JP5040135B2 - 誘電体分離型半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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- シリコン基板上にシリコン酸化膜とシリコン層とが積層されたSOI基板に、該シリコン層の主表面からシリコン酸化膜に達する誘電体分離溝で高電圧ゲート駆動回路、低電圧ゲート駆動回路が複数の領域に形成されている誘電体分離型半導体装置において、
前記ゲート駆動回路のMOSトランジスタが、ウエル領域内に、ソース、及び前記ソースに対向して前記ソースよりも低濃度で深いドレイン層が形成され、前記ドレイン層内に前記ドレイン層よりも高不純物濃度のドレインが形成され、
前記ウエル領域における前記ドレイン層より深く、かつ前記ソース,前記ドレイン層及び前記ドレインの直下の領域が、前記ウエル領域の表面部分より高い不純物濃度を有することを特徴とする誘電体分離型半導体装置。 - 請求項1において、
前記ウエル領域が、素子分離領域の上に形成されたシリコン酸化膜の平面形状に対して自己整合的に形成された領域であることを特徴とする誘電体分離型半導体装置。 - 請求項1において、
前記ウエル領域が、高耐圧素子のドレイン領域あるいはコレクタ領域と同じ不純物濃度を有することを特徴とする誘電体分離型半導体装置。 - 請求項1において、
前記ゲート駆動回路を構成するMOSトランジスタの低濃度ドレイン領域は高耐圧素子のチャネルを形成するボディー領域と同じ不純物濃度を有することを特徴とする誘電体分離型半導体装置。 - シリコン支持基板上にシリコン酸化膜およびシリコン層が積層されたSOI基板を準備する工程と、
該シリコン層の主表面からシリコン酸化膜に達する垂直な誘電体分離溝を形成する工程と、
前記分離溝の中を熱酸化膜と多結晶シリコンとで埋め込む工程と、
選択酸化により素子活性層を分離する少なくとも2種類以上の膜厚を有する酸化膜を形成する工程と、
該酸化膜を形成した後に、イオン注入装置での加速電圧を変えることで同一のイオン注入用マスクの開口窓を利用して深さ方向で表面側に低不純物濃度領域と前記低不純物濃度領域よりも深くて高濃度の高不純物濃度の領域からなるウエル領域を形成する工程と、
前記ウエル領域の前記低不純物濃度領域にソース、及びソースよりも深くて低不純物濃度のドレイン層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする誘電体分離型半導体装置の製造方法。
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