JP5034598B2 - 固体撮像素子及びその製造方法 - Google Patents
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Low≦Low1≦Vg1≦Vdd (ただし、Low<Vdd)
なる不等式が成立する電位である。リング状ゲート電極を持つMOSFETのソースに接続されたソースフォロア回路が働き、そのMOSFETのソース電位は、S2(=Vg1−Vth1)となる。ここで、Vth1とはホールがある状態でのMOSFET53のしきい値電圧である。この値が第1のキャパシタに記憶される。
また、第2の発明の固体撮像素子は、上記光信号出力用トランジスタが、ゲート電極をマスクとして、360°/mの角度ずつ基板を回転し、その度に基板の表面に対して斜め方向からイオン注入して合計m回のイオン注入を行うことにより、ソース近傍領域内に形成され、ソース近傍領域よりも高濃度でリング形状を有する高濃度領域をさらに備えることを特徴とする。
82 p-型エピタキシャル層
83 nウェル
84、103 ゲート酸化膜
85 矩形リング状ゲート電極
86 n+型ソース領域
87、110 ソース近傍p型領域
88 p+型領域
89 n+型ドレイン領域
90 埋め込みp-型領域
91 フォトダイオード
92 転送ゲート電極
101 基板
102、107 注入領域
104 ゲート電極又はマスク
105、106 注入イオン
Claims (4)
- 光を電荷に変換して蓄積する光電変換領域と、前記光電変換領域に蓄積された前記電荷を転送する電荷転送手段と、入力された電荷の量をしきい値の変化として出力する光信号出力用トランジスタとを含む単位画素が基板上に規則的に複数配列された固体撮像素子であって、
前記光信号出力用トランジスタは、m角形(mは3以上の自然数)のリング形状を有するゲート電極と、前記ゲート電極をマスクとして、360°/mの角度ずつ前記基板を回転し、その度に前記基板の表面に対して斜め方向からイオン注入して合計m回のイオン注入を行うことにより、前記ゲート電極の中央開口部に対応する基板位置に形成されたソース領域と、前記ゲート電極をマスクとして、360°/mの角度ずつ前記基板を回転し、その度に前記基板の表面に対して斜め方向からイオン注入して合計m回のイオン注入を行うことにより、前記ソース領域を取り囲み、かつ、前記ゲート電極の下方まで広がりを持つように形成されたソース近傍領域とを有し、
前記電荷転送手段は、前記光電変換領域に蓄積された前記電荷を前記ソース近傍領域へ転送する手段であることを特徴とする固体撮像素子。 - 前記光信号出力用トランジスタは、前記ゲート電極をマスクとして、360°/mの角度ずつ前記基板を回転し、その度に前記基板の表面に対して斜め方向からイオン注入して合計m回のイオン注入を行うことにより、前記ソース近傍領域内に形成され、前記ソース近傍領域よりも高濃度でリング形状を有する高濃度領域をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
- 光を電荷に変換して蓄積する光電変換領域と、m角形(mは3以上の自然数)のリング形状を有するゲート電極を持ち、入力された電荷の量をしきい値の変化として出力する光信号出力用トランジスタとを含む単位画素が、第1の導電型の基板上に規則的に複数配列された固体撮像素子の製造方法において、
前記基板の表面に設けられた第2の導電型のウェル領域の所定位置に、ゲート絶縁膜を介して、前記m角形のリング形状を有するゲート電極を形成するリング状ゲート電極形成ステップと、
前記ゲート電極をマスクとして、360°/mの角度ずつ前記基板を回転し、その度に前記基板の表面に対して斜め方向から第1の導電型の不純物をイオン注入して合計m回のイオン注入を行うことにより、前記ゲート電極の下方まで広がりを持つ第1の導電型のソース近傍領域を形成するソース近傍領域形成ステップと、
前記ゲート電極をマスクとして、360°/mの角度ずつ前記基板を回転し、その度に前記基板の表面に対して斜め方向から高濃度の第2の導電型の不純物をイオン注入して合計m回のイオン注入を行うことにより、前記ゲート電極の中央開口部に対応する基板位置に、前記ソース近傍領域に取り囲まれた、前記光信号出力用トランジスタの第2の導電型のソース領域を形成するソース領域形成ステップと、
を含むことを特徴とする固体撮像素子の製造方法。 - 前記ゲート電極をマスクとして、360°/mの角度ずつ前記基板を回転し、その度に前記基板の表面に対して斜め方向から高濃度の第1の導電型の不純物をイオン注入して合計m回のイオン注入を行うことにより、前記ソース近傍領域内に、前記ソース近傍領域よりも高濃度でリング形状を有する第1の導電型の高濃度領域を形成する高濃度領域形成ステップをさらに含むことを特徴とする請求項3記載の固体撮像素子の製造方法。
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JP2007086585A JP5034598B2 (ja) | 2007-03-29 | 2007-03-29 | 固体撮像素子及びその製造方法 |
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JP2006100761A (ja) * | 2004-01-29 | 2006-04-13 | Victor Co Of Japan Ltd | 固体撮像素子及びその製造方法並びに固体撮像素子の駆動方法 |
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