラッチを初期化する初期化部と、
    を備えたことを特徴とする請求項25に記載の半導体メモリ装置。
  27. 前記内部動作感知部が、
    前記内部読み出し動作信号を反転する第1インバータと、
    前記内部書き込み動作信号を反転する第2インバータと、
    前記カラムバースト信号を反転する第3インバータと、
    前記第1インバータの出力、前記第2インバータの出力、及び前記第3インバータの出力のロジックナンドオペレイションのためのNANDゲートと、
    を備えたことを特徴とする請求項5に記載の半導体メモリ装置。
  28. 前記内部動作感知部が、
    前記内部読み出し動作信号を反転する第1インバータと、
    前記内部書き込み動作信号を反転する第2インバータと、
    前記カラムバースト信号を反転する第3インバータと、
    前記第1インバータの出力、前記第2インバータの出力、及び前記第3インバータの出力のロジックナンドオペレイションのためのNANDゲートと、
    を備えたことを特徴とする請求項18に記載の半導体メモリ装置。
JP2006181520A 2005-09-29 2006-06-30 同期式半導体メモリ素子のカラムアドレスイネーブル信号生成器及びその生成方法 Expired - Fee Related JP5044153B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20050090952 2005-09-29
KR10-2005-0090952 2005-09-29
KR10-2005-0124355 2005-12-16
KR1020050124355A KR100670730B1 (ko) 2005-09-29 2005-12-16 동기식 반도체 메모리 소자의 컬럼 어드레스 인에이블 신호생성기 및 그 생성방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007095258A JP2007095258A (ja) 2007-04-12
JP5044153B2 true JP5044153B2 (ja) 2012-10-10

Family

ID=37893665

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006181520A Expired - Fee Related JP5044153B2 (ja) 2005-09-29 2006-06-30 同期式半導体メモリ素子のカラムアドレスイネーブル信号生成器及びその生成方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7505358B2 (ja)
JP (1) JP5044153B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8727618B2 (en) * 2006-11-22 2014-05-20 Siemens Aktiengesellschaft Robotic device and method for trauma patient diagnosis and therapy
KR20220020547A (ko) * 2020-08-12 2022-02-21 에스케이하이닉스 주식회사 Mos 트랜지스터의 열화를 방지하는 전자장치

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06259996A (ja) 1993-03-09 1994-09-16 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
KR100252043B1 (ko) 1997-11-07 2000-05-01 윤종용 반도체 메모리 장치의 칼럼 선택 신호 제어기 및 칼럼 선택제어 방법
KR100297708B1 (ko) * 1997-11-17 2001-08-07 윤종용 클락동기프리차아지데이터입출력선을가지는반도체메모리장치및이를이용한데이터입출력선프리차아지방법
JP2000048565A (ja) * 1998-07-29 2000-02-18 Mitsubishi Electric Corp 同期型半導体記憶装置
JP2000100160A (ja) 1998-09-18 2000-04-07 Nec Corp 同期型半導体メモリ
KR100334531B1 (ko) * 1999-04-03 2002-05-02 박종섭 반도체 메모리 장치
JP2001035195A (ja) * 1999-07-19 2001-02-09 Nec Ic Microcomput Syst Ltd 半導体記憶装置
JP3707960B2 (ja) * 1999-07-23 2005-10-19 富士通株式会社 半導体装置
KR100379556B1 (ko) * 2001-05-15 2003-04-10 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리의 컬럼 리페어 장치
KR20030056002A (ko) 2001-12-27 2003-07-04 삼성전자주식회사 동기형 반도체 메모리 장치의 칼럼 선택 라인 신호 발생회로
KR20030060640A (ko) 2002-01-10 2003-07-16 주식회사 하이닉스반도체 디램의 컬럼 인에이블 신호 발생 회로
KR100416622B1 (ko) 2002-04-27 2004-02-05 삼성전자주식회사 동기식 반도체 메모리장치의 컬럼 디코더 인에이블 타이밍제어방법 및 장치
KR100510491B1 (ko) * 2002-10-07 2005-08-26 삼성전자주식회사 부분 활성화 구조를 가지고 페이지 모드 동작이 가능한반도체 메모리 장치 및 그 동작 방법
KR100557950B1 (ko) 2003-10-07 2006-03-10 주식회사 하이닉스반도체 어드레스 스트로브 신호의 제어 회로
KR100525107B1 (ko) * 2004-02-06 2005-11-01 주식회사 하이닉스반도체 메모리 장치의 동작 주파수 변동에 따라 비트라인 감지증폭기와 데이타 감지 증폭기를 연결하는 데이타 버스의동작을 제어하는 신호의 인에이블 구간을 제어하는 방법과그 장치

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007095258A (ja) 2007-04-12
US20070070714A1 (en) 2007-03-29
US7505358B2 (en) 2009-03-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100518397B1 (ko) 반도체 메모리 장치 및 제어 방법
JP4982686B2 (ja) 半導体メモリ素子のオーバードライバ制御信号の生成回路
US6185151B1 (en) Synchronous memory device with programmable write cycle and data write method using the same
JP2010146690A (ja) 半導体集積回路
KR100384775B1 (ko) 쿼드 데이터 레이트 싱크로노스 에스램의 리드/라이트를위한 워드라인 및 비트라인 구동 방법 및 그 회로
JP4953273B2 (ja) 半導体メモリ素子
KR100533696B1 (ko) 반도체 장치 및 그 제어 방법
KR20000077249A (ko) 반도체 기억 장치
US6813211B2 (en) Fully hidden refresh dynamic random access memory
JP3685709B2 (ja) 同期型メモリ装置及びその連続読出方法
KR102592359B1 (ko) 반도체장치
GB2341706A (en) Synchronous semiconductor memory device with a clock generating circuit
JPH09320261A (ja) 半導体記憶装置および制御信号発生回路
JP4402439B2 (ja) 改善されたデータ書き込み制御回路を有する4ビットプリフェッチ方式fcram及びこれに対するデータマスキング方法
KR20010084281A (ko) 반도체 메모리 장치의 자동 프리차지 제어신호 발생회로및 자동 프리차지 제어방법
US6026041A (en) Semiconductor memory device
JPH10162576A (ja) 半導体メモリ装置のカラム選択ラインイネーブル回路
JP5044153B2 (ja) 同期式半導体メモリ素子のカラムアドレスイネーブル信号生成器及びその生成方法
US7345949B2 (en) Synchronous semiconductor memory device
KR20090126611A (ko) 반도체 메모리 소자와 그의 구동 방법
US8699285B2 (en) Semiconductor memory device and integrated circuit
KR20100064103A (ko) 반도체 메모리 장치 및 그 구동방법
KR100670730B1 (ko) 동기식 반도체 메모리 소자의 컬럼 어드레스 인에이블 신호생성기 및 그 생성방법
US6301189B1 (en) Apparatus for generating write control signals applicable to double data rate SDRAM
KR100728971B1 (ko) 카스 레이턴시에 따른 데이터 출력 클록 제어 회로

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081224

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110616

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110621

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110920

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120126

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120523

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20120601

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20120604

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20120604

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120619

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120713

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150720

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees