JP5043780B2 - パターン描画方法及びレーザ直接描画装置 - Google Patents
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Description
被描画体をテーブル上に固定し、撮像手段により被描画体の主走査方向の一方の辺の両端の頂点の座標を、レーザ直接描画装置のXY座標軸に基づいて求める第1の工程と、
第1の工程で求められた前記頂点の座標に基づいて前記被描画体の一方の辺をレーザ直接描画装置のX軸に対して予め定める角度αに配置する第2の工程と、
前記被描画体をレーザ直接描画装置のXY座標軸と平行に移動させて、前記第2の工程で配置した辺の一方の頂点を設計上の被描画体の一方の頂点の位置に位置決めする第3の工程と、
第3の工程で位置決めされた前記被描画体の第1の面を露光する第4の工程と、
第4の工程で露光された被被描画体を副走査方向の軸の回りに表裏反転させる第5の工程と、
第5の工程で表裏反転された被描画体をテーブル上に固定し、前記撮像手段により前記第2の工程で測定した2つの頂点の反転後の座標をレーザ直接描画装置のXY座標軸に基づいて求める第6の工程と、
第6の工程で求められた前記反転後の座標に基づいて前記2つの頂点に挟まれる辺をレーザ直接描画装置のX軸に対して前記角度αを負に設定した角度−αに配置する第7の工程と、
第7の工程で角度−αに設定された前記被描画体をレーザ直接描画装置のXY座標軸と平行に移動させ、反転された前記第1の面における一方の頂点を当該第1の面における設計上の他方の頂点の位置に位置決めする第8の工程と、
第8の工程で位置決めされた前記被描画体の第2の面を露光する第9の工程と、
を備えていることを特徴とする。
前記被描画体をX,Y方向に移動させるXYテーブルと、
前記XYテーブル上に載置され、前記被描画体をXY面と平行な面内で回転させる回転テーブルと、
前記回転テーブル上に設けられ、外形形状が長方形である被描画体の1つの頂角を挟む2辺を位置決めする位置決め手段と、
前記テーブルの上方に配置され、前記被描画体の頂角を測定する撮像手段と、
前記被描画体を露光する制御装置と、
を備え、
前記制御装置は、
被描画体をテーブル上に固定し、撮像手段により被描画体の主走査方向の一方の辺の両端の頂点の座標を、レーザ直接描画装置のXY座標軸に基づいて求める第1の手順と、
第1の手順で求められた前記頂点の座標に基づいて前記被描画体の一方の辺をレーザ直接描画装置のX軸に対して予め定める角度αに配置する第2の手順と、
前記被描画体をレーザ直接描画装置のXY座標軸と平行に移動させて、前記第2の手順で配置した辺の一方の頂点を設計上の被描画体の一方の頂点の位置に位置決めする第3の手順と、
第3の手順で位置決めされた前記被描画体の第1の面を露光する第4の手順と、
第4の手順で露光された被被描画体を副走査方向の軸の回りに表裏反転させる第5の手順と、
第5の手順で表裏反転された被描画体をテーブル上に固定し、前記撮像手段により前記第2の手順で測定した2つの頂点の反転後の座標をレーザ直接描画装置のXY座標軸に基づいて求める第6の手順と、
第6の手順で求められた前記反転後の座標に基づいて前記2つの頂点に挟まれる辺をレーザ直接描画装置のX軸に対して前記角度αを負に設定した角度−αに配置する第7の手順と、
第7の手順で角度−αに設定された前記被描画体をレーザ直接描画装置のXY座標軸と平行に移動させ、反転された前記第1の面における一方の頂点を当該第1の面における設計上の他方の頂点の位置に位置決めする第8の手順と、
第8の手順で位置決めされた前記被描画体の第2の面を露光する第9の手順と、
によって前記被描画体の両面にパターンを描画すること
を特徴とする。
1)テーブル12は回転方向に関して位置決めピン21aと位置決めピン21bの接線Kがテーブル12の移動方向であるY方向と平行になる。
2)テーブル12上の点Mはレーザ直接描画装置のベッド18のXY座標軸の原点O上に位置決めされる。
3)待機位置に位置決めされたカメラ60の光軸はレーザ直接描画装置のXY座標軸の原点O上である。
という状態になる。なお、図示点Pはテーブル12の回転中心である。
6)第5工程で辺ADがX軸に平行になったら、図3(c)に示すように、テーブル12を移動させる前記X方向移動機構及びY方向移動機構を駆動してテーブル12をX、Y方向に移動させ、頂点Aを加工原点Oに合わせる(第6工程)。このようにして、被描画体10のxy座標軸をレーザ直接描画装置の駆動系のXY座標軸に一致させる。
12 テーブル
A 被描画体の頂点
D 被描画体の頂点
A0 設計上の被描画体の頂点
D0 設計上の被描画体の頂点
Claims (2)
- レーザビームを主走査方向へ偏向させると共に被描画体を載置するテーブルを副走査方向へ移動させて外形が長方形である前記被描画体の表裏両面にパターンを描画する描画方法において、
被描画体をテーブル上に固定し、撮像手段により被描画体の主走査方向の一方の辺の両端の頂点の座標を、レーザ直接描画装置のXY座標軸に基づいて求める第1の工程と、
第1の工程で求められた前記頂点の座標に基づいて前記被描画体の一方の辺をレーザ直接描画装置のX軸に対して予め定める角度αに配置する第2の工程と、
前記被描画体をレーザ直接描画装置のXY座標軸と平行に移動させて、前記第2の工程で配置した辺の一方の頂点を設計上の被描画体の一方の頂点の位置に位置決めする第3の工程と、
第3の工程で位置決めされた前記被描画体の第1の面を露光する第4の工程と、
第4の工程で露光された被被描画体を副走査方向の軸の回りに表裏反転させる第5の工程と、
第5の工程で表裏反転された被描画体をテーブル上に固定し、前記撮像手段により前記第2の工程で測定した2つの頂点の反転後の座標をレーザ直接描画装置のXY座標軸に基づいて求める第6の工程と、
第6の工程で求められた前記反転後の座標に基づいて前記2つの頂点に挟まれる辺をレーザ直接描画装置のX軸に対して前記角度αを負に設定した角度−αに配置する第7の工程と、
第7の工程で角度−αに設定された前記被描画体をレーザ直接描画装置のXY座標軸と平行に移動させ、反転された前記第1の面における一方の頂点を当該第1の面における設計上の他方の頂点の位置に位置決めする第8の工程と、
第8の工程で位置決めされた前記被描画体の第2の面を露光する第9の工程と、
を備えていることを特徴とするパターン描画方法。 - レーザビームを主走査方向へ偏向させると共に被描画体を載置するテーブルを副走査方向へ移動させて前記被描画体の表面にパターンを描画するレーザ直接描画装置において、
前記被描画体をX,Y方向に移動させるXYテーブルと、
前記XYテーブル上に載置され、前記被描画体をXY面と平行な面内で回転させる回転テーブルと、
前記回転テーブル上に設けられ、外形形状が長方形である被描画体の1つの頂角を挟む2辺を位置決めする位置決め手段と、
前記テーブルの上方に配置され、前記被描画体の頂角を測定する撮像手段と、
前記被描画体を露光する制御装置と、
を備え、
前記制御装置は、
被描画体をテーブル上に固定し、撮像手段により被描画体の主走査方向の一方の辺の両端の頂点の座標を、レーザ直接描画装置のXY座標軸に基づいて求める第1の手順と、
第1の手順で求められた前記頂点の座標に基づいて前記被描画体の一方の辺をレーザ直接描画装置のX軸に対して予め定める角度αに配置する第2の手順と、
前記被描画体をレーザ直接描画装置のXY座標軸と平行に移動させて、前記第2の手順で配置した辺の一方の頂点を設計上の被描画体の一方の頂点の位置に位置決めする第3の手順と、
第3の手順で位置決めされた前記被描画体の第1の面を露光する第4の手順と、
第4の手順で露光された被被描画体を副走査方向の軸の回りに表裏反転させる第5の手順と、
第5の手順で表裏反転された被描画体をテーブル上に固定し、前記撮像手段により前記第2の手順で測定した2つの頂点の反転後の座標をレーザ直接描画装置のXY座標軸に基づいて求める第6の手順と、
第6の手順で求められた前記反転後の座標に基づいて前記2つの頂点に挟まれる辺をレーザ直接描画装置のX軸に対して前記角度αを負に設定した角度−αに配置する第7の手順と、
第7の手順で角度−αに設定された前記被描画体をレーザ直接描画装置のXY座標軸と平行に移動させ、反転された前記第1の面における一方の頂点を当該第1の面における設計上の他方の頂点の位置に位置決めする第8の手順と、
第8の手順で位置決めされた前記被描画体の第2の面を露光する第9の手順と、
によって前記被描画体の両面にパターンを描画すること
を特徴とするレーザ直接描画装置。
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JP2008213048A JP5043780B2 (ja) | 2008-08-21 | 2008-08-21 | パターン描画方法及びレーザ直接描画装置 |
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2008
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