JP5034149B2 - 半導体メモリおよびその制御方法 - Google Patents
半導体メモリおよびその制御方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5034149B2 JP5034149B2 JP2001254830A JP2001254830A JP5034149B2 JP 5034149 B2 JP5034149 B2 JP 5034149B2 JP 2001254830 A JP2001254830 A JP 2001254830A JP 2001254830 A JP2001254830 A JP 2001254830A JP 5034149 B2 JP5034149 B2 JP 5034149B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal
- refresh
- address signal
- word line
- command
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/12—Group selection circuits, e.g. for memory block selection, chip selection, array selection
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/406—Management or control of the refreshing or charge-regeneration cycles
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/10—Decoders
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/14—Word line organisation; Word line lay-out
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/18—Address timing or clocking circuits; Address control signal generation or management, e.g. for row address strobe [RAS] or column address strobe [CAS] signals
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Dram (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体メモリの低消費電力技術および高速化技術に関する。
また、本発明は、キャパシタからなるメモリセルを有する半導体メモリに関し、特に、メモリセルのリフレッシュを内部で自動的に実行する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、DRAM等の半導体メモリは、共通のアドレス端子を使用してアドレス信号を行アドレスと列アドレスとに分けて受け、読み出し動作または書き込み動作等を実行している。例えば、I/Oが8ビットの64MビットDRAM(アドレス空間;8Mビット)のDRAMは、2本のバンクアドレス端子と12本のアドレス端子を使用して、12ビットの行アドレス信号と、9ビットの列アドレス信号とを受けている。このDRAMでは、例えば、最初のクロック信号に同期してアクティブコマンドおよび行アドレス信号(上位アドレス)を受け、次のクロック信号に同期して読み出しコマンドおよび列アドレス信号(下位アドレス)を受ける。このとき行アドレス信号に対応する全てのワード線が活性化され、メモリセルに保持されているデータがビット線に読み出される。読み出されたデータは、センスアンプで増幅される。この例では、ワード線の活性化により16k個のメモリ領域のうち一つが選択され、4k個のメモリセルのデータが再書き込みされる。この後、列アドレス信号により、データを読み書きするメモリセルが選択され、読み出し動作または書き込み動作が実行される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、行アドレス信号のビット数が多いほど、一度に選択されるメモリ領域の大きさが小さくなり、同時に活性化されるワード線の数が少なくなる。読み出し動作時および書き込み動作時の消費電力は、活性化されるワード線の数およびワード線の活性化に応じて動作するセンスアンプの数に依存する。このため、行アドレス信号のビット数が多いほど、動作時の消費電力は小さくなる。
例えば、上述したDRAMが、2本のバンクアドレス端子と、13本のアドレス端子を有し、13ビットの行アドレス信号および8ビットの列アドレス信号を受ける場合、一度に活性化されるワード線の数は半減され、消費電力は減少する。
【0004】
しかしながら、行アドレス信号のビット数が増えると、パッケージの端子数が増えるため、パッケージの外形寸法が大きくなってしまう。その結果、DRAMを搭載するシステム基板において、部品の実装密度が低下してしまう。部品の実装密度は、アドレスバスの本数が増え、システム基板上のパターン配線領域が増えることでも低下する。アドレス端子の数を増やすことは、チップ面積の増大にもつながる。
【0005】
一方、DRAMは、汎用コンピュータ、パーソナルコンピュータだけでなく、民生機器にも多量に使用されている。一般に、民生機器に搭載されるDRAMは、数十MHzで動作すれば十分な場合が多い。しかしながら、従来のDRAMは、民生機器向け専用に開発されていない。このため、民生機器にDRAMを搭載する場合にも、コンピュータ向けの高速のDRAMを採用しなくてはならなかった。この種のDRAMは、高速動作を目的に開発されているため、消費電力が大きい場合がある。携帯電話、電子カメラ等のようにバッテリーで動作する民生機器の分野では、低消費電力の低いDRAMが待望されている。
【0006】
DRAMのメモリセルは、キャパシタに電荷を充電することで情報を記憶する。このため、DRAMを搭載するシステムは、所定の周期でメモリセルをリフレッシュし、メモリセルに書き込まれた情報を保持する必要がある。メモリセルの読み出し動作および書き込み動作は、リフレッシュ動作中に実行できない。このため、上記システムでは、I/Oのバス占有率が低下する傾向がある。特に、民生機器等の分野で待望されている低い周波数で動作するDRAMにおいて、そのリフレッシュ動作を最適化し、I/Oのバス占有率を向上する提案はなされていない。
【0007】
本発明の目的は、半導体メモリの消費電力を低減することにある。
本発明の別の目的は、低い周波数で動作するDRAMにおいて、メモリセルのリフレッシュ動作を最適化し、I/Oのバス占有率を向上することにある。
本発明のさらなる別の目的は、低い周波数で動作する半導体メモリにおいて、コマンドの供給から読み出し動作および書き込み動作の完了までの時間を短縮することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の半導体メモリおよび本発明の半導体メモリの制御方法では、半導体メモリは、複数のコマンドを順次受け、これ等コマンドの組み合わせに応じて、メモリセルにデータを読み書きするメモリ動作を実行する。この際、メモリセルの選択スイッチを制御するワード線は、最初のコマンドではなく、2番目またはそれ以降のコマンドを受けた後に活性化される。このため、ワード線を活性化するための制御回路を従来より低い周波数で動作させることができ、消費電力を小さくできる。
【0009】
最初のコマンドが供給された後、ワード線が活性化するまでの期間が十分あるため、この期間を利用して、外部から認識されることなく内部回路を動作できる。内部回路として、例えば、メモリセルのリフレッシュ動作を自動的に実行するリフレッシュ制御回路、または回路の機能をチェックするセルフテスト回路等がある。
【0010】
本発明の半導体メモリおよび本発明の半導体メモリの制御方法では、動作させるメモリセルを特定するためのアドレス信号が、コマンドとともに供給される。ワード線は、最初のコマンドとともに供給されるアドレス信号と、2番目またはそれ以降のコマンドとともに供給されるアドレス信号の一部とに基づいて活性化される。従来より多くのアドレス信号を使用してワード線を活性化することで、同時に活性化されるワード線の数を少なくできる。換言すれば、これ等アドレス信号により選択されるメモリ領域は小さくなる。このため、メモリ動作のために動作する回路の規模を小さくでき、消費電力を小さくできる。
【0011】
本発明の半導体メモリでは、ワード線は、メインワード線と、このメインワード線から分岐する複数のサブワード線とを有している。サブワード線は、メモリセルの選択スイッチに接続されている。メインワード線は、例えば、上位アドレスに対応しており、複数回のメモリ動作の間活性化されている。サブワード線は、例えば、下位アドレスに対応しており、1回のメモリ動作毎に活性化される。複数のサブワード線を順次活性化することで、活性化されたメインワード線により選択可能な全てのメモリセルを動作させることができる。すなわち、一般にページ動作と称する連続アクセスを広いメモリ領域で行うことができる。
【0012】
本発明の半導体メモリでは、ワード線は、メインワード線と、このメインワード線から分岐しメモリセルの選択スイッチに接続された複数のサブワード線とを有している。メインワード線は、最初のコマンドとともに供給されるアドレス信号に基づいて活性化される。サブワード線は、2番目またはそれ以降のコマンドとともに供給されるアドレス信号に基づいて活性化される。メインワード線を予め活性化しておくことで、2番目のコマンドが供給されてからサブワード線が活性化されるまでの期間を短くできる。この結果、ページ動作を高速に実行できる。また、メモリセル等を救済する冗長回路を有する場合、救済判定を高速に実行できる。もしくは、メインワード線単位で冗長を行う場合、救済判定をアクティブコマンドからメインワード線の立ち上げの間に実行することで、冗長回路による判定時間を他の回路の動作時間に含めることができる。すなわち、冗長回路の動作がクリティカルになることを防止できる。
【0013】
本発明の半導体メモリでは、メモリセルを有する複数のメモリブロックのいずれかが、最初のコマンドとともに供給されるアドレス信号に応じて選択される。メモリ動作の早い時期にメモリブロックを選択することで、2番目以降のコマンドに応答して動作を開始する回路を少なくできる。この結果、最初のコマンドが供給されてから読み出し動作および書き込み動作が完了するまでの時間を短縮できる。すなわち、低消費電力の特性を保持したまま、高速化を実現できる。
【0014】
本発明の半導体メモリでは、メモリブロックは、複数のセグメントで構成されている。複数のビット線は、サブワード線に接続された複数のメモリセルにそれぞれ接続されている。複数のセンスアンプは、一対のメモリブロックに共通に形成されており、これ等メモリブロック内のビット線上のデータを増幅する。すなわち、センスアンプは、1つのメモリブロックで供給されている。複数のビット線選択スイッチは、各メモリブロックのビット線とセンスアンプとをそれぞれ接続する。ビット線選択スイッチは、最初のコマンドとともに供給されるアドレス信号に応じて、セグメント毎に選択される。このため、メモリ動作の早い時期に、動作させるメモリブロックのビット線とセンスアンプとを接続できる。または、動作させないメモリブロックのビット線とセンスアンプとの接続を解除できる。この結果、最初のコマンドが供給されてから読み出し動作および書き込み動作が完了するまでの時間を短縮できる。
【0015】
また、ビット線とセンスアンプとをセグメント毎に接続するため、読み出し動作および書き込み動作時に動作する回路を減らすことができ、動作時の消費電力を削減できる。
本発明の半導体メモリでは、揮発性のメモリセルに保持されているデータを再書き込みするリフレッシュ動作は、複数のセグメントのビット線選択スイッチを同時に選択して実行される。リフレッシュ時に動作させるセグメントを、読み出し動作および書き込み動作時に動作させるセグメントより増やすことで、全てのメモリセルをリフレッシュするために必要なリフレッシュ回数を減らすことができる。したがって、リフレッシュ間隔を延ばすことができ、所定の期間内において、読み出し動作および書き込み動作の比率を高くできる。すなわち、I/Oのバス占有率(データ転送レート)を向上できる。
【0016】
本発明の半導体メモリでは、デコーダは、アドレス信号に応じてサブワード線を選択するためのデコード信号を生成する。活性化制御回路は、2番目のコマンドのみに応答してデコーダを活性化する。活性化制御回路は、3番目以降のコマンドには応答しない。このため、2番目のコマンドに応答して選択されたサブワード線は、3番目以降のコマンドに対しても有効になる。3番目以降のコマンドとともに供給されるアドレス信号のうち、サブワード線を選択するためのアドレス信号は無視される。このため、ワード線の多重選択等の半導体メモリの誤動作を確実に防止できる。デコーダは、3番目以降のコマンドに応答して動作しないため、消費電力を削減できる。
【0017】
本発明の半導体メモリでは、揮発性のメモリセルに対するリフレッシュ動作時に、メインワード線およびサブワード線は、最初のコマンドに対応するアドレス信号に応じて選択される。このため、最初のコマンドに応答してリフレッシュ動作を開始でき、リフレッシュ動作を読み出し動作および書き込み動作に比べ高速に実行できる。したがって、所定の期間内において、読み出し動作および書き込み動作の比率を高くでき、I/Oのバス占有率(データ転送レート)を向上できる。
【0018】
本発明の半導体メモリは、リフレッシュ発生回路、バッファ、およびリフレッシュ制御回路とを備えている。リフレッシュ発生回路は、メモリセルをリフレッシュするためのリフレッシュ要求を所定の間隔で発生する。バッファは、リフレッシュ要求を保持する。リフレッシュ制御回路は、メモリ動作が実行されていないときに、バッファに保持されたリフレッシュ要求に基づいてリフレッシュ動作を実行する。この半導体メモリは、メモリ動作を完了した後、次のメモリ動作のためにワード線を活性化するまでの期間が十分ある。バッファに保持されているリフレッシュ要求に基づいて、この期間にリフレッシュ動作を実行することで、リフレッシュ動作を外部から認識されることなく実行できる。すなわち、メモリセルのリフレッシュを内部で自動的に実行できる。
【0019】
本発明の半導体メモリは、リフレッシュ要求を交互に保持する複数のバッファを備えている。ページ動作中は、リフレッシュ要求が発生してもリフレッシュ動作を実行できない。このため、ページ動作の最大回数は、リフレッシュ要求の発生間隔であるリフレッシュ周期に応じて制限される。バッファの数だけリフレッシュ要求を保持できるため、ページ動作の最大回数を増やすことができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。
図1は、本発明の半導体メモリおよび半導体メモリの制御方法の第1の実施形態を示している。
この半導体メモリは、シリコン基板上にCMOSプロセスを使用して64MビットのSDRAM(Synchronous DRAM)10として形成されている。このSDRAM10は、主に民生機器向けに設計されており、最大クロック周波数は、40MHz(最速のSDRAMの半分以下)である。SDRAM10は、使い勝手を良くするために、メモリセルのリフレッシュを内部で自動的に実行する機能を有している。このため、ユーザは、リフレッシュを全く考慮することなく、SDRAMを搭載するシステム基板を設計できる。
【0021】
SDRAM10の端子の構成は、一般の64MビットSDRAMと同じである。すなわち、SDRAM10は、12ビットの行アドレス信号と9ビットの列アドレス信号とを受ける12本のアドレス端子、2本のバンク選択端子、および8本のデータ入出力端子を有している。
図1に示すように、SDRAM10は、リフレッシュ制御回路12、リフレッシュカウンタ14、ラッチ16、18、アドレスセレクタ20、22、タイミングジェネレータ24、および4つのバンクBKを有している。
【0022】
バンクBKは、タイミングジェネレータ26、行プリデコーダ28、セグメントセレクタ30、列プリデコーダ32、およびメモリコア34を有している。メモリコア34は、縦横に配置された複数のセグメントSで構成されたメモリアレイMAを有している。この例では、一つのセグメントSは、256k個のメモリセルで構成されている。メモリアレイMAの周囲には、行メインデコーダ36、列メインデコーダ38、および図示しないセンスアンプ、データの入出力スイッチ等が配置されている。行メインデコーダ36は、メインワード線MWLにより図の縦方向に並ぶセグメントSを選択し、列メインデコーダ38は、図示しない列スイッチ等により図の横方向に並ぶセグメントSを選択する。メインワード線MWLは、トランジスタ等のスイッチを介して複数のサブワード線SWLに接続されている。サブワード線SWLは、メモリセルの転送トランジスタのゲートに接続されている。
【0023】
リフレッシュ制御回路12は、内部リフレッシュ信号IREF、内部行アドレスストローブ信号IRAS等の制御信号を各回路に供給し、メモリセルのリフレッシュ動作を制御する。より詳細には、図示しないリフレッシュ発生回路(発振回路)により一定時間毎にリフレッシュ要求が発生する。リフレッシュ要求は、リフレッシュ制御回路12内のバッファ(図示せず)で一旦保持され、メモリコア34の非動作時に内部リフレッシュ信号IREFとして出力される。内部行アドレスストローブ信号IRASは、メモリコア34を動作させるとき(メインワード線MWLを選択するとき)に活性化される。
【0024】
この実施形態では、1回のリフレッシュ動作で、16k個のメモリセル(一つのバンクあたり4k個)がリフレッシュされるようにメモリコア34が設計されている。このため、約15.6μs毎にリフレッシュ要求を発生させれば、全てのメモリセルのデータを保持できる(16k個×(64ms/15.6μs)=64M個)。
【0025】
リフレッシュ要求が等間隔で発生するため、tRAS(/RAS active time)の最大時間(タイミング仕様)は、15.6μsに設定されている。tRASは、アクティブコマンドACTの受け付け後、プリチャージコマンドPREを受け付けるまでの時間であり、ワード線を選択した状態で連続して読み書き動作が可能な時間である。
【0026】
リフレッシュカウンタ14は、リフレッシュアドレスREFADを生成する。ラッチ16は、アドレス端子を介して供給されるアドレス信号ADを、アクティブコマンド信号ACTVに同期して行アドレス信号RADとして取り込む。アクティブコマンド信号ACTVは、メモリコア34を活性化させるアクティブコマンドACTを受けたときに活性化される。ラッチ18は、読み書きコマンド信号RWに同期して、アドレス信号ADを列アドレス信号CADとして取り込む。読み書きコマンド信号RWは、読み出し動作を実行する読み出しコマンドRDおよび書き込み動作を実行する書き込みコマンドWRを受けたときに活性化される。
【0027】
アドレスセレクタ20は、通常動作時(IREF;低レベル)に、行アドレス信号RADを内部行アドレス信号IRADとして伝達し、リフレッシュ動作時(IREF;高レベル)に、リフレッシュアドレスREFAD(上位アドレス)を内部行アドレス信号IRADとして伝達する。アドレスセレクタ22は、通常動作時に、列アドレス信号CADを内部列アドレス信号ICADとして伝達し、リフレッシュ動作時に、リフレッシュアドレスREFAD(下位アドレス)を内部行アドレス信号IRADとして伝達する。タイミングジェネレータ24は、読み書き信号RWおよびリフレッシュ信号IREFを受け、列プリデコーダを動作させるタイミング信号およびセグメントセレクタ30を動作させるタイミング信号を生成している。
【0028】
タイミングジェネレータ26は、内部行アドレスストローブ信号IRASを受け、行プリデコーダ28を動作させるタイミング信号を生成している。行プリデコーダ28は、内部行アドレス信号IRADをデコードし、デコードした信号を行メインデコーダ36に出力している。セグメントセレクタ30は、内部列アドレス信号ICADをデコードし、セグメントSおよびそのセグメントS内のサブワード線SWLを選択している。列プリデコーダ32は、列アドレス信号CADをデコードし、デコードした信号を列メインデコーダ38に出力している。
【0029】
図2は、リフレッシュ要求が発生しないときの通常の読み出し動作のタイミングを示している。
まず、クロック信号CLKの立ち上がりエッジに同期して、アクティブコマンドACTおよびアドレス信号AD(RAD1)が供給される(図2(a))。図1に示したラッチ16は、アクティブコマンド信号ACTVの立ち上がりエッジに同期して、アドレス信号ADを取り込み、取り込んだ信号を行アドレス信号RADとして出力する。
【0030】
アドレスセレクタ20は、低レベルのリフレッシュ信号IREFは受け、行アドレス信号RADを内部行アドレス信号IRADとして伝達する(図2(b))。この後、行プリデコーダ28および行メインデコーダ36が所定のタイミングで動作し、メインワード線MWLが活性化される(図2(c))。ここで、行プリデコーダ28は、従来より遅いタイミングで活性化され、メインワード線MWLは、従来(破線)に比べ遅く活性化される。動作周波数が40MHzであるため、メインワード線MWLの活性化タイミングが遅くても、その後の読み出し動作は正しく実行される。メインワード線MWLを活性化するための制御回路は、従来より低い周波数で動作するため、これ等制御回路の消費電力は小さくなる。
【0031】
従来(破線)と異なり、この時点でサブワード線SWLは、非活性化されている。すなわち、メインワード線MWLは、最初のアクティブコマンドACTとともに供給されるアドレス信号ADに基づいて活性化される。メインワード線MWLをアクティブコマンドACTに基づいて活性化するため、メモリセル等を救済する冗長回路を有する場合、救済判定を高速に実行できる。メインワード線MWLとサブワード線SWLとが同時に活性化されないため、ワード線の活性化に伴い発生する電流のピーク値が小さくなる。
【0032】
次のクロック信号CLKの立ち上がりに同期して、読み出しコマンドRDおよびアドレス信号AD(CAD1)が供給される(図2(d))。ラッチ18は、読み書き信号RWの立ち上がりエッジに同期して、アドレス信号ADを取り込み、取り込んだ信号を列アドレス信号CADとして出力する。アドレスセレクタ22は、低レベルのリフレッシュ信号IREFを受け、列アドレス信号CADを内部列アドレス信号ICADとして伝達する(図2(e))。セグメントセレクタ30は、内部列アドレス信号ICADに応じたセグメントSを選択し、そのセグメントS内の複数のサブワード線SWL(1)を活性化する(図2(f))。すなわち、サブワード線SWLは、2番目のコマンド(読み出しコマンドRD)とともに供給されるアドレス信号ADに基づいて活性化される。この後、列プリデコーダ32および列メインデコーダ38動作し、読み出しデータが出力される(図2(g))。
【0033】
従来、行アドレス信号RADに対応するサブワード線SWLの全てが活性化されていた。この実施形態では、サブワード線SWLは、行アドレス信号RADだけでなく、列アドレス信号CADも使用して活性化される。このため、読み出し動作時に活性化されるサブワード線SWLの数を少なくできる。この結果、ワード線の立ち上げに要する電力が減り、動作するセンスアンプの数が低減するため、読み出し動作時の消費電力が低減される。ワード線を昇圧するSDRAMにおいては、昇圧回路の能力を従来に比べ低くできるため、特に、消費電力の低減効果は大きい。書き込み動作においても、同様に消費電力が低減される。
【0034】
次のクロック信号CLKの立ち上がりエッジに同期して、読み出しコマンドRDおよびアドレス信号AD(CAD2)が供給される(図2(h))。セグメントセレクタ30は、内部列アドレス信号ICADに応じたセグメントSを選択し、そのセグメントS内のサブワード線SWLを活性化する。そして、連続して供給される読み出しコマンドRDに基づいて読み出し動作(ページ動作)が実行される。このとき、メインワード線MWLは、活性化状態を保持しているため、図1の縦方向に並ぶセグメントSからデータを読み出すことができる。すなわち、メモリアレイMAの広い領域の読み出し動作を実行できる。また、メインワード線MWLが予め活性化されているため、読み出しコマンドRDが供給されてからサブワード線SWLが活性化されるまでの期間は短くなる。この結果、ページ動作を高速に実行できる。メインワード線MWLは、プリチャージコマンドPREを受け付けた後に非活性化される(図2(i))。
【0035】
図3は、アクティブコマンドACTを受け付ける直前に、内部でリフレッシュ要求が発生したときの読み出し動作のタイミングを示している。
まず、図1に示したリフレッシュ制御回路12は、リフレッシュ要求を受けてリフレッシュ信号IREFを活性化する(図3(a))。この後、クロック信号CLKの立ち上がりに同期して、アクティブコマンドACTおよびアドレス信号AD(RAD2)が供給される(図3(b))。ラッチ16は、アクティブコマンド信号ACTVの立ち上がりエッジに同期して、アドレス信号ADを取り込む。リフレッシュ制御回路12は、リフレッシュ信号IREFの活性化から少し遅れて内部行アドレスストローブ信号IRASを活性化する。
【0036】
アドレスセレクタ20、22は、高レベルのリフレッシュ信号IREFを受け、リフレッシュアドレスREFADをそれぞれ内部行アドレス信号IRAD(上位アドレス)、内部列アドレス信号ICAD(下位アドレス)として出力する(図3(c))。
タイミングジェネレータ24、26は、リフレッシュ信号IREFおよび内部行アドレスストローブ信号IRASをそれぞれ受け、行プリデコーダ28およびセグメントセレクタ30にタイミング信号を出力する。行プリデコーダ28およびセグメントセレクタ30は、リフレッシュアドレスREFAD1に対応するメインワード線MWLおよびサブワード線SWLを活性化し、リフレッシュ動作を実行する(図3(d))。
【0037】
すなわち、このSDRAM10は、前回のメモリ動作の完了後、次のメモリ動作のためにワード線MWL、SWLを活性化するまでの期間を利用して、リフレッシュ動作を実行する。この結果、リフレッシュ動作は、外部から全く認識されずに自動的に実行される。したがって、SDRAMを使用するユーザは、リフレッシュ動作を考慮することなくSDRAMを搭載するシステムが設計できる。
【0038】
リフレッシュ動作の完了後、リフレッシュ制御回路12は、リフレッシュ信号IREFおよび内部行アドレスストローブ信号IRASを非活性化する(図3(e))。メインワード線MWLおよびサブワード線SWLは、この非活性化に応答して非活性化される(図3(f))。
アドレスセレクタ20は、リフレッシュ信号IREFの非活性化を受け、アドレス信号AD(RAD2)を内部行アドレス信号IRADとして出力する(図3(g))。リフレッシュ制御回路12は、内部行アドレスストローブ信号IRASを再び活性化する。行プリデコーダ28および行メインデコーダ36は、図2とほぼ同一のタイミングで動作し、メインワード線MWLが活性化される。(図3(h))。そして、図2と同様に、読み出しコマンドRDおよびアドレス信号AD(CAD3、CAD4)が順次供給され、読み出し動作が実行される。
【0039】
なお、メモリコア34の動作中にリフレッシュ要求が発生した場合、リフレッシュ制御回路12は、メモリコア34の動作が完了した後、リフレッシュ信号IREFを活性化する。
以上、本実施形態の半導体メモリでは、メインワード線MWLの活性化タイミングを従来より遅くした。また、メモリセルの選択トランジスタを制御するサブワード線SWLを、アクティブコマンドACTではなく、2番目に供給される読み出しコマンドRDを受けた後に活性化した。このため、ワード線MWL、SWLを活性化するための制御回路を従来より低い周波数で動作させることができ、消費電力を小さくできる。
【0040】
従来より多くのアドレス信号を使用することで、同時に活性化されるワード線SWLの数を少なくした。このため、メモリ動作のために動作する回路の規模を小さくでき、消費電力を小さくできる。
メインワード線MWLを、複数回のメモリ動作の間活性化し続けたので、ページ動作を広いメモリ領域で行うことができる。
【0041】
サブワード線SWLの活性化に先立ってメインワード線MWLを活性化したので、読み出しコマンドRDが供給されてからサブワード線SWLが活性化されるまでの期間を短くできる。この結果、ページ動作を高速に実行できる。
メインワード線MWLを予め活性化したので、メモリセル等を救済する冗長回路を有する場合、救済判定を高速に実行できる。
【0042】
アクティブコマンドACTが供給された後、メインワード線MWLが活性化するまでの期間が十分あるため、この期間を利用して、外部から認識されることなくリフレッシュ動作を実行できる。すなわち、メモリセルのリフレッシュを内部で自動的に実行できる。
リフレッシュ要求を保持するバッファを形成したので、メモリ動作を完了した後、次のメモリ動作のためにワード線を活性化するまでの期間に、確実にリフレッシュ動作を実行できる。
【0043】
図4は、本発明の半導体メモリおよび半導体メモリの制御方法の第2の実施形態を示している。第1の実施形態で説明した信号と同一の信号については、同一の符号を付けている。
この実施形態では、リフレッシュ制御回路40が、第1の実施形態のリフレッシュ制御回路12と相違している。その他の構成は、第1の実施形態と同一である。すなわち、サブワードSWLは、行アドレス信号だけでなく、読み出しコマンドRD(または書き込みコマンド)とともに供給される列アドレス信号を使用して活性化される。このSDRAMは、最大クロック周波数が40MHzであり、メモリセルのリフレッシュを内部で自動的に実行する機能を有している。
【0044】
リフレッシュ制御回路40は、フリップフロップ42、44、46、48、50、遅延回路52、54、56、パルス発生回路58、60、複数の論理ゲート、および図示しないリフレッシュ発生回路を有している。
フリップフロップ42は、リフレッシュ要求信号REFRQの活性化に応じてセットされ、リフレッシュラッチ信号REFLを高レベルにし、リフレッシュプリチャージ信号PRERの活性化に応じてリセットされ、リフレッシュラッチ信号REFLを低レベルにする。フリップフロップ42は、リフレッシュ要求信号REFRQを保持するバッファとして動作する。フレッシュプリチャージ信号PRERは、リフレッシュ動作の完了後にプリチャージ動作を実行するために自動的に生成される信号である。
【0045】
フリップフロップ44は、アクティブコマンド信号ACTVの活性化に応じてセットされ、アクティブラッチ信号ACTLを高レベルにし、遅延プリチャージ信号PREDの活性化に応じてリセットされ、アクティブラッチ信号ACTLを低レベルにする。遅延プリチャージ信号PREDは、外部からのプリチャージコマンドPREに応じて活性化されるプリチャージ信号PRECまたはオートプリチャージ動作時に活性化されるオートプリチャージ信号PREAにより発生する。遅延回路52は、プリチャージ信号PRECまたはオートプリチャージ信号PREAが活性化された後、遅延プリチャージ信号PREDが活性化されるまでのタイミングをtRP(/RAS Precharge time)だけ遅らせることで、プリチャージ中にリフレッシュ要求が受け付けられることを禁止する。tRPは、PREコマンドを受け付け後、次のACTVコマンドを受け付けるまでの時間であり、プリチャージ動作に必要な時間である。
【0046】
フリップフロップ46は、リフレッシュラッチ信号REFLの活性化に応じて出力ノードをリセットし、アクティブラッチ信号ACTLの活性化に応じて出力ノードをセットする。パルス発生回路58は、リフレッシュラッチ信号REFLが活性化し、フリップフロップ46の出力ノードが低レベルに変化したときに、高レベルのリフレッシュパルスREFPを発生する。
【0047】
フリップフロップ48は、リフレッシュパルスREFPの発生または遅延アクティブ信号ACTDの活性化に応じてセットされ、内部行アドレスストローブ信号IRASを活性化する。フリップフロップ48は、リフレッシュプリチャージ信号PRERの活性化または内部プリチャージ信号IPREの活性化に応じてリセットされ、内部行アドレスストローブ信号IRASを非活性化する。
【0048】
遅延アクティブ信号ACTDは、アクティブコマンド信号ACTVの活性化後、遅延回路54の遅延時間だけ遅れて活性化される。遅延回路54の遅延時間は、1回のリフレッシュ動作およびその後のプリチャージ動作に必要な値に設定されている。このため、アクティブコマンドACTの受け付け後、内部行アドレスストローブ信号IRASが活性化されるまでの期間に、リフレッシュサイクルを挿入することができる。内部プリチャージ信号IPREは、プリチャージ信号PRECまたはオートプリチャージ信号PREAの活性化に応答して活性化される。
【0049】
フリップフロップ50は、リフレッシュパルスREFPの発生に応じてセットされ、内部リフレッシュ信号IREFを活性化し、リフレッシュプリチャージ信号PRERの活性化に応じてリセットされ、内部リフレッシュ信号IREFを非活性化する。
パルス発生回路60は、遅延回路56から出力される信号が高レベルに変化したときに、リフレッシュプリチャージ信号PRER(高レベルのパルス)を生成する。
【0050】
リフレッシュプリチャージ信号PRERは、リフレッシュ動作時に、フリップフロップ48がセットされた後、遅延回路56の遅延時間だけ遅れて生成される。遅延回路56の遅延時間は、1回のリフレッシュ動作に必要な時間に設定されている。このため、リフレッシュ動作が確実に実行された後に、プリチャージ動作が実行される。
【0051】
図5は、読み出し動作において、アクティブコマンドACTを受け付ける直前に、内部でリフレッシュ要求が発生した場合のリフレッシュ制御回路40の動作タイミングを示している。
まず、リフレッシュ要求の発生に伴い、リフレッシュ要求信号REFRQが活性化される(図5(a))。図4に示したフリップフロップ42は、リフレッシュ要求信号REFRQの立ち上がりエッジに同期して、リフレッシュラッチ信号REFLを活性化する(図5(b))。すなわち、リフレッシュ要求は、フリップフロップ42により保持される。このとき、アクティブコマンドACTは供給されておらず、アクティブラッチ信号ACTLは低レベルである。このため、フリップフロップ46は、リフレッシュラッチ信号REFLの活性化を応じてリセットされる。パルス発生回路58は、リフレッシュパルスREFPを出力する(図5(c))。
【0052】
フリップフロップ48は、リフレッシュパルス信号REFPに応じてセットされ、内部行アドレスストローブ信号IRASを活性化する(図5(d))。フリップフロップ50は、リフレッシュパルス信号REFPに応じてセットされ、内部リフレッシュ信号IREFを活性化する。(図5(e))。そして、内部行アドレスストローブ信号IRASおよび内部リフレッシュ信号IREFの活性化期間にリフレッシュ動作が実行される。内部リフレッシュ信号IREFは、遅延回路56およびパルス発生回路60に伝達され、リフレッシュ動作の完了に合わせてリフレッシュプリチャージ信号PRERが活性化される(図5(f))。リフレッシュプリチャージ信号PRERの活性化により、プリチャージ動作が実行される。
【0053】
フリップフロップ42、48、50は、リフレッシュプリチャージ信号PRERの活性化に応じてリセットされ、それぞれリフレッシュラッチ信号REFL、内部行アドレスストローブ信号IRAS、内部リフレッシュ信号IREFを非活性化する(図5(g、h、i))。
一方、アクティブコマンドACTの供給により、アクティブコマンド信号ACTVが活性化される(図5(j))。フリップフロップ44は、アクティブコマンド信号ACTVの活性化に応じてセットされ、アクティブラッチ信号ACTLを活性化する(図5(k))。遅延回路54は、アクティブコマンド信号ACTVの活性化に応じて、遅延アクティブ信号ACTDを活性化する(図5(l))。
【0054】
フリップフロップ48は、遅延アクティブ信号ACTDの活性化に応じてセットされ、内部行アドレスストローブ信号IRASを再び活性化する(図5(m))。次に、読み出しコマンドRDが供給され、読み出し動作が実行される。なお、この実施形態においても、活性化されるサブワード線の数は、従来より少なくなり、消費電力が低減される。
【0055】
この後、プリチャージコマンドPREの供給により、プリチャージ信号PRECが活性化される(図5(n))。フリップフロップ48は、プリチャージ信号PRECの活性化に応じてリセットされ、内部行アドレスストローブ信号IRASを非活性化する(図5(o))。遅延回路52は、内部プリチャージ信号IPREを遅延させ、遅延プリチャージ信号PREDとして出力する(図5(p))。フリップフロップ44は、遅延プリチャージ信号PREDの活性化を受けてリセットされ、アクティブラッチ信号ACTLを非活性化する(図5(q))。そして、プリチャージ動作が完了する。
【0056】
リフレッシュ動作は、前回のメモリ動作の完了後、次のメモリ動作のためにワード線MWL、SWLを活性化するまでの期間を利用して実行される。この結果、第1の実施形態と同様に、リフレッシュ動作は、外部から全く認識されずに自動的に実行される。
図6は、アクティブコマンドACTを受け付けた後に、内部でリフレッシュ要求が発生した場合のリフレッシュ制御回路40の動作タイミングを示している。
【0057】
まず、アクティブコマンドACTが供給され、アクティブコマンド信号ACTVが活性化される(図6(a))。フリップフロップ44および遅延回路54は、図5と同様に、アクティブラッチ信号ACTLおよび遅延アクティブ信号ACTDをそれぞれ活性化する(図6(b、c))。
フリップフロップ48は、遅延アクティブ信号ACTDの活性化に応じてセットされ、内部行アドレスストローブ信号IRASを活性化する(図6(d))。この後、読み出しコマンドRDが供給され、所定のワード線が選択され、読み出し動作が実行される。このとき、リフレッシュ動作は実行されていない。
【0058】
アクティブコマンドACTの受け付けの後、リフレッシュ要求が発生し、リフレッシュ要求信号REFRQが活性化される(図6(e))。フリップフロップ42は、リフレッシュ要求信号REFRQの活性化に応じてセットされ、リフレッシュラッチ信号REFLを活性化する(図6(f))。すなわち、リフレッシュ要求が保持される。しかし、フリップフロップ46は、リフレッシュラッチ信号REFLの活性化より前にアクティブラッチ信号ACTLの活性化を受けているため、リセットされずセット状態を保持する。
【0059】
読み出し動作の実行後、プリチャージコマンドPREが供給され、プリチャージ信号PRECが活性化される(図6(g))。フリップフロップ48は、プリチャージ信号PRECの活性化に応じてリセットされ、内部行アドレスストローブ信号IRASを非活性化する(図6(h))。遅延回路52は、内部プリチャージ信号IPREを遅延させ、遅延プリチャージ信号PREDとして出力する(図6(i))。フリップフロップ44は、遅延プリチャージ信号PREDの活性化に応じてリセットされ、アクティブラッチ信号ACTLを非活性化する(図6(j))。
【0060】
フリップフロップ46は、アクティブラッチ信号ACTLの非活性化に応じてリセットされ、出力ノードを低レベルにする。パルス発生回路58は、フリップフロップ46のリセットに応じてリフレッシュパルスREFPを出力する(図6(k))。
この後、図5と同様に、内部プリチャージ信号IPREが再び活性化され(図6(l))、内部リフレッシュ信号IREFが活性化され(図6(m))、リフレッシュ動作が実行される。さらに、リフレッシュプリチャージ信号PRERが活性化されてプリチャージ動作が実行され(図6(n))、リフレッシュラッチ信号REFLおよび内部リフレッシュ信号IREFが非活性化される(図6(o、p))。
【0061】
プリチャージ動作は、次のコマンド(例えばアクティブコマンドACT)の供給直後に実行される。このため、読み出し動作後にリフレッシュ動作を実行しても、このリフレッシュ動作は、次のコマンドによるメモリ動作に影響を与えない。すなわち、リフレッシュ動作は、外部から全く認識されずに自動的に実行される。なお、リフレッシュ要求のワーストタイミングは、アクティブコマンドACTを受け付ける直前に、内部でリフレッシュ要求が発生した場合(図5)になる。
【0062】
この実施形態においても、上述した第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
図7は、本発明の半導体メモリおよび半導体メモリの制御方法の第3の実施形態を示している。第2の実施形態で説明した回路・信号と同一の回路・信号については、同一の符号を付け、これ等回路・信号についての詳細な説明は省略する。
【0063】
この実施形態では、リフレッシュ制御回路62が第1の実施形態のリフレッシュ制御回路12と相違している。その他の構成は、第1の実施形態と同一である。すなわち、この実施形態のSDRAMは、メインワード線を、行アドレス信号だけでなく、読み出しコマンドRD(または書き込みコマンド)とともに供給される列アドレス信号を使用して活性化する。SDRAMは、最大クロック周波数が40MHzであり、メモリセルのリフレッシュを内部で自動的に実行する機能を有している。
【0064】
リフレッシュ制御回路62は、フリップフロップからなるレジスタREG1、REG2、トグルフリップフロップ64、66、遅延回路68と、第2の実施形態と同じフリップフロップ44、46、48、50、遅延回路52、54、56、パルス発生回路58、60と、複数の論理ゲートとで構成されている。遅延回路68は、遅延回路52と同一である。すなわち、遅延回路68は、リフレッシュプリチャージ信号PRERをtRPだけ遅延させる。
【0065】
トグルフリップフロップ64は、リフレッシュ要求信号REFRQの立ち下がりエッジに同期して選択信号SEL1、/SEL1のレベルを反転する。トグルフリップフロップ66は、リフレッシュラッチ信号REFLの立ち下がりエッジに同期して選択信号SEL2、/SEL2のレベルを反転する。トグルフリップフロップ64、66は、電源オン時に活性化されるパワーオンリセット信号PORによりリセットされる。
【0066】
レジスタREG1は、選択信号SEL1が高レベルのときにセット機能を有効にし、選択信号SEL2が高レベルのときにリセット機能を有効にする。すなわち、レジスタREG1は、選択信号SEL1が高レベルのときに、リフレッシュ要求信号REFRQの立ち上がりエッジに応じて要求信号REQ1を活性化し、選択信号SEL2が高レベルのとき、リフレッシュプリチャージ信号PRERの遅延信号の立ち上がりエッジに応じて要求信号REQ1を非活性化する。
【0067】
同様に、レジスタREG2は、選択信号/SEL1が高レベルのときに、リフレッシュ要求信号REFRQの立ち上がりエッジに応じて要求信号REQ2を活性化し、選択信号/SEL2が高レベルのときに、リフレッシュプリチャージ信号PRERの遅延信号の立ち上がりエッジに応じて要求信号REQ2を非活性化する。選択信号SEL1、/SEL1および選択信号SEL2、/SEL2は、それぞれ相補の信号であるため、レジスタREG1、REG2は交互にリフレッシュ要求信号REFRQを保持するバッファとして動作する。すなわち、本実施形態では、リフレッシュ制御回路62は、内部で発生するリフレッシュ要求を2回分保持できる。
【0068】
要求信号REQ1、REQ2は、それぞれ選択信号SEL2、/SEL2が高レベルのときにリフレッシュラッチ信号REFLとして、フリップフロップ46およびトグルフリップフロップ66に伝達される。
フリップフロップ44、46、48、50、遅延回路52、54、56、パルス発生回路58、60、および論理ゲートの接続関係は、第2の実施形態と同一である。
【0069】
図8は、読み出し動作において、アクティブコマンドACTを受け付ける直前に、内部でリフレッシュ要求が発生した場合のリフレッシュ制御回路62の動作タイミングを示している。選択信号SEL1、SEL2、要求信号REQ1、REQ2を除く信号のタイミングは、上述した図5と同じである。この例では、タイミング図の始まりにおいて、選択信号SEL1、SEL2がともに高レベルになっており、レジスタREG1が有効、レジスタREG2が無効になっている。
【0070】
まず、リフレッシュ要求信号REFRQの立ち上がりエッジに同期して、図7に示したレジスタREG1がセットされ、要求信号REQ1が高レベルになる(図8(a))。トグルフリップフロップ64は、リフレッシュ要求信号REFRQの立ち下がりエッジに同期して選択信号SEL1を低レベルにする(図8(b))。選択信号SEL1の変化により、レジスタREG1は、リフレッシュ要求の受け付けを禁止し、レジスタREG2は、リフレッシュ要求の受け付けを可能にする。
【0071】
要求信号REQ1の高レベルにより、リフレッシュラッチ信号REFLは、高レベルに変化する(図8(c))。この後、リフレッシュ制御回路62は、図5と同様に動作し、リフレッシュ動作およびリフレッシュ後のプリチャージ動作が実行される。
レジスタREG1は、リフレッシュ動作後に活性化されるリフレッシュプリチャージ信号PRERに応じて要求信号REQ1を低レベルにする(図8(d))。リフレッシュラッチ信号REFLは、要求信号REQ1の変化に応じて低レベルになる(図8(e))。トグルフリップフロップ66は、リフレッシュラッチ信号REFLの立ち下がりエッジに同期して選択信号SEL2を低レベルにする(図8(f))。この後発生するリフレッシュ要求は、レジスタREG2に保持される。
【0072】
次に、読み出しコマンドRDおよびプリチャージコマンドPREが順次供給され、読み出し動作およびプリチャージ動作が実行される。すなわち、この実施形態においても、リフレッシュ動作は、外部から全く認識されずに自動的に実行される。
図9は、アクティブコマンドACTを受け付けた後に、内部でリフレッシュ要求が発生した場合のリフレッシュ制御回路62の動作タイミングを示している。選択信号SEL1、SEL2、要求信号REQ1、REQ2を除く信号のタイミングは、上述した図6と同じである。この例では、タイミング図の始まりにおいて、選択信号SEL1、SEL2がともに高レベルになっており、レジスタREG1が有効、レジスタREG2が無効になっている。
【0073】
まず、アクティブコマンドACTおよび読み出しコマンドRDが順次供給され、図6と同様に読み出し動作が実行される。
アクティブコマンドACTの供給後にリフレッシュ要求が発生すると、要求信号REQ1は、リフレッシュ要求信号REFRQの立ち上がりエッジに同期して高レベルになる(図9(a))。選択信号SEL1は、リフレッシュ要求信号REFRQの立ち下がりエッジに同期して低レベルになる(図9(b))。この後発生するリフレッシュ要求は、レジスタREG2に保持される。リフレッシュラッチ信号REFLは、要求信号REQ1の高レベルに応じて高レベルに変化する(図9(c))。
【0074】
次に、図6と同様に、読み出し動作およびプリチャージ動作が実行される。プリチャージ動作が実行された後、リフレッシュ動作およびリフレッシュ後のプリチャージ動作が実行される。この後、図8と同様に、要求信号REQ1は、リフレッシュプリチャージ信号PRERの立ち上がりに応じて低レベルになる(図9(d))。リフレッシュラッチ信号REFLは、要求信号REQ1の変化に応じて低レベルになる(図9(e))。選択信号SEL2は、リフレッシュラッチ信号REFLの立ち下がりエッジに同期して低レベルになる(図9(f))。
【0075】
この例においても、図6と同様に、リフレッシュ動作は、外部から全く認識されずに自動的に実行される。
図10は、読み出し動作において、アクティブコマンドACTを受け付けた後の読み出し動作(ページ動作)中に、内部でリフレッシュ要求が2回発生した場合のリフレッシュ制御回路62の動作タイミングを示している。この例においても、タイミング図の始まりにおいて、選択信号SEL1、SEL2がともに高レベルになっており、レジスタREG1が有効、レジスタREG2が無効になっている。
【0076】
アクティブコマンドACTを受け付けた後、最初のリフレッシュ要求を受け付け、読み出し動作を実行するまでのタイミングは、上述した図9と同一であるため、説明を省略する。
ページ動作後、プリチャージコマンドPREを受け付ける前に、2回目のリフレッシュ要求が発生し、リフレッシュ要求信号REFRQが高レベルになる(図10(a))。2回目のリフレッシュ要求は、このタイミングに限定されることはなく、例えば、ページ動作の途中で発生してもよい。このとき、選択信号SEL1、/SEL1は、それぞれ低レベル、高レベルである。このため、リフレッシュ要求は、レジスタREG2により保持される。
【0077】
リフレッシュ要求を所定の期間で発生する場合、ページ動作の期間がリフレッシュ要求の発生間隔(リフレッシュ周期)より長いと、一部のメモリセルでリフレッシュが間に合わず、データが破壊してしまう。このため、ページ動作の最大回数は、リフレッシュ周期に応じて制限される。この実施形態では、リフレッシュ制御回路62は、リフレッシュ要求を2回分保持できる。このため、ページ動作の最大回数を第2の実施形態の約2倍にすることができる。
【0078】
レジスタREG2は、リフレッシュ要求信号REFRQの立ち上がりエッジに同期して要求信号REQ2を高レベルにする。トグルフリップフロップ64は、リフレッシュ要求信号REFRQの立ち下がりエッジに同期して、選択信号/SEL1を低レベルにし、選択信号SEL1を高レベルにする(図10(b))。すなわち、レジスタREG2がリフレッシュ要求をの受け付けた後、レジスタREG1は、再びリフレッシュ要求の受け付けを可能にし、レジスタREG2は、リフレッシュ要求の受け付けを禁止する。
【0079】
この後、プリチャージコマンドPREが供給され、プリチャージ動作が実行された、図9と同様にして、最初のリフレッシュ動作が実行される。リフレッシュ動作後、リフレッシュラッチ信号REFLが非活性化され、選択信号SEL2、/SEL2がそれぞれ低レベル、高レベルに変化する(図10(c))。このとき、レジスタREG2は、2回目のリフレッシュ要求を保持しており、高レベルの要求信号REQ2を出力している。このため、リフレッシュラッチ信号REFLは、選択信号SEL2、/SEL2の変化に応じて再び活性化される(図10(d))。
【0080】
この例では、プリチャージコマンドPREの後、ノップコマンドNOPが供給される。アクティブラッチ信号ACTLは低レベルであるため、フリップフロップ46は、リフレッシュラッチ信号REFLの立ち上がりエッジに同期してリセットされる。そして、リフレッシュパルスREFPが生成され(図10(e))、最初のリフレッシュ動作と同様に、2回目のリフレッシュ動作が実行される。
【0081】
リフレッシュ動作後のリフレッシュプリチャージ信号PRERの活性化によりレジスタREG2はリセットされ、要求信号REQ2は低レベルに変化する(図10(f))。リフレッシュラッチ信号REFLは、要求信号REQ2の変化に応じて非活性化され(図10(g))、選択信号SEL2、/SEL2は、それぞれ高レベル、低レベルに変化する(図10(h))。すなわち、レジスタREG1、REG2の状態は、アクティブコマンドACTを受け付ける前の状態に戻る。
【0082】
なお、プリチャージコマンドPREの後、アクティブコマンドACTが供給された場合、2回目のリフレッシュ動作は、図9と同様にメモリ動作の後実行される。
この実施形態においても、上述した第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、この実施形態では、レジスタREG1、REG2によりリフレッシュ要求を2回分保持できるので、1回のページ動作でアクセスできる回数を増やすことができる。
【0083】
図11は、本発明の半導体メモリおよび半導体メモリの制御方法の第4の実施形態を示している。第2の実施形態で説明した回路・信号と同一の回路・信号については、同一の符号を付け、これ等回路・信号についての詳細な説明は省略する。
【0084】
この実施形態では、リフレッシュ制御回路70が第1の実施形態のリフレッシュ制御回路12と相違している。その他の構成は、第1の実施形態と同一である。
リフレッシュ制御回路70は、クロック信号CLKの立ち上がりエッジに同期してアクティブコマンド信号ACTVおよびプリチャージ信号PRECをそれぞれラッチするラッチ72、74と、第2の実施形態と同じフリップフロップ42、44、48、50、遅延回路52、54、56、パルス発生回路60と、複数の論理ゲートと、第2の実施形態のフリップフロップ46の代わりにラッチ76、遅延回路78、ORゲート80とを有している。
【0085】
ラッチ72の出力は、フリップフロップ44のセット端子に接続されている。ラッチ74の出力は、内部リフレッシュ信号IREFを生成するORゲートの入力に接続されている。ラッチ76は、クロック信号CLKの立ち上がりエッジに同期してリフレッシュラッチ信号REFLを取り込み、取り込んだ信号をリフレッシュパルスREFPとして出力する。リフレッシュパルスREFPは、遅延回路78およびORゲート80を介してラッチ76のリセット端子Rに帰還される。また、ラッチ76のリセット端子Rには、ORゲート80を介してアクティブラッチ信号ACTLが供給されている。
【0086】
フリップフロップ42、44、48、50、遅延回路52、54、56、パルス発生回路60、および論理ゲートの接続関係は、第2の実施形態と同一である。
図12は、読み出し動作において、アクティブコマンドACTを受け付ける直前に、内部でリフレッシュ要求が発生した場合のリフレッシュ制御回路70の動作タイミングを示している。この例では、クロック信号CLKに同期してリフレッシュ動作が実行されることを除き、各信号のタイミングは、上述した図5とほぼ同じである。
【0087】
まず、リフレッシュ要求を受けると、リフレッシュラッチ信号REFLは高レベルに変化する(図12(a))。クロック信号CLKの立ち上がりに同期してアクティブコマンドACTが供給される。このとき、アクティブラッチ信号ACTLおよびリフレッシュパルスREFPは、低レベル(非リセット状態)であり、ラッチ76は動作している。ラッチ76は、クロック信号CLKの立ち上がりエッジに同期して高レベルのリフレッシュラッチ信号REFLを取り込み、リフレッシュパルスREFPを高レベルにする。ラッチ76は、遅延回路78およびORゲート80を介して帰還されるリフレッシュパルスREFPによりリセットされる。この結果、パルス状のリフレッシュパルスREFPが生成される(図12(b))。この後、リフレッシュ制御回路70は、図5と同様に動作し、リフレッシュ動作および読み出し動作、プリチャージ動作が順に実行される。
【0088】
図13は、読み出し動作において、アクティブコマンドACTを受け付けた後に、内部でリフレッシュ要求が発生した場合のリフレッシュ制御回路70の動作タイミングを示している。この例では、クロック信号CLKに同期してリフレッシュ動作が実行されることを除き、各信号のタイミングは、上述した図6とほぼ同じである。
【0089】
ラッチ76は、アクティブラッチ信号ACTLが高レベルの期間リセットされており、リフレッシュラッチ信号REFLを取り込むことができない(図13(a、b))。このため、ラッチ76は、アクティブラッチ信号ACTLが非活性化した後のクロック信号CLKの立ち上がりに同期して、リフレッシュパルスREFPを生成する(図13(c))。このとき、クロック信号CLKに同期して、例えばDESLコマンド、NOPコマンドまたはアクティブコマンドACTが供給される。この後、リフレッシュ動作が実行される。リフレッシュパルスREFPは、クロック信号CLKの立ち上がりから所定のタイミングで活性化するため、リフレッシュ動作は、上述した図12と同一のタイミングで実行される。
【0090】
この実施形態においても、上述した第1および第2の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、この実施形態では、クロック信号に同期して供給される。リフレッシュ制御回路は、クロック信号に同期してリフレッシュ動作を実行したので、リフレッシュの制御に必要な回路のタイミング設計を容易にできる。
【0091】
図14は、本発明の半導体メモリおよび半導体メモリの制御方法の第5の実施形態を示している。第3および第4の実施形態で説明した回路・信号と同一の回路・信号については、同一の符号を付け、これ等回路・信号についての詳細な説明は省略する。
【0092】
この実施形態では、リフレッシュ制御回路82が第1の実施形態のリフレッシュ制御回路12と相違している。その他の構成は、第1の実施形態と同一である。
リフレッシュ制御回路82は、第4の実施形態と同じラッチ72、74、76、遅延回路78、ORゲート80と、第3の実施形態と同じレジスタREG1、REG2、フリップフロップ44、48、50、遅延回路52、54、56、68、パルス発生回路60と、複数の論理ゲートとを有している。
【0093】
レジスタREG1、REG2、フリップフロップ44、48、50、遅延回路52、54、56、68、パルス発生回路60、および複数の論理ゲートの接続関係は、第3の実施形態と同一である。ラッチ72、74、76、遅延回路78、およびORゲート80の接続関係は、第4の実施形態と同一である。
この実施形態では、第3の実施形態と同様に、2回分のリフレッシュ要求が、それぞれレジスタREG1、REG2に保持される。第4の実施形態と同様に、リフレッシュパルスREFPが、クロック信号CLKの立ち上がりエッジに同期して生成される。そして、上述した図8ないし図10に示したタイミングとほぼ同じタイミングでメモリ動作が実行される。
【0094】
この実施形態においても、上述した第3および第4の実施形態と同様の効果を得ることができる。
図15は、本発明の半導体メモリおよび半導体メモリの制御方法の第6の実施形態を示している。第1の実施形態で説明した回路・信号と同一の回路・信号については、同一の符号を付け、これ等回路・信号についての詳細な説明は省略する。
【0095】
この半導体メモリは、シリコン基板上にCMOSプロセスを使用して64MビットのSDRAM84として形成されている。SDRAM84は、使い勝手を良くするために、メモリセルのリフレッシュを内部で自動的に実行する機能を有している。このため、ユーザは、リフレッシュを全く考慮することなく、SDRAMを搭載するシステム基板を設計できる。
【0096】
SDRAM84の端子の構成は、一般の64MビットSDRAMと同じである。すなわち、SDRAM84は、12ビットの行アドレス信号と8ビットの列アドレス信号とを受ける12本のアドレス端子、2本のバンク選択端子、および16本のデータ入出力端子を有している。
SDRAM84は、リフレッシュ制御回路12、リフレッシュカウンタ14、ラッチ16、18、および4つのバンクBKを有している。バンクBKは、アドレスセレクタ20、アドレスラッチ86、タイミングジェネレータ88、90、92、行プリデコーダ94、96、セグメントセレクタ98、列プリデコーダ32、およびメモリコア34Aを有している。リフレッシュ制御回路12、リフレッシュカウンタ14、ラッチ16、18、アドレスセレクタ20、および列プリデコーダ32は、第1の実施形態と同じである。メモリコア34Aは、行メインデコーダ36、列メインデコーダ38、および縦横に配置された複数のセグメントSで構成されたメモリアレイMAを有している。この例では、一つのセグメントSは、512k個のメモリセルで構成されている。メインワード線MWLは、トランジスタを介して複数のサブワード線SWLに電気的に接続されている。サブワード線SWLは、メモリセルの転送トランジスタのゲートに接続されている。
【0097】
アドレスラッチ86は、ラッチ18から出力される列アドレス信号CADを内部リフレッシュ信号IREFの非活性時に取り込み、取り込んだ信号を内部列アドレス信号ICADとして出力する。
タイミングジェネレータ88は、読み書きコマンド信号RWおよび内部リフレッシュ信号IREFを受け、列プリデコーダ32を動作させるタイミング信号および行プリデコーダ96を動作させるタイミング信号を生成する。すなわち、読み出しコマンドRD、書き込みコマンドWR、およびリフレッシュコマンド(内部で発生するリフレッシュ要求)が供給されたとき、行プリデコーダ96および列プリデコーダ32が動作する。
【0098】
タイミングジェネレータ90は、アクティブコマンド信号ACTVを受け、行プリデコーダ94およびセグメントセレクタ98を動作させるタイミング信号を生成する。すなわち、アクティブコマンドACTが供給されたとき、行プリデコーダ94およびセグメントセレクタ98が動作する。
タイミングジェネレータ92は、内部行アドレスストローブ信号IRASを受け、行プリデコーダ94、96を動作させるタイミング信号を生成する。すなわち、後述するように、リフレッシュ要求が発生したとき、行プリデコーダ94、96が動作する。
【0099】
行プリデコーダ94は、アクティブコマンドACTの供給時に内部行アドレス信号IRAD(後述する図18に示すIRAD0-9)をデコードし、リフレッシュ要求の発生時に内部行アドレス信号IRAD(図18に示すIRAD0-8)をデコードし、デコード信号を行メインデコーダ36に出力する。行プリデコーダ96は、リフレッシュ動作時に内部行アドレス信号IRAD(図18に示すIRAD9-11)をデコードし、読み出し動作時および書き込み動作時に内部列アドレス信号ICAD(図18に示すICAD5-7)をデコードし、デコード信号をメモリアレイMAに出力する。
【0100】
セグメントセレクタ98は、アクティブコマンドACTの供給時に、内部行アドレス信号IRAD(図18に示すRA10-11)をデコードし、セグメントSを選択する。また、セグメントセレクタ98は、リフレッシュ要求の発生時に、内部行アドレス信号IRADにかかわりなく図の縦方向に並ぶ全てのセグメントを選択する。列プリデコーダ32は、読み出し動作時および書き込み動作時に、内部列アドレス信号ICAD(図18に示すCA0-4)をデコードし、デコードした信号を列メインデコーダ38に出力する。
【0101】
図16は、図15に示したメモリアレイMAの詳細を示している。各バンクBKのメモリアレイMAは、8つのメモリブロックMBLKおよび複数のセンスアンプSAからなる4つのセンスアンプ列を有している。センスアンプ列は、両側の2つのメモリブロックMBLKにより共有されている。
図の左上のバンクBKに示したように、1つのメモリブロックMBLKは、図の横方向に並ぶ1024本のワード線WLおよび図の縦方向に並ぶ2048組のビット線対を有している。ワード線WLは、128本のメインワード線MWLと、各メインワード線MWLから分岐する8本のサブワード線SWLとで構成されている。
【0102】
図の右上のバンクBKに示したように、各メモリアレイMAにおいて、内部行アドレス信号IRAD7-8(図18の行ブロックアドレスBRAA)により、1つのメモリブロックMBLKを挟んだ2つのメモリブロックMBLKが選択される。すなわち、図に網掛けで示したように、センスアンプ列に対して同じ側(例えば、図の左側)に位置する2つのメモリブロックMBLKが選択される。また、選択された各メモリブロックMBLKにおいて、内部行アドレス信号IRAD0-6により、メインワード線MWLが1本選択される。
【0103】
内部行アドレス信号IRAD7-8により選択された2つのメモリブロックMBLKは、さらに内部行アドレス信号IRAD9(図18の行ブロックアドレスBRAB)によりそのいずれかが選択される。内部行アドレス信号IRAD0-9によるメモリブロックMBLKの選択およびメインワード線MWLの選択は、図15に示した行プリデコーダ94により行われる。なお、リフレッシュ動作時に、行プリデコーダ94は、内部行アドレス信号IRAD9を無視する。このため、リフレッシュ動作は、図に網掛けで示した2つのメモリブロックMBLK内の2本のメインワード線MWLに対して実行される。
【0104】
また、読み出し動作および書き込み動作時に、選択された1つのメモリブロックMBLKにおいて、内部行アドレス信号IRAD10-11(図18の列ブロックアドレスBCAA)により、4分の1の領域が選択される。すなわち、内部行アドレス信号IRAD10-11により、メモリブロックMBLK内の4分の1の領域において、ビット線のプリチャージ動作が解除され、センスアンプSAが活性化される。
【0105】
図17は、図16に示したメモリブロックMBLKの詳細を示している。メモリブロックMBLKには、128本のメインワード線MWL0-127と1024本のサブワード線SWL0-1023が、図の縦方向に配線され、2048組の相補のビット線対BL、/BLが図の横方向に配線されている。そして、サブワード線SWLとビット線BL(または/BL)の交差部分にメモリセル(図中の丸印)が形成されている。例えば、読み出し動作において、サブワード線SWLが活性化されメモリセルが選択されたとき、ビット線対BL、/BLの一方にデータが読み出され、ビット線対BL、/BLの他方は、データを増幅するためのリファレンスとして作用する。
【0106】
1つのメインワード線MWLは、メモリブロックMBLKの両側(図の上下)にそれぞれ4個ずつ配置されたサブワードデコーダSWDに配線されている。そして、メインワード線MWLは、サブワードデコーダSWDを介して8本のサブワード線SWLに分岐している。メインワード線MWLは、上述したように、内部行アドレス信号IRAD0-6(行アドレスRAA、RAB、RAC)により選択される。サブワード線SWLは、内部列アドレス信号ICAD5-7(サブワードセレクトSWLS)により選択される。
【0107】
センスアンプSAは、図の左右両側のメモリブロックMBLKのビット線対BL、/BLに接続されている。センスアンプSAと両側のビット線対BL、/BLとの接続およびセンスアンプSAの活性化は、上述したように、内部行アドレス信号IRAD10-11により、メモリブロックMBLKの4分の1の領域であるセグメントS毎に制御される。内部行アドレス信号IRAD10-11により活性化される512個のビット線対BL、/BLおよび512個のセンスアンプSAのうちそれぞれ16個が、内部列アドレスCA0-4(列アドレスCAA、CAB)により選択される。すなわち、16個のデータ入出力端子に対応するデータが、メモリセルに入出力される。
【0108】
図18は、SDRAM内でのアドレス信号の用途を示している。SDRAMは、バンク選択端子を介してバンクアドレス信号BA0-1を受け、アドレス端子を介して行アドレス信号RAD0-11(内部行アドレス信号IRAD0-11)および列アドレス信号CAD0-7(内部列アドレス信号ICAD0-7)を受け、読み出し動作および書き込み動作を実行する。また、SDRAMは、図15に示したリフレッシュカウンタ14が生成するリフレッシュアドレスREFAD(内部行アドレス信号IRAD0-11)により、リフレッシュ動作を実行する。
【0109】
アクティブコマンドACTとともに供給される行アドレス信号RAD0-11(内部行アドレス信号IRAD0-11)は、IRAD0-6(MWDEC)、IRAD7-9(RBLKS)、IRAD10-11(CBLKS)で構成されている。IRAD0-6(MWDEC)およびIRAD7-9(RBLKS)は、図15に示した行プリデコーダ94に供給され、IRAD10-11(CBLKS)は、セグメントセレクタ98に供給される。
【0110】
上述したように、内部行アドレス信号IRAD0-6(MWDEC)は、メモリブロックMBLK内の128本のメインワード線MWLの1つを選択する。内部行アドレス信号IRAD7-8(RBLKSのBRAA)は、8個のメモリブロックMBLKのうち2つを選択する。内部行アドレス信号IRAD9(RBLKSのBRAB)は、選択された2つのメモリブロックMBLKのうち、さらに1つを選択する。内部行アドレス信号IRAD10-11(CBLKS)は、選択されたメモリブロックMBLKの4分の1の領域であるセグメントSを選択する。
【0111】
読み出しコマンドRDまたは書き込みコマンドWRとともに供給される列アドレス信号CAD0-7(内部列アドレス信号ICAD0-7)は、内部列アドレス信号ICAD0-4(CDEC)および内部列アドレス信号ICAD5-7(SWLS)で構成されている。内部列アドレス信号ICAD0-4(CDEC)は、図15に示した列プリデコーダ32に供給され、内部列アドレス信号ICAD5-7(SWLS)は、行プリデコーダ96に供給される。
【0112】
上述したように、内部列アドレス信号ICAD0-4(CDEC)は、選択されたセグメントS内の512個のビット線対BL、/BLおよびセンスアンプSAのうちの16個を選択する。内部列アドレス信号ICAD5-7(SWLS)は、選択されたメインワード線MWLに対応する8本のサブワード線SWLのうち1つを選択する。
この実施形態では、アクティブコマンドACTとともに供給される行アドレス信号RADによりセグメントSが選択され、読み出しコマンドRD(または書き込みコマンドWR)とともに供給される列アドレス信号CADによりサブワード線SWLが選択されることを特徴としている。特に、セグメントSを行アドレス信号RADに応答して選択することで、使用しないビット線対BL、/BLとセンスアンプSAとの接続の解除動作およびビット線対BL、/BLのプリチャージの解除動作を、読み出しコマンドRD(または書き込みコマンドWR)が供給される前に開始できる。この結果、読み出し動作および書き込み動作を第1の実施形態より高速に実行できる。
【0113】
図19は、図17に示したサブワードデコーダSWD、センスアンプSAおよびその周囲の回路の詳細を示している。サブワードデコーダSWD(SWD0、1)は、並列に接続された2つのnMOSトランジスタおよびこれ等nMOSトランジスタに直列に接続されたpMOSトランジスタを有している。一方のnMOSトランジスタのゲートおよびpMOSトランジスタのゲートは、メインワード線MWLに接続されている。他方のnMOSトランジスタのゲートおよびpMOSトランジスタのソースは、デコード回路98aにより生成される内部列アドレス信号ICAD5-7(この例では負論理の内部列アドレス信号/ICAD5-7)のデコード信号CDEC0、1をそれぞれ受けている。デコード回路98aは、内部行アドレス信号IRAD10-11のデコード回路96aにより生成されるデコード信号が高レベルのときに活性化される。nMOSトランジスタのソースは、接地線に接続されている。nMOSトランジスタとpMOSトランジスタとの接続ノードがサブワード線SWL(SWL0、1)に接続されている。
【0114】
上述したサブワードデコーダSWDでは、メインワード線MWLが選択されて低レベルに変化すると、pMOSトランジスタがオンし、一方のnMOSトランジスタがオフする。そして、デコード回路98aから出力される高レベルのデコード信号CDEC0(またはCDEC1)が、サブワード線SWL0(またはSWL1)に伝達される。すなわち、列アドレス信号CADにより、サブワード線SWLが選択される。サブワード線SWLの選択により、メモリセルMCの転送トランジスタがオンし、キャパシタに保持している電荷がビット線BL(または/BL)上に伝達される。
【0115】
センスアンプSAは、ラッチ99a、ビット線制御回路99b、nMOSトランジスタ99c、99d、ビット線選択スイッチ99e、99fを有している。ラッチ99aは、2つのCMOSインバータの入力と出力とを互いに接続し、活性化信号PSA、NSAに応じて活性化される。ビット線制御回路99bは、センスアンプSA内のビット線対をイコライズし、あるいはプリチャージ電圧VPRを供給するための3つのnMOSトランジスタで構成されている。nMOSトランジスタ99cは、図の左側のメモリブロックMBLKのビット線対BL、/BLをイコライズする。nMOSトランジスタ99dは、図の右側のメモリブロックMBLKのビット線対BL、/BLをイコライズする。ビット線選択スイッチ99eは、図の左側のメモリブロックMBLKのビット線対BL、/BLをラッチ99aに接続する2つのnMOSトランジスタで構成されている。ビット線選択スイッチ99fは、図の右側のメモリブロックMBLKのビット線対BL、/BLをラッチ99aに接続する2つのnMOSトランジスタで構成されている。
【0116】
ビット線制御回路99bは、サブビット線リセット信号SBRSCの高レベル時にビット線対BL、/BLをプリチャージ電圧VPRに設定する。サブビット線リセット信号SBRSCは、低レベルのメインビット線リセット信号MBRSCに応じて高レベルに変化し、ビット線対BL、/BLをプリチャージする。
nMOSトランジスタ99cは、サブビット線リセット信号SBRSLの高レベル時にビット線対BL、/BLをイコライズする。サブビット線リセット信号SBRSLは、低レベルのメインビット線リセット信号MBRSLに応じて高レベルに変化し、ビット線対BL、/BLをイコライズする。
【0117】
同様に、nMOSトランジスタ99dは、サブビット線リセット信号SBRSRの高レベル時にビット線対BL、/BLをイコライズする。サブビット線リセット信号SBRSRは、低レベルのメインビット線リセット信号MBRSRに応じて高レベルに変化し、ビット線対BL、/BLをイコライズする。
ビット線選択スイッチ99eは、サブビット線トランスファ信号SBTLの活性化(高レベル)に応じてオンし、ビット線対BL、/BLとラッチ99aとを接続する。サブビット線トランスファ信号SBTLは、低レベルのメインビット線トランスファ信号MBTLに応じて高レベルに変化し、ビット線選択スイッチ99eをオンさせる。
【0118】
同様に、ビット線選択スイッチ99fは、サブビット線トランスファ信号SBTRの活性化(高レベル)に応じてオンし、ビット線対BL、/BLとラッチ99aとを接続する。サブビット線トランスファ信号SBTRは、低レベルのメインビット線トランスファ信号MBTRに応じて高レベルに変化し、ビット線選択スイッチ99fをオンさせる。
【0119】
メインビット線リセット信号MBRSCは、行アドレス信号RAD7-8に応じて活性化される。メインビット線リセット信号MBRSL、MBRSR、およびメインビット線トランスファ信号MBTL、MBTRは、行アドレス信号RAD7-9に応じて活性化される。より詳細には、動作するメモリブロックMBLKに対応するメインビット線リセット信号MBRSCおよびメインビット線リセット信号MBRSL(またはMBRSR)が活性化されると、ビット線BL、/BLのイコライズが解除され、センスアンプSAを挟んだ一対のメモリブロックMBLKのうち、動作しないメモリブロックMBLKに対応するメインビット線トランスファ信号MBTL(またはMBTR)が活性化され、ビット線BL、/BLとラッチ99aとの接続が解除される。
【0120】
サブビット線リセット信号SBRSC、SBRSL、SBRSR、およびサブビット線トランスファ信号SBTL、SBTRは、行アドレス信号IRAD10-11に応じて選択される。すなわち、これ等信号の信号線は、メモリブロックMBLK内の4分の1の領域であるセグメントS毎に配線されている。なお、内部行アドレス信号IRAD10-11のデコード回路96aにより生成されるデコード信号は、リフレッシュ動作時に全て高レベルに変化する。このため、リフレッシュ動作時に、メモリブロックMBLKの全てのセグメントSが選択される。このため、少ないリフレッシュ要求で全てのメモリセルをリフレッシュできる。
【0121】
図20は、クロック周波数が低い場合の読み出し動作を示している。この例では、アクティブコマンドACTの後、読み出しコマンドRDが2回連続して供給され、さらにプリチャージコマンドPREが供給される。上述した図2と同じ動作については、詳細な説明を省略する。
まず、クロック信号CLKの立ち上がりエッジに同期して、アクティブコマンドACTおよび行アドレス信号RAD(1)が供給される(図20(a))。内部行アドレス信号IRAD0-9に応じて、メインワード線MWLが選択され(低レベルに変化)、メインビット線トランスファ信号MBT(MBTL、MBTR)およびメインビット線リセット信号MBRS(MBRSC、MBRSL、MBRSR)が低レベルに変化する(図20(b))。
【0122】
また、この実施形態では、内部行アドレス信号IRAD10-11に応じて、サブビット線トランスファ信号SBT(SBTL、SBTR)およびサブビット線リセット信号SBRS(SBRSC、SBRSL、SBRSR)が選択される(図20(c))。このため、図19に示したビット線制御回路99b、nMOSトランジスタ99c、99d、ビット線選択スイッチ99e、99fは、従来より早く、読み出しコマンドRDを受信する前に動作を開始する。すなわち、読み出し動作(または書き込み動作)を実行しないメモリブロックMBLKとセンスアンプSAとの接続が解除される。
【0123】
次のクロック信号CLKの立ち上がりに同期して、読み出しコマンドRDおよび列アドレス信号CAD(1)が供給される(図20(d))。内部列アドレス信号ICAD5-7に応じて、サブワード線SWLが選択される(図20(e))。すなわち、この実施形態においても、サブワード線SWLは、行アドレス信号RADだけでなく、列アドレス信号CADも使用して活性化される。この後、内部行アドレス信号IRAD7-11により選択されたセグメントS内の活性化信号PSA、NSAが活性化され、センスアンプSAが活性化される(図20(f))。
【0124】
サブワード線SWLの選択によりメモリセルMCからビット線BL(または/BL)にデータが読み出され、センスアンプSAで増幅される。さらに、内部列アドレスICAD0-4に応じて、コラム線選択信号CLが選択され(図20(g))、コラム選択スイッチ(図示せず)がオンし、16個のビット線対BL、/BLと共通データバス線(16ビット)とが接続される。そして、読み出しデータが外部に出力される(図20(h))。
【0125】
次のクロック信号CLKの立ち上がりエッジに同期して、読み出しコマンドRDおよび列アドレス信号CAD(2)が供給される(図20(i))。内部列アドレス信号ICAD5-7に応じて、サブワード線SWLが選択される(図20(j))。そして、上述と同様にして、いわゆるページ読み出し動作が実行される。ページ動作は、活性化されている512個のセンスアンプSAで増幅されたデータのうち16ビットを、列アドレス信号CAD0-4により選択することで実行される。
【0126】
次のクロック信号CLKの立ち上がりエッジに同期してプリチャージコマンドPREが供給される(図20(k))。プリチャージコマンドPREにより、メインワード線MWL、サブワード線SWL、メインビット線トランスファ信号MBT、メインビット線リセット信号MBRS、サブビット線トランスファ信号SBT、サブビット線リセット信号SBRS、およびセンスアンプSAの活性化信号PSA、NSAが非活性化され、ビット線BL、/BLがプリチャージされる。
【0127】
書き込み動作については、特に図示していないが、読み出し動作と同じタイミングでメインワード線MWL、サブワード線SWLが選択され、ビット線トランスファ信号MBT、SBT、ビット線リセット信号MBRS、SBRSが選択される。
また、リフレッシュ動作では、4つのバンクBKにおいて、それぞれ2つのメモリブロックMBLKの2つのメインワード線MWLが活性化され、それに対応する8つのセグメントSのサブワード線SWLが同時に活性化される。すなわち、16kビット(512ビット×8セグメント×4バンク)のメモリセルMCが一度にリフレッシュされる。なお、リフレッシュ動作時のピーク電流を削減し、かつ全てのメモリセルをリフレッシュするために必要な期間(一般には、リフレッシュ時間tREF)を満足する場合には、リフレッシュをセグメント毎に実行してもよく、あるいはバンクBK毎に実行してもよい。
【0128】
図21は、クロック周波数が高い場合の読み出し動作を示している。この例では、アクティブコマンドACTの後、読み出しコマンドRDおよびプリチャージコマンドPREが順次供給され、1クロックあけて再びアクティブコマンドACTが供給される。
図21の基本的な動作タイミングは、図20と同じである。すなわち、アクティブコマンドACTとともに供給される行アドレス信号RADに応じて、ビット線トランスファ信号MBT、SBT、およびビット線リセット信号MBRS、SRBSが選択される(図21(a)、(b))。読み出しコマンドRDとともに供給される列アドレス信号CADに応じて、サブワード線SWLが選択される(図21(c))。
【0129】
クロック周波数が高い場合、相対的に内部回路の動作が遅くなるため、読み出しコマンドRDが供給されたクロックサイクル内に読み出しデータを出力できない。この例では、読み出しデータは、読み出しコマンドRDを受信後、3クロック目のクロック信号CLKの立ち上がりエッジに同期して出力される(図21(d))。
【0130】
以上、この実施形態においても、上述した第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、この実施形態では、メモリ動作(読み出し動作および書き込み動作)を制御する回路の一部を、アクティブコマンドACTとともに供給される行アドレス信号RADに応じて動作させた。このため、従来、読み出しコマンドRDまたは書き込みコマンドWRに応じて動作を開始させていた回路を、予め動作させることができ、読み出し動作および書き込み動作を高速に実行できる。すなわち、低消費電力の特性を保持したまま、高速化を実現できる。
【0131】
より具体的には、メモリ動作の最初に供給されるアクティブコマンドACTとともに供給される行アドレス信号RAD7-9に応じて、複数のメモリブロックMBLKのいずれかを選択した。メモリ動作の早い時期にメモリブロックMBLKを選択することで、その後の読み出しコマンドRD(または書き込みコマンドWR)に応答して動作を開始する回路を少なくできる。この結果、アクティブコマンドACTが供給されてから読み出し動作(または書き込み動作)が完了するまでの時間を短縮できる。
【0132】
アクティブコマンドACTとともに供給される行アドレス信号RAD10-11に応じて、セグメントS毎にビット線選択スイッチ99e、99fを選択した。このため、メモリ動作の早い時期に、動作させないメモリブロックMBLKのビット線BL、/BLとセンスアンプSAとの接続を解除できる。この結果、最初のコマンドが供給されてから読み出し動作および書き込み動作が完了するまでの時間を短縮できる。また、ビット線BL、/BLとセンスアンプSAとをセグメントS毎に接続するため、読み出し動作および書き込み動作時に動作する回路を減らすことができ、動作時の消費電力を削減できる。
【0133】
リフレッシュ動作時に、メモリブロックMBLK内の全てのセグメントSのビット線選択スイッチ99e、99fを同時に選択した。リフレッシュ時に動作させるセグメントSの数を、読み出し動作および書き込み動作時に動作させるセグメントより増やすことで、全てのメモリセルMCをリフレッシュするために必要なリフレッシュ回数を減らすことができる。したがって、リフレッシュ間隔を延ばすことができ、所定の期間内において、読み出し動作および書き込み動作の比率を高くできる。すなわち、I/Oのバス占有率(データ転送レート)を向上できる。
【0134】
また、リフレッシュ動作時に、アクティブコマンドACTに対応するリフレッシュアドレスREFADに応じて、メインワード線MWLおよびサブワードSWL線を選択した。読み出し動作時および書き込み動作時と異なり、アクティブコマンドACTに応答してリフレッシュ動作を開始できるため、リフレッシュ動作を読み出し動作および書き込み動作に比べ高速に実行できる。したがって、所定の期間内において、読み出し動作および書き込み動作の比率を高くでき、I/Oのバス占有率(データ転送レート)を向上できる。
【0135】
図22は、本発明の半導体メモリおよび半導体メモリの制御方法の第7の実施形態を示している。第1および第6の実施形態で説明した回路・信号と同一の回路・信号については、同一の符号を付け、これ等回路・信号についての詳細な説明は省略する。
【0136】
図22においては、メモリコアの記載を省略している。半導体メモリは、SDRAMとして構成されており、リフレッシュ動作が外部からのリフレッシュコマンドに基づいて実行されることを除き、基本的な動作は上述した第6の実施形態と同一である。
SDRAMは、メモリコアの周辺部(チップの外周部または中央部)にレイアウトされる周辺回路とバンクBKとを有している。バンクBK内のメモリコアは、図示を省略する。図中の一点鎖線が、周辺回路とバンクBKとの境界を示している。
【0137】
周辺回路は、リフレッシュカウンタ14、コマンドデコーダ100、リフレッシュアドレスラッチ102、RASジェネレータ104、CASジェネレータ106、およびラッチ108を有している。
コマンドデコーダ100は、外部から供給されるコマンド信号CMDに応じて、リフレッシュコマンド信号REF、アクティブコマンド信号ACTV、プリチャージコマンド信号PRE、および読み書きコマンド信号RWを生成する。リフレッシュアドレスラッチ102は、リフレッシュコマンド信号REFに応じて、フレッシュカウンタ14からのリフレッシュアドレスをリフレッシュアドレス信号REFADとして出力する。
【0138】
RASジェネレータ104は、アクティブコマンド信号ACTVに応じて、行アドレス信号RADに対応する回路を制御するタイミング信号RASZを出力する。CASジェネレータ106は、読み出しコマンドRDおよび書き込みコマンドWRに応じて、読み出し動作および書き込み動作を制御する読み書きタイミング信号RWTを出力する。ラッチ108は、バンク信号BANKおよび読み書きタイミング信号RWTのアンド論理(動作制御信号RWC)に同期して列アドレス信号CADを取り込む。
【0139】
バンクBKは、BRASジェネレータ110、PREジェネレータ112、タイミングジェネレータ114、ラッチ116、118、120、ANDゲート121、スイッチ122、行プリデコーダ124、スイッチ126、LEジェネレータ128、行プリデコーダ130、および列プリデコーダ132、134を有している。ラッチ118およびANDゲート121は、アクティブコマンドACT後の最初の読み出しコマンドRD(又は書き込みコマンドWR)のみに応答して行プリデコーダ130を活性化する活性化制御回路として動作する。
【0140】
BRASジェネレータ110は、リフレッシュコマンド信号REFおよび読み書きコマンド信号RWに応じて基準タイミング信号BRASZを活性化し、プリチャージコマンド信号PREに応じて基準タイミング信号BRASZを非活性化する。PREジェネレータ112は、プリチャージコマンド信号PREに応じて、BRASジェネレータ110にタイミング信号を出力する。
【0141】
タイミングジェネレータ114は、基準タイミング信号BRASZに応じてタイミング信号T1、T2、T3、T4を生成する。ラッチ116は、バンク信号BANKおよびアクティブコマンド信号ACTVのアンド論理(動作制御信号ACTC)に同期して行アドレス信号RADを取り込み、内部行アドレス信号IRADとして出力する。
ラッチ118は、バンク信号BANKおよび読み書きタイミング信号RWTのアンド論理である動作制御信号RWCの立ち下がりエッジに同期してタイミング信号T4を取り込み、相補のタイミング信号T5、/T5として出力し、基準タイミング信号BRASZの低レベル時にリセットされる。ここで、基準タイミング信号BRASZはアクティブコマンドACTの供給からプリチャージコマンドPRE(動作完了コマンド)の供給まで活性化される。ラッチ118は、読み出しコマンドRD(または書き込みコマンドWR)が供給される毎に、基準タイミング信号BRASZのレベルを取り込む。
【0142】
ラッチ120は、タイミング信号T2の立ち上がりエッジに同期して内部行アドレス信号IRADを取り込み、スイッチ122に出力する。スイッチ122は、タイミング信号T3の低レベル時および高レベル時に、それぞれ内部行アドレス信号IRADおよびリフレッシュアドレス信号を選択する。行プリデコーダ124は、スイッチ122から伝達されるアドレス信号をデコードし、メインワード線MWLを選択するためのデコード信号RAA0-7、RAB0-7、RAC0-1、およびメモリブロックMBLKを選択するためのデコード信号BRAA0-3、BRAB0-1を出力する。デコード信号RAA0-7、RAB0-7、RAC0-1、およびBRAA0-3、BRAB0-1は、それぞれ図18に示した内部行アドレス信号IRAD0-2、IRAD3-5、IRAD6、IRAD7-8、IRAD9から生成される信号である。
【0143】
ラッチ126は、リフレッシュ動作時にタイミング信号T1を選択し、読み出し動作および書き込み動作時にタイミング信号T5を選択する。LEジェネレータ128は、スイッチ126の出力を受けて、センスアンプSAの活性化信号PSA、NSAを生成する。
ANDゲート121は、タイミング信号/T5の高レベル時に、動作制御信号RWCをサブワードラッチ信号SWLLとして出力する。すなわち、動作制御信号RWCは、ラッチ118の出力(タイミング信号/T5)によりゲーティングされる。タイミング信号/T5は、後述するように、アクティブコマンドACT供給後における最初の読み出しコマンドRD(または書き込みコマンドWR)の供給時のみ高レベルを維持し、2番目の読み出しコマンドRD(または書き込みコマンドWR)の供給時には、低レベルに変化している。
【0144】
行プリデコーダ130は、ラッチ130aおよびスイッチ130bを有している。ラッチ130aは、サブワードラッチ信号SWLLに同期して内部列アドレス信号ICADを取り込む。スイッチ130bは、タイミング信号T3の低レベル時に内部行アドレス信号IRADを選択し、タイミング信号T3の高レベル時にリフレッシュアドレス信号REFADを選択し、選択した信号を図示しないデコード回路でデコードし、デコード信号RAD0-7として出力する。デコード信号RAD0-7は、図18に示したICAD5-7(読み出し動作時および書き込み動作時)またはIRAD9-11(リフレッシュ動作時)から生成される信号である。
【0145】
列プリデコーダ132は、内部列アドレス信号ICADをデコードし、デコード信号CAA0-3、CAB0-7を出力する。デコード信号CAA0-3、CAB0-7は、それぞれ図18に示した内部列アドレスICAD0-1、ICAD2-4から生成される信号である。
列プリデコーダ134は、ラッチ134aおよびスイッチ134bを有している。ラッチ134aは、タイミング信号T2に同期して内部行アドレス信号RADを取り込む。スイッチ134bは、リフレッシュ動作時に低レベルを出力し、読み出し動作時および書き込み動作時に内部行アドレス信号IRAD10-11を選択し選択した信号を図示しないデコード回路でデコードし、デコード信号BCAA0-3として出力する。
【0146】
図23は、上述したSDRAMの読み出し動作を示している。この例では、上述した図20と同様に、アクティブコマンドACTの後、読み出しコマンドRD(または書き込みコマンドWR)が2回連続して要求され、さらにプリチャージコマンドPREが供給される。メインワード線MWL、サブワード線SWL、ビット線トランスファ信号MBT、SBT、およびビット線リセット信号MBRS、SRBSの生成タイミングは、図20と同じであるため、説明を省略する。図23では、メモリコアに供給されるデコード信号の生成までを詳細に説明する。
【0147】
まず、クロック信号CLKに同期してアクティブコマンドACTが供給される(図23(a))。図22に示したコマンドデコーダ100は、アクティブコマンドACTに応じてアクティブコマンド信号ACTVを活性化する(図23(b))。また、アクティブコマンド信号ACTVの活性化により動作制御信号ACTCが活性化する(図23(c))。図22に示したラッチ116は、動作制御信号ACTCに同期して行アドレス信号RAD(1)を取り込み、内部行アドレス信号IRADとして出力する(図23(d))。
【0148】
BRASジェネレータ110は、アクティブコマンド信号ACTVに応答して基準タイミング信号BRASZを活性化する(図23(e))。タイミングジェネレータ114は、基準タイミング信号BRASZの立ち上がりエッジに同期して、タイミング信号T2を活性化する(図23(f))。ラッチ120は、タイミング信号T2の立ち上がりエッジに同期して内部行アドレス信号IRAD0-9を取り込む。スイッチ122は、低レベルのタイミング信号T3を受け、内部行アドレス信号IRAD0-9を行プリデコーダ124に伝達する。行プリデコーダ124は、内部行アドレス信号IRAD0-9をデコードし、各デコード信号RAA0-7、RAB0-7、RAC0-1、BRAA0-3、BRAB0-1のいずれかを出力する(図23(g))。デコード信号RAA0-7、RAB0-7、RAC0-1、BRAA0-3、BRAB0-1の活性化により、第6の実施形態と同様にメインワード線MWL、ビット線トランスファ信号MBTL、およびビット線リセット信号MBRSが選択される。
【0149】
列プリデコーダ134は、タイミング信号T2の立ち上がりエッジに同期して行アドレス信号IRAD10-11を受け、受けた信号をデコードし、デコード信号BCAA0-3のいずかを出力する(図23(h))。デコード信号BCAA0-3の活性化により、第6の実施形態と同様にビット線トランスファ信号SBTLおよびビット線リセット信号SBRSが選択される。すなわち、アクティブコマンドACTとともに供給される行アドレス信号RADにより、ビット線BL、/BLのプリチャージが解除され、メモリブロックMBLKとセンスアンプSAとが接続される。
【0150】
タイミングジェネレータ114は、基準タイミング信号BRASZの立ち上がりエッジから所定時間遅れてタイミング信号T4を活性化する(図23(i))。ラッチ118は、基準タイミング信号BRASZの高レベルによりリセット状態が解除され、タイミング信号T5、/T5をそれぞれ低レベル、高レベルにする(図23(j))。
【0151】
次のクロック信号CLKに同期して読み出しコマンドRD(または書き込みコマンドWR)が供給される(図23(k))。コマンドデコーダ100は、読み出しコマンドRDに応じて読み書きコマンド信号RWを活性化する。CASジェネレータ106は、読み書きコマンド信号RWに応答して読み書きタイミング信号RWTを活性化する。読み書きタイミング信号RWTの活性化により動作制御信号RWCが所定の期間活性化される(図23(l))。
【0152】
ラッチ108は、動作制御信号RWCの立ち上がりエッジに同期して列アドレス信号CADを取り込み、内部列アドレス信号ICAD0-7として出力する(図示せず)。タイミング信号/T5および動作制御信号RWCの高レベルにより、サブワードラッチ信号SWLLが所定の期間活性化される(図23(m))。行プリデコーダ130は、サブワードラッチ信号SWLLの立ち上がりエッジに同期して内部列アドレス信号ICAD5-7を取り込み、デコード信号RADS0-7のいずれかを出力する(図23(n))。デコード信号RADS0-7により、第6の実施形態と同様にサブワード線SWLが選択される。すなわち、読み出しコマンドRD(または書き込みコマンドWD)とともに供給される列アドレス信号CADにより、サブワード線SWLが選択される。そして、メモリセルMCからセンスアンプSAに読み出しデータが出力される。
【0153】
ラッチ118は、動作制御信号RWCの立ち下がりエッジに同期して、タイミング信号T4の高レベルを取り込み、タイミング信号T5、/T5をそれぞれ高レベル、低レベルにする(図23(o))。タイミング信号T4は、アクティブ期間中高レベルを維持する。このため、タイミング信号/T5は、基準タイミング信号BRASZが低レベルに変化するまで、低レベルを維持する。また、動作制御信号RWCの低レベルにより、サブワードラッチ信号SWLLは低レベルに変化する(図23(p))。スイッチ126は、高レベルのタイミング信号T5をLEジェネレータ128に伝達する。LEジェネレータ128は、高レベルのタイミング信号T5を受け、活性化信号PSA、NSAを活性化する(図23(q))。そして、センスアンプSAが動作し、ビット線BL(または/BL)上の読み出しデータを増幅する。列プリデコーダ132は、内部列アドレス信号ICAD0-4を受け、各デコード信号CAA0-3、CAB0-7のいずれかを出力する(図示せず)。そして、読み出しデータが出力される。
【0154】
次のクロック信号CLKに同期して読み出しコマンドRD(または書き込みコマンドWR)が供給される(図23(r))。コマンドデコーダ100は、読み出しコマンドRDに応じて読み書きコマンド信号RWを活性化する。CASジェネレータ106は、読み書きコマンド信号RWに応答して読み書きタイミング信号RWTを活性化する。読み書きタイミング信号RWTの活性化により動作制御信号RWCが所定の期間活性化される(図23(s))。ラッチ108は、動作制御信号RWCの立ち上がりエッジに同期して列アドレス信号CADを取り込み、内部列アドレス信号ICAD0-7として出力する(図示せず)。
【0155】
サブワードラッチ信号SWLLは、タイミング信号T5が低レベルのため、動作制御信号RWCの活性化を受けても活性化されない。このため行プリデコーダ130は動作しない。したがって、サブワード線SWLは、アクティブコマンドACTの次に供給された読み出しコマンドRD(または書き込みコマンドWR)によってのみ選択される。
【0156】
次のクロック信号CLKに同期してプリチャージコマンドPREが供給され、基準タイミング信号BRASZが低レベルに変化する(図23(t))。ラッチ118は、低レベルの基準タイミング信号BRASZによりリセットされ、タイミング信号T5、/T5をともに低レベルにする(図23(u))。そして、デコード信号RAA、RAB、RAC、BRAA、BRAB、RADS、CAA、CAB、BCAAおよび活性化信号PSA、NSAが非活性化され、メモリブロックMBLKがアイドル状態になる。
【0157】
なお、図23には示していないが、リフレッシュ動作時には、タイミングジェネレータ114は、タイミング信号T1、T3を活性化する。スイッチ122、126、130b、134bは、タイミング信号T3の活性化に応じて、それぞれリフレッシュアドレスREFAD0-8、タイミング信号T1、リフレッシュアドレスREFAD9-11、接地電圧を選択する。そして、リフレッシュ動作が実行される。
【0158】
以上、この実施形態においても、上述した第1および第6の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、この実施形態では、サブワード線SWLを選択するためのデコード信号RADSを生成する行プリデコーダ130を、アクティブコマンドACT後の最初の読み出しコマンドRD(または書き込みコマンドWR)のみ動作させた。2回目以降の読み出し動作RD(または書き込みコマンドWR)とともに供給される列アドレス信号CADのうち、サブワード線SWLを選択するための列アドレス信号CAD5-7は無視される。このため、ワード線の多重選択等のSDRAMの誤動作を確実に防止できる。行プリデコーダ130は、以降の読み出しコマンドRD(または書き込みコマンドWR)に応答して動作しないため、消費電力を削減できる。
【0159】
なお、上述した第1の実施形態では、サブワード線SWLを読み出しコマンドRDが供給される毎に活性化し、メインワード線MWLをプリチャージコマンドPREが供給されるまで、活性化し続けた例について述べた。本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。例えば、メインワード線MWL、サブワード線SWLともに、プリチャージコマンドPREが供給されるまで活性化し続けてもよい。サブワード線SWLを非活性化することなくページ動作を行うことで、動作時の消費電力をさらに低減できる。
【0160】
上述した実施形態では、読み出し動作における動作タイミングについて述べた。本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。例えば、書き込み動作についても、読み出し動作と同様のタイミングで実行できる。
上述した実施形態では、読み出し動作が実行されていない期間を利用してリフレッシュ動作を実行した例について述べた。本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。例えば、この期間を利用して、チップ内部のセルフテスト等を実行してもよい。セルフテストの結果に基づいて、制御信号のタイミングを調整し、または制御電圧を調整することで、電圧変化、温度変化に応じて最適なタイミングで半導体メモリを動作できる。
【0161】
上述した実施形態では、本発明をSDRAMに適用した例について述べた。これに限定されず、本発明をDRAM、SRAM等の半導体メモリに適用してもよい。あるいは、DRAMのメモリコアを内蔵したシステムLSIに適用してもよい。
以上の実施形態において説明した発明を整理して、付記として開示する。
(付記1) 複数のコマンドを順次受け、これ等コマンドの組み合わせに応じて、メモリセルにデータを読み書きするメモリ動作を実行する半導体メモリであって、
前記メモリセルの選択スイッチを制御するワード線は、2番目またはそれ以降の前記コマンドを受けた後に活性化されることを特徴とする半導体メモリ。
【0162】
(付記2) 付記1記載の半導体メモリにおいて、
前記メモリセルを特定するためのアドレス信号を前記コマンドとともに受け、
前記ワード線は、最初の前記コマンドとともに供給される前記アドレス信号と、2番目またはそれ以降の前記コマンドとともに供給される前記アドレス信号の一部とに基づいて活性化されることを特徴とする半導体メモリ。
【0163】
(付記3) 付記1記載の半導体メモリにおいて、
前記ワード線は、メインワード線と、該メインワード線から分岐し前記メモリセルの前記選択スイッチに接続された複数のサブワード線とを有し、
前記メインワード線は、複数回の前記メモリ動作の間活性化され、
前記サブワード線は、1回の前記メモリ動作毎に活性化されていることを特徴とする半導体メモリ。
【0164】
(付記4) 付記1記載の半導体メモリにおいて、
前記ワード線は、メインワード線と、該メインワード線から分岐し、前記メモリセルの前記選択スイッチに接続された複数のサブワード線とを有し、
前記メインワード線および前記サブワード線は、複数回の前記メモリ動作の間活性化されていることを特徴とする半導体メモリ。
【0165】
(付記5) 付記1記載の半導体メモリにおいて、
前記ワード線は、メインワード線と、該メインワード線から分岐し前記メモリセルの前記選択スイッチに接続された複数のサブワード線とを有し、
読み出し動作および書き込み動作時に、
前記メインワード線は、最初の前記コマンドとともに供給される前記アドレス信号に応じて活性化され、
前記サブワード線は、2番目またはそれ以降の前記コマンドとともに供給される前記アドレス信号に応じて活性化されることを特徴とする半導体メモリ。
【0166】
(付記6) 付記5記載の半導体メモリにおいて、
前記サブワード線に接続された複数の前記メモリセルにそれぞれ接続された複数のビット線と、
前記ビット線を所定の電圧に設定するプリチャージ回路とを備え、
前記プリチャージ回路は、最初の前記コマンドとともに供給される前記アドレス信号に応じて、前記ビット線の一部のプリチャージ動作を解除することを特徴とする半導体メモリ。
【0167】
(付記7) 付記6記載の半導体メモリにおいて、
前記メモリセルを有する複数のメモリブロックを備え、
前記メモリブロックは、複数のセグメントで構成され、
前記プリチャージ回路は、前記セグメント毎に前記ビット線のプリチャージ動作を解除することを特徴とする半導体メモリ。
【0168】
(付記8) 付記5記載の半導体メモリにおいて、
前記メモリセルを有する複数のメモリブロックを備え、
前記メモリブロックのいずれかが、最初の前記コマンドとともに供給される前記アドレス信号に応じて選択されることを特徴とする半導体メモリ。
(付記9) 付記8記載の半導体メモリにおいて、
前記サブワード線に接続された複数の前記メモリセルにそれぞれ接続された複数のビット線と、
一対の前記メモリブロックに共通に形成され、これ等メモリブロック内の前記ビット線上のデータを増幅する複数のセンスアンプと
前記各メモリブロックの前記ビット線と前記センスアンプとをそれぞれ接続する複数のビット線選択スイッチとを備え、
前記メモリブロックは、複数のセグメントで構成され、
前記ビット線選択スイッチは、最初の前記コマンドとともに供給される前記アドレス信号に応じて、前記セグメント毎に選択されることを特徴とする半導体メモリ。
【0169】
(付記10) 付記9記載の半導体メモリにおいて、
前記メモリセルは、揮発性であり、
前記メモリセルに保持されているデータを再書き込みするリフレッシュ動作は、複数のセグメントの前記ビット線選択スイッチを同時に選択して実行されることを特徴とする半導体メモリ。
【0170】
(付記11) 付記5記載の半導体メモリにおいて、
前記アドレス信号に応じて前記サブワード線を選択するためのデコード信号を生成するデコーダと、
前記2番目のコマンドのみに応答して前記デコーダを活性化し、3番目以降のコマンドには応答しない活性化制御回路とを備えていることを特徴とする半導体メモリ。
【0171】
(付記12) 付記11記載の半導体メモリにおいて、
前記活性化制御回路は、
前記最初のコマンドの供給から動作完了コマンドの供給まで活性化される基準タイミング信号のレベルを、2番目以降の前記コマンドに同期して取り込むラッチと、
2番目以降の前記コマンドに応答して活性化される動作制御信号を、前記ラッチの出力でゲーティングする論理ゲートとを備えていることを特徴とする半導体メモリ。
【0172】
(付記13) 付記5記載の半導体メモリにおいて、
前記メモリセルは、揮発性であり、
前記メモリセルに保持されているデータを再書き込みするリフレッシュ動作時に、前記メインワード線および前記サブワード線は、最初の前記コマンドに対応する前記アドレス信号に応じて選択されることを特徴とする半導体メモリ。
【0173】
(付記14) 付記1記載の半導体メモリにおいて、
前記メモリセルをリフレッシュするためのリフレッシュ要求を所定の間隔で発生するリフレッシュ発生回路と、
前記リフレッシュ要求を保持するバッファと、
前記メモリ動作が実行されていないときに、前記バッファに保持された前記リフレッシュ要求に基づいてリフレッシュ動作を実行するリフレッシュ制御回路とを備えていることを特徴とする半導体メモリ。
【0174】
(付記15) 付記14記載の半導体メモリにおいて、
前記リフレッシュ要求を交互に保持する複数の前記バッファを備えていることを特徴とする半導体メモリ。
(付記16) 付記14記載の半導体メモリにおいて、
前記コマンドは、クロック信号に同期して供給され、
前記リフレッシュ制御回路は、前記メモリ動作が実行されていないときに供給される前記クロック信号に同期してリフレッシュ動作を実行することを特徴とする半導体メモリ。
【0175】
(付記17) 付記16記載の半導体メモリにおいて、
前記リフレッシュ要求を交互に保持する複数の前記バッファを備えていることを特徴とする半導体メモリ。
(付記18) 付記1記載の半導体メモリにおいて、
外部クロックを受信し、内部回路の同期信号である内部クロックを生成するクロック発生回路と、
前記外部クロックに同期して、信号を入出力する入出力インタフェース回路とを備え、
読み出し動作および書き込み動作は、前記外部クロックおよび内部クロックに同期して実行されることを特徴とする半導体メモリ。
【0176】
(付記19) 複数のコマンドを順次受け、これ等コマンドの組み合わせに応じて、メモリセルにデータを読み書きするメモリ動作を実行する半導体メモリの制御方法であって、
前記メモリセルの選択スイッチを制御するワード線を、2番目またはそれ以降の前記コマンドを受けた後に活性化することを特徴とする半導体メモリの制御方法。
【0177】
(付記20) 付記19記載の半導体メモリの制御方法において、
前記メモリセルを特定するためのアドレス信号を前記コマンドとともに受け、
前記ワード線を、最初の前記コマンドとともに供給される前記アドレス信号と、2番目またはそれ以降の前記コマンドとともに供給される前記アドレス信号の一部とに基づいて活性化することを特徴とする半導体メモリの制御方法。
【0178】
付記4の半導体メモリでは、ワード線は、メインワード線と、このメインワード線から分岐し、メモリセルの選択スイッチに接続された複数のサブワード線とを有している。メインワード線およびサブワード線は、複数回のメモリ動作の間活性化されている。サブワード線を非活性化することなくページ動作を行うことで、サブワード線の制御回路の消費電力を小さくできる。すなわち、動作時の消費電力をさらに低減できる。
【0179】
付記6の半導体メモリでは、複数のビット線は、サブワード線に接続された複数のメモリセルにそれぞれ接続されている。ビット線を所定の電圧に設定するプリチャージ回路は、最初のコマンドとともに供給されるアドレス信号に応じて、ビット線の一部のプリチャージ動作を解除する。このため、メモリ動作の早い時期に、プリチャージ動作を解除することで、最初のコマンドが供給されてから読み出し動作および書き込み動作が完了するまでの時間を短縮できる。
【0180】
付記7の半導体メモリでは、メモリセルを有する複数のメモリブロックは、複数のセグメントで構成されている。プリチャージ回路は、セグメント毎にビット線のプリチャージ動作を解除する。このため、読み出し動作および書き込み動作時に動作する回路を減らすことができ、動作時の消費電力を削減できる。
付記16の半導体メモリでは、コマンドは、クロック信号に同期して供給される。リフレッシュ制御回路は、メモリ動作が実行されていないときに供給されるクロック信号に同期してリフレッシュ動作を実行する。このため、リフレッシュの制御に必要な回路のタイミング設計が容易になる。
【0181】
以上、本発明について詳細に説明してきたが、上記の実施形態およびその変形例は発明の一例に過ぎず、本発明はこれに限定されるものではない。本発明を逸脱しない範囲で変形可能であることは明らかである。
【0182】
【発明の効果】
本発明の半導体メモリおよび本発明の半導体メモリの制御方法では、動作時の消費電力を比べ低減できる。ワード線が活性化するまでの期間を利用して、外部から認識されることなく内部回路を動作できる。
請求項2の半導体メモリおよび請求項13の半導体メモリの制御方法では、同時に活性化されるワード線の数を少なくできるため、メモリ動作のために動作する回路の規模を小さくでき、消費電力を小さくできる。
【0183】
本発明の半導体メモリでは、広いメモリ領域でページ動作を実行できる。
本発明の半導体メモリでは、ページ動作を高速に実行できる。メモリセル等を救済する冗長回路を有する場合、救済判定を高速に実行できる。
本発明の半導体メモリでは、最初のコマンドが供給されてから読み出し動作および書き込み動作が完了するまでの時間を短縮できる。
【0184】
本発明の半導体メモリでは、リフレッシュ間隔を延ばすことで、所定の期間内において、読み出し動作および書き込み動作の比率を高くできる。すなわち、I/Oのバス占有率(データ転送レート)を向上できる。
本発明の半導体メモリでは、ワード線の多重選択等の半導体メモリの誤動作を確実に防止できる。デコーダは、3番目以降のコマンドに応答して動作しないため、消費電力を削減できる。
【0185】
本発明の半導体メモリでは、リフレッシュ動作を読み出し動作および書き込み動作に比べ高速に実行できため、所定の期間内において、読み出し動作および書き込み動作の比率を高くでき、I/Oのバス占有率(データ転送レート)を向上できる。
本発明の半導体メモリでは、メモリセルのリフレッシュを、外部から認識されることなく内部で自動的に実行できる。
【0186】
本発明の半導体メモリでは、バッファの数だけリフレッシュ要求を保持できるため、ページ動作の最大回数を増やすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態を示すブロック図である。
【図2】第1の実施形態における読み出し動作を示すタイミング図である。
【図3】第1の実施形態における読み出し動作を示す別のタイミング図である。
【図4】本発明の第2の実施形態におけるリフレッシュ制御回路を示す回路図である。
【図5】第2の実施形態における読み出し動作を示すタイミング図である。
【図6】第2の実施形態における読み出し動作を示す別のタイミング図である。
【図7】本発明の第3の実施形態におけるリフレッシュ制御回路を示す回路図である。
【図8】第3の実施形態における読み出し動作を示すタイミング図である。
【図9】第3の実施形態における読み出し動作を示す別のタイミング図である。
【図10】第3の実施形態における読み出し動作を示す別のタイミング図である。
【図11】本発明の第4の実施形態におけるリフレッシュ制御回路を示す回路図である。
【図12】第4の実施形態における読み出し動作を示すタイミング図である。
【図13】第4の実施形態における読み出し動作を示す別のタイミング図である。
【図14】本発明の第5の実施形態におけるリフレッシュ制御回路を示す回路図である。
【図15】本発明の第6の実施形態を示すブロック図である。
【図16】図15に示したメモリアレイの詳細を示すブロック図である。
【図17】図16に示したメモリブロックの詳細を示すブロック図である。
【図18】 SDRAM内でのアドレス信号の用途を示す説明図である。
【図19】図17に示したサブワードデコーダおよびセンスアンプの詳細を示す回路図である。
【図20】第6の実施形態における読み出し動作を示すタイミング図である。
【図21】第6の実施形態における読み出し動作を示す別のタイミング図である。
【図22】本発明の第7の実施形態を示すブロック図である。
【図23】第7の実施形態におけるSDRAMの動作を示すタイミング図である。
【符号の説明】
10 SDRAM
12 リフレッシュ制御回路
14 リフレッシュカウンタ
16、18 ラッチ
20、22 アドレスセレクタ
24 タイミングジェネレータ
26 タイミングジェネレータ
28 行プリデコーダ
30 セグメントセレクタ
32 列プリデコーダ
34、34A メモリコア
36 行メインデコーダ
38 列メインデコーダ
40 リフレッシュ制御回路
42、44、46、48、50 フリップフロップ
52、54、56 遅延回路
58、60 パルス発生回路
62 リフレッシュ制御回路
64、66 トグルフリップフロップ
68 遅延回路
70 リフレッシュ制御回路
72、74 ラッチ
76 ラッチ
78 遅延回路
80 ORゲート
82 リフレッシュ制御回路
86 アドレスラッチ
88、90、92 タイミングジェネレータ
94、96 行プリデコーダ
98 セグメントセレクタ
99e、99f ビット線選択スイッチ
100 コマンドデコーダ
102 リフレッシュアドレスラッチ
104 RASジェネレータ
106 CASジェネレータ
108 ラッチ
110 BRASジェネレータ
112 PREジェネレータ
114 タイミングジェネレータ
116、118、120 ラッチ
122 スイッチ
124 行プリデコーダ
126 スイッチ
128 SAジェネレータ
130 行プリデコーダ
130a ラッチ
130b スイッチ
132、134 列プリデコーダ
134a ラッチ
134b スイッチ
ACT アクティブコマンド
ACTV アクティブコマンド信号
ACTC 動作制御信号
ACTD 遅延アクティブ信号
ACTL アクティブラッチ信号
AD アドレス信号
BK バンク
BL、/BL ビット線対
BRASZ 基準タイミング信号
CAD 列アドレス信号
CLK クロック信号
ICAD 内部列アドレス信号
IRAD 内部行アドレス信号
IRAS 内部行アドレスストローブ信号
IREF 内部リフレッシュ信号
IPRE 内部プリチャージ信号
MA メモリアレイ
MBLK メモリブロック
MWL メインワード線
POR パワーオンリセット信号
PREA オートプリチャージ信号
PREC プリチャージ信号
PRED 遅延プリチャージ信号
PRER リフレッシュプリチャージ信号
RAD 行アドレス信号
RD 読み出しコマンド
RWC 動作制御信号
REFAD リフレッシュアドレス
REFL リフレッシュラッチ信号
REFP リフレッシュパルス
REFRQ リフレッシュ要求信号
REG1、REG2 レジスタ
REQ1、REQ2 要求信号
RW 読み書きコマンド信号
S セグメント
SA センスアンプ
SEL1、/SEL1、SEL2、/SEL2 選択信号
SWD サブワードデコーダ
SWL サブワード線
SWLL サブワードラッチ信号
WR 書き込みコマンド
Claims (8)
- 複数のコマンドを順次受け、これ等コマンドの組み合わせに応じて、揮発性のメモリセルにデータを読み書きするメモリ動作を実行する半導体メモリであって、
メインワード線と、
前記メインワード線から分岐し前記メモリセルの選択スイッチに接続された複数のサブワード線と、
行アドレス信号と内部で生成されるリフレッシュアドレス信号の一部のビットとのいずれかを選択し、内部行アドレス信号として出力する第1アドレスセレクタと、
列アドレス信号と前記リフレッシュアドレス信号の残りのビットとのいずれかを選択し、内部列アドレス信号として出力する第2アドレスセレクタとを備え、
読み出し動作および書き込み動作時に、
前記メインワード線は、最初の前記コマンドであるアクティブコマンドとともに供給される前記行アドレス信号に対応する前記内部行アドレス信号に応じて活性化され、
前記サブワード線は、前記アクティブコマンドの後に供給される読み出しコマンドまたは書き込みコマンドとともに供給される前記列アドレス信号に対応する前記内部列アドレス信号に応じて活性化され、
前記メモリセルに保持されているデータをリフレッシュ要求に応答して再書き込みするリフレッシュ動作時に、
前記メインワード線は、前記リフレッシュアドレス信号の一部のビットに対応する前記内部行アドレス信号に応じて活性化され、前記サブワード線は、前記リフレッシュアドレス信号の残りのビットに対応する前記内部列アドレス信号に応じて、前記メインワード線とともに活性化されることを特徴とする半導体メモリ。 - 請求項1記載の半導体メモリにおいて、
前記メモリセルを有する複数のメモリブロックを備え、
前記メモリブロックのいずれかが、前記内部行アドレス信号に応じて選択されることを特徴とする半導体メモリ。 - 請求項2記載の半導体メモリにおいて、
前記サブワード線に接続された複数の前記メモリセルにそれぞれ接続された複数のビット線と、
一対の前記メモリブロックに共通に形成され、これ等メモリブロック内の前記ビット線上のデータを増幅する複数のセンスアンプと
前記各メモリブロックの前記ビット線と前記センスアンプとをそれぞれ接続する複数のビット線選択スイッチとを備え、
前記メモリブロックは、複数のセグメントで構成され、
前記ビット線選択スイッチは、前記内部行アドレス信号に応じて、前記セグメント毎に選択されることを特徴とする半導体メモリ。 - 請求項3記載の半導体メモリにおいて、
前記リフレッシュ動作は、複数のセグメントの前記ビット線選択スイッチを同時に選択して実行されることを特徴とする半導体メモリ。 - 請求項1記載の半導体メモリにおいて、
前記列アドレス信号の一部をラッチするラッチを有し、ラッチした前記列アドレス信号の前記一部に応じて前記サブワード線を選択するための第1デコード信号を生成する第1デコーダと、
前記列アドレス信号の別の一部に応じて、選択された前記サブワード線に接続された前記メモリセルを選択するための第2デコード信号を生成する第2デコーダと、
前記アクティブコマンドの後の最初の前記読み出しコマンドまたは前記書き込みコマンドの供給時に、前記第1デコーダの前記ラッチの入力を許可し、前記アクティブコマンドの後の2番目およびそれ以降の前記読み出しコマンドまたは前記書き込みコマンドの供給時に、前記第1デコーダの前記ラッチの入力を禁止する活性化制御回路とを備えていることを特徴とする半導体メモリ。 - 請求項1記載の半導体メモリにおいて、
前記リフレッシュ要求を所定の間隔で発生するリフレッシュ発生回路と、
前記リフレッシュ要求を保持するバッファと、
前記メモリ動作が実行されていないときに、前記バッファに保持された前記リフレッシュ要求に基づいて前記リフレッシュ動作を実行するリフレッシュ制御回路とを備えていることを特徴とする半導体メモリ。 - 請求項6記載の半導体メモリにおいて、
前記リフレッシュ要求を交互に保持する複数の前記バッファを備えていることを特徴とする半導体メモリ。 - メインワード線と、前記メインワード線から分岐し前記メモリセルの選択スイッチに接続された複数のサブワード線と、行アドレス信号と内部で生成されるリフレッシュアドレス信号の一部のビットとのいずれかを選択し、内部行アドレス信号として出力する第1アドレスセレクタと、列アドレス信号と前記リフレッシュアドレス信号の残りのビットとのいずれかを選択し、内部列アドレス信号として出力する第2アドレスセレクタとを備え、複数のコマンドを順次受け、これ等コマンドの組み合わせに応じて、揮発性のメモリセルにデータを読み書きするメモリ動作を実行する半導体メモリの制御方法であって、
読み出し動作および書き込み動作時に、
前記メインワード線を、最初の前記コマンドであるアクティブコマンドとともに供給される前記行アドレス信号に対応する前記内部行アドレス信号に応じて活性化し、
前記サブワード線を、前記アクティブコマンドの後に供給される読み出しコマンドまたは書き込みコマンドとともに供給される前記列アドレス信号に対応する前記内部列アドレス信号に応じて活性化し、
前記メモリセルに保持されているデータをリフレッシュ要求に応答して再書き込みするリフレッシュ動作時に、
前記メインワード線を、前記リフレッシュアドレス信号の一部のビットに対応する前記内部行アドレス信号に応じて活性化し、前記サブワード線を、前記リフレッシュアドレス信号の残りのビットに対応する前記内部列アドレス信号に応じて、前記メインワード線とともに活性化することを特徴とする半導体メモリの制御方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001254830A JP5034149B2 (ja) | 2000-10-05 | 2001-08-24 | 半導体メモリおよびその制御方法 |
KR1020010061445A KR100799946B1 (ko) | 2000-10-05 | 2001-10-05 | 반도체 메모리 및 그 제어 방법 |
US09/970,657 US6667933B2 (en) | 2000-10-05 | 2001-10-05 | Semiconductor memory and method of operating the same |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000-306539 | 2000-10-05 | ||
JP2000306539 | 2000-10-05 | ||
JP2000306539 | 2000-10-05 | ||
JP2001254830A JP5034149B2 (ja) | 2000-10-05 | 2001-08-24 | 半導体メモリおよびその制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002184182A JP2002184182A (ja) | 2002-06-28 |
JP5034149B2 true JP5034149B2 (ja) | 2012-09-26 |
Family
ID=26601630
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001254830A Expired - Fee Related JP5034149B2 (ja) | 2000-10-05 | 2001-08-24 | 半導体メモリおよびその制御方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6667933B2 (ja) |
JP (1) | JP5034149B2 (ja) |
KR (1) | KR100799946B1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100510505B1 (ko) * | 2002-12-23 | 2005-08-26 | 삼성전자주식회사 | 외부 리프레쉬 명령없이 리프레쉬 동작을 수행하는 반도체메모리장치 및 이의 리프레쉬 제어방법 |
KR100575880B1 (ko) * | 2003-09-17 | 2006-05-03 | 주식회사 하이닉스반도체 | 메모리 장치의 tRAS 시간 조절 장치 |
KR100593145B1 (ko) * | 2003-12-30 | 2006-06-26 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 메모리 소자의 메인 로우 디코더 |
JP4425911B2 (ja) * | 2004-03-11 | 2010-03-03 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | 半導体メモリおよび半導体メモリの動作方法 |
KR100535814B1 (ko) | 2004-05-31 | 2005-12-09 | 삼성전자주식회사 | 서브워드라인 드라이버의 안정된 부스팅 마진을 얻을 수있는 워드라인 제어신호 발생회로, 워드라인 제어신호발생방법, 및 그것을 구비한 반도체 메모리 장치 |
WO2006013632A1 (ja) * | 2004-08-05 | 2006-02-09 | Fujitsu Limited | 半導体メモリ |
US7215597B2 (en) * | 2005-01-28 | 2007-05-08 | Infineon Technologies Ag | Memory device having components for transmitting and receiving signals synchronously |
JP4769548B2 (ja) | 2005-11-04 | 2011-09-07 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 半導体記憶装置 |
KR20080029573A (ko) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 메모리 장치 |
WO2009150844A1 (ja) * | 2008-06-12 | 2009-12-17 | パナソニック株式会社 | 半導体記憶装置、半導体装置、および光ディスク再生装置 |
JP5264465B2 (ja) * | 2008-12-19 | 2013-08-14 | スパンション エルエルシー | 不揮発性メモリ装置及び不揮発性メモリ装置のアドレス指定方法 |
JP5752686B2 (ja) | 2009-08-20 | 2015-07-22 | ラムバス・インコーポレーテッド | 原子メモリ装置 |
CN102812518B (zh) * | 2010-01-28 | 2015-10-21 | 惠普发展公司,有限责任合伙企业 | 存储器存取方法和装置 |
JP2012168998A (ja) * | 2011-02-10 | 2012-09-06 | Elpida Memory Inc | 半導体記憶装置 |
KR20180058478A (ko) * | 2016-11-24 | 2018-06-01 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치, 이를 포함하는 반도체 시스템 및 반도체 장치의 리드 및 라이트 동작 방법 |
US10210923B2 (en) * | 2017-07-12 | 2019-02-19 | International Business Machines Corporation | Activation of memory core circuits in an integrated circuit |
US10332582B2 (en) * | 2017-08-02 | 2019-06-25 | Qualcomm Incorporated | Partial refresh technique to save memory refresh power |
US11646066B2 (en) * | 2019-12-16 | 2023-05-09 | Etron Technology, Inc. | Memory controller and related memory |
US11250894B2 (en) * | 2020-01-21 | 2022-02-15 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Memory device for supporting new command input scheme and method of operating the same |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR0171930B1 (ko) * | 1993-12-15 | 1999-03-30 | 모리시다 요이치 | 반도체 메모리, 동화기억 메모리, 동화기억장치, 동화표시장치, 정지화기억 메모리 및 전자노트 |
JP3351595B2 (ja) * | 1993-12-22 | 2002-11-25 | 株式会社日立製作所 | 半導体メモリ装置 |
US5808945A (en) * | 1996-02-21 | 1998-09-15 | Sony Corporation | Semiconductor memory having redundant memory array |
TW378330B (en) * | 1997-06-03 | 2000-01-01 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory device |
JPH1166841A (ja) * | 1997-08-22 | 1999-03-09 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
KR100316713B1 (ko) * | 1999-06-26 | 2001-12-12 | 윤종용 | 반도체 메모리 장치 및 이에 적합한 구동신호 발생기 |
JP4769548B2 (ja) * | 2005-11-04 | 2011-09-07 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 半導体記憶装置 |
-
2001
- 2001-08-24 JP JP2001254830A patent/JP5034149B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-05 KR KR1020010061445A patent/KR100799946B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-10-05 US US09/970,657 patent/US6667933B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20020027270A (ko) | 2002-04-13 |
US20020041536A1 (en) | 2002-04-11 |
KR100799946B1 (ko) | 2008-02-01 |
US6667933B2 (en) | 2003-12-23 |
JP2002184182A (ja) | 2002-06-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5034149B2 (ja) | 半導体メモリおよびその制御方法 | |
US6826104B2 (en) | Synchronous semiconductor memory | |
KR100768729B1 (ko) | 클록 동기형 다이나믹 메모리 및 클록 동기형 집적 회로 | |
US6240039B1 (en) | Semiconductor memory device and driving signal generator therefor | |
US7164615B2 (en) | Semiconductor memory device performing auto refresh in the self refresh mode | |
US8503250B2 (en) | High speed DRAM architecture with uniform access latency | |
JP4000206B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
US7113446B2 (en) | Latch circuit and synchronous memory including the same | |
US8625364B2 (en) | Semiconductor memory devices and systems including data output circuits to output stored data during first output mode and output programmed data pattern during second output mode | |
US5696729A (en) | Power reducing circuit for synchronous semiconductor device | |
US6081468A (en) | Semiconductor device | |
US10573371B2 (en) | Systems and methods for controlling data strobe signals during read operations | |
US6879540B2 (en) | Synchronous semiconductor memory device having dynamic memory cells and operating method thereof | |
JP3689229B2 (ja) | 半導体メモリ装置のカラム選択ラインイネーブル回路 | |
US11037616B2 (en) | Apparatuses and methods for refresh operations in semiconductor memories | |
US6862244B2 (en) | DRAM with segmental cell arrays and method of accessing same | |
JPH09167499A (ja) | 半導体記憶装置 | |
US20010030900A1 (en) | Synchronous semiconductor memory | |
JP4060527B2 (ja) | クロック同期型ダイナミックメモリ | |
JP2000156078A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH11306753A (ja) | 半導体記憶装置 | |
KR20000045409A (ko) | 반도체 메모리장치 및 이의 센싱전류 감소방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080704 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20080730 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101116 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111004 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120605 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120618 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150713 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |