JP5014392B2 - 四分の一波長板を有する光学製品およびその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、特に、高屈折率（ｎ_D ²⁵＝１．５以上、好ましくは１．５５以上）の合成樹脂またはミネラルガラス製の透明基材と、少なくとも一つの耐擦傷性塗膜または下塗層および耐擦傷性塗膜等の透明基材と、前記基材と前記透明塗膜との間に挿入された四分の一波長板層とを有する、光学製品、例えば、眼用レンズに関する。

従来、耐衝撃性、耐擦傷性、反射防止性等の種々の有利な特性を製品に与えるために、１以上の塗膜が、眼用レンズ等の合成樹脂またはミネラルガラス製の透明基材の主面上に形成されている。

したがって、一般に、基材の少なくとも一方の面には、耐擦傷性層が、直接に、または、一般にレンズの耐衝撃性を改良する層であり、耐擦傷性層が塗布されてもよい下塗層とともに、塗布される。下塗層は、基材の面上のそのような耐擦傷性層のアンカリングを改良する。最後に、前記耐擦傷性層に耐反射塗膜が塗布されてもよい。

一般に、基材と耐擦傷性層または下塗層とは、異なる屈折率を有し、その結果、基材と耐擦傷性層または下塗層との間の界面でのそのような屈折率の差異のため、干渉縞が発生する。

特許文献１には、高屈折率（≧１．５５）の合成樹脂製の基材を有するレンズであって、その一方の面に、屈折率が基材のとは異なる誘電体の耐擦傷性層が塗布され、基材と耐擦傷性層との間の界面での反射を抑制するために、基材と耐擦傷性層との間に塗布される、少なくとも一つの誘電体または金属物質の耐反射層を有するレンズが記載されている。

前記耐擦傷性層は、ＳｉＯ₂の層である。

挿入された耐反射層は、四分の一波長板であり、ＳｉＯ₂ と酸化アルミニウムとが混合された単層、または、ＳｉＯ₂ の１層とＺｒＯ₂ 、ＨｆＯ₂ 、Ｔｉ₂Ｏ₃ 、ＴｉＯ₂ 、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｓｉ₃Ｎ₄ 、Ｙｂ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃ およびＡｌ₂Ｏ₃の中から選ばれる物質からなる第２層との２層により構成される。

そのような耐反射層および耐擦傷性層は、真空蒸着により得られる。

現在、耐擦傷性下塗および塗膜層を形成させるために、ワニスが用いられる。即ち、金属酸化物層および／または酸化ケイ素層のような、本質的にミネラルの性質を有する層とは異なって、主に有機物質である組成物である。

更に、工業的な眼用レンズの製造工程においては、そのようなワニス層の塗布は、ワニス溶液または分散液の浴に浸せきさせ、または、基材の一方の面に遠心力でワニス溶液または分散液を被覆させることにより、行われる。

仮に、ワニスと有機ガラス基材の屈折率が一致しないとすると、即ち、仮に、屈折率が有意に異なるとすると、干渉縞現象がまた、基材とワニスとの間の界面で現れる。

米国特許第４，６０９，２６７号明細書

したがって、本発明の目的は、有機またはミネラルガラス基材と、少なくとも一つの、例えば、下塗層または耐擦傷性塗膜層等の透明高分子物質層とを有し、基材と高分子物質層との屈折率の差異に関連し、基材と高分子物質層との間の界面で起こる干渉縞現象が有意に抑制されている、眼用レンズ等の光学製品を提供することである。本発明の別の目的は、経時的に、特に、光分解に対して安定である、光学製品を提供することである。

本発明の更に別の目的は、従来の製造方法の中に容易に組み入れることができ、特に、真空塗布またはその他の処理工程が、光学製品の製造方法において中断となるのを可能な限り防止する、後に規定するような光学製品の製造方法を提供することである。

上述した目的は、有機またはミネラルガラス基材と、光学的に透明な高分子物質層とを有する、本発明の光学製品、例えば、眼用レンズ、特に、眼鏡用レンズにより達成される。本発明は、基材の一方の面に直接接触する少なくとも一つの中間層と、高分子物質層とを有し、中間層が少なくとも一つのコロイド状ミネラル酸化物の粒子と、任意にバインダとを有し、中間層が初期空隙を有し、中間層の初期空隙が高分子物質層からの物質または基材が有機ガラスである場合には基材の物質で充填され、バインダが存在する場合には部分的にバインダで充填されてもよく、中間層が初期空隙の充填の後に、４００〜７００ｎｍ、好ましくは４５０〜６５０ｎｍの範囲の波長で、それぞれ四分の一波長板となることを特徴とする。

本発明は、上記で規定したような光学製品を製造する方法であって、
ａ）透明支持体の少なくとも一つの主面の上に、任意にバインダを含有していてもよい少なくとも一つのコロイド状ミネラル酸化物のゾルの浸せき塗布または遠心法およびゾルの乾燥により、初期空隙を有する少なくとも一つの中間層を形成させる工程と、
ｂ）そのような中間層を、光学的に透明な高分子物質層または有機ガラス基材の上に形成させる工程とを有し、
中間層の初期空隙が前記層の高分子物質または工程ｂ）で形成された基材物質で充填されており、かつ、部分的に中間層のバインダで充填されていてもよく、それにより、中間層が初期空隙の充填の後に、波長４００〜７００ｎｍ、好ましくは４５０〜６５０ｎｍの範囲で、四分の一波長板となる方法にも関する。

図１は、本発明の四分の一波長板を有する光学製品の実施態様の概略図である。 図２は、本発明の四分の一波長板を有する光学製品の他の実施態様の概略図である。 図３は、本発明の四分の一波長板を有する光学製品の更に他の実施態様の概略図である。 図４は、本発明の二つの四分の一波長板を有する光学製品の実施態様の概略図である。 図５は、本発明の光学製品の製造方法のフローチャートである。 図６は、本発明の光学製品の製造方法の第一の実行の概略図である。 図７は、本発明の光学製品の製造方法の第二の実行の概略図である。 図８は、本発明の光学製品、および、比較を目的とする、四分の一波長中間層を有しない同様の光学製品の波長の目的である反射率のグラフである。 図９は、本発明の光学製品、および、比較を目的とする、四分の一波長中間層を有しない同様の光学製品の波長の目的である反射率のグラフである。 図１０は、本発明の光学製品、および、比較を目的とする、四分の一波長中間層を有しない同様の光学製品の波長の目的である反射率のグラフである。 図１１は、本発明の光学製品、および、比較を目的とする、四分の一波長中間層を有しない同様の光学製品の波長の目的である反射率のグラフである。 図１２は、本発明の光学製品、および、比較を目的とする、四分の一波長中間層を有しない同様の光学製品の波長の目的である反射率のグラフである。 図１３は、本発明の光学製品、および、比較を目的とする、四分の一波長中間層を有しない同様の光学製品の波長の目的である反射率のグラフである。 図１４は、本発明の光学製品、および、比較を目的とする、四分の一波長中間層を有しない同様の光学製品の波長の目的である反射率のグラフである。 図１５は、本発明の光学製品、および、比較を目的とする、四分の一波長中間層を有しない同様の光学製品の波長の目的である反射率のグラフである。 図１６は、本発明の光学製品、および、比較を目的とする、四分の一波長中間層を有しない同様の光学製品の波長の目的である反射率のグラフである。 図１７は、本発明の光学製品、および、比較を目的とする、四分の一波長中間層を有しない同様の光学製品の波長の目的である反射率のグラフである。 図１８は、本発明の光学製品、および、比較を目的とする、四分の一波長中間層を有しない同様の光学製品の波長の目的である反射率のグラフである。 図１９は、本発明の光学製品の透過型電子顕微鏡写真である。

一般に、中間層の初期空隙は、バインダが存在しない場合において、中間層の全体積に対して、体積で少なくとも４０％の割合を占める。

好ましくは、空隙率は、中間層にバインダが存在しない場合において、体積で少なくとも５０％の割合を占める。

中間層がバインダを有する場合、そのような層の実際の空隙、即ち、バインダに占められた体積を考慮した、上述した層の高分子物質により充填される前の空隙は、中間層の全体積に対して、体積で好ましくは２５％、より好ましくは３０％である。

中間層が上に設けられる支持体は、有機またはミネラル基材で形成されていてもよく、好ましくは、あらかじめ形成された光学レンズのような、有機ガラスであり、また、有機またはミネラルガラス基材に適用されまたは移送されるように設計された光学的に透明な高分子物質層となる、少なくとも一つの塗膜を有する成形部分の主成形面であってもよい。

後者の場合においては、基材が有機ガラス製の場合は、モールド中の液状重合性組成物のキャストトランスファーおよび重合によりその場で成形され、その後、基材により、ミネラル酸化物中間層において空隙が確実に充填される。

充填高分子物質層は、２０ｍＪ／ｍ² 以上、好ましくは２５ｍＪ／ｍ² 以上、より好ましくは３０ｍＪ／ｍ² 以上の表面力エネルギーを有する。

表面力エネルギーは、”Ｅｓｔｉｍａｔｉｏｎ ｏｆ ｔｈｅ ｓｕｒｆａｃｅ ｆｏｒｃｅ ｅｎｅｒｇｙ ｏｆ ｐｏｌｙｍｅｒｓ” Ｏｗｅｎｓ Ｄ．Ｋ．，Ｗｅｎｄｔ Ｒ．Ｇ．（１９６９），Ｊ．ＡＰＰＬ．ＰＯＬＹＭ．ＳＣＩ，１３，１７４１−１７４７に記載されているＯｗｅｎｓ−Ｗｅｎｄｔ法に従って計算される。

充填高分子物質を導く組成物は、本質的に一つの（またはそれより多い）非フッ素化合物を有する。

好ましくは、充填高分子物質を導く組成物は、前記組成物の乾燥抽出物（１）を形成する化合物の全重量に対して、少なくとも８０％の非フッ素化合物を有する。より好ましくは重量で少なくとも９０％、最も好ましくは重量で少なくとも９５％、更により好ましくは重量で１００％である。

典型的には、充填高分子物質におけるフッ素量（重量）は、重量で５％未満、好ましくは重量で１％未満、より好ましくは重量で０％である。

四分の一波長板（充填後）の空隙は、好ましくは５％未満、より好ましくは３％未満、最も好ましくは０％である。

充填後、充填物質は、基材表面に接触し（充填物質が基材のものでなく、下塗層または耐摩耗層等の他の層のものである場合）、四分の一波長板の基材への接着を得ることを可能とする。

本発明においては、乾燥抽出物は、１００℃で１５分間加熱した後に残存している固形物の重量分を意味する。

中間層空隙の充填を確実にする高分子物質層が基材を構成しない場合、そのような層は、一般に、浸せき塗布または遠心法により、好ましくは遠心法により、形成される。

開示の残りは、添付の図面に言及する。

四分の一波長板の光学的または幾何学的特性は、下記関係により与えられる。

ｎ＝（ｎ_s×ｎ_v ）^1/2
ｎ．ｅ＝λ／４

ここで、ｎは、四分の一波長板の２５℃における波長λ＝５５０ｎｍに対する屈折率（眼の極大の感受性に相当する波長）であり、
ｎ_sは、基材の２５℃における波長λ＝５５０ｎｍに対する屈折率であり、
ｎ_vは、四分の一波長板に直接接触している高分子物質層の２５℃における波長λ＝５５０ｎｍに対する屈折率である。

換言すると、四分の一波長板の屈折率ｎは、それを取り巻く物質の屈折率の幾何学的平均である。

図１において、光学的に透明な基材１、例えば、有機ガラスを有する、本発明の光学製品の概略が図示されている。基材１の主面の一つは、バインダなしで、体積で少なくとも４０％の空隙と適当な厚さとを有する、少なくとも一つのコロイド状ミネラル酸化物の層を塗布されている。耐擦傷性塗布層３は、コロイド状ミネラル酸化物の層で形成されており、それにより、コロイド状ミネラル酸化物の層の初期空隙、またはバインダが存在する場合は現実の空隙が充填され、四分の一波長板２が達成されている。

図２は、耐衝撃性下塗層４がコロイド状ミネラル酸化物層と耐擦傷性塗布層３との間に挿入されている点で、図１の光学製品と異なる光学製品を概略的に図示している。その場合、酸化物層の初期または現実の空隙は、明らかに四分の一波長板２を形成する下塗層物質により充填されている。

基材の屈折率ｎ_sおよび耐擦傷性層または下塗層の屈折率ｎ_v（例えば、２５℃、λ＝５５０ｎｍで）が分かれば、後述する式により、原理的に四分の一波長板の厚さｅと屈折率ｎとを決定することができる。

このようにして、下記第１表に、種々の基材と耐擦傷性層または下塗層との組み合わせに対する四分の一波長板の厚さおよび屈折率特性が示される。

図３は、図２と同様の本発明の光学製品であるが、耐擦傷性塗膜３の上に形成された耐反射塗膜５を付加的に有している。

図４は、図１と同様の本発明の光学製品であるが、二つの四分の一波長中間層２ａ、２ｂを有している。極めて明らであるが、そのような積層された二つの中間層は、図２および図３に示されている光学製品にも作ることができる。

本発明の製品のために適した基材は、ミネラルまたは有機ガラス製、好ましくは有機ガラス製の光学的に透明な基材のいかなるものであってもよい。

そのような基材に適切なプラスチック物質としては、カーボネート、（メタ）アクリル、チオ（メタ）アクリル、ＰＰＧにより市販されている物質ＣＲ３９^(R) 等のジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ウレタン、チオウレタン、エポキシド、エピスルフィドおよびこれらの組み合わせの単独または共重合体が含まれる。

基材として好ましい物質は、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリウレタン、（メタ）アクリルおよびチオ（メタ）アクリルポリマーである。

一般に、基材は、１．５５から１．８０、好ましくは１．６０から１．７５の範囲の屈折率ｎ_D ²⁵を有する。

中間層２または２ａ、２ｂは、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、ＳｎＯ₂ 、Ｓｂ₂Ｏ₃ 、Ｙ₂Ｏ₃ 、Ｔａ₂Ｏ₅ およびこれらの組み合わせの中から一般に選ばれるコロイド状ミネラル酸化物を少なくとも有する。

好ましいコロイド状シリカは、ストーバ法により調製されるシリカである。ストーバ法は、単純でよく知られた方法であり、アンモニアを触媒とする、エタノール中でのテトラエチルシリケート（Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅ ）₄ 、即ち、ＴＥＯＳ）の加水分解および濃縮を含む。この方法により、エタノール中で直接に、ある程度、単分散粒子群であるシリカを得ることができ、シリカは粒径を制御可能であり、粒子表面は（ＳｉＯ^- ＮＨ₄ ⁺ ）である。

コロイド状ミネラル酸化物の混合物の場合、混合物が、少なくとも一つの屈折率が高い、即ち、ｎ_D ²⁵≧１．５４である酸化物と、少なくとも一つの屈折率が低い、即ち、ｎ_D ²⁵＜１．５４である酸化物とを有するのが好ましい。好ましくは、ミネラル酸化物混合物は、２種混合物であり、特に、屈折率が低い酸化物と屈折率が高い酸化物との２種混合物である。一般に、屈折率が低い酸化物／屈折率が高い酸化物の重量比の範囲は、２０／８０から８０／２０、好ましくは３０／７０から７０／３０、より好ましくは４０／６０から６０／４０である。

ミネラル酸化物の粒径の範囲は、一般に、１０から８０ｎｍ、より好ましくは３０から８０ｎｍ、最も好ましくは３０から６０ｎｍである。

特に、ミネラル酸化物は、小さい粒子、即ち、１０から１５ｎｍの範囲と、大きい粒子、即ち、３０から８０ｎｍの混合物で構成されていてもよい。

典型的には、コロイド状ミネラル酸化物の層２または中間層２ａ、２ｂのそれぞれは、６０から１００ｎｍ、好ましくは７０から９０ｎｍ、より好ましくは８０から９０ｎｍの範囲の厚さを有する。ただし、物質が干渉縞が抑制された最適な結果のために光学製品に用いられることを考慮すると、そのような厚さは、四分の一波長板の理論的な厚さにできるだけ近い方がよい。

コロイド状ミネラル酸化物層は、任意に、高分子物質層により充填される前において、例えば、ミネラル酸化物の層の乾燥重量に対して、重量で１から３０％の少なくとも一つのバインダを有する。好ましくは重量で１０から２５％であり、より好ましくは１０から２０％である。

バインダは、一般に、最終の四分の一波長板の光学特性を損なわせず、かつ、基材表面上のミネラル酸化物粒子の密着および粘着を増加させる高分子物質である。

バインダは、一般に、後述する耐衝撃性下塗組成物と同様の物質である。

好ましいバインダは、ポリウレタンラテックスおよび（メタ）アクリルラテックスであり、より好ましくはポリウレタンラテックスである。

上記で示したように、コロイド状ミネラル酸化物の中間層またはそのそれぞれは、バインダがなく、かつ、下塗または耐擦傷性層の高分子物質により充填される前において、層の全体積に対して、少なくとも体積で４０％、好ましくは体積で５０％のオーダーの空隙率を有する。

下塗層がある場合は、光学分野、特に、眼の分野で従来用いられているどのような下塗層であってもよい。

典型的には、そのような下塗、特に、耐衝撃性下塗は、（メタ）アクリルポリマー、ポリウレタン、ポリエステルに基づく塗膜、または、エポキシ／（メタ）アクリレート共重合体に基づく塗膜である。

（メタ）アクリルポリマーに基づく耐衝撃性塗膜は、中でも、米国特許第５，０１５，５２３号明細書および同５，６１９，２８８号明細書に開示されているが、熱可塑性および架橋ポリウレタン樹脂に基づく塗膜は、中でも、特開昭６３−１４１００１号公報および特開昭６３−８７２２３号公報、欧州特許第０４０，４１１号明細書ならびに米国特許第５，３１６，７９１号明細書に開示されている。

特に、本発明による耐衝撃性下塗塗膜は、ポリ（メタ）アクリルラテックスから製造されていてもよく、例えば、仏国特許出願第２，７９０，３１７号明細書に開示されている、ポリウレタンラテックスまたはポリエステルラテックスから製造されるもののようなコア−シェル型を含む。

特に好ましい耐衝撃性下塗塗膜組成物としては、商品名Ａ−６３９の下でゼネカ（Ｚｅｎｅｃａ）から市販されているアクリルラテックス、ならびに、商品名Ｗ−２４０およびＷ−２３４の下でバクセンデン（Ｂａｘｅｎｄｅｎ）から市販されているポリウレタンラテックスが挙げられる。

ラテックスは、好ましくは、粒径が≦５０ｎｍであるものから選ばれ、より好ましくは≦２０ｎｍである。

一般に、硬化後、耐衝撃性下塗層は、０．０５から２０μｍ、好ましくは０．５から１０μｍ、より好ましくは０．６から６μｍの厚さを有する。最適な厚さの範囲は、一般に、０．５から２μｍである。

耐擦傷性塗膜は、光学分野、特に、眼の分野で従来用いられているどのような耐擦傷性塗膜であってもよい。

当然のことながら、耐擦傷性塗膜は、完成した光学製品の耐擦傷性を、耐擦傷性塗膜を有しない同様の製品に比べて、向上させる塗膜である。

好ましい耐擦傷性塗膜は、１以上のアルコキシシラン（好ましくは１以上のエポキシアルコキシシラン）またはその加水分解物を含有する組成物の硬化により得られるものであり、好ましくは、コロイド状酸化物充填剤等のミネラルコロイド状充填剤である。

特定の態様によれば、好ましい耐擦傷性塗膜は、１以上のエポキシアルコキシシランまたはその加水分解物と、シリカと、硬化触媒とを含有する組成物の硬化により得られるものである。そのような組成物の例は、国際公開第９４／１０２３０号パンフレット、米国特許第４，２１１，８２３号および同第５，０１５，５２３号明細書、ならびに、欧州特許第６１４，９５７号明細書に開示されている。

特に好ましい耐擦傷性塗膜組成物は、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＬＹＭＯ）等のエポキシアルコキシシランと、例えば、ジメチルジエトキシシラン（ＤＭＤＥＳ）等のジアルキルジアルコキシシランと、コロイド状シリカと、アルミニウムアセチルアセトネート等の硬化触媒の触媒量、または、これらの成分の加水分解物を、主成分として含有し、組成物の平衡は、そのような組成物を形成するために従来用いられている溶媒と、任意に用いられる１以上の界面活性剤との中で、実質的に構成される。

耐擦傷性塗膜の接着性を改善するために、特に、塗布された基材がインモールド金型鋳造またはＩＭＣを用いて製造された場合には、耐擦傷性塗膜組成物は、任意に、効果的な量のカップリング剤を含有してもよい。

そのようなカップリング剤は、典型的には、エポキシアルコキシシランと、好ましくは末端エチレン二重結合を有する、不飽和アルコキシシランとのあらかじめ濃縮された溶液である。

エポキシアルコキシシランの例としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルペンタメチルジシロキサン、γ−グリシドキシプロピルメチルジイソプロペノキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジメトキシエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジイソプロピルエトキシシランおよび（γ−グリシドキシプロピル）ビス（トリメチルシロキシ）メチルシランが挙げられる。

好ましいエポキシアルコキシシランは、（γ−グリシドキシプロピル）トリメトキシシランである。

不飽和アルコキシシランは、ビニルシラン、アリルシラン、アクリルまたはメタクリルシランであってもよい。

ビニルシランの例としては、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリス−イソブトキシシラン、ビニルトリス−ｔ−ブトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニル−ビス（トリメチルシロキシ）シランおよびビニルジメトキシシランが挙げられる。

アリルシランの例としては、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシランおよびアリルトリス（トリメチルシロキシ）シランが挙げられる。

アクリルシランの例としては、３−アクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルメチルビス（トリメチルシロキシ）シラン、３−アクリロキシプロピルジメチルメトキシシランおよびｎ−（３−アクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシランが挙げられる。

メタクリルシランの例としては、３−メタクリロキシプロピルトリス（ビニルジメトキシシロキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリス（メトキシエトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルペンタメチルジシロキサン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、３−メタクリロキシプロペニルトリメトキシシランおよび３−メタクリロキシプロピルビス（トリメチルシロキシ）メチルシランが挙げられる。

好ましいシランは、アクリロキシプロピルトリメトキシシランである。

典型的には、耐擦傷性塗膜組成物に導入されるカップリング剤の量は、組成物の総重量に対して、重量で０．１から１５％であり、好ましくは１から１０％である。

耐擦傷性塗膜の厚さの範囲は、硬化後において、通常、１から１５μｍであり、好ましくは２から６μｍである。

耐衝撃性下塗および耐擦傷性塗膜組成物は、熱および／または照射により硬化することができるが、好ましくは熱である。

極めて明らかに、上記で示したように、下塗層または耐擦傷性塗膜層の物質は、コロイド状ミネラル酸化物中間層の空隙まで貫通し、充填している。

後述するように、耐衝撃性下塗および耐擦傷性塗膜層は、好ましくは、浸せきまたは遠心法により形成される。したがって、そのような層を形成する組成物は、好ましくはゾル−ゲル組成物である。

本発明の光学製品は、任意に、耐擦傷性塗膜の上に形成された耐反射塗膜を有していてもよい。

耐反射塗膜は、光学分野、特に、眼の光学分野で従来用いられているどのような耐反射塗膜であってもよい。

例として、耐反射塗膜は、単層または複層のフィルムで、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃ 、ＭｇＦ₂ もしくはＴａ₂Ｏ₅ またはこれらの混合物等の誘電体により構成される。

したがって、レンズ−空気の界面で反射が発生するのを防止することができる。

そのような耐反射塗膜は、一般に、下記技術の一つに従う真空塗布により設けられる。
−任意にイオンビームを用いる、蒸着
−イオンビームによる蒸発
−スパッタリング
−気相でのプラズマに補助された化学塗布

真空塗布に加え、（例えば、テトラエトキシシラン加水分解物からの）ゾル−ゲル法によりミネラル層を設けることについても熟考することができる。

フィルムが単層のみを有する場合、その光学厚さは、λ／４（λは４５０から６５０ｎｍの範囲の波長）に等しいのが好ましい。

３層を有する複層フィルムの場合、λ／４、λ／２、λ／４またはλ／４、λ／４、λ／４のそれぞれの各光学厚さに相当して、組み合わせを用いることができる。

更に、上記３層の部分である層のいくつかの代わりに、より多い層により形成された等価のフィルムを用いることができる。

図５は、本発明の光学製品の製造方法の主工程のブロック図である。

有機またはミネラルガラス製の未被覆の基材、例えば、眼用レンズの表面が、まず、加熱下、例えば、５０℃で（３分間）、５％ソーダ溶液に浸せきされて処理され、その後、水およびアルコールにより洗浄される。

ついで、コロイド状ミネラル酸化物ゾルへの浸せきまたはゾル遠心分離法、好ましくは浸せき塗布が行われ、基材の処理表面をコロイド状ミネラル酸化物層で被覆する。

浸せき塗布の場合、塗布厚さは、ゾル固形分量、粒径および不濡れ率（Ｌａｎｄａｕ−Ｌｅｖｉｃｈ則）に依存する。したがって、ゾル組成物、粒径、基材および下塗または耐擦傷性塗膜の屈折率を知ることにより、コロイド状ミネラル酸化物層の所望の厚さおよび所望の厚さを得るための不濡れ率を決定することができる。

塗布された層が乾燥した後、空隙を有するコロイド状ミネラル酸化物層が、所望の厚さで得られる。層の空隙率は、重要な因子であり、バインダが存在しない場合、少なくとも体積で４０％、好ましくは少なくとも体積で５０％であるのが好ましく、また、バインダが存在する場合、少なくとも体積で２５％、好ましくは少なくとも体積で３０％であるのが好ましい。層の空隙率は、偏光解析法により測定された層の屈折率から算出することができる。

塗布後の層の乾燥は、２０から１３０℃、好ましくは２０℃から１２０℃の範囲の温度で、行うことができる。

好ましくは、乾燥は、室温（２０−２５℃）で行われる。

バインダを有しない層の場合
空隙を有するコロイド状ミネラル酸化物層の空隙率は、以下のとおりである。
ｐ＝Ｖｐ／（Ｖｃ＋Ｖｐ）
ここで、Ｖｐは層中に含まれる空隙の体積であり、Ｖｃは層中のミネラル酸化物により占められる体積である。

層の空隙率ｐは、ここでは、バインダの存在しない空隙率と等しい。

空隙率ｐの値は、屈折率：
−（偏光解析法により測定される）空隙を有するミネラル層の屈折率ｎ、
−（種々の酸化物が用いられた場合の任意に混合される）ミネラル酸化物粒子の平均屈折率ｎ_c
および関係式：
ｎ² ＝ｐ＋ｎ_c ² （１−ｐ）
から求められる。ここで、空隙が空気で充填されていると仮定したときのｐは空隙の体積のフラクションであり、１−ｐはミネラル酸化物の体積のフラクションである。

屈折率は、２５℃において波長６３２ｎｍで決定される。

バインダを有する層の場合
層の空隙率ｐは、下記関係式から算出される。
（１）ｎ² ＝ｐ＋ｘ_cｎ_c ² ＋ｘ_lｎλ²
ここで、ｎは、空隙を有するミネラル酸化物層の屈折率であり、ｐは層の空隙率＝Ｖｐ／Ｖｔｏｔａｌであり、ｘ_cは層中のミネラル酸化物の体積のフラクションｘ_c＝Ｖｃ／Ｖｔｏｔａｌを表し、ｘ_lは層中のバインダの体積のフラクションｘ_l＝Ｖλ／Ｖｔｏｔａｌを表し、Ｖｐ、Ｖｃ、Ｖｌ、Ｖｔｏｔａｌは、それぞれ、空隙（空気）、ミネラル酸化物、バインダおよび層全体に占められる体積を表し、ｎ_cはミネラル酸化物粒子の平均屈折率であり、ｎｌはバインダの屈折率である。
（２）ｐ＋ｘ_l＋ｘ_c ＝１

ここで、ｄｃはミネラル酸化物の密度であり、ｄｌはバインダの密度であり、ｍ_lは層中のバインダの乾燥質量であり、ｍ_cは層中のミネラル酸化物の乾燥質量である。

バインダが存在しない場合の空隙率は、定義ｐ′＝ｐ＋ｘ_l、即ち、バインダ体積が空気で占められたとした場合の層の空隙率により定まる。

ｐおよびｐ′の値は、ｎを偏光解析法により測定することにより得られる。ここで、屈折率ｎ_cおよびｎ_l は、追加的に知られ、ｍλ／ｍ_c 比は、実験的に決定される。

種々の屈折率は、２５℃において波長６３２ｎｍで決定される。

第一の態様の方法においては、耐擦傷性塗膜物質は、今度は、浸せき塗布され（または遠心法により塗布され）、その後、例えば、オーブン中、７５℃で約２１０秒間乾燥され、最後に、１００℃で３時間、前硬化され、本発明の製品が得られる。

もう一方においては、空隙を有するミネラル酸化物層が形成された後、耐衝撃性下塗組成物が浸せき塗布され（または遠心法により塗布され）、ついで、例えば、オーブン中、８５℃で乾燥され、その後、上述したように耐擦傷性塗膜が設けられる。

最後に、任意に、耐反射塗膜を、耐擦傷性塗膜の上に、従来の方法で設けることができる。

図６は、予備成形品の上への移送による、本発明の四分の一波長板の製造の概略図である。

図６に示されるように、バインダを有するコロイド状ミネラル酸化物の中間層２が、好ましくは遠心法または浸せき塗布により、好ましくは有機ガラスにより形成された予備成形品１の上に形成される。

モールド表面６、好ましくは可撓性のあるモールドの上には、従来の耐反射塗膜層５、耐擦傷性塗膜層４および下塗層３がこの順に形成される。好ましくは、耐反射塗膜層５、耐擦傷性塗膜層４および下塗層３は、乾燥および／または硬化を少なくとも部分的に施される。

ついで、中間層２の上または下塗層３の表面の上のいずれか、好ましくは中間層２の上には、十分量の接着物質が塗布され、その後、中間層２を保持する予備成形品１が、モールド６に保持された全層３、４および５に対して圧着される。

接着剤が硬化した後、モールド６が除去され、本発明のレンズが得られる。

中間層２の空隙率は、ついで、高分子物質層を形成する接着剤７で、中間層２との直接の接触により、充填される。

その場合、接着剤層７は、積層３、４、５が、それ自体が基材１と結合している中間層２と接着するのを確実にする。

そのような接着剤７は、予備成形品１に保持されている中間層２の上に、遠心法もしくは浸せき塗布法により塗布し、もしくは、積層の最後の層の上に塗布し、または、中間層２を保持する予備成形品１と可撓性のあるモールド６により保持された積層との間に射出することもできる。

予備成形品１に保持されている中間層２の上への接着剤の塗布は、好ましい態様である。

好ましくは、接着剤７は、照射、例えば、ＵＶ照射により硬化することができる有機物質である。

接着剤７の粘度が高い場合は、それを加熱して粘度を抑制することにより、貫通、したがって、中間層２の最適な充填を可能とすることができる。加熱温度は、反射積層５の熱劣化を避けるためには高すぎないのが好ましい。

形成された四分の一波長板２は、特に、基材１と接着剤７を構成する物質との間の屈折率の差異が高い場合、干渉縞を防止する（最もよくある場合、高い屈折率を有するのは基材１であり、低い屈折率を有するのは接着剤７である。）。

形成された接着剤層７よりも高い隣接層４は、一般に、耐衝撃性下塗層である。

しかしながら、この場合、接着剤７を構成する物質の組成が、それ自身で耐衝撃性を有するように形成されるよう、考慮することができる。

そのような場合、接着剤７は、耐衝撃性下塗の役割も果たし、したがって、耐擦傷性塗膜層４に直接に隣接する。

そのような接着剤７は、米国特許第５，６１９，２８８号明細書に開示されている物質により作ることができる（ＵＶ硬化性アクリレート）。

図６においては、四分の一波長板２は、予備成形品の後ろから示されている。これは同様に表側から形成することができる。

しかしながら、表側については、四分の一波長板２は、好ましくは図５の関係で示される方法により形成される。

モールド６は、固くても、可撓性があってもよいが、好ましくは可撓性がある。

固いモールドの使用は、予備成形品の幾何学的表面に適合するように規定される幾何学的表面をそれぞれ有する、多数のモールドを必要とするため、推奨されない。

一方、可撓性のあるモールドが用いられる場合は、移送が行われる予備成形品の表面の幾何学的形状、即ち、凸または凹形状に、一般に適合する幾何学的形状の表面を有する単一のモールドが、十分なものである。

モールドは、いかなる適切な物質、特に、プラスチック物質、例えば、ポリカーボネートであってもよい。

可撓性のあるモールドは、典型的には、０．３から５ｍｍの範囲の厚さを有する。好ましくは、ポリカーボネートで形成され、０．５から１ｍｍの範囲の厚さを有する。

図７は、いわゆるＩＭＣ法を用いた、本発明の四分の一波長板の製造の概略図である。

光学レンズの製造に従来用いられている二つの部分を有するモールドのモールド１０ａの第一の部分の適切な表面の上に、連続的に後述する順序で、疎水性の高い塗膜６、複層耐反射塗膜５、耐擦傷性硬化塗膜４および／または耐衝撃性下塗層３が従来の方法で形成される。

下塗層３の表面の上には、好ましくは遠心法または浸せき塗布により、コロイド状ミネラル酸化物の中間層が、要求される厚さおよび空隙率で、形成される。

モールド１０ａ、１０ｂの二つの部分が接着シール１１を用いて組み立てられた後、液体モノマー組成物がモールドの空洞に射出される。

モノマー組成物を硬化させて基材１を形成させ、解放した後、本発明の製品が得られる。

この場合、中間層２の空隙は、基材１を構成する物質により充填される。

適切なモノマー組成物は、光学製品、特に、眼用レンズの製造に従来用いられているいかなる組成物であってもよい。

図７においては、種々の層が製品の表側に形成されているが、最終のガラスの両側に同様に形成してもよい。

後述する実施例においては、特に断らない限り、すべてのパーセンテージおよび部は、重量により表現される。

種々の実施例におけるコロイド状比は、乾燥物重量により表現される。

実施例に用いられる物質を以下に示す。
１）基材
−ポリカーボネート（ＰＣ）：帝人またはゼネラル・エレクトリック（Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ）により市販されているビスフェノールＡの単独重合ポリカーボネート
−熱硬化性ポリチオウレタン−屈折率ｎ_D ²⁵＝１．６：三井化学により市販されているＭＲ６
−熱硬化性ポリチオウレタン−屈折率ｎ_D ²⁵＝１．６７：三井化学により市販されているＭＲ７
−ポリエピスルフィド−屈折率ｎ_D ²⁵＝１．７４：三井化学により市販されているもの
−ミネラルガラス：ｗｈｉｔｅ Ｓｔｉｇｍａｌ Ｅｓｓｉｌｏｒ−屈折率ｎ_D ²⁵＝１．８０７

２）コロイド状ミネラル酸化物

３）下塗
−バクセンデンのＷ２３４ポリウレタンラテックス
−仏国特許第２，７９０，３１７号明細書に開示されているブチルアクリレート／メチルメタクリレートラテックス（ＡＢｕ／ＭＭＡ）

４）耐擦傷性塗膜
耐擦傷性塗膜組成物は、４２．９部の０．１Ｎ塩酸を、１３５．７部のγ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（ＧＬＹＭＯ）および４９部のジメチルジエトキシシラン（ＤＭＤＥＳ）を含有する溶液に、滴下により添加して調製される。

加水分解された溶液は、２４時間室温で添加され、ついで、８．８部のアルミニウムアセチルアセトネート、２６．５部のエチルセルロース、４００部のメタノール中の３０％コロイド状シリカおよび１５７部のメタノールが添加される。

その後、少量の界面活性剤が添加される。組成物の理論上の乾燥抽出物は、約１０％の加水分解されたＤＭＤＥＳからの乾燥物を含む。

５）耐反射塗膜
耐反射塗膜は、存在する場合、後述する連続する層の従来の真空塗布により形成される。

光学厚さは、λ＝５５０ｎｍに対して与えられている。

すべての実施例において、示されている空隙率ｐまたはｐ′は、充填前の初期空隙である。

実施例１ならびに比較例Ｃ１およびＣ２
上述したようにソーダ溶液によりあらかじめ処理された、ポリチオウレタンＭＲ６基材の一つの表面の上に、シリカ（ＭＡ−ＳＴ）およびＴｉＯ₂（１１３０Ｆ２）の重量で３０／７０の混合物の３％メタノール溶液中への浸せき塗布により、コロイド状ミネラル酸化物層が形成される。乾燥後、ミネラル酸化物層の特性は以下のとおりである。
−厚さ：６３ｍｍ
−屈折率：１．３８５
−空隙率ｐ＝４２％

その後、連続して、上述した条件での浸せき塗布により、耐衝撃性下塗層（Ｗ２３４）および耐擦傷性塗膜層の形成が行われる。

下塗層の厚さは約１μｍであり、耐擦傷性塗膜の厚さは約３．５μｍである（実施例１）。

比較のため、二つのＭＲ６基材の表面の上に、同じ条件での浸せき塗布により、一方では、基材の屈折率に順応する、屈折率１．６の耐擦傷性硬化塗膜層（ポリシロキサン）が形成された（比較例Ｃ１）。また、実施例１の場合と同様の下塗層および耐擦傷性硬化塗膜の積層にも形成された（比較例Ｃ２）。

図８のグラフは、塗布された基材の目的の波長の反射率のグラフである。

順応する屈折率の系（Ｃ１）の平均反射率の高さは、順応しない系（実施例１およびＣ２）のそれよりも高いことが分かる。

（四分の一波長板が挿入された）実施例１の系においては、比較例Ｃ２の系に比べて、縦の振幅が強く抑制されることも分かる。

実施例２から４および比較例Ｃ３
ポリカーボネート基材Ｌｅｘａｎ^(R) （ゼネラル・エレクトリック）および後述するコロイド状ミネラル酸化物ゾルを用いる以外は、実施例１が繰り返される。

得られたミネラル酸化物層の厚さ、屈折率および空隙率は、後述するとおりである。

比較のため（比較例Ｃ３）、実施例１と同様に、ポリカーボネートの同様の基材の上に直接に、下塗および耐擦傷性塗膜層が形成される（上記で規定されるようなバクセンデンのＷ２３４ＰＵ下塗および耐擦傷性塗膜）。

目的とする波長の反射率の結果は、図９のグラフにより表される。

実施例５から７
ミネラル酸化物ゾルの中にバインダを、ゾル乾燥抽出物が１０％、２０％および３０％のバインダを含むようになる量で導入する以外は、実施例２が繰り返される。用いられるバインダは、バクセンデンのＷ−２３４ＰＵラテックスであり、導入されるバインダのパーセンテージは、ゾルミネラル酸化物の全乾燥重量に対する重量により表される。ゾル組成物および得られたミネラル酸化物の層は、下記表に表される。

＊ＰＵ Ｗ２３４ラテックスは、ミネラル酸化物重量に対する％である。

目的とする波長の反射率の結果は、図１０および図１１のグラフにより表される。

図１０においては、実施例５の反射率の結果は、比較例Ｃ３および実施例２の結果と直接に比較される。

実施例８から１０および比較例Ｃ４
ＭＲ７基材を用い、かつ、後述するミネラル酸化物ゾルを用いる以外は、実施例１が繰り返される。

＊ＰＵ Ｗ２３４ラテックスは、ミネラル酸化物乾燥重量に対する％である。

比較例Ｃ４のため、ＭＲ７基材が下塗層および耐擦傷性塗膜層を塗布されることによっても調製される。

目的とする波長の反射率測定の結果は、図１２のグラフにより表される。

実施例１１から１３および比較例Ｃ５
ミネラルガラス基材を用い、かつ、後述するミネラル酸化物ゾルを用いる以外は、実施例１が繰り返される。

＊ＰＵ Ｗ２３４ラテックスは、金属酸化物乾燥重量に対する％である。

比較例Ｃ５のため、ミネラル基材が下塗層および耐擦傷性塗膜層を直接に塗布されることによっても調製される。

目的とする波長の反射率測定の結果は、図１３のグラフにより表される。

実施例１４から１９ならびに比較例Ｃ６およびＣ７
下記表に示される基材、ミネラル酸化物ゾルおよび下塗を用いる以外は、実施例１と同様の手順が用いられる。

目的とする波長の反射率の結果は、図１４から図１５のグラフにより表される。

図１９は、実施例１７の塗布された製品の顕微鏡写真である。

実施例２０から２２および比較例Ｃ８
後述する実施例は、二層のミネラル酸化物層の使用を示す。

そのような二層のミネラル酸化物層のそれぞれは、実施例１と同様の浸せき塗布により形成される。下塗および耐擦傷性塗膜は、実施例１と同一であり、同様に製造される。用いられる基材およびミネラル酸化物ゾルは、下記表に示される。

実施例１と同様の手順を用い、かつ、基材および後述するミネラル酸化物ゾル、ならびに、実施例１と同じ下塗および耐擦傷性塗膜を用いることにより、本発明の単層のミネラル酸化物層を有する製品も製造される。

比較のため（比較例Ｃ８）、同様の基材（ｎ＝１．７４）が下塗層および耐擦傷性塗膜を直接に塗布される。

目的とする波長の反射率の結果は、図１７および図１８のグラフにより表される。

Claims (51)

1. 有機またはミネラルガラス基材と透明高分子物質層とを有する光学製品であって、基材の一つの主面に直接接触する少なくとも一つの中間層と、高分子物質層とを有し、中間層が少なくとも一つのコロイド状ミネラル酸化物の粒子を有し、中間層が初期空隙を有し、中間層の初期空隙が高分子物質層からの物質または基材が有機ガラスである場合には基材の物質で充填され、中間層が初期空隙の充填の後に、以下の関係を満足し、高分子物質層が厚さ０．０５〜２０μｍの下塗層または厚さ１〜１５μｍの耐擦傷性塗膜層であり、初期空隙充填後の中間層の空隙率が５％未満であることを特徴とする光学製品。
   ｎ＝（ｎ_ｓ×ｎ_ｖ）^１／２
   ｎ×ｅ＝λ／４
   λが４００〜７００ｎｍの範囲の波長であり、ｎは中間層の２５℃における波長λ＝５５０ｎｍに対する屈折率であり、ｎ_ｓは基材の２５℃における波長λ＝５５０ｎｍに対する屈折率であり、ｎ_ｖは中間層に直接接触している高分子物質層の２５℃における波長λ＝５５０ｎｍに対する屈折率であり、ｅは中間層の厚さを表す。
2. 請求項１に記載の光学製品であって、前記波長の範囲が４５０〜６５０ｎｍであることを特徴とする光学製品。
3. 請求項１または２に記載の光学製品であって、中間層のバインダが存在しない場合の中間層の空隙率が、体積で少なくとも４０％であることを特徴とする光学製品。
4. 請求項３に記載の光学製品であって、中間層のバインダが存在しない場合の中間層の空隙率が、体積で少なくとも５０％であることを特徴とする光学製品。
5. 請求項１または２に記載の光学製品であって、前記中間層がさらにバインダを有し、前記中間層の初期空隙が部分的にバインダで充填されることを特徴とする光学製品。
6. 請求項５に記載の光学製品であって、中間層のバインダが存在する場合であって充填前において、中間層が、体積で少なくとも２５％の空隙率を有することを特徴とする光学製品。
7. 請求項６に記載の光学製品であって、中間層のバインダが存在する場合であって充填前において、中間層が体積で少なくとも３０％の空隙率を有することを特徴とする光学製品。
8. 請求項１〜７のいずれかに記載の光学製品であって、コロイド状ミネラル酸化物の粒径の範囲が、１０から８０ｎｍであることを特徴とする光学製品。
9. 請求項５〜８のいずれかに記載の光学製品であって、バインダが、中間層の乾燥ミネラル酸化物の全重量に対して、３０％以下を占めることを特徴とする光学製品。
10. 請求項９に記載の光学製品であって、バインダが、中間層の乾燥ミネラル酸化物の全重量に対して、２５％以下を占めることを特徴とする光学製品。
11. 請求項５〜１０のいずれかに記載の光学製品であって、バインダがポリウレタンラテックスであることを特徴とする光学製品。
12. 請求項１〜１１のいずれかに記載の光学製品であって、コロイド状ミネラル酸化物が、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅及びこれらの混合物の中から選ばれることを特徴とする光学製品。
13. 請求項１２に記載の光学製品であって、中間層が、少なくとも一つの屈折率が低いコロイド状ミネラル酸化物（ｎ_D ²⁵＜１．５４）と、少なくとも一つの屈折率が高いコロイド状ミネラル酸化物（ｎ_D ²⁵≧１．５４）との混合物を有することを特徴とする光学製品。
14. 請求項１３に記載の光学製品であって、屈折率が低いコロイド状ミネラル酸化物／屈折率が高いミネラル酸化物の重量比の範囲が３０／７０から７０／３０であることを特徴とする光学製品。
15. 請求項１３または１４に記載の光学製品であって、コロイド状ミネラル酸化物混合物が、ＳｉＯ₂およびＴｉＯ₂混合物またはＳｉＯ₂およびＺｒＯ₂混合物であることを特徴とする光学製品。
16. 請求項１〜１５のいずれかに記載の光学製品であって、基材が、１．５５から１．８０の範囲の屈折率ｎ_D ²⁵を有することを特徴とする光学製品。
17. 請求項１６に記載の光学製品であって、基材が、１．６０から１．７５の範囲の屈折率ｎ_D ²⁵を有することを特徴とする光学製品。
18. 請求項１に記載の光学製品であって、高分子物質層が耐衝撃性下塗層であり、この下塗が（メタ）アクリルポリマー、チオ（メタ）アクリルポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリチオウレタンに基づく物質またはこれらの組み合わせであることを特徴とする光学製品。
19. 請求項１または１８に記載の光学製品であって、高分子物質層が、その上に耐擦傷性塗膜を有する耐衝撃性下塗層であることを特徴とする光学製品。
20. 請求項１に記載の光学製品であって、高分子物質層が、その上に形成される耐反射塗膜を有する耐擦傷性塗膜であることを特徴とする光学製品。
21. 請求項１〜２０のいずれかに記載の光学製品であって、製品が眼用レンズであることを特徴とする光学製品。
22. 光学製品の製造方法であって、
    ａ）透明支持体の少なくとも一つの主面の上に、少なくとも一つのコロイド状ミネラル酸化物の塗布により、初期空隙を有する、少なくとも一つのコロイド状ミネラル酸化物の少なくとも一つの中間層を形成させる工程と、
    ｂ）中間層の上に、光学的に透明な高分子物質層または有機ガラス基材を形成させる工程と、
    ｃ）中間層の初期空隙が、前記層の高分子物質または工程ｂ）で形成された基材物質で充填され、それにより、中間層が初期空隙の充填の後に、以下の関係を満足する工程と
    を有し、高分子物質層が厚さ０．０５〜２０μｍの下塗層または厚さ１〜１５μｍの耐擦傷性塗膜層であり、初期空隙充填後の中間層の空隙率が５％未満であることを特徴とする方法。
    ｎ＝（ｎ_ｓ×ｎ_ｖ）^１／２
    ｎ×ｅ＝λ／４
    λが４００〜７００ｎｍの範囲の波長であり、ｎは中間層の２５℃における波長λ＝５５０ｎｍに対する屈折率であり、ｎ_ｓは基材の２５℃における波長λ＝５５０ｎｍに対する屈折率であり、ｎ_ｖは中間層に直接接触している高分子物質層の２５℃における波長λ＝５５０ｎｍに対する屈折率であり、ｅは中間層の厚さを表す。
23. 請求項２２に記載の方法であって、前記波長の範囲が４５０〜６５０ｎｍであることを特徴とする方法。
24. 請求項２２または２３に記載の方法であって、支持体が、少なくとも光学的に透明な高分子物質の層となる塗膜を有する成形部分の主成形表面であり、中間層の初期空隙が、有機ガラス基材からの物質で充填されることを特徴とする方法。
25. 請求項２４に記載の方法であって、基材がモールド中での液体重合性組成物の鋳造および組成物の重合により形成されることを特徴とする方法。
26. 請求項２２〜２５のいずれかに記載の方法であって、コロイド状ミネラル酸化物の粒径の範囲が、１０から８０ｎｍであることを特徴とする方法。
27. 請求項２２〜２６のいずれかに記載の方法であって、中間層の初期空隙が、バインダが存在しない場合、体積で少なくとも４０％であることを特徴とする方法。
28. 請求項２２〜２６のいずれかに記載の方法であって、中間層からのバインダが存在しない場合の空隙が、体積で少なくとも５０％であることを特徴とする方法。
29. 請求項２２〜２６のいずれかに記載の方法であって、ａ）工程において前記中間層がコロイド状ミネラル酸化物およびバインダの塗布により形成され、ｃ）工程において中間層の初期空隙が、前記層の高分子物質または工程ｂ）で形成された基材物質で充填され、かつ、部分的にバインダで充填されることを特徴とする方法。
30. 請求項２９に記載の方法であって、バインダが、中間層の乾燥ミネラル酸化物の全重量に対して、３０％以下を占めることを特徴とする方法。
31. 請求項３０に記載の方法であって、バインダが、中間層の乾燥ミネラル酸化物の全重量に対して、２５％以下を占めることを特徴とする方法。
32. 請求項３１に記載の方法であって、バインダが、中間層の乾燥ミネラル酸化物の全重量に対して、１０から２０％を占めることを特徴とする方法。
33. 請求項２９〜３２のいずれかに記載の方法であって、バインダがポリウレタンラテックスであることを特徴とする方法。
34. 請求項２２〜３３のいずれかに記載の方法であって、コロイド状ミネラル酸化物が、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃ 、Ｙ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅およびこれらの混合物の中から選ばれることを特徴とする方法。
35. 請求項２２〜３４のいずれかに記載の方法であって、中間層が、少なくとも一つの屈折率が低いコロイド状ミネラル酸化物（ｎ_D ²⁵＜１．５４）と、少なくとも一つの屈折率が高いコロイド状ミネラル酸化物（ｎ_D ²⁵≧１．５４）との混合物を有することを特徴とする方法。
36. 請求項３５に記載の方法であって、屈折率が低いコロイド状ミネラル酸化物／屈折率が高いミネラル酸化物の重量比の範囲が３０／７０から７０／３０であることを特徴とする方法。
37. 請求項３５または３６に記載の方法であって、コロイド状ミネラル酸化物混合物が、ＳｉＯ₂およびＴｉＯ₂混合物またはＳｉＯ₂およびＺｒＯ₂混合物であることを特徴とする方法。
38. 請求項２２〜３７のいずれかに記載の方法であって、基材が、１．５５から１．８０の範囲の屈折率ｎ_D ²⁵を有することを特徴とする方法。
39. 請求項３８に記載の方法であって、基材が、１．６０から１．７５の範囲の屈折率ｎ_D ²⁵を有することを特徴とする方法。
40. 請求項２２に記載の方法であって、高分子物質層が耐衝撃性下塗層であり、その下塗が（メタ）アクリルポリマー、チオ（メタ）アクリルポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリチオウレタンに基づく物質またはこれらの組み合わせであることを特徴とする方法。
41. 請求項２２または４０に記載の方法であって、高分子物質層が耐衝撃性下塗層であり、その耐衝撃性下塗層の上に、浸せき塗布または遠心法および硬化により、耐擦傷性塗膜を形成させる工程を有することを特徴とする方法。
42. 請求項２２に記載の方法であって、高分子物質層が耐擦傷性塗膜層であり、耐反射塗膜をその耐擦傷性塗膜の上に形成させる工程を有することを特徴とする方法。
43. 請求項１〜１９のいずれかに記載の光学製品であって、高分子物質層が耐衝撃性下塗層であることを特徴とする光学製品。
44. 請求項１〜２１および４３のいずれかに記載の光学製品であって、充填高分子物質におけるフッ素量が重量で１％未満であることを特徴とする光学製品。
45. 請求項１〜２１および４３のいずれかに記載の光学製品であって、充填高分子物質におけるフッ素量が重量で０％であることを特徴とする光学製品。
46. 請求項１〜２１および４３〜４５のいずれかに記載の光学製品であって、初期空隙充填後の中間層の空隙率が０％であることを特徴とする光学製品。
47. 請求項１〜１９および４３のいずれかに記載の光学製品であって、高分子物質層が０．５から１０μｍの厚みを有する耐衝撃性下塗層であることを特徴とする光学製品。
48. 請求項１〜１９および４３のいずれかに記載の光学製品であって、高分子物質層が０．５から２μｍの厚みを有する耐衝撃性下塗層であることを特徴とする光学製品。
49. 請求項１〜１８および２０のいずれかに記載の光学製品であって、高分子物質層が、１から１５μｍの厚みを有する耐擦傷性塗膜層であることを特徴とする光学製品。
50. 請求項１〜１８および２０のいずれかに記載の光学製品であって、高分子物質層が、２から６μｍの厚みを有する耐擦傷性塗膜層であることを特徴とする光学製品。
51. 請求項１〜１９および２１のいずれかに記載の光学製品であって、耐反射塗膜が高分子物質層上に塗布されることを特徴とする光学製品。