JP5030604B2 - ウェハ外観検査装置 - Google Patents
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Description
12 酸化膜領域
121 膜厚測定ポイント
13 酸化膜領域
131 膜厚測定ポイント
A 領域A
a 領域Aにおける代表チップ
B 領域B
b 領域Bにおける代表チップ
C 領域C
c 領域Cにおける代表チップ
D 領域D
d 領域Dにおける代表チップ
a12 代表チップaの酸化膜領域12における酸化膜厚
A12 領域Aにおける酸化膜領域12の検査しきい値
a13 代表チップaの酸化膜領域13における酸化膜厚
A13 領域Aにおける酸化膜領域13の検査しきい値
b12 代表チップbの酸化膜領域12における酸化膜厚
B12 領域Bにおける酸化膜領域12の検査しきい値
b13 代表チップbの酸化膜領域13における酸化膜厚
B13 領域Bにおける酸化膜領域13の検査しきい値
c12 代表チップcの酸化膜領域12における酸化膜厚
C12 領域Cにおける酸化膜領域12の検査しきい値
c13 代表チップcの酸化膜領域13における酸化膜厚
C13 領域Cにおける酸化膜領域13の検査しきい値
d12 代表チップdの酸化膜領域12における酸化膜厚
D12 領域Dにおける酸化膜領域12の検査しきい値
d13 代表チップdの酸化膜領域13における酸化膜厚
D13 領域Dにおける酸化膜領域13の検査しきい値
20 撮像部
21 照明部
30 膜厚測定部
31 測定光出射部
32 反射光受光部
40 ウエハステージ
50 制御部
60 ウェハ
Claims (3)
- ウェハ内の特定の場所におけるシリコン上のシリコン酸化膜の膜厚を測定する手段と、前記シリコン酸化膜の膜厚を記憶する手段と、パターン比較検査における濃淡画像の階調値に対する検査しきい値と前記シリコン酸化膜の膜厚との関係を演算する演算手段を有する、基準画像データを用いて検査対象物の良否判定を行う、パターン付き半導体ウェハの外観検査装置において、前記ウェハ内に区分けされた複数の領域ごとに設定された特定の場所における前記シリコン上のシリコン酸化膜の膜厚を測定することにより、前記領域内の各チップに対するパターン比較検査における前記濃淡画像の階調値に対する検査しきい値の上限および下限を自動計算し決定することを特徴とするパターン付き半導体ウェハの外観検査装置。
- ウェハ内の特定の場所におけるシリコンあるいはシリコン酸化膜上のシリコン窒化膜の膜厚を測定する手段と、前記シリコン窒化膜の膜厚を記憶する手段と、パターン比較検査における濃淡画像の階調値に対する検査しきい値と前記シリコン窒化膜の膜厚との関係を演算する演算手段を有する、基準画像データを用いて検査対象物の良否判定を行う、パターン付き半導体ウェハの外観検査装置において、前記ウェハ内に区分けされた複数の領域ごとに設定された特定の場所における前記シリコンあるいはシリコン酸化膜上のシリコン窒化膜の膜厚を測定することにより、前記領域内の各チップに対するパターン比較検査における前記濃淡画像の階調値に対する検査しきい値の上限および下限を自動計算し決定することを特徴とするパターン付き半導体ウェハの外観検査装置。
- ウェハ内の特定の場所におけるシリコン酸化膜上のポリシリコンの膜厚を測定する手段と、前記ポリシリコンの膜厚を記憶する手段と、パターン比較検査における濃淡画像の階調値に対する検査しきい値と前記ポリシリコンの膜厚との関係を演算する演算手段を有する、基準画像データを用いて検査対象物の良否判定を行う、パターン付き半導体ウェハの自動外観検査装置において、前記ウェハ内に区分けされた複数の領域ごとに設定された特定の場所における前記シリコン酸化膜上のポリシリコンの膜厚を測定することにより、前記領域内の各チップに対するパターン比較検査における前記濃淡画像の階調値に対する検査しきい値の上限および下限を自動計算し決定することを特徴とするパターン付き半導体ウェハの外観検査装置。
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