JP5009512B2 - 飽和ノルボルネンフィルムおよびその製造方法、偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルム、並びに液晶表示装置 - Google Patents
飽和ノルボルネンフィルムおよびその製造方法、偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルム、並びに液晶表示装置 Download PDFInfo
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Description
本発明は、高温高湿下においても安定な飽和ノルボルネンフィルムおよびその製造方法に関する。特に、液晶表示装置に組み込んで高温高湿下に置いた時に発生する色むらを抑えた飽和ノルボルネンフィルムおよびその製造方法に関する。さらに、本発明は当該飽和ノルボルネンフィルムを用いた偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルムおよび液晶表示装置にも関する。
飽和ノルボルネンフィルムは、従来より液晶表示装置などに使用されている。使用に際しては、飽和ノルボルネンフィルムを延伸し、面内のレターデーション（Ｒｅ）と厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を発現させ、例えば位相差膜として液晶表示装置の視野角拡大を図ることができるようにしている。このような飽和ノルボルネンフィルムを延伸する方法として、縦（長手）方向に延伸する方法（縦延伸）と横（幅）方向に延伸する方法（横延伸）、あるいは同時に縦、横方向に延伸する方法（同時延伸）が挙げられる。
これらの内、縦延伸は設備がコンパクトなため、従来から多く用いられてきた。通常縦延伸は、２対以上のニップロールの間で、フィルムをガラス転移温度（Ｔｇ）以上に加熱し、入口側のニップロールの搬送速度より出口側の搬送速度を速くすることによって行われている。この機構を用いた縦延伸法の条件については改良が試みられており、例えば特許文献１には、延伸中の温度むらを小さくすることでＲｅのばらつきを小さくすることが記載されている。
特開２００１−４２１３０号公報
しかし、この特許文献に記載されている方法で得られた延伸フィルムを液晶表示装置の位相差膜として使用すると、高温高湿下で経時後に液晶表示画面に色むらが発生するという問題があった。このような色むらは、液晶表示装置の価値を著しく損ねることから改良が望まれていた。
そこで本発明は、液晶表示装置に組み込んで高温高湿下に置いた時に色むらの発生を抑えることができる飽和ノルボルネンフィルムを提供することを目的とした。また、そのような性質を有する飽和ノルボルネンフィルムを簡便に製造する方法を提供することも目的とした。さらに、液晶表示装置に組み込んで高温高湿下に置いた時に色むらの発生を抑えることができる偏光板、光学補償フィルムおよび反射防止フィルムを提供すること、および高温高湿下に置いた時に色むらの発生が抑えられている液晶表示装置を提供することを目的とした。
本発明者は、飽和ノルボルネンを延伸した位相差板を液晶表示装置に組み込んだ後、高温高湿下に置いたときに発生する色むらの原因を解析した結果、湿熱寸法変化（δＬ(ｗ)）、乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））および、面内のレターデーション（Ｒｅ）の湿熱変化（δＲｅ(ｗ)）、乾熱変化（δＲｅ（ｄ））、および厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の湿熱変化（δＲｔｈ（ｗ））、乾熱変化（δＲｔｈ（ｄ））に起因することを見い出し、以下に記載する本発明を提供するに至った。
［１］ 湿熱寸法変化（δＬ(ｗ)）および乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））がいずれも０％〜０．２％であり、面内のレターデーション（Ｒｅ）の湿熱変化（δＲｅ(ｗ)）および乾熱変化（δＲｅ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であり、かつ厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の湿熱変化（δＲｔｈ（ｗ））および乾熱変化（δＲｔｈ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であることを特徴とする飽和ノルボルネンフィルム。
［２］ 微細レターデーションむらが０％〜１０％であることを特徴とする［１］に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
［３］ Ｒｅが０ｎｍ〜３００ｎｍであって、Ｒｔｈが３０ｎｍ〜５００ｎｍであることを特徴とする［１］または［２］に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
［４］ 飽和ノルボルネン樹脂に対して微粒子を１質量ｐｐｍ〜１０，０００質量ｐｐｍ含有することを特徴とする［１］〜［３］のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
［５］ 残留溶剤量が０．０１質量％以下であることを特徴とする［１］〜［４］のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
［１］ 湿熱寸法変化（δＬ(ｗ)）および乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））がいずれも０％〜０．２％であり、面内のレターデーション（Ｒｅ）の湿熱変化（δＲｅ(ｗ)）および乾熱変化（δＲｅ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であり、かつ厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の湿熱変化（δＲｔｈ（ｗ））および乾熱変化（δＲｔｈ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であることを特徴とする飽和ノルボルネンフィルム。
［２］ 微細レターデーションむらが０％〜１０％であることを特徴とする［１］に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
［３］ Ｒｅが０ｎｍ〜３００ｎｍであって、Ｒｔｈが３０ｎｍ〜５００ｎｍであることを特徴とする［１］または［２］に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
［４］ 飽和ノルボルネン樹脂に対して微粒子を１質量ｐｐｍ〜１０，０００質量ｐｐｍ含有することを特徴とする［１］〜［３］のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
［５］ 残留溶剤量が０．０１質量％以下であることを特徴とする［１］〜［４］のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
［６］ 湿熱寸法変化（δＬ(ｗ)）および乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））がいずれも０％〜０．２％であり、面内のレターデーション（Ｒｅ）の湿熱変化（δＲｅ(ｗ)）および乾熱変化（δＲｅ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であり、かつ厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の湿熱変化（δＲｔｈ（ｗ））および乾熱変化（δＲｔｈ（ｄ））がいずれも０％〜１０％である飽和ノルボルネンフィルムの製造方法であって、
飽和ノルボルネンを製膜した後、延伸前のフィルムの幅（Ｗ）と延伸間隔（Ｌ）の比である縦／横比（Ｌ／Ｗ）が０．０１を越え０．３未満の条件下で１％〜３００％に縦延伸し、さらに縦方向に１％〜５０％緩和する工程を有することを特徴とする飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
［７］ 前記縦延伸を、２対のニップロールの間を飽和ノルボルネンフィルムを斜めに通して行うことを特徴とする、［６］に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
［８］ 前記縦方向の緩和を行った後に横延伸を行うことを特徴とする［６］または［７］に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
［９］ 前記横延伸をテンターを用いて１％〜２５０％の延伸倍率で行うことを特徴とする［８］に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
［１０］ 前記横延伸を行った後、横方向に１％〜５０％緩和することを特徴とする［８］または［９］に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
［１１］ 前記飽和ノルボルネンの製膜を溶融製膜法により行うことを特徴とする［６］〜［１０］のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
［１２］ ［６］〜［１１］のいずれか一項に記載の製造方法により製造される飽和ノルボルネンフィルム。
飽和ノルボルネンを製膜した後、延伸前のフィルムの幅（Ｗ）と延伸間隔（Ｌ）の比である縦／横比（Ｌ／Ｗ）が０．０１を越え０．３未満の条件下で１％〜３００％に縦延伸し、さらに縦方向に１％〜５０％緩和する工程を有することを特徴とする飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
［７］ 前記縦延伸を、２対のニップロールの間を飽和ノルボルネンフィルムを斜めに通して行うことを特徴とする、［６］に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
［８］ 前記縦方向の緩和を行った後に横延伸を行うことを特徴とする［６］または［７］に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
［９］ 前記横延伸をテンターを用いて１％〜２５０％の延伸倍率で行うことを特徴とする［８］に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
［１０］ 前記横延伸を行った後、横方向に１％〜５０％緩和することを特徴とする［８］または［９］に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
［１１］ 前記飽和ノルボルネンの製膜を溶融製膜法により行うことを特徴とする［６］〜［１０］のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
［１２］ ［６］〜［１１］のいずれか一項に記載の製造方法により製造される飽和ノルボルネンフィルム。
［１３］ 偏光膜に、［１］〜［５］および［１２］のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを少なくとも１層積層したことを特徴とする偏光板。
［１４］ ［１］〜［５］および［１２］のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを基材に用いた光学補償フィルム。
［１５］ ［１］〜［５］および［１２］のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを基材に用いた反射防止フィルム。
［１６］ ［１］〜［５］および［１２］のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを用いた液晶表示装置。
［１４］ ［１］〜［５］および［１２］のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを基材に用いた光学補償フィルム。
［１５］ ［１］〜［５］および［１２］のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを基材に用いた反射防止フィルム。
［１６］ ［１］〜［５］および［１２］のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを用いた液晶表示装置。
本発明の飽和ノルボルネンフィルムは、液晶表示装置に組み込んで高温高湿下に置いても色むらの発生を抑えることができる。また、本発明の製造方法によれば、そのような性質を有する飽和ノルボルネンフィルムを効率よく製造することができる。さらに、本発明の偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルムおよび液晶表示装置は、高温高湿下においても優れた機能を示すことができる。
以下において、本発明の飽和ノルボルネンフィルム等について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
＜飽和ノルボルネンフィルム＞
《特徴》
本発明の飽和ノルボルネンフィルムは、湿熱寸法変化（δＬ(ｗ)）および乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））がいずれも０％〜０．２％であり、面内のレターデーション（Ｒｅ）の湿熱変化（δＲｅ(ｗ)）および乾熱変化（δＲｅ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であり、かつ厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の湿熱変化（δＲｔｈ（ｗ））および乾熱変化（δＲｔｈ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であることを特徴とする。
《特徴》
本発明の飽和ノルボルネンフィルムは、湿熱寸法変化（δＬ(ｗ)）および乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））がいずれも０％〜０．２％であり、面内のレターデーション（Ｒｅ）の湿熱変化（δＲｅ(ｗ)）および乾熱変化（δＲｅ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であり、かつ厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の湿熱変化（δＲｔｈ（ｗ））および乾熱変化（δＲｔｈ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であることを特徴とする。
（δＬ(ｗ)およびδＬ（ｄ））
本発明でいうδＬ（ｗ）とは、６０℃・相対湿度９０％で５００時間経時前後の寸法変化であり、本発明でいうδＬ（ｄ）とは、８０℃ドライで５００時間経時前後の寸法変化である。好ましいδＬ(ｗ)、δＬ（ｄ）はそれぞれ独立に０％〜０．２％であり、より好ましくは０％〜０．１５％であり、さらに好ましくは０％〜０．１％である。より望ましくは、δＬ(ｗ)およびδＬ（ｄ）がともに０％〜０．２％であり、より好ましくは０％〜０．１５％であり、さらに好ましくは０％〜０．１％である。
本発明でいうδＬ（ｗ）とは、６０℃・相対湿度９０％で５００時間経時前後の寸法変化であり、本発明でいうδＬ（ｄ）とは、８０℃ドライで５００時間経時前後の寸法変化である。好ましいδＬ(ｗ)、δＬ（ｄ）はそれぞれ独立に０％〜０．２％であり、より好ましくは０％〜０．１５％であり、さらに好ましくは０％〜０．１％である。より望ましくは、δＬ(ｗ)およびδＬ（ｄ）がともに０％〜０．２％であり、より好ましくは０％〜０．１５％であり、さらに好ましくは０％〜０．１％である。
ロールフィルムにおいては、δＬ（ｗ）は下記式で示される幅（ＴＤ）方向の寸法変化（δＴＤ（ｗ））と長手（ＭＤ）方向の寸法変化（δＭＤ（ｗ））のうち大きい方の値を指す。
δＴＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＴＤ（Ｆ）−ＴＤ（ｔ）｜／ＴＤ（Ｆ）
δＭＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＭＤ（Ｆ）−ＭＤ（ｔ）｜／ＭＤ（Ｆ）
（ＴＤ（Ｆ）、ＭＤ（Ｆ）は２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後にその雰囲気で測定したサーモ処理前の寸法を指し、ＴＤ（ｔ）、ＭＤ（ｔ）はサーモ処理（６０℃・相対湿度９０％で５００時間経時）後に２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後その雰囲気で測定した寸法を指す）
ロールフィルムにおいては、δＬ（ｄ）は下記式で示される幅（ＴＤ）方向の寸法変化（δＴＤ（ｄ））と長手（ＭＤ）方向の寸法変化（δＭＤ（ｄ））のうち大きい方の値を指す。ここでいうドライとは相対湿度が１０％以下の状態を指す。
δＴＤ（ｄ）（％）＝１００×｜ＴＤ（Ｆ）−ＴＤ（Ｔ）｜／ＴＤ（Ｆ）
δＭＤ（ｄ）（％）＝１００×｜ＭＤ（Ｆ）−ＭＤ（Ｔ）｜／ＭＤ（Ｆ）
（ＴＤ（Ｆ）、ＭＤ（Ｆ）は２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後にその雰囲気で測定したサーモ処理前の寸法を指し、ＴＤ（Ｔ）、ＭＤ（Ｔ）はサーモ処理（８０℃ドライで５００時間経時）後に２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後その雰囲気で測定した寸法を指す）
δＴＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＴＤ（Ｆ）−ＴＤ（ｔ）｜／ＴＤ（Ｆ）
δＭＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＭＤ（Ｆ）−ＭＤ（ｔ）｜／ＭＤ（Ｆ）
（ＴＤ（Ｆ）、ＭＤ（Ｆ）は２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後にその雰囲気で測定したサーモ処理前の寸法を指し、ＴＤ（ｔ）、ＭＤ（ｔ）はサーモ処理（６０℃・相対湿度９０％で５００時間経時）後に２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後その雰囲気で測定した寸法を指す）
ロールフィルムにおいては、δＬ（ｄ）は下記式で示される幅（ＴＤ）方向の寸法変化（δＴＤ（ｄ））と長手（ＭＤ）方向の寸法変化（δＭＤ（ｄ））のうち大きい方の値を指す。ここでいうドライとは相対湿度が１０％以下の状態を指す。
δＴＤ（ｄ）（％）＝１００×｜ＴＤ（Ｆ）−ＴＤ（Ｔ）｜／ＴＤ（Ｆ）
δＭＤ（ｄ）（％）＝１００×｜ＭＤ（Ｆ）−ＭＤ（Ｔ）｜／ＭＤ（Ｆ）
（ＴＤ（Ｆ）、ＭＤ（Ｆ）は２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後にその雰囲気で測定したサーモ処理前の寸法を指し、ＴＤ（Ｔ）、ＭＤ（Ｔ）はサーモ処理（８０℃ドライで５００時間経時）後に２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後その雰囲気で測定した寸法を指す）
一方、ロールから切り出す等して得られるシートフィルムにおいては、δＬ（ｗ）は下記式で示される面内の遅相軸に直交する方向（ＦＤ）方向の寸法変化（δＦＤ（ｗ））と面内の遅相軸（ＳＤ）方向の寸法変化（δＳＤ（ｗ））のうち大きい方の値を指す。
δＦＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＦＤ（Ｆ）−ＦＤ（ｔ）｜／ＦＤ（Ｆ）
δＳＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＳＤ（Ｆ）−ＳＤ（ｔ）｜／ＳＤ（Ｆ）
（ＦＤ（Ｆ）、ＳＤ（Ｆ）は２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後にその雰囲気で測定したサーモ処理前の寸法を指し、ＦＤ（ｔ）、ＳＤ（ｔ）はサーモ処理（６０℃・相対湿度９０％で５００時間経時）後に２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後その雰囲気で測定した寸法を指す）
また、シートフィルムにおいては、δＬ（ｄ）は下記式で示される面内の遅相軸に直交する方向（ＦＤ）方向の寸法変化（δＦＤ（ｄ））と面内の遅相軸（ＳＤ）方向の寸法変化（δＳＤ（ｄ））のうち大きい方の値を指す。なお、ドライとは相対湿度が１０％以下の状態を指す。
δＦＤ（ｄ）（％）＝１００×｜ＦＤ（Ｆ）−ＦＤ（Ｔ）｜／ＦＤ（Ｆ）
δＳＤ（ｄ）（％）＝１００×｜ＳＤ（Ｆ）−ＳＤ（Ｔ）｜／ＳＤ（Ｆ）
（ＦＤ（Ｆ）、ＳＤ（Ｆ）は２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後にその雰囲気で測定したサーモ処理前の寸法を指し、ＦＤ（Ｔ）、ＳＤ（Ｔ）はサーモ処理（８０℃ドライで５００時間経時）後に２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後その雰囲気で測定した寸法を指す）
δＦＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＦＤ（Ｆ）−ＦＤ（ｔ）｜／ＦＤ（Ｆ）
δＳＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＳＤ（Ｆ）−ＳＤ（ｔ）｜／ＳＤ（Ｆ）
（ＦＤ（Ｆ）、ＳＤ（Ｆ）は２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後にその雰囲気で測定したサーモ処理前の寸法を指し、ＦＤ（ｔ）、ＳＤ（ｔ）はサーモ処理（６０℃・相対湿度９０％で５００時間経時）後に２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後その雰囲気で測定した寸法を指す）
また、シートフィルムにおいては、δＬ（ｄ）は下記式で示される面内の遅相軸に直交する方向（ＦＤ）方向の寸法変化（δＦＤ（ｄ））と面内の遅相軸（ＳＤ）方向の寸法変化（δＳＤ（ｄ））のうち大きい方の値を指す。なお、ドライとは相対湿度が１０％以下の状態を指す。
δＦＤ（ｄ）（％）＝１００×｜ＦＤ（Ｆ）−ＦＤ（Ｔ）｜／ＦＤ（Ｆ）
δＳＤ（ｄ）（％）＝１００×｜ＳＤ（Ｆ）−ＳＤ（Ｔ）｜／ＳＤ（Ｆ）
（ＦＤ（Ｆ）、ＳＤ（Ｆ）は２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後にその雰囲気で測定したサーモ処理前の寸法を指し、ＦＤ（Ｔ）、ＳＤ（Ｔ）はサーモ処理（８０℃ドライで５００時間経時）後に２５℃・相対湿度６０％で５時間以上放置後その雰囲気で測定した寸法を指す）
（δＲｅ(ｗ)、δＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｗ）およびδＲｔｈ（ｄ））
本発明でいうδＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｄ）とは、８０℃ドライで５００時間経時前後のＲｅ，Ｒｔｈ変化であり、下記式で示される。なお、ドライとは相対湿度が１０％以下の状態を指す。
δＲｅ（ｄ）（％）＝１００×｜Ｒｅ（Ｆ）−Ｒｅ（Ｔ）｜／Ｒｅ（Ｆ）
δＲｔｈ（ｄ）（％）＝１００×｜Ｒth（Ｆ）−Ｒth（Ｔ）｜／Ｒth（Ｆ）
（Ｒｅ（Ｆ）、Ｒth（Ｆ）は８０℃ドライで５００時間経時前のＲｅ、Ｒthを指し、Ｒｅ（Ｔ）、Ｒth（Ｔ）は８０℃ドライで５００時間経時後のＲｅ、Ｒthを指す）
本発明でいうδＲｅ（ｗ）、δＲｔｈ（ｗ）とは、６０℃・相対湿度９０％で５００時間経時前後のＲｅ，Ｒｔｈ変化であり、下記式で示される。
δＲｅ（ｗ）（％）＝１００×｜Ｒｅ（Ｆ）−Ｒｅ（ｔ）｜／Ｒｅ（Ｆ）
δＲｔｈ（ｗ）（％）＝１００×｜Ｒth（Ｆ）−Ｒth（ｔ）｜／Ｒth（Ｆ）
（Ｒｅ（Ｆ）、Ｒth（Ｆ）は６０℃・相対湿度９０％で５００時間経時前のＲｅ、Ｒthを指し、Ｒｅ（ｔ）、Ｒth（ｔ）は６０℃・相対湿度９０％で５００時間経時後のＲｅ、Ｒthを指す）
本発明でいうδＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｄ）とは、８０℃ドライで５００時間経時前後のＲｅ，Ｒｔｈ変化であり、下記式で示される。なお、ドライとは相対湿度が１０％以下の状態を指す。
δＲｅ（ｄ）（％）＝１００×｜Ｒｅ（Ｆ）−Ｒｅ（Ｔ）｜／Ｒｅ（Ｆ）
δＲｔｈ（ｄ）（％）＝１００×｜Ｒth（Ｆ）−Ｒth（Ｔ）｜／Ｒth（Ｆ）
（Ｒｅ（Ｆ）、Ｒth（Ｆ）は８０℃ドライで５００時間経時前のＲｅ、Ｒthを指し、Ｒｅ（Ｔ）、Ｒth（Ｔ）は８０℃ドライで５００時間経時後のＲｅ、Ｒthを指す）
本発明でいうδＲｅ（ｗ）、δＲｔｈ（ｗ）とは、６０℃・相対湿度９０％で５００時間経時前後のＲｅ，Ｒｔｈ変化であり、下記式で示される。
δＲｅ（ｗ）（％）＝１００×｜Ｒｅ（Ｆ）−Ｒｅ（ｔ）｜／Ｒｅ（Ｆ）
δＲｔｈ（ｗ）（％）＝１００×｜Ｒth（Ｆ）−Ｒth（ｔ）｜／Ｒth（Ｆ）
（Ｒｅ（Ｆ）、Ｒth（Ｆ）は６０℃・相対湿度９０％で５００時間経時前のＲｅ、Ｒthを指し、Ｒｅ（ｔ）、Ｒth（ｔ）は６０℃・相対湿度９０％で５００時間経時後のＲｅ、Ｒthを指す）
δＲｅ(ｗ)、δＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｗ）、δＲｔｈ（ｄ）は、それぞれ独立に０％〜１０％であることが好ましく、より好ましくは０％〜５％であり、さらに好ましくは０％〜２％である。より望ましくは、δＲｅ(ｗ)、δＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｗ）およびδＲｔｈ（ｄ）のすべてが、０％〜１０％であることが好ましく、より好ましくは０％〜５％であり、さらに好ましくは０％〜２％である。
（微細レターデーションむら）
さらに本発明では微細レターデーションむらが好ましくは０％〜１０％、より好ましくは０％〜８％、さらに好ましくは０％〜５％であり、これにより色むらを低減できる。このような微細レターデーションむらは従来あまり問題視されなかったが、液晶表示装置の高解像度化に伴い問題となってきた。
ここでいう微細レターデーションむらとは、１ｍｍ以内の微小領域で発生するレターデーションの変化を指し、以下の方法で測定される。すなわち、ロールフィルムの場合は、幅方向（ＴＤ）と長手方向（ＭＤ）にそれぞれ１ｍｍの長さをとり、その間を０．１ｍｍピッチで面内のレターデーション（Ｒｅ）を測定し、その最大値と最小値の差を平均値で割って百分率で示し、ＭＤの百分率とＴＤの百分率のうち大きいものを微細レターデーションむらとする。また、シートフィルムの場合は、面内の遅相軸方向（ＳＤ）と面内の遅相軸に直交する方向（ＦＤ）に０．１ｍｍピッチで各１０点ずつ面内のレターデーション（Ｒｅ）を測定し、その最大値と最小値の差を平均値で割って百分率で示し、ＳＤの百分率とＦＤの百分率のうち大きいものを微細レターデーションむらとする。
さらに本発明では微細レターデーションむらが好ましくは０％〜１０％、より好ましくは０％〜８％、さらに好ましくは０％〜５％であり、これにより色むらを低減できる。このような微細レターデーションむらは従来あまり問題視されなかったが、液晶表示装置の高解像度化に伴い問題となってきた。
ここでいう微細レターデーションむらとは、１ｍｍ以内の微小領域で発生するレターデーションの変化を指し、以下の方法で測定される。すなわち、ロールフィルムの場合は、幅方向（ＴＤ）と長手方向（ＭＤ）にそれぞれ１ｍｍの長さをとり、その間を０．１ｍｍピッチで面内のレターデーション（Ｒｅ）を測定し、その最大値と最小値の差を平均値で割って百分率で示し、ＭＤの百分率とＴＤの百分率のうち大きいものを微細レターデーションむらとする。また、シートフィルムの場合は、面内の遅相軸方向（ＳＤ）と面内の遅相軸に直交する方向（ＦＤ）に０．１ｍｍピッチで各１０点ずつ面内のレターデーション（Ｒｅ）を測定し、その最大値と最小値の差を平均値で割って百分率で示し、ＳＤの百分率とＦＤの百分率のうち大きいものを微細レターデーションむらとする。
本発明の飽和ノルボルネンフィルムの面内のレターデーション（Ｒｅ）は０ｎｍ〜３００ｎｍが好ましく、より好ましくは２０ｎｍ〜２００ｎｍ、さらに好ましくは４０ｎｍ〜１５０ｎｍである。さらに厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は３０ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜４００ｎｍ、さらに好ましくは１００ｎｍ〜３００ｎｍである。さらに、Ｒｅ≦Ｒｔｈを満足するものがより好ましく、Ｒｅ×２≦Ｒｔｈを満足するものがさらに好ましい。
なお本発明において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。ＲｅはKOBRA 21ADH（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（KOBRA 21ADHにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値等の計３つ以上の方向で測定したレターデーション値を基にKOBRA 21ADHが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（JOHN WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
《達成手段》
本発明の上記特徴を有する飽和ノルボルネンフィルムの製造方法は特に制限されない。例えば、下記の（１）〜（３）を適宜選択して組み合わせることにより上記特徴を有する飽和ノルボルネンフィルムを製造することができる。特に、下記の（１）および（２）を必須とする本発明の製造方法によれば、上記特徴を有する飽和ノルボルネンフィルムを簡便に製造することができる。
本発明の上記特徴を有する飽和ノルボルネンフィルムの製造方法は特に制限されない。例えば、下記の（１）〜（３）を適宜選択して組み合わせることにより上記特徴を有する飽和ノルボルネンフィルムを製造することができる。特に、下記の（１）および（２）を必須とする本発明の製造方法によれば、上記特徴を有する飽和ノルボルネンフィルムを簡便に製造することができる。
（１）縦／横比
本発明の製造方法では、製膜後の飽和ノルボルネンフィルムを、縦／横比（延伸前のフィルムの幅（Ｗ）に対する延伸に用いる延伸間隔（Ｌ）の比：Ｌ／Ｗ）が０．０１を越え０．３未満の条件下で縦延伸する。縦／横比は、より好ましくは０．０３〜０．２５、さらに好ましくは０．０５〜０．２である。縦延伸は通常２対のニップロール間で周速を与えて延伸するが、このように縦／横比が小さいということは、フィルムが延伸される長さが短いことを意味し、フィルムは短時間で急速に延伸されることになる。急速に延伸されるためより配向を強くすることができ、配向緩和により引き起こされる上述のδＬ(ｗ)、δＬ（ｄ）、δＲｅ(ｗ)、δＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｗ）、δＲｔｈ（ｄ）を小さくすることができる。なお、従来は縦／横比（Ｌ／Ｗ）が１前後（０．７〜１．５）のロール間隔で実施されるのが一般的であった。
このような縦／横比の小さい延伸を実施するためには、図１に示すように、第一のニップロール１ａ，１ｂと第二のニップロール２ａ，２ｂとの間でセルロースアシレートフィルムを斜めに通して延伸することが好ましい（図中フィルムは矢印の方向に搬送される）。延伸は、フィルムが第一のニップロールから離れて、第二のニップロールに接するまでの間の空間で行われる。このため、ニップロールとフィルムの接点間距離（すなわち、延伸間隔Ｌ）を小さくするためには、図１に示すようにニップロール間にフィルムを斜めに通すことが好ましい。本明細書において「斜めに通す」とは、ニップロール１ａ、１ｂに入るフィルムと、ニップロール１ａ、１ｂとニップロール２ａ、２ｂ間のフィルムのなす角（θ１）、ニップロール１ａ、１ｂとニップロール２ａ、２ｂ間のフィルムとニップロール２ａ、２ｂから出るフィルムのなす角（θ２）の少なくとも一方が０°ではないことをいう。θ１，θ２の好ましい角度は１°〜８５°であり、より好ましくは２°〜６０°、さらに好ましくは３°〜４０°である。通常は、図２に示すように、第一のニップロール１ａ，１ｂと第二のニップロール２ａ，２ｂの間でθ１，θ２とも０°で延伸するため、Ｌをニップロールの直径以下に小さくすることができない。
本発明の製造方法では、製膜後の飽和ノルボルネンフィルムを、縦／横比（延伸前のフィルムの幅（Ｗ）に対する延伸に用いる延伸間隔（Ｌ）の比：Ｌ／Ｗ）が０．０１を越え０．３未満の条件下で縦延伸する。縦／横比は、より好ましくは０．０３〜０．２５、さらに好ましくは０．０５〜０．２である。縦延伸は通常２対のニップロール間で周速を与えて延伸するが、このように縦／横比が小さいということは、フィルムが延伸される長さが短いことを意味し、フィルムは短時間で急速に延伸されることになる。急速に延伸されるためより配向を強くすることができ、配向緩和により引き起こされる上述のδＬ(ｗ)、δＬ（ｄ）、δＲｅ(ｗ)、δＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｗ）、δＲｔｈ（ｄ）を小さくすることができる。なお、従来は縦／横比（Ｌ／Ｗ）が１前後（０．７〜１．５）のロール間隔で実施されるのが一般的であった。
このような縦／横比の小さい延伸を実施するためには、図１に示すように、第一のニップロール１ａ，１ｂと第二のニップロール２ａ，２ｂとの間でセルロースアシレートフィルムを斜めに通して延伸することが好ましい（図中フィルムは矢印の方向に搬送される）。延伸は、フィルムが第一のニップロールから離れて、第二のニップロールに接するまでの間の空間で行われる。このため、ニップロールとフィルムの接点間距離（すなわち、延伸間隔Ｌ）を小さくするためには、図１に示すようにニップロール間にフィルムを斜めに通すことが好ましい。本明細書において「斜めに通す」とは、ニップロール１ａ、１ｂに入るフィルムと、ニップロール１ａ、１ｂとニップロール２ａ、２ｂ間のフィルムのなす角（θ１）、ニップロール１ａ、１ｂとニップロール２ａ、２ｂ間のフィルムとニップロール２ａ、２ｂから出るフィルムのなす角（θ２）の少なくとも一方が０°ではないことをいう。θ１，θ２の好ましい角度は１°〜８５°であり、より好ましくは２°〜６０°、さらに好ましくは３°〜４０°である。通常は、図２に示すように、第一のニップロール１ａ，１ｂと第二のニップロール２ａ，２ｂの間でθ１，θ２とも０°で延伸するため、Ｌをニップロールの直径以下に小さくすることができない。
さらに、上述のように急速に延伸するためには延伸速度は速い方が好ましく、好ましい延伸速度は１０ｍ／分〜１００ｍ／分、より好ましくは２０ｍ／分〜８０ｍ／分、さらに好ましくは３０ｍ／分〜６０ｍ／分である。ここでいう延伸速度とは、延伸前のフィルムが延伸工程の最初のニップロールによって搬送される速度をいう。
このような縦延伸は、フィルムのガラス転移温度（Ｔg）〜（Ｔg＋５０℃）で実施するのが好ましく、より好ましくは（Ｔg＋５℃）〜（Ｔg＋４０℃）、さらに好ましくは（Ｔg＋８℃）〜（Ｔg＋３０℃）である。好ましい縦延伸倍率は１％〜３００％、より好ましくは３％〜２００％、さらに好ましくは５％〜１５０％である。なおここでいう延伸倍率は以下の式によって求めた値である。
延伸倍率(%)=１００×（延伸後の長さ−延伸前の長さ）／（延伸前の長さ）
このような縦延伸は、フィルムのガラス転移温度（Ｔg）〜（Ｔg＋５０℃）で実施するのが好ましく、より好ましくは（Ｔg＋５℃）〜（Ｔg＋４０℃）、さらに好ましくは（Ｔg＋８℃）〜（Ｔg＋３０℃）である。好ましい縦延伸倍率は１％〜３００％、より好ましくは３％〜２００％、さらに好ましくは５％〜１５０％である。なおここでいう延伸倍率は以下の式によって求めた値である。
延伸倍率(%)=１００×（延伸後の長さ−延伸前の長さ）／（延伸前の長さ）
なお、飽和ノルボルネンフィルムのＴgは８０℃〜２００℃が好ましく、より好ましくは１００℃〜１９０℃、さらに好ましくは１２０℃〜１８０℃である。ここでいう飽和ノルボルネンフィルムのＴgとは飽和ノルボルネン単体ではなく、添加剤等全て添加した後のフィルムのＴgを指す。
（２）縦緩和
本発明の製造方法では、縦延伸後に、縦方向に１％〜５０％、より好ましくは１％〜３０％、さらに好ましくは１％〜１５％緩和する。この縦緩和は縦延伸後、横延伸の前に行うことがより好ましく、さらに縦延伸直後に実施するのが好ましい。縦緩和は、縦延伸後の搬送ロールの速度を遅くすることにより実施することができる。例えば図１の装置では、搬送ロール３の速度を第２のニップロール２ａ，２ｂよりも遅くすることによって縦緩和を実施することができる。上記の緩和率を達成するためには、搬送ロール３の速度を例えば下記のように遅くすればよい。即ち延伸倍率Ｚ（％）、緩和率Ｙ（％）の場合、入口側ニップロール１ａ，１ｂの搬送速度をＶ（ｍ／分）とすると、出口側ニップロール２ａ，２ｂの搬送速度はＶ×（１００＋Ｚ）／１００となり、出口ニップロールの後に設けた搬送ロール３の速度をＶ×｛１００＋（Ｚ−Ｙ）｝／１００とすればよい。
縦緩和の好ましい温度は、（Ｔg−２０℃）〜（Ｔg＋５０℃）、より好ましくは（Ｔg−１５℃）〜（Ｔg＋４０℃）、さらに好ましくは（Ｔg−１０℃）〜（Ｔg＋３０℃）である。なお、ここでいう「緩和率」とは緩和する長さを延伸前の寸法で割った値を指す。すなわち、延伸前のフィルム長が１００ｃｍであるとき、フィルムを３０％縦延伸すればフィルム長は１３０ｃｍとなり、さらに緩和率１０％で緩和すればフィルム長は１２０ｃｍとなる。
このような縦緩和を行うことにより、延伸によるフィルム内部に残留する歪を効率的に開放することができ、δＬ(ｗ)、δＬ（ｄ）、およびδＲｅ(ｗ)、δＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｗ）、δＲｔｈ（ｄ）を小さくすることができる。
本発明の製造方法では、縦延伸後に、縦方向に１％〜５０％、より好ましくは１％〜３０％、さらに好ましくは１％〜１５％緩和する。この縦緩和は縦延伸後、横延伸の前に行うことがより好ましく、さらに縦延伸直後に実施するのが好ましい。縦緩和は、縦延伸後の搬送ロールの速度を遅くすることにより実施することができる。例えば図１の装置では、搬送ロール３の速度を第２のニップロール２ａ，２ｂよりも遅くすることによって縦緩和を実施することができる。上記の緩和率を達成するためには、搬送ロール３の速度を例えば下記のように遅くすればよい。即ち延伸倍率Ｚ（％）、緩和率Ｙ（％）の場合、入口側ニップロール１ａ，１ｂの搬送速度をＶ（ｍ／分）とすると、出口側ニップロール２ａ，２ｂの搬送速度はＶ×（１００＋Ｚ）／１００となり、出口ニップロールの後に設けた搬送ロール３の速度をＶ×｛１００＋（Ｚ−Ｙ）｝／１００とすればよい。
縦緩和の好ましい温度は、（Ｔg−２０℃）〜（Ｔg＋５０℃）、より好ましくは（Ｔg−１５℃）〜（Ｔg＋４０℃）、さらに好ましくは（Ｔg−１０℃）〜（Ｔg＋３０℃）である。なお、ここでいう「緩和率」とは緩和する長さを延伸前の寸法で割った値を指す。すなわち、延伸前のフィルム長が１００ｃｍであるとき、フィルムを３０％縦延伸すればフィルム長は１３０ｃｍとなり、さらに緩和率１０％で緩和すればフィルム長は１２０ｃｍとなる。
このような縦緩和を行うことにより、延伸によるフィルム内部に残留する歪を効率的に開放することができ、δＬ(ｗ)、δＬ（ｄ）、およびδＲｅ(ｗ)、δＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｗ）、δＲｔｈ（ｄ）を小さくすることができる。
本発明の製造方法にしたがって、上記（１）の急速な延伸と（２）の縦緩和を実施することにより、得られる飽和ノルボルネンフィルムの微細レターデーションむらも軽減することができる。即ち、縦横比を大きくして延伸長を長くとって延伸すると、厚みが薄くて延伸され易いところから順に延伸されるため微細レターデーションむらが発現し易いが、本発明にしたがって縦／横比を小さくして急激に延伸すれば延伸むらに起因する微細レターデーションむらを低減することができる。さらに、本発明にしたがって縦緩和を行えば、残留歪の開放により微細レターデーションむらも小さくすることができる。即ち、より延伸された部分が緩和され、延伸むらに起因する微細レターデーションむらを小さくすることができる。
（３）微粒子
本発明の製造方法では、飽和ノルボルネン樹脂に対して微粒子を１質量ｐｐｍ〜１０，０００質量ｐｐｍ含有させて飽和ノルボルネンフィルムを製造することが好ましい。より好ましい含有量は５質量ｐｐｍ〜７，０００質量ｐｐｍであり、さらに好ましい含有量は１０質量ｐｐｍ〜５，０００質量ｐｐｍである。
本発明では、易滑剤として微粒子を加えることが好ましい。易滑剤として微粒子を加えることにより、縦延伸中にニップロールに対するステッキング（粘着）が発生するのを防止することができるため、ステッキングに起因する微細レターデーションむらを防止することができる。縦延伸ではＴgを上回りフィルムが軟化する温度でフィルムがニップロール上で引っ張られるが、易滑剤が存在しないと局部的に粘着を引き起こしやすく、そこで延伸むらを発生し易いくなってしまう。易滑剤が含まれていれば、ニップロールとフィルムとを滑らせて局所的に応力が掛かるのを防止することができる。
本発明では、マット剤として微粒子を加えることも好ましい。
本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。また架橋高分子からなる微粒子なども用いることができる。
本発明の製造方法では、飽和ノルボルネン樹脂に対して微粒子を１質量ｐｐｍ〜１０，０００質量ｐｐｍ含有させて飽和ノルボルネンフィルムを製造することが好ましい。より好ましい含有量は５質量ｐｐｍ〜７，０００質量ｐｐｍであり、さらに好ましい含有量は１０質量ｐｐｍ〜５，０００質量ｐｐｍである。
本発明では、易滑剤として微粒子を加えることが好ましい。易滑剤として微粒子を加えることにより、縦延伸中にニップロールに対するステッキング（粘着）が発生するのを防止することができるため、ステッキングに起因する微細レターデーションむらを防止することができる。縦延伸ではＴgを上回りフィルムが軟化する温度でフィルムがニップロール上で引っ張られるが、易滑剤が存在しないと局部的に粘着を引き起こしやすく、そこで延伸むらを発生し易いくなってしまう。易滑剤が含まれていれば、ニップロールとフィルムとを滑らせて局所的に応力が掛かるのを防止することができる。
本発明では、マット剤として微粒子を加えることも好ましい。
本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。また架橋高分子からなる微粒子なども用いることができる。
これらの微粒子は、通常平均粒子サイズが０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子サイズは０．２〜１．５μｍが好ましく、０．４〜１．２μｍがさらに好ましく、０．６〜１．１μｍが最も好ましい。１次、２次粒子サイズはフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒子サイズとした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子サイズとした。
微粒子としてケイ素を含むものを用いれば濁度を低くすることができるため好ましく、特に二酸化珪素を用いることが好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子サイズが２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができるため、より好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６およびＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子サイズが２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましい。
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６およびＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子サイズが２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましい。
＜飽和ノルボルネンフィルムの製造＞
以下に、本発明の飽和ノルボルネンフィルムを製造する工程を手順にそって詳細に説明する。
以下に、本発明の飽和ノルボルネンフィルムを製造する工程を手順にそって詳細に説明する。
《飽和ノルボルネン樹脂》
本発明の飽和ノルボルネンフィルムの原料となる飽和ノルボルネン樹脂として、以下に記載する飽和ノルボルネン樹脂−Ａと飽和ノルボルネン樹脂−Ｂを好ましい例として挙げることができる。これらの飽和ノルボルネン樹脂は、いずれも後述の溶液製膜法、溶融製膜法により製膜することができるが、飽和ノルボルネン樹脂−Ａは溶融製膜法により製膜することがより好ましく、飽和ノルボルネン樹脂−Ｂは溶液製膜法により製膜することがより好ましい。これらの飽和ノルボルネンを原料とするフィルムは、延伸により適度なＲｅ、Ｒｔｈを発現する性質を有しているうえ、高温高湿環境下に長時間置いてもＲｅ、Ｒｔｈが変動しにくく、微細Ｒeむらが発現しにくいという優れた性質も有している。
本発明の飽和ノルボルネンフィルムの原料となる飽和ノルボルネン樹脂として、以下に記載する飽和ノルボルネン樹脂−Ａと飽和ノルボルネン樹脂−Ｂを好ましい例として挙げることができる。これらの飽和ノルボルネン樹脂は、いずれも後述の溶液製膜法、溶融製膜法により製膜することができるが、飽和ノルボルネン樹脂−Ａは溶融製膜法により製膜することがより好ましく、飽和ノルボルネン樹脂−Ｂは溶液製膜法により製膜することがより好ましい。これらの飽和ノルボルネンを原料とするフィルムは、延伸により適度なＲｅ、Ｒｔｈを発現する性質を有しているうえ、高温高湿環境下に長時間置いてもＲｅ、Ｒｔｈが変動しにくく、微細Ｒeむらが発現しにくいという優れた性質も有している。
（飽和ノルボルネン樹脂−Ａ）
飽和ノルボルネン樹脂−Ａとして、（１）ノルボルネン系モノマーの開環（共）重合体に対して、必要に応じてマレイン酸付加、シクロペンタジエン付加のようなポリマー変性を行ない、その後さらに水素添加して得られた樹脂、（２）ノルボルネン系モノマーを付加型重合させて得られた樹脂、（３）ノルボルネン系モノマーとエチレンやα−オレフィンなどのオレフィン系モノマーとを付加型共重合させて得られた樹脂などが挙げることができる。重合方法および水素添加方法は、常法により行なうことができる。
飽和ノルボルネン樹脂−Ａとして、（１）ノルボルネン系モノマーの開環（共）重合体に対して、必要に応じてマレイン酸付加、シクロペンタジエン付加のようなポリマー変性を行ない、その後さらに水素添加して得られた樹脂、（２）ノルボルネン系モノマーを付加型重合させて得られた樹脂、（３）ノルボルネン系モノマーとエチレンやα−オレフィンなどのオレフィン系モノマーとを付加型共重合させて得られた樹脂などが挙げることができる。重合方法および水素添加方法は、常法により行なうことができる。
ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、およびそのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体（例えば、５−メチル−２−ノルボルネン、５−ジメチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン等）、これらのハロゲン等の極性基置換体；ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロペンタジエン等；ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体、およびハロゲン等の極性基置換体（例えば、６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチリデン−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−クロロ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−シアノ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−ピリジル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−メトキシカルボニル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン等）；シクロペンタジエンとテトラヒドロインデン等との付加物；シクロペンタジエンの３〜４量体（例えば、４，９：５，８−ジメタノ−３ａ，４，４ａ，５，８，８ａ，９，９ａ−オクタヒドロ−１Ｈ−ベンゾインデン、４，１１：５，１０：６，９−トリメタノ−３ａ，４，４ａ，５，５ａ，６，９，９ａ，１０，１０ａ，１１，１１ａ−ドデカヒドロ−１Ｈ−シクロペンタアントラセン）等が挙げられる。これらのノルボルネン系モノマーは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（飽和ノルボルネン樹脂−Ｂ）
飽和ノルボルネン樹脂−Ｂとして、下記一般式（１）〜（４）で表わされるものを挙げることができる。これらのうち、下記一般式（１）で表されるものが特に好ましい。
飽和ノルボルネン樹脂−Ｂとして、下記一般式（１）〜（４）で表わされるものを挙げることができる。これらのうち、下記一般式（１）で表されるものが特に好ましい。
一般式（１）〜（４）中、Ｒ1〜Ｒ12は、各々独立に水素原子または１価の置換基（好ましくは有機基）を示し、これらのうち少なくとも１つは極性基であることが好ましい。これらの飽和ノルボルネン樹脂の質量平均分子量は、通常５，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは８，０００〜２００，０００である。
上記の置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、アルキル基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルキル基で、例えばメチル基、エチル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルケニル基で、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルキニル基で、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（炭素数６〜２０、好ましくは６〜１５のアリール基で、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基などが挙げられる。）、アミノ基（炭素数０〜２０、好ましくは０〜１０のアミノ基で、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルコキシ基で、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（炭素数６〜２０、好ましくは６〜１５のアリールオキシ基で、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、ヘテロ環オキシ基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のヘテロ環オキシ基で、例えばピリジルオキシ基、ピリミジニルオキシ基、ピリダジニルオキシ基、ベンズイミダゾリルオキシ基などが挙げられる。）、シリルオキシ基（炭素数３〜２０、好ましくは３〜１０のシリルオキシ基で、例えばトリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアシル基で、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（炭素数２〜２０、好ましくは２〜１０のアルコキシカルボニル基で、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（炭素数７〜２０、好ましくは７〜１５のアリールオキシカルボニル基で、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアシルオキシ基で、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアシルアミノ基で、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（炭素数２〜２０、好ましくは２〜１０のアルコキシカルボニルアミノ基で、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（炭素数７〜２０、好ましくは７〜１５のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基で、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（炭素数０〜２０、好ましくは０〜１０のスルファモイル基で、例えばスルファモイル基、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のカルバモイル基で、例えばカルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルキルチオ基で、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（炭素数６〜２０、好ましくは６〜１５のアリールチオ基で、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、ヘテロ環チオ基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のヘテロ環チオ基で、例えばピリジニルチオ基、ピリミジニルチオ基、ピリダジニルチオ基、ベンズイミダゾリルチオ基、チアジアゾリルチオ基などが挙げられる。）、アルキルもしくはアリールスルホニル基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルキルもしくはアリールスルホニル基で、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、アルキルもしくはアリールスルフィニル基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルキルもしくはアリールスルホニル基で、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のヘテロ環基で、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、チエニル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、カルバゾリル基、アゼピニル基などが挙げられる。）、シリル基（炭素数３〜２０、好ましくは３〜１０のシリル基で、例えばトリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる。）などが挙げられる。これらの置換基の水素原子は更に置換されてもよい。また、１分子中に置換基が二つ以上ある場合は、それらの置換基は同じであっても異なっていてもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、シリル基、アリール基、アルコキシ基及びアリールオキシ基が好ましく、メチル基、トリメチルシリル基、フェニル基およびメトキシ基が特に好ましい。
上記の極性基とは、酸素、硫黄、窒素、ハロゲンなど電気陰性度の高い原子によって分極が生じている有機基のことをいう。具体的には、アミノ基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアミノ基で、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルコキシ基で、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（炭素数６〜２０、好ましくは６〜１５のアリールオキシ基で、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、ヘテロ環オキシ基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のヘテロ環オキシ基で、例えばピリジニルオキシ基、ピリミジニルオキシ基、ピリダジニルオキシ基、ベンズイミダゾリルオキシ基などが挙げられる。）、シリルオキシ基（炭素数３〜２０、好ましくは３〜１０のシリルオキシ基で、例えばトリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアシル基で、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（炭素数２〜２０、好ましくは２〜１０のアルコキシカルボニル基で、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（炭素数６〜２０、好ましくは６〜１５のアリールオキシカルボニル基で、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアシルオキシ基で、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアシルアミノ基で、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（炭素数２〜２０、好ましくは２〜１０のアルコキシカルボニルアミノ基で、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（炭素数６〜２０、好ましくは６〜１５アリールオキシカルボニルアミノ基で、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基で、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（炭素数０〜２０、好ましくは０〜１０のスルファモイル基で、例えばスルファモイル基、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のカルバモイル基で、例えばカルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、ウレイド基（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のウレイド基で、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基などが挙げられる。これらの置換基は、ノルボルネン環に直接連結していてもよく、アルキレン基などで連結されていてもよく、更に置換されてもよい。また、１分子中に置換基が二つ以上ある場合は、それらの置換基は同じであっても異なっていてもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。極性基として好ましいものは、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シリルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、およびアリールオキシカルボニルアミノ基であり、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基およびアルコキシカルボニルアミノ基がさらに好ましく、アルコキシカルボニル基が特に好ましい。
本発明で用いることができる飽和ノルボルネン樹脂としては、例えば、特開昭６０−１６８７０８号公報、特開昭６２−２５２４０６号公報、特開昭６２−２５２４０７号公報、特開平２−１３３４１３号公報、特開昭６３−１４５３２４号公報、特開昭６３−２６４６２６号公報、特開平１−２４０５１７号公報、特公昭５７−８８１５号公報などに記載されている樹脂などを挙げることができる。
これらの樹脂の中でも、ノルボルネン系モノマーの開環重合体を水素添加して得られる水添重合体が特に好ましい。
これらの飽和ノルボルネン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は１２０℃以上であることが好ましく、さらに好ましくは１４０℃以上であり、飽和吸水率は１質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは０．８質量％以下である。上記一般式（１）〜（４）で表わされる飽和ノルボルネン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）および飽和吸水率は、Ｒ1〜Ｒ12の種類を選択することにより制御することができる。
これらの樹脂の中でも、ノルボルネン系モノマーの開環重合体を水素添加して得られる水添重合体が特に好ましい。
これらの飽和ノルボルネン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は１２０℃以上であることが好ましく、さらに好ましくは１４０℃以上であり、飽和吸水率は１質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは０．８質量％以下である。上記一般式（１）〜（４）で表わされる飽和ノルボルネン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）および飽和吸水率は、Ｒ1〜Ｒ12の種類を選択することにより制御することができる。
本発明では、飽和ノルボルネン樹脂として、下記一般式（５）で表わされる少なくとも１種のテトラシクロドデセン誘導体を単独で、あるいは、当該テトラシクロドデセン誘導体と、これと共重合体可能な不飽和環状化合物とをメタセシス重合して得られる重合体を水素添加して得られる水添重合体を用いることもできる。
一般式（５）中、Ｒ13〜Ｒ16は、各々独立に水素原子または１価の置換基（好ましくは有機基）を示し、これらのうち少なくとも１つは極性基であることが好ましい。ここでいう置換基と極性基の具体例と好ましい範囲については、一般式（１）〜（４）について説明したのと同一である。
上記一般式（５）で表わされるテトラシクロドデセン誘導体において、Ｒ13〜Ｒ16のうち少なくとも１つが極性基であることにより、他の材料との密着性、耐熱性などに優れた偏光フィルムを得ることができる。さらに、この極性基が−（ＣＨ2 ）nＣＯＯＲ（ここで、Ｒは炭素数１〜２０の炭化水素基、ｎは０〜１０の整数を示す。）で表わされる基であることが、最終的に得られる水添重合体（偏光フィルムの基材）が高いガラス転移温度を有するものとなるので好ましい。特に、この−（ＣＨ2）nＣＯＯＲで表わされる極性置換基は、一般式（５）のテトラシクロドデセン誘導体の１分子あたりに１個含有されることが吸水率を低下させる点から好ましい。上記極性置換基において、Ｒで示される炭化水素基の炭素数が多くなるほど得られる水添重合体の吸湿性が小さくなる点では好ましいが、得られる水添重合体のガラス転移温度とのバランスの点から、当該炭化水素基は、炭素数１〜４の鎖状アルキル基または炭素数５以上の（多）環状アルキル基であることが好ましく、特にメチル基、エチル基、シクロヘキシル基であることが好ましい。
上記一般式（５）で表わされるテトラシクロドデセン誘導体において、Ｒ13〜Ｒ16のうち少なくとも１つが極性基であることにより、他の材料との密着性、耐熱性などに優れた偏光フィルムを得ることができる。さらに、この極性基が−（ＣＨ2 ）nＣＯＯＲ（ここで、Ｒは炭素数１〜２０の炭化水素基、ｎは０〜１０の整数を示す。）で表わされる基であることが、最終的に得られる水添重合体（偏光フィルムの基材）が高いガラス転移温度を有するものとなるので好ましい。特に、この−（ＣＨ2）nＣＯＯＲで表わされる極性置換基は、一般式（５）のテトラシクロドデセン誘導体の１分子あたりに１個含有されることが吸水率を低下させる点から好ましい。上記極性置換基において、Ｒで示される炭化水素基の炭素数が多くなるほど得られる水添重合体の吸湿性が小さくなる点では好ましいが、得られる水添重合体のガラス転移温度とのバランスの点から、当該炭化水素基は、炭素数１〜４の鎖状アルキル基または炭素数５以上の（多）環状アルキル基であることが好ましく、特にメチル基、エチル基、シクロヘキシル基であることが好ましい。
さらに、−（ＣＨ2）nＣＯＯＲで表わされる基が結合した炭素原子に、炭素数１〜１０の炭化水素基が置換基として結合されている一般式（５）のテトラシクロドデセン誘導体は、得られる水添重合体の吸湿性が低いものとなるので好ましい。特に、この置換基がメチル基またはエチル基である一般式（５）のテトラシクロドデセン誘導体は、その合成が容易な点で好ましい。具体的には、８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ〔４，４，０，１2.5，１7.10〕ドデカ−３−エンが好ましい。これらのテトラシクロドデセン誘導体、およびこれと共重合可能な不飽和環状化合物の混合物は、例えば特開平４−７７５２０号公報第４頁右上欄１２行〜第６頁右下欄第６行に記載された方法によってメタセシス重合、水素添加することができる。
これらのノルボルネン系樹脂は、クロロホルム中、３０℃で測定される固有粘度（ηinh）が、０．１〜１．５ｄｌ／ｇであることが好ましく、さらに好ましくは０．４〜１．２ｄｌ／ｇである。また、水添重合体の水素添加率は、６０ＭＨｚ、1Ｈ−ＮＭＲで測定した値が５０％以上であることが好ましく、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９８％以上である。水素添加率が高いほど、得られる飽和ノルボルネンフィルムは、熱や光に対する安定性が優れたものとなる。該水添重合体中に含まれるゲル含有量は５質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下である。
これらのノルボルネン系樹脂は、クロロホルム中、３０℃で測定される固有粘度（ηinh）が、０．１〜１．５ｄｌ／ｇであることが好ましく、さらに好ましくは０．４〜１．２ｄｌ／ｇである。また、水添重合体の水素添加率は、６０ＭＨｚ、1Ｈ−ＮＭＲで測定した値が５０％以上であることが好ましく、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９８％以上である。水素添加率が高いほど、得られる飽和ノルボルネンフィルムは、熱や光に対する安定性が優れたものとなる。該水添重合体中に含まれるゲル含有量は５質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下である。
（その他の開環重合可能なシクロオレフィン類）
本発明においては、本発明の目的を損なわない範囲内において、開環重合可能な他のシクロオレフィン類を併用することができる。このようなシクロオレフィンの具体例としては、例えば、シクロペンテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシクロペンタジエンなどのごとき反応性の二重結合を１個有する化合物が例示される。これらの開環重合可能なシクロオレフィン類の含有量は、上記ノルボルネン系モノマーに対して０モル％〜５０モル％であることが好ましく、０．１モル％〜３０モル％であることがより好ましく、０．３モル％〜１０モル％であることが特に好ましい。
本発明においては、本発明の目的を損なわない範囲内において、開環重合可能な他のシクロオレフィン類を併用することができる。このようなシクロオレフィンの具体例としては、例えば、シクロペンテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシクロペンタジエンなどのごとき反応性の二重結合を１個有する化合物が例示される。これらの開環重合可能なシクロオレフィン類の含有量は、上記ノルボルネン系モノマーに対して０モル％〜５０モル％であることが好ましく、０．１モル％〜３０モル％であることがより好ましく、０．３モル％〜１０モル％であることが特に好ましい。
（添加剤）
本発明の飽和ノルボルネン樹脂には、公知の酸化防止剤、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２′−ジオキシ−３，３′−ジ−ｔ−ブチル−５，５′−ジメチルフェニルメタン、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２′−ジオキシ−３，３′−ジ−ｔ−ブチル−５，５′−ジエチルフェニルメタン、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］、２，４，８，１０−テトラオキスピロ［５，５］ウンデカン、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト；紫外線吸収剤、例えば２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどを添加することによって安定化することができる。また、加工性を向上させる目的で滑剤などの添加剤を添加することもできる。
これらの酸化防止剤の添加量は、飽和ノルボルネン系樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜３質量部、好ましくは０．２〜２質量部である。
本発明の飽和ノルボルネン樹脂には、公知の酸化防止剤、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２′−ジオキシ−３，３′−ジ−ｔ−ブチル−５，５′−ジメチルフェニルメタン、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２′−ジオキシ−３，３′−ジ−ｔ−ブチル−５，５′−ジエチルフェニルメタン、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］、２，４，８，１０−テトラオキスピロ［５，５］ウンデカン、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト；紫外線吸収剤、例えば２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどを添加することによって安定化することができる。また、加工性を向上させる目的で滑剤などの添加剤を添加することもできる。
これらの酸化防止剤の添加量は、飽和ノルボルネン系樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜３質量部、好ましくは０．２〜２質量部である。
さらに飽和ノルボルネン系樹脂には、所望により、フェノール系やリン系などの老化防止剤、耐電防止剤、紫外線吸収剤、上述の易滑剤などの各種添加剤を添加してもよい。特に、液晶は、通常、紫外線により劣化するので、ほかに紫外線防護フィルターを積層するなどの防護手段をとらない場合は、紫外線吸収剤を添加することが好ましい。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾル系紫外線吸収剤、アクリルニトリル系紫外線吸収剤などを用いることができ、それらの中でもベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、添加量は、飽和ノルボルネン樹脂に対して、通常１０〜１００，０００質量ｐｐｍ、好ましくは１００〜１０，０００質量ｐｐｍである。また、溶液流延法によりシートを作製する場合は、表面粗さを小さくするため、レベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤としては、例えば、フッ素系ノニオン界面活性剤、特殊アクリル樹脂系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤など塗料用レベリング剤を用いることができ、それらの中でも溶媒との相溶性の良いものが好ましい。添加量は、飽和ノルボルネン樹脂に対して、通常５〜５０，０００質量ｐｐｍ、好ましくは１０〜２０，０００質量ｐｐｍである。
《製膜》
飽和ノルボルネンフィルムは溶液製膜法、溶融製膜法いずれの方法でも製膜することができる。これらの製膜法について、以下に詳しく説明する。
飽和ノルボルネンフィルムは溶液製膜法、溶融製膜法いずれの方法でも製膜することができる。これらの製膜法について、以下に詳しく説明する。
（溶融製膜）
（１）溶融
上記飽和ノルボルネン樹脂と添加物は溶融製膜に先立ち混合しペレット化するのが好ましい。ペレット化することによって、溶融押し出し機のホッパーでのサージングを抑制し、安定供給が可能となる。好ましいペレットの大きさは断面積が１ｍｍ2〜３００ｍｍ2、長さが１ｍｍ〜３０ｍｍであり、より好ましくは断面積が２ｍｍ2〜１００ｍｍ2、長さが１．５ｍｍ〜１０ｍｍである。
この飽和ノルボルネン樹脂のペレットを溶融押出し機に入れ、１００℃〜２００℃で１分〜１０時間脱水した後、混練押出しする。混練は１軸あるいは２軸の押出し機を使用して行うことができる。
（１）溶融
上記飽和ノルボルネン樹脂と添加物は溶融製膜に先立ち混合しペレット化するのが好ましい。ペレット化することによって、溶融押し出し機のホッパーでのサージングを抑制し、安定供給が可能となる。好ましいペレットの大きさは断面積が１ｍｍ2〜３００ｍｍ2、長さが１ｍｍ〜３０ｍｍであり、より好ましくは断面積が２ｍｍ2〜１００ｍｍ2、長さが１．５ｍｍ〜１０ｍｍである。
この飽和ノルボルネン樹脂のペレットを溶融押出し機に入れ、１００℃〜２００℃で１分〜１０時間脱水した後、混練押出しする。混練は１軸あるいは２軸の押出し機を使用して行うことができる。
この飽和ノルボルネン樹脂は押出機の供給口を介してシリンダー内に供給される。図３は、本発明で用いることができる典型的な押出機２２の概略図を示したものである。シリンダー３２内は供給口４０側から順に、供給口から供給した飽和ノルボルネン樹脂を定量輸送する供給部（領域Ａ）と、飽和ノルボルネン樹脂を溶融混練・圧縮する圧縮部（領域Ｂ）と、溶融混練・圧縮された飽和ノルボルネン樹脂を計量する計量部（領域Ｃ）とで構成される。残存する酸素による溶融樹脂の酸化を防止するために、押出機内を不活性（窒素等）気流中、あるいはベント付き押出し機を用い真空排気しながら実施するのがより好ましい。押出機のスクリュー圧縮比は好ましくは２．５〜４．５に設定され、Ｌ／Ｄは２０〜７０に設定されている。ここでスクリュー圧縮比とは供給部Ａと計量部Ｃとの容積比、即ち供給部Ａの単位長さあたりの容積÷計量部Ｃの単位長さあたりの容積で表され、供給部Ａのスクリュー軸の外径ｄ１、計量部Ｃのスクリュー軸の外径ｄ２、供給部Ａの溝部径ａ１、および計量部Ｃの溝部径ａ２とを使用して算出される。また、Ｌ／Ｄとはシリンダー内径に対するシリンダー長さの比である。また、押出温度は好ましくは２４０〜３２０℃、より好ましくは２５０〜３１０℃、さらに好ましくは２６０℃〜３００℃に設定される。
押し出し機の種類として、一般的には設備コストの比較的安い単軸押し出し機が用いられることが多く、フルフライト、マドック、ダルメージ等のスクリュータイプがあるが、フルフライトタイプが好ましい。また、設備コストは効果であるが、スクリューセグメントを変更することにより、途中でベント口を設けて不要な揮発成分を脱揮させながら押出ができる二軸押出機を用いることが可能である、二軸押し出し機には大きく分類して同方向と異方向のタイプがありどちらも用いることが可能であるが、滞留部分が発生し難くセルフクリーニング性能の高い同方向回転のタイプが好ましい。二軸押出機は設備が効果であるが、混練性が高く、樹脂の供給性能が高いため、低温での押出が可能となるため、飽和ノルボルネン樹脂の製膜に適している。ベント口を適正に配置することにより、未乾燥状態での飽和ノルボルネンペレットやパウダーをそのまま使用することも可能である。又、製膜途中で出たフィルムのミミ等も乾燥させることなしにそのまま再利用することもできる。
なお、好ましいスクリューの直径は目標とする単位時間あたりの押出量によって異なるが、１０ｍｍ〜３００ｍｍ、より好ましくは２０ｍｍ〜２５０ｍｍ、さらに好ましくは３０ｍｍ〜１５０ｍｍである。
なお、好ましいスクリューの直径は目標とする単位時間あたりの押出量によって異なるが、１０ｍｍ〜３００ｍｍ、より好ましくは２０ｍｍ〜２５０ｍｍ、さらに好ましくは３０ｍｍ〜１５０ｍｍである。
（２）濾過
樹脂中の異物濾過のためや異物によるギアポンプ損傷を避けるために、押し出し機出口にフィルター濾材を設けるいわゆるブレーカープレート式の濾過を行うことが好ましい。またさらに精度高く異物濾過をするために、ギアポンプ通過後にいわゆるリーフ型ディスクフィルターを組み込んだ濾過装置を設けることが好ましい。濾過は、濾過部を１カ所設けて行うことができ、また複数カ所設けて行う多段濾過でも良い。フィルター濾材の濾過精度は高い方が好ましいが、濾材の耐圧や濾材の目詰まりによる濾圧上昇から、濾過精度は１５μｍｍ〜３μｍｍが好ましく、さらに好ましくは１０μｍｍ〜３μｍｍである。特に最終的に異物濾過を行うリーフ型ディスクフィルター装置を使用する場合では品質の上で濾過精度の高い濾材を使用することが好ましく、耐圧，フィルターライフの適性を確保するために装填枚数にて調整することが可能である。濾材の種類は、高温高圧下で使用される点から鉄鋼材料を用いることが好ましく、鉄鋼材料の中でも特にステンレス鋼，スチールなどを用いることが好ましく、腐食の点から特にステンレス鋼を用いることが望ましい。濾材の構成としては、線材を編んだものの他に、例えば金属長繊維あるいは金属粉末を焼結し形成する焼結濾材が使用でき、濾過精度，フィルターライフの点から焼結濾材が好ましい。
樹脂中の異物濾過のためや異物によるギアポンプ損傷を避けるために、押し出し機出口にフィルター濾材を設けるいわゆるブレーカープレート式の濾過を行うことが好ましい。またさらに精度高く異物濾過をするために、ギアポンプ通過後にいわゆるリーフ型ディスクフィルターを組み込んだ濾過装置を設けることが好ましい。濾過は、濾過部を１カ所設けて行うことができ、また複数カ所設けて行う多段濾過でも良い。フィルター濾材の濾過精度は高い方が好ましいが、濾材の耐圧や濾材の目詰まりによる濾圧上昇から、濾過精度は１５μｍｍ〜３μｍｍが好ましく、さらに好ましくは１０μｍｍ〜３μｍｍである。特に最終的に異物濾過を行うリーフ型ディスクフィルター装置を使用する場合では品質の上で濾過精度の高い濾材を使用することが好ましく、耐圧，フィルターライフの適性を確保するために装填枚数にて調整することが可能である。濾材の種類は、高温高圧下で使用される点から鉄鋼材料を用いることが好ましく、鉄鋼材料の中でも特にステンレス鋼，スチールなどを用いることが好ましく、腐食の点から特にステンレス鋼を用いることが望ましい。濾材の構成としては、線材を編んだものの他に、例えば金属長繊維あるいは金属粉末を焼結し形成する焼結濾材が使用でき、濾過精度，フィルターライフの点から焼結濾材が好ましい。
（３）ギアポンプ
厚み精度を向上させるためには、吐出量の変動を減少させることが重要であり、押出機出機とダイスの間にギアポンプを設けて、ギアポンプから一定量の飽和ノルボルネン樹脂を供給することは効果がある。ギアポンプとは、ドライブギアとドリブンギアとからなる一対のギアが互いに噛み合った状態で収容され、ドライブギアを駆動して両ギアを噛み合い回転させることにより、ハウジングに形成された吸引口から溶融状態の樹脂をキャビティ内に吸引し、同じくハウジングに形成された吐出口からその樹脂を一定量吐出するものである。押出機先端部分の樹脂圧力が若干の変動があっても、ギアポンプを用いることにより変動を吸収し、製膜装置下流の樹脂圧力の変動は非常に小さなものとなり、厚み変動が改善される。ギアポンプを用いることにより、ダイ部分の樹脂圧力の変動巾を±１％以内にすることが可能である。
ギアポンプによる定量供給性能を向上させるために、スクリューの回転数を変化させて、ギアポンプ前の圧力を一定に制御する方法も用いることができる。また、ギアポンプのギアの変動を解消した３枚以上のギアを用いた高精度ギアポンプも有効である。
厚み精度を向上させるためには、吐出量の変動を減少させることが重要であり、押出機出機とダイスの間にギアポンプを設けて、ギアポンプから一定量の飽和ノルボルネン樹脂を供給することは効果がある。ギアポンプとは、ドライブギアとドリブンギアとからなる一対のギアが互いに噛み合った状態で収容され、ドライブギアを駆動して両ギアを噛み合い回転させることにより、ハウジングに形成された吸引口から溶融状態の樹脂をキャビティ内に吸引し、同じくハウジングに形成された吐出口からその樹脂を一定量吐出するものである。押出機先端部分の樹脂圧力が若干の変動があっても、ギアポンプを用いることにより変動を吸収し、製膜装置下流の樹脂圧力の変動は非常に小さなものとなり、厚み変動が改善される。ギアポンプを用いることにより、ダイ部分の樹脂圧力の変動巾を±１％以内にすることが可能である。
ギアポンプによる定量供給性能を向上させるために、スクリューの回転数を変化させて、ギアポンプ前の圧力を一定に制御する方法も用いることができる。また、ギアポンプのギアの変動を解消した３枚以上のギアを用いた高精度ギアポンプも有効である。
ギアポンプを用いるその他のメリットとしては、スクリュー先端部の圧力を下げて製膜できることから、エネルギー消費の軽減・樹脂温上昇の防止・輸送効率の向上・押出機内での滞留時間の短縮・押出機のＬ／Ｄを短縮が期待できる。また、異物除去のために、フィルターを用いる場合には、ギアポンプが無いと、ろ圧の上昇と共に、スクリューから供給される樹脂量が変動したりすることがあるが、ギアポンプを組み合わせて用いることにより解消が可能である。一方、ギアポンプのデメリットとしては、設備の選定方法によっては、設備の長さが長くなり、樹脂の滞留時間が長くなることと、ギアポンプ部のせん断応力によって分子鎖の切断を引き起こすことがあり、注意が必要である。
樹脂が供給口から押出機に入ってからダイスから出るまでの樹脂の好ましい滞留時間は２分〜６０分であり、より好ましくは３分〜４０分であり、さらに好ましくは４分〜３０分である。
樹脂が供給口から押出機に入ってからダイスから出るまでの樹脂の好ましい滞留時間は２分〜６０分であり、より好ましくは３分〜４０分であり、さらに好ましくは４分〜３０分である。
ギアポンプの軸受循環用ポリマーの流れが悪くなることにより、駆動部と軸受部におけるポリマーによるシールが悪くなり、計量および送液押し出し圧力の変動が大きくなったりする問題が発生するため、飽和ノルボルネン樹脂の溶融粘度に合わせたギアポンプの設計（特にクリアランス）が必要である。また、ギアポンプの滞留部分が飽和ノルボルネン樹脂の劣化の原因となるため、滞留のできるだけ少ない構造が好ましい。押出機とギアポンプあるいはギアポンプとダイ等をつなぐポリマー管やアダプタについても、できるだけ滞留の少ない設計が必要であり、押出圧力安定化のためには、温度の変動をできるだけ小さくすることが好ましい。一般的には、ポリマー管の加熱には設備コストの安価なバンドヒーターが用いられることが多いが、温度変動のより少ないアルミ鋳込みヒーターを用いることがより好ましい。
（４）ダイ
上記の如く構成された押出機によって飽和ノルボルネン樹脂が溶融され、必要に応じ濾過機、ギアポンプを経由して溶融樹脂がダイに連続的に送られる。ダイはダイス内の溶融樹脂の滞留が少ない設計であれば、一般的に用いられるＴダイ、フィッシュテールダイ、ハンガーコートダイの何れのタイプでも構わない。また、ダイの直前に樹脂温度の均一性アップのためのスタティックミキサーを入れることも問題ない。ダイ出口部分のクリアランスは一般的にフィルム厚みの１．０〜５．０倍が良く、好ましくは１．２〜３倍、さらに好ましくは１．３〜２倍である。リップクリアランスがフィルム厚みの１．０倍以上であれば、製膜により面状の良好なシートを得やすいため好ましい。また、リップクリアランスがフィルム厚みの５．０倍以下であれば、シートの厚み精度を高くしやすいため好ましい。ダイはフィルムの厚み精度を決定する非常に重要な設備であり、厚み調整が厳密にコントロールできるものが好ましい。通常厚み調整は４０〜５０ｍｍ間隔で調整可能であるが、好ましくは３５ｍｍ間隔以下、さらに好ましくは２５ｍｍ間隔以下でフィルム厚み調整が可能なタイプが好ましい。また、ダイの温度ムラや巾方向の流速ムラのできるだけ少ない設計が重要である。また、下流のフィルム厚みを計測して、厚み偏差を計算し、その結果をダイの厚み調整にフィードバックさせる自動厚み調整ダイも長期連続生産の厚み変動の低減に有効である。
フィルムの製造は設備コストの安い単層製膜装置が一般的に用いられるが、場合によっては機能層を外層に設けために多層製膜装置を用いて２種以上の構造を有するフィルムの製造も可能である。一般的には機能層を表層に薄く積層することが好ましいが、特に層比を限定するものではない。
上記の如く構成された押出機によって飽和ノルボルネン樹脂が溶融され、必要に応じ濾過機、ギアポンプを経由して溶融樹脂がダイに連続的に送られる。ダイはダイス内の溶融樹脂の滞留が少ない設計であれば、一般的に用いられるＴダイ、フィッシュテールダイ、ハンガーコートダイの何れのタイプでも構わない。また、ダイの直前に樹脂温度の均一性アップのためのスタティックミキサーを入れることも問題ない。ダイ出口部分のクリアランスは一般的にフィルム厚みの１．０〜５．０倍が良く、好ましくは１．２〜３倍、さらに好ましくは１．３〜２倍である。リップクリアランスがフィルム厚みの１．０倍以上であれば、製膜により面状の良好なシートを得やすいため好ましい。また、リップクリアランスがフィルム厚みの５．０倍以下であれば、シートの厚み精度を高くしやすいため好ましい。ダイはフィルムの厚み精度を決定する非常に重要な設備であり、厚み調整が厳密にコントロールできるものが好ましい。通常厚み調整は４０〜５０ｍｍ間隔で調整可能であるが、好ましくは３５ｍｍ間隔以下、さらに好ましくは２５ｍｍ間隔以下でフィルム厚み調整が可能なタイプが好ましい。また、ダイの温度ムラや巾方向の流速ムラのできるだけ少ない設計が重要である。また、下流のフィルム厚みを計測して、厚み偏差を計算し、その結果をダイの厚み調整にフィードバックさせる自動厚み調整ダイも長期連続生産の厚み変動の低減に有効である。
フィルムの製造は設備コストの安い単層製膜装置が一般的に用いられるが、場合によっては機能層を外層に設けために多層製膜装置を用いて２種以上の構造を有するフィルムの製造も可能である。一般的には機能層を表層に薄く積層することが好ましいが、特に層比を限定するものではない。
（５）キャスト
上記方法にて、ダイよりシート上に押し出された溶融樹脂をキャスティングドラム上で冷却固化し、フイルムを得る。この時、静電印加法、エアナイフ法、エアーチャンバー法、バキュームノズル法、タッチロール法等の方法を用い、キャスティングドラムと溶融押出ししたシートの密着を上げることが好ましい。このような密着向上法は、溶融押出しシートの全面に実施してもよく、一部に実施しても良い。特にエッジピニングと呼ばれる、フイルムの両端部にのみを密着させる方法が取られることも多いが、これに限定されるものではない。
キャスティングドラムは複数本用いて徐冷することがより好ましい、特に一般的には３本の冷却ロールを用いることが比較的よく行われているが、この限りではない。ロールの直径は５０ｍｍ〜５０００ｍｍが好ましく、より好ましくは、１００ｍｍ〜２０００ｍｍ、さらに好ましくは１５０ｍｍ〜１０００ｍｍである。複数本あるロールの間隔は、面間で０．３ｍｍ〜３００ｍｍが好ましく、より好ましくは、１ｍｍ〜１００ｍｍ、さらに好ましくは３ｍｍ〜３０ｍｍである。
キャスティングドラムは６０℃〜１６０℃が好ましく、より好ましくは７０℃〜１５０℃、さらに好ましくは８０℃〜１４０℃である。この後、キャスティングドラムから剥ぎ取り、ニップロールを経た後巻き取る。巻き取り速度は１０ｍ／分〜１００ｍ／分が好ましく、より好ましくは１５ｍ／分〜８０ｍ／分、さらに好ましくは２０ｍ／分〜７０ｍ／分である。
上記方法にて、ダイよりシート上に押し出された溶融樹脂をキャスティングドラム上で冷却固化し、フイルムを得る。この時、静電印加法、エアナイフ法、エアーチャンバー法、バキュームノズル法、タッチロール法等の方法を用い、キャスティングドラムと溶融押出ししたシートの密着を上げることが好ましい。このような密着向上法は、溶融押出しシートの全面に実施してもよく、一部に実施しても良い。特にエッジピニングと呼ばれる、フイルムの両端部にのみを密着させる方法が取られることも多いが、これに限定されるものではない。
キャスティングドラムは複数本用いて徐冷することがより好ましい、特に一般的には３本の冷却ロールを用いることが比較的よく行われているが、この限りではない。ロールの直径は５０ｍｍ〜５０００ｍｍが好ましく、より好ましくは、１００ｍｍ〜２０００ｍｍ、さらに好ましくは１５０ｍｍ〜１０００ｍｍである。複数本あるロールの間隔は、面間で０．３ｍｍ〜３００ｍｍが好ましく、より好ましくは、１ｍｍ〜１００ｍｍ、さらに好ましくは３ｍｍ〜３０ｍｍである。
キャスティングドラムは６０℃〜１６０℃が好ましく、より好ましくは７０℃〜１５０℃、さらに好ましくは８０℃〜１４０℃である。この後、キャスティングドラムから剥ぎ取り、ニップロールを経た後巻き取る。巻き取り速度は１０ｍ／分〜１００ｍ／分が好ましく、より好ましくは１５ｍ／分〜８０ｍ／分、さらに好ましくは２０ｍ／分〜７０ｍ／分である。
製膜幅は好ましくは０．７ｍ〜５ｍ、さらに好ましくは１ｍ〜４ｍ、さらに好ましくは１．３ｍ〜３ｍである。このようにして得られた未延伸フィルムの厚みは３０μｍ〜４００μｍが好ましく、より好ましくは４０μｍ〜３００μｍ、さらに好ましくは５０μｍ〜２００μｍである。
製膜した飽和ノルボルネンフィルムの厚みむらは長手方向、幅方向いずれも０％〜２％が好ましく、より好ましくは０％〜１．５％、さらに好ましくは０％〜１％であり、これらを上述の方法で延伸することにより、本発明の飽和ノルボルネンフィルムを得ることができる。
また、いわゆるタッチロール法を用いる場合、タッチロール表面は、ゴム、テフロン（登録商標)等の樹脂でもよく、金属ロールでも良い。さらに、金属ロールの厚みを薄くすることでタッチしたときの圧力によりロール表面が若干くぼみ、圧着面積が広くなりフレキシブルロールと呼ばれる様なロールを用いることも可能である。
タッチロール温度は６０℃〜１６０℃が好ましく、より好ましくは７０℃〜１５０℃、さらに好ましくは８０℃〜１４０℃である。
製膜した飽和ノルボルネンフィルムの厚みむらは長手方向、幅方向いずれも０％〜２％が好ましく、より好ましくは０％〜１．５％、さらに好ましくは０％〜１％であり、これらを上述の方法で延伸することにより、本発明の飽和ノルボルネンフィルムを得ることができる。
また、いわゆるタッチロール法を用いる場合、タッチロール表面は、ゴム、テフロン（登録商標)等の樹脂でもよく、金属ロールでも良い。さらに、金属ロールの厚みを薄くすることでタッチしたときの圧力によりロール表面が若干くぼみ、圧着面積が広くなりフレキシブルロールと呼ばれる様なロールを用いることも可能である。
タッチロール温度は６０℃〜１６０℃が好ましく、より好ましくは７０℃〜１５０℃、さらに好ましくは８０℃〜１４０℃である。
（６）巻き取り
このようにして得たシートは両端をトリミングし、巻き取ることが好ましい。トリミングされた部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処理や解重合・再重合等の処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料としてまたは異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。トリミングカッターはロータリーカッター、シャー刃、ナイフ等の何れのタイプの物を用いても構わない。材質についても、炭素鋼、ステンレス鋼何れを用いても構わない。一般的には、超硬刃、セラミック刃を用いると刃物の寿命が長く、また切り粉の発生が抑えられて好ましい。
また、巻き取り前に、少なくとも片面にラミフィルムを付けることも、傷防止の観点から好ましい。好ましい巻き取り張力は１ｋｇ/ｍ幅〜５０ｋｇ/幅、より好ましくは２ｋｇ/ｍ幅〜４０ｋｇ/幅、さらに好ましくは３ｋｇ/ｍ幅〜２０ｋｇ/幅である。巻き取り張力が１ｋｇ/ｍ幅以上であれば、フィルムを均一に巻き取りやすいため好ましい。また、巻き取り張力が５０ｋｇ/幅以下であれば、フィルムが堅巻きになることがなく、巻き外観が美しく、フィルムのコブの部分がクリープ現象により延びてフィルムの波うちの原因になったりフィルムの伸びによる残留複屈折が生じるようなこともない。巻き取り張力は、ラインの途中のテンションコントロールにより検知し、一定の巻き取り張力になるようにコントロールされながら巻き取ることが好ましい。製膜ラインの場所により、フィルム温度に差がある場合には熱膨張により、フィルムの長さが僅かに異なる場合があるため、ニップロール間のドロー比率を調整し、ライン途中でフィルムに規定以上の張力がかからない様にすることが必要である。
巻き取り張力はテンションコントロールの制御により、一定張力で巻き取ることもできるが、巻き取った直径に応じてテーパーをつけ、適正な巻取り張力にすることがより好ましい。一般的には巻き径が大きくなるにつれて張力を少しずつ小さくするが、場合によっては、巻き径が大きくなるにしたがって張力を大きくする方が好ましい場合もある。
このような巻き取り方法は、下述の溶液製膜法にも同様に適用できる。
このようにして得たシートは両端をトリミングし、巻き取ることが好ましい。トリミングされた部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処理や解重合・再重合等の処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料としてまたは異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。トリミングカッターはロータリーカッター、シャー刃、ナイフ等の何れのタイプの物を用いても構わない。材質についても、炭素鋼、ステンレス鋼何れを用いても構わない。一般的には、超硬刃、セラミック刃を用いると刃物の寿命が長く、また切り粉の発生が抑えられて好ましい。
また、巻き取り前に、少なくとも片面にラミフィルムを付けることも、傷防止の観点から好ましい。好ましい巻き取り張力は１ｋｇ/ｍ幅〜５０ｋｇ/幅、より好ましくは２ｋｇ/ｍ幅〜４０ｋｇ/幅、さらに好ましくは３ｋｇ/ｍ幅〜２０ｋｇ/幅である。巻き取り張力が１ｋｇ/ｍ幅以上であれば、フィルムを均一に巻き取りやすいため好ましい。また、巻き取り張力が５０ｋｇ/幅以下であれば、フィルムが堅巻きになることがなく、巻き外観が美しく、フィルムのコブの部分がクリープ現象により延びてフィルムの波うちの原因になったりフィルムの伸びによる残留複屈折が生じるようなこともない。巻き取り張力は、ラインの途中のテンションコントロールにより検知し、一定の巻き取り張力になるようにコントロールされながら巻き取ることが好ましい。製膜ラインの場所により、フィルム温度に差がある場合には熱膨張により、フィルムの長さが僅かに異なる場合があるため、ニップロール間のドロー比率を調整し、ライン途中でフィルムに規定以上の張力がかからない様にすることが必要である。
巻き取り張力はテンションコントロールの制御により、一定張力で巻き取ることもできるが、巻き取った直径に応じてテーパーをつけ、適正な巻取り張力にすることがより好ましい。一般的には巻き径が大きくなるにつれて張力を少しずつ小さくするが、場合によっては、巻き径が大きくなるにしたがって張力を大きくする方が好ましい場合もある。
このような巻き取り方法は、下述の溶液製膜法にも同様に適用できる。
（溶液製膜）
飽和ノルボルネンフィルムを溶液製膜法により製膜するときには、まず飽和ノルボルネン樹脂を溶媒に溶解させる。溶媒に溶解させる際の飽和ノルボルネン樹脂の濃度は３〜５０質量％が好ましく、より好ましくは５〜４０質量％、さらに好ましくは１０〜３５質量％である。得られる溶液の室温における粘度は、通常は１〜１，０００，０００（ｍＰａ・ｓ）、好ましくは１０〜１００，０００（ｍＰａ・ｓ）、さらに好ましくは１００〜５０，０００（ｍＰａ・ｓ）、特に好ましくは１，０００〜４０，０００（ｍＰａ・ｓ）である。
使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１−メトキシ−２−プロパノール等のセロソルブ系溶媒、ジアセトンアルコール、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノン、エチルシクロヘキサノン、１，２−ジメチルシクロヘキサン等のケトン系溶媒、乳酸メチル、乳酸エチル等のエステル系溶媒、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン含有溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、１−ペンタノール、１−ブタノール等のアルコール系溶媒を挙げることができる。
飽和ノルボルネンフィルムを溶液製膜法により製膜するときには、まず飽和ノルボルネン樹脂を溶媒に溶解させる。溶媒に溶解させる際の飽和ノルボルネン樹脂の濃度は３〜５０質量％が好ましく、より好ましくは５〜４０質量％、さらに好ましくは１０〜３５質量％である。得られる溶液の室温における粘度は、通常は１〜１，０００，０００（ｍＰａ・ｓ）、好ましくは１０〜１００，０００（ｍＰａ・ｓ）、さらに好ましくは１００〜５０，０００（ｍＰａ・ｓ）、特に好ましくは１，０００〜４０，０００（ｍＰａ・ｓ）である。
使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１−メトキシ−２−プロパノール等のセロソルブ系溶媒、ジアセトンアルコール、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノン、エチルシクロヘキサノン、１，２−ジメチルシクロヘキサン等のケトン系溶媒、乳酸メチル、乳酸エチル等のエステル系溶媒、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン含有溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、１−ペンタノール、１−ブタノール等のアルコール系溶媒を挙げることができる。
また、上記以外でも、ＳＰ値（溶解度パラメーター）が通常１０〜３０（ＭＰａ1/2）、好ましくは１０〜２５（ＭＰａ1/2）、さらに好ましくは１５〜２５（ＭＰａ1/2）、特に好ましくは１５〜２０（ＭＰａ1/2）の範囲の溶媒を使用するのが好ましい。上記溶媒は単独であるいは２種以上併用して使用することができる。溶媒を２種以上併用する場合には、混合物としてのＳＰ値の範囲を上記範囲内とすることが好ましい。このとき、混合物としてのＳＰ値の値は、その質量比から求めることができ、例えば二種の混合物の場合は、各溶媒の質量分率をＷ１，Ｗ２、また、ＳＰ値をＳＰ１，ＳＰ２とすると混合溶媒のＳＰ値は下記式により計算した値として求めることができる。
ＳＰ値＝Ｗ１・ＳＰ１＋Ｗ２・ＳＰ２
さらに飽和ノルボルネンフィルムの表面平滑性を向上させるためにレベリング剤を添加してもよい。一般的なレベリング剤であれば何れも使用できるが、例えば、フッ素系ノニオン界面活性剤、特殊アクリル樹脂系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤などを使用することができる。
ＳＰ値＝Ｗ１・ＳＰ１＋Ｗ２・ＳＰ２
さらに飽和ノルボルネンフィルムの表面平滑性を向上させるためにレベリング剤を添加してもよい。一般的なレベリング剤であれば何れも使用できるが、例えば、フッ素系ノニオン界面活性剤、特殊アクリル樹脂系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤などを使用することができる。
飽和ノルボルネンフィルムを溶剤キャスト法により製造する方法としては、上記溶液をダイスやコーターを使用して金属ドラム、スチールベルト、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステルフィルム、ポリテトラフルオロエチレン製ベルトなどの基材の上に塗布し、その後溶剤を乾燥・除去して基材よりフィルムを剥離する方法が一般に挙げられる。
また、スプレー、ハケ、ロールスピンコート、ディッピングなどの手段を用いて，樹脂溶液を基材に塗布し、その後溶剤を乾燥・除去して基材よりフィルムを剥離することにより製造することもできる。なお、塗布の繰り返しにより厚みや表面平滑性等を制御してもよい。
また、基材としてポリエステルフィルムを使用する場合には、表面処理されたフィルムを使用してもよい。表面処理の方法としては、一般的に行われている親水化処理方法、例えばアクリル系樹脂やスルホン酸塩基含有樹脂をコーテイングやラミネートにより積層する方法、あるいは、コロナ放電処理等によりフィルム表面の親水性を向上させる方法等が挙げられる。
また、スプレー、ハケ、ロールスピンコート、ディッピングなどの手段を用いて，樹脂溶液を基材に塗布し、その後溶剤を乾燥・除去して基材よりフィルムを剥離することにより製造することもできる。なお、塗布の繰り返しにより厚みや表面平滑性等を制御してもよい。
また、基材としてポリエステルフィルムを使用する場合には、表面処理されたフィルムを使用してもよい。表面処理の方法としては、一般的に行われている親水化処理方法、例えばアクリル系樹脂やスルホン酸塩基含有樹脂をコーテイングやラミネートにより積層する方法、あるいは、コロナ放電処理等によりフィルム表面の親水性を向上させる方法等が挙げられる。
上記溶剤キャスト法の乾燥（溶剤除去）工程については、特に制限はなく一般的に用いられる方法、例えば多数のローラーを介して乾燥炉中を通過させる方法等で実施できるが、乾燥工程において溶媒の蒸発に伴い気泡が発生すると、フィルムの特性を著しく低下させるので、これを避けるために、乾燥工程を２段以上の複数工程とし、各工程での温度あるいは風量を制御することが好ましい。
また、飽和ノルボルネンフィルム中の残留溶媒量は、通常は１０質量％以下、好ましくは５質量％以下、さらに好ましくは１質量％以下、特に好ましくは０．５質量％以下である。このように残留溶剤を少なくすることで、より一層粘着跡故障を軽減することができるため、好ましい。
本発明の飽和ノルボルネンフィルムの厚さは、１０〜３００μｍが好ましく、より好ましくは２０〜２５０μｍ、さらに好ましくは３０〜２００μｍであり、厚み分布は、平均値に対して±８％以内が好ましく、より好ましくは±５％以内、さらに好ましくは±３％以内である。また、１ｃｍあたりの厚みの変動は、通常は５％以下、好ましくは３％以下、さらに好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。
また、飽和ノルボルネンフィルム中の残留溶媒量は、通常は１０質量％以下、好ましくは５質量％以下、さらに好ましくは１質量％以下、特に好ましくは０．５質量％以下である。このように残留溶剤を少なくすることで、より一層粘着跡故障を軽減することができるため、好ましい。
本発明の飽和ノルボルネンフィルムの厚さは、１０〜３００μｍが好ましく、より好ましくは２０〜２５０μｍ、さらに好ましくは３０〜２００μｍであり、厚み分布は、平均値に対して±８％以内が好ましく、より好ましくは±５％以内、さらに好ましくは±３％以内である。また、１ｃｍあたりの厚みの変動は、通常は５％以下、好ましくは３％以下、さらに好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。
《延伸》
上述のようにして溶液製膜または溶融製膜した飽和ノルボルネンフィルムを、上述の方法で縦延伸、横延伸する。これらの縦延伸、横延伸は溶液製膜、溶融製膜と切り離して実施しても良いし、連続して行っても良い。すなわち、製膜後、一端巻き取ったものを再度送り出して延伸してもよいし、製膜後そのまま連続して延伸してもよい。
このような延伸は溶剤量が０．５質量％以下で実施するのが好ましく、より好ましくは０．３質量％以下、さらに好ましくは０．１質量％以下である。
上述のようにして溶液製膜または溶融製膜した飽和ノルボルネンフィルムを、上述の方法で縦延伸、横延伸する。これらの縦延伸、横延伸は溶液製膜、溶融製膜と切り離して実施しても良いし、連続して行っても良い。すなわち、製膜後、一端巻き取ったものを再度送り出して延伸してもよいし、製膜後そのまま連続して延伸してもよい。
このような延伸は溶剤量が０．５質量％以下で実施するのが好ましく、より好ましくは０．３質量％以下、さらに好ましくは０．１質量％以下である。
＜飽和ノルボルネンフィルムの加工および使用＞
このようにして得た飽和ノルボルネンフィルムは単独で使用してもよく、これらと偏光板とを組み合わせて使用してもよく、これらの上に液晶層や屈折率を制御した層（低反射層）やハードコート層を設けて使用しても良い。これらは以下の工程により達成できる。
このようにして得た飽和ノルボルネンフィルムは単独で使用してもよく、これらと偏光板とを組み合わせて使用してもよく、これらの上に液晶層や屈折率を制御した層（低反射層）やハードコート層を設けて使用しても良い。これらは以下の工程により達成できる。
《表面処理》
飽和ノルボルネンフィルムは表面処理を行うことによって、各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上させることができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、さらにまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などが挙げられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００ｋｅＶ下で２０〜５００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００ｋｅＶ下で２０〜３００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられる。
これらの中でも特に好ましくは、グロー放電処理、コロナ処理、火炎処理である。
機能層との接着のため下塗り層を設けることも好ましい。この層は上記表面処理をした後、塗設しても良く、表面処理なしで塗設しても良い。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁に記載されている。これらの表面処理、下塗り工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。
飽和ノルボルネンフィルムは表面処理を行うことによって、各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上させることができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、さらにまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などが挙げられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００ｋｅＶ下で２０〜５００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００ｋｅＶ下で２０〜３００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられる。
これらの中でも特に好ましくは、グロー放電処理、コロナ処理、火炎処理である。
機能層との接着のため下塗り層を設けることも好ましい。この層は上記表面処理をした後、塗設しても良く、表面処理なしで塗設しても良い。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁に記載されている。これらの表面処理、下塗り工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。
《機能層の付与》
本発明の飽和ノルボルネンフィルムに、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁〜４５頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせることが好ましい。中でも好ましいのが、偏光膜の付与（偏光板）、光学補償層の付与（光学補償シート）、反射防止層の付与（反射防止フィルム）である。以下にこれらの好ましい態様について、順に説明する。
本発明の飽和ノルボルネンフィルムに、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁〜４５頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせることが好ましい。中でも好ましいのが、偏光膜の付与（偏光板）、光学補償層の付与（光学補償シート）、反射防止層の付与（反射防止フィルム）である。以下にこれらの好ましい態様について、順に説明する。
（イ）偏光膜の付与（偏光板の作成）
（イー１）使用素材
現在、市販の偏光膜は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素を浸透させることで作製されるのが一般的である。偏光膜は、Optiva Inc.に代表される塗布型偏光膜も利用できる。偏光膜におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏光性能を発現する。二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例えば、スルホ基、アミノ基、ヒドロキシル基）を有することが好ましい。例えば、発明協会公開技法（公技番号２００１−１７４５号、２００１年３月１５日発行、発明協会）５８頁に記載の化合物が挙げられる。
偏光膜のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。バインダーには、例えば特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号および同９−３１６１２７号の各公報に記載がある。ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールは、二種以上を併用してもよい。
（イー１）使用素材
現在、市販の偏光膜は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素を浸透させることで作製されるのが一般的である。偏光膜は、Optiva Inc.に代表される塗布型偏光膜も利用できる。偏光膜におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏光性能を発現する。二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例えば、スルホ基、アミノ基、ヒドロキシル基）を有することが好ましい。例えば、発明協会公開技法（公技番号２００１−１７４５号、２００１年３月１５日発行、発明協会）５８頁に記載の化合物が挙げられる。
偏光膜のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。バインダーには、例えば特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号および同９−３１６１２７号の各公報に記載がある。ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールは、二種以上を併用してもよい。
バインダー厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。厚みの上限は、液晶表示装置の光漏れの観点からは、薄ければ薄い程よい。現在市販の偏光板の厚み（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましい。
偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。架橋性の官能基を有するポリマー、モノマーをバインダー中に混合しても良く、バインダーポリマー自身に架橋性官能基を付与しても良い。架橋は、光、熱あるいはｐＨ変化により行うことができ、架橋構造をもったバインダーを形成することができる。架橋剤については、米国再発行特許第２３２９７号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物（例えば、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。バインダーの架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１〜２０質量％が好ましい。偏光素子の配向性、偏光膜の耐湿熱性が良好となる。
架橋反応が終了後でも、未反応の架橋剤は１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このようにすることで、耐候性が向上する。
偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。架橋性の官能基を有するポリマー、モノマーをバインダー中に混合しても良く、バインダーポリマー自身に架橋性官能基を付与しても良い。架橋は、光、熱あるいはｐＨ変化により行うことができ、架橋構造をもったバインダーを形成することができる。架橋剤については、米国再発行特許第２３２９７号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物（例えば、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。バインダーの架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１〜２０質量％が好ましい。偏光素子の配向性、偏光膜の耐湿熱性が良好となる。
架橋反応が終了後でも、未反応の架橋剤は１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このようにすることで、耐候性が向上する。
（イー２）偏光膜の延伸
偏光膜は、偏光膜を延伸するか（延伸法）、もしくはラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。
延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。ここでいう延伸倍率は、（延伸後の長さ／延伸前の長さ）である。延伸はＭＤ方向に平行に行っても良く（平行延伸）、斜め方向におこなっても良い（斜め延伸）。これらの延伸は、１回で行っても、数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。
偏光膜は、偏光膜を延伸するか（延伸法）、もしくはラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。
延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。ここでいう延伸倍率は、（延伸後の長さ／延伸前の長さ）である。延伸はＭＤ方向に平行に行っても良く（平行延伸）、斜め方向におこなっても良い（斜め延伸）。これらの延伸は、１回で行っても、数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。
ａ）平行延伸法
延伸に先立ち、ＰＶＡフィルムを膨潤させる。膨潤度は好ましくは１．２〜２．０倍（膨潤前と膨潤後の質量比）である。この後、ガイドロール等を介して連続搬送しつつ、水系媒体浴内や二色性物質溶解の染色浴内で、好ましくは１５〜５０℃、より好ましくは１７〜４０℃の浴温で延伸する。延伸は２対のニップロールで把持し、後段のニップロールの搬送速度を前段のそれより大きくすることで達成できる。延伸倍率は、延伸後／初期状態の長さ比（以下同じ）に基づくが前記作用効果の点より好ましい延伸倍率は好ましくは１．２〜３．５倍、より好ましくは１．５〜３．０倍である。この後、５０℃〜９０℃において乾燥させて偏光膜を得る。
延伸に先立ち、ＰＶＡフィルムを膨潤させる。膨潤度は好ましくは１．２〜２．０倍（膨潤前と膨潤後の質量比）である。この後、ガイドロール等を介して連続搬送しつつ、水系媒体浴内や二色性物質溶解の染色浴内で、好ましくは１５〜５０℃、より好ましくは１７〜４０℃の浴温で延伸する。延伸は２対のニップロールで把持し、後段のニップロールの搬送速度を前段のそれより大きくすることで達成できる。延伸倍率は、延伸後／初期状態の長さ比（以下同じ）に基づくが前記作用効果の点より好ましい延伸倍率は好ましくは１．２〜３．５倍、より好ましくは１．５〜３．０倍である。この後、５０℃〜９０℃において乾燥させて偏光膜を得る。
ｂ）斜め延伸法
これには特開２００２−８６５５４号公報に記載の斜め方向に傾斜め方向に張り出したテンターを用い延伸する方法を用いることができる。この延伸は空気中で延伸するため、事前に含水させて延伸しやすくすることが必用である。好ましい含水率は５％〜１００％、より好ましくは１０％〜１００％である。
延伸時の温度は４０℃〜９０℃が好ましく、より好ましくは５０℃〜８０℃である。相対湿度は５０％〜１００％が好ましく、より好ましくは７０％〜１００％、さらに好ましくは８０％〜１００％である。長手方向の進行速度は、１ｍ／分以上が好ましく、より好ましくは３ｍ／分以上である。
延伸の終了後、好ましくは５０℃〜１００℃、より好ましくは６０℃〜９０℃で、好ましくは０．５分〜１０分乾燥する。乾燥時間は、より好ましくは１分〜５分である。
このようにして得られた偏光膜の吸収軸は１０度〜８０度が好ましく、より好ましくは３０度〜６０度であり、さらに好ましくは実質的に４５度（４０度〜５０度）である。
これには特開２００２−８６５５４号公報に記載の斜め方向に傾斜め方向に張り出したテンターを用い延伸する方法を用いることができる。この延伸は空気中で延伸するため、事前に含水させて延伸しやすくすることが必用である。好ましい含水率は５％〜１００％、より好ましくは１０％〜１００％である。
延伸時の温度は４０℃〜９０℃が好ましく、より好ましくは５０℃〜８０℃である。相対湿度は５０％〜１００％が好ましく、より好ましくは７０％〜１００％、さらに好ましくは８０％〜１００％である。長手方向の進行速度は、１ｍ／分以上が好ましく、より好ましくは３ｍ／分以上である。
延伸の終了後、好ましくは５０℃〜１００℃、より好ましくは６０℃〜９０℃で、好ましくは０．５分〜１０分乾燥する。乾燥時間は、より好ましくは１分〜５分である。
このようにして得られた偏光膜の吸収軸は１０度〜８０度が好ましく、より好ましくは３０度〜６０度であり、さらに好ましくは実質的に４５度（４０度〜５０度）である。
（イー３）貼り合せ
上記表面処理後の飽和ノルボルネンフィルムと、延伸して調製した偏光膜を貼り合わせ偏光板を調製する。張り合わせる方向は、飽和ノルボルネンフィルムの流延軸方向と偏光板の延伸軸方向が４５度になるように行うのが好ましい。
貼り合わせの接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液、エポキシ系接着剤等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂、エポキシ系接着剤が好ましい。接着剤層厚みは乾燥後で０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０５〜５μｍが特に好ましい。
このようにして得た偏光板の光線透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０〜５０％の範囲にあることが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。
さらに、このようにして得た偏光板はλ／４板と積層し、円偏光を作成することができる。この場合λ／４の遅相軸と偏光板の吸収軸を４５度になるように積層する。この時、λ／４は特に限定されないが、より好ましくは低波長ほどレターデーションが小さくなるような波長依存性を有するものがより好ましい。さらには長手方向に対し２０度〜７０度傾いた吸収軸を有する偏光膜、および液晶性化合物からなる光学異方性層から成るλ/４板を用いることが好ましい。
上記表面処理後の飽和ノルボルネンフィルムと、延伸して調製した偏光膜を貼り合わせ偏光板を調製する。張り合わせる方向は、飽和ノルボルネンフィルムの流延軸方向と偏光板の延伸軸方向が４５度になるように行うのが好ましい。
貼り合わせの接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液、エポキシ系接着剤等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂、エポキシ系接着剤が好ましい。接着剤層厚みは乾燥後で０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０５〜５μｍが特に好ましい。
このようにして得た偏光板の光線透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０〜５０％の範囲にあることが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。
さらに、このようにして得た偏光板はλ／４板と積層し、円偏光を作成することができる。この場合λ／４の遅相軸と偏光板の吸収軸を４５度になるように積層する。この時、λ／４は特に限定されないが、より好ましくは低波長ほどレターデーションが小さくなるような波長依存性を有するものがより好ましい。さらには長手方向に対し２０度〜７０度傾いた吸収軸を有する偏光膜、および液晶性化合物からなる光学異方性層から成るλ/４板を用いることが好ましい。
（ロ）光学補償層の付与（光学補償シートの作成）
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するためのものであり、飽和ノルボルネンフィルムの上に配向膜を形成し、さらに光学異方性層を付与することで形成される。
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するためのものであり、飽和ノルボルネンフィルムの上に配向膜を形成し、さらに光学異方性層を付与することで形成される。
（ロー１）配向膜
上記表面処理した飽和ノルボルネンフィルム上に配向膜を設ける。この膜は、液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光子上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性分子を配向させる機能のある分子構造を有する。
本発明では、液晶性分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例えば、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。
上記表面処理した飽和ノルボルネンフィルム上に配向膜を設ける。この膜は、液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光子上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性分子を配向させる機能のある分子構造を有する。
本発明では、液晶性分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例えば、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。
配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができし、これらの組み合わせを複数使用することができる。ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。
液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶性分子の種類および必要とする配向状態に応じて決定する。例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２−６２４２６号公報の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。
架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。が発生することがある。
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行って良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えば、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには光学異方性層の層表面の欠陥が著しく減少する。
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行って良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えば、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには光学異方性層の層表面の欠陥が著しく減少する。
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
配向膜は、透明支持体上または上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
配向膜は、透明支持体上または上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
工業的に実施する場合、搬送している偏光膜のついたフィルムに対し、回転するラビングロールを接触させることで達成するが、ラビングロールの真円度、円筒度、振れ（偏芯）はいずれも３０μｍ以下であることが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、０．１〜９０°が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０°以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。フィルムの搬送速度は１〜１００ｍ／ｍｉｎが好ましい。ラビング角は０〜６０°の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、４０〜５０°が好ましく、４５°が特に好ましい。
このようにして得た配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。
このようにして得た配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。
次に、配向膜の上に光学異方性層の液晶性分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させる。
光学異方性層に用いる液晶性分子には、棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子が含まれる。棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。
光学異方性層に用いる液晶性分子には、棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子が含まれる。棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。
（ロー２）棒状液晶性分子
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性分子として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性分子は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶性分子については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
棒状液晶性分子の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽基或はカチオン重合性基が好ましく、具体的には、例えば特開２００２−６２４２７号公報の段落番号［００６４］〜［００８６］記載の重合性基、重合性液晶化合物が挙げられる。
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性分子として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性分子は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶性分子については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
棒状液晶性分子の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽基或はカチオン重合性基が好ましく、具体的には、例えば特開２００２−６２４２７号公報の段落番号［００６４］〜［００８６］記載の重合性基、重合性液晶化合物が挙げられる。
（ロー３）円盤状液晶性分子
円盤状（ディスコティック）液晶性分子には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
円盤状（ディスコティック）液晶性分子には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
円盤状液晶性分子としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。円盤状液晶性分子から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物が円盤状液晶性分子である必要はなく、例えば、低分子の円盤状液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。円盤状液晶性分子の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、円盤状液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。
円盤状液晶性分子を重合により固定するためには、円盤状液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基は、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことができる。例えば、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［０１５１］〜［０１６８］記載の化合物等が挙げられる。
円盤状液晶性分子を重合により固定するためには、円盤状液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基は、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことができる。例えば、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［０１５１］〜［０１６８］記載の化合物等が挙げられる。
光学異方性層の深さ方向でかつ偏光膜の面からの距離の増加と共に増加または減少している。角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加および減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度は、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。さらに、角度は連続的に変化することが好ましい。
偏光膜側の円盤状液晶性分子の長軸の平均方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）の円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。
偏光膜側の円盤状液晶性分子の長軸の平均方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）の円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。
（ロー４）光学異方性層の他の組成物
上記の液晶性分子と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上することができる。液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。
上記の液晶性分子と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上することができる。液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。
円盤状液晶性分子とともに使用するポリマーは、円盤状液晶性分子に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
円盤状液晶性分子のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
円盤状液晶性分子のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
（ロー５）光学異方性層の形成
光学異方性層は、液晶性分子および必要に応じて後述の重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。
光学異方性層は、液晶性分子および必要に応じて後述の重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。
（ロー６）液晶性分子の配向状態の固定
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２,３６７,６６１号、同２,３６７,６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２,４４８,８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２,７２２,５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３,０４６,１２７号、同２,９５１,７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３,５４９,３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４,２３９,８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４,２１２,９７０号明細書記載）が含まれる。
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２,３６７,６６１号、同２,３６７,６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２,４４８,８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２,７２２,５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３,０４６,１２７号、同２,９５１,７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３,５４９,３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４,２３９,８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４,２１２,９７０号明細書記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
この光学補償フィルムと偏光膜を組み合わせることも好ましい。具体的には、上記のような光学異方性層用塗布液を偏光膜の表面に塗布することにより光学異方性層を形成する。その結果、偏光膜と光学異方性層との間にポリマーフイルムを使用することなく、偏光膜の寸度変化にともなう応力（歪み×断面積×弾性率）が小さい薄い偏光板が作成される。本発明に従う偏光板を大型の液晶表示装置に取り付けると、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い画像を表示することができる。
偏光膜と光学補償層の傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦または横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。通常の傾斜角度は４５°である。しかし、最近は、透過型、反射型および半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５°でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
偏光膜と光学補償層の傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦または横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。通常の傾斜角度は４５°である。しかし、最近は、透過型、反射型および半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５°でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
（ロー７）液晶表示装置
このような光学補償フィルムが用いられる各液晶モードについて説明する。
このような光学補償フィルムが用いられる各液晶モードについて説明する。
（ＴＮモード液晶表示装置）
カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
（ＯＣＢモード液晶表示装置）
棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許第４,５８３,８２５号、同５,４１０,４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensated Bend) 液晶モードとも呼ばれる。
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許第４,５８３,８２５号、同５,４１０,４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensated Bend) 液晶モードとも呼ばれる。
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
（ＶＡモード液晶表示装置）
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向しているのが特徴であり、ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向しているのが特徴であり、ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
（ＩＰＳモード液晶表示装置）
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に面内に水平に配向しているのが特徴であり、これが電圧印加の有無で液晶の配向方向を変えることでスイッチングするのが特徴である。具体的には特開２００４−３６５９４１号、特開２００４−１２７３１号、特開２００４−２１５６２０号、特開２００２−２２１７２６号、特開２００２−５５３４１号、特開２００３−１９５３３３号各公報に記載のものなどを使用できる。
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に面内に水平に配向しているのが特徴であり、これが電圧印加の有無で液晶の配向方向を変えることでスイッチングするのが特徴である。具体的には特開２００４−３６５９４１号、特開２００４−１２７３１号、特開２００４−２１５６２０号、特開２００２−２２１７２６号、特開２００２−５５３４１号、特開２００３−１９５３３３号各公報に記載のものなどを使用できる。
（その他液晶表示装置）
ＥＣＢモードおよびＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。
ＥＣＢモードおよびＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。
（ハ）反射防止層の付与（反射防止フィルム）
反射防止膜は、一般に、防汚性層でもある低屈折率層、および低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）とを透明基体上に設けて成る。
屈折率の異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を積層させた多層膜として、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報）して薄膜を形成する方法が挙げられる。
一方、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が各種提案されている。
上述したような塗布による反射防止フィルムに最上層表面が微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した反射防止層から成る反射防止フィルムも挙げられる。
本発明の飽和ノルボルネンフィルムは上記いずれの方式にも適用できるが、特に好ましいのが塗布による方式（塗布型）である。
反射防止膜は、一般に、防汚性層でもある低屈折率層、および低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）とを透明基体上に設けて成る。
屈折率の異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を積層させた多層膜として、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報）して薄膜を形成する方法が挙げられる。
一方、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が各種提案されている。
上述したような塗布による反射防止フィルムに最上層表面が微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した反射防止層から成る反射防止フィルムも挙げられる。
本発明の飽和ノルボルネンフィルムは上記いずれの方式にも適用できるが、特に好ましいのが塗布による方式（塗布型）である。
（ハー１）塗布型反射防止フィルムの層構成
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。さらには、中屈折率ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層からなってもよい。
例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等が挙げられる。
また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
反射防止膜のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。さらには、中屈折率ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層からなってもよい。
例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等が挙げられる。
また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
反射防止膜のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
（ハー２）高屈折率層および中屈折率層
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒子サイズ１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１1−２９５５０３号公報、同１1−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（特開２００１−１６６１０４号公報等）、特定の分散剤併用（例えば、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６,２１０,８５８Ｂ１号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等挙げられる。
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒子サイズ１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１1−２９５５０３号公報、同１1−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（特開２００１−１６６１０４号公報等）、特定の分散剤併用（例えば、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６,２１０,８５８Ｂ１号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等挙げられる。
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
さらに、ラジカル重合性および/またはカチオン重合性の重合性基を少なくとも2個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物およびその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。
また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシト゛組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。
高屈折率層の屈折率は、−般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。
また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシト゛組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。
高屈折率層の屈折率は、−般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。
（ハー３）低屈折率層
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５０である。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平９−２２２５０３号公報の段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報の段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１-４０２８４号公報の段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報、特開２００３−２６７３２号公報の段落番号［００１２］〜［００７７］、特開２００４−４５４６２号公報の段落番号［００３０］〜［００４７］等に記載の化合物が挙げられる。
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５０である。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平９−２２２５０３号公報の段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報の段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１-４０２８４号公報の段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報、特開２００３−２６７３２号公報の段落番号［００１２］〜［００７７］、特開２００４−４５４６２号公報の段落番号［００３０］〜［００４７］等に記載の化合物が挙げられる。
シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例えば、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。
架橋または重合性基を有する含フッ素および／またはシロキサンのポリマーの架橋または重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。
また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１あ５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
架橋または重合性基を有する含フッ素および／またはシロキサンのポリマーの架橋または重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。
また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１あ５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号[００２０]〜[００３８]に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
（ハー４）ハードコート層
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光および／または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。 硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものが挙げられる。
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光および／または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。 硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものが挙げられる。
高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
ハードコート層は、平均粒子サイズ０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
ハードコート層は、平均粒子サイズ０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
（ハー５）前方散乱層
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設ける。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。
例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等が挙げられる。
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設ける。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。
例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等が挙げられる。
（ハー６）その他の層
上記の層以外に、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
上記の層以外に、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
（ハー７）塗布方法
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許第２,６８１,２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許第２,６８１,２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。
（ハー８）アンチグレア機能
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。
反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層またはハードコート層）に比較的大きな粒子（粒子サイズ０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、最上層（防汚性層）を、塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等が挙げられる。
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。
反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層またはハードコート層）に比較的大きな粒子（粒子サイズ０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、最上層（防汚性層）を、塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等が挙げられる。
＜測定法＞
以下に本発明で使用した測定法について記載する。
（１）湿熱寸法変化（δＬ（ｗ））
ロール状のサンプルフィルムをＭＤ，ＴＤ方向に切り出し、２５℃・相対湿度６０％で５時間以上調湿後、２０ｃｍ基長のピンゲージを用い測長した（それぞれＭＤ（Ｆ）、ＴＤ（Ｆ）とする）。これを６０℃・相対湿度９０％の恒温恒湿槽にて無張力で５００時間放置（サーモ処理）した。恒温恒湿槽から取り出した後、２５℃・相対湿度６０％で５時間以上調湿後、２０ｃｍ基長のピンゲージを用い測長した（それぞれＭＤ（ｔ）、ＴＤ（ｔ）とする）。下記式でＭＤ、ＴＤ方向の湿熱寸法変化（δＭＤ（ｗ）、δＴＤ（ｗ））を求め、このうち大きい方の値を湿熱寸法変化（δＬ（ｗ））とした。
δＴＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＴＤ（Ｆ）−ＴＤ（ｔ）｜／ＴＤ（Ｆ）
δＭＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＭＤ（Ｆ）−ＭＤ（ｔ）｜／ＭＤ（Ｆ）
以下に本発明で使用した測定法について記載する。
（１）湿熱寸法変化（δＬ（ｗ））
ロール状のサンプルフィルムをＭＤ，ＴＤ方向に切り出し、２５℃・相対湿度６０％で５時間以上調湿後、２０ｃｍ基長のピンゲージを用い測長した（それぞれＭＤ（Ｆ）、ＴＤ（Ｆ）とする）。これを６０℃・相対湿度９０％の恒温恒湿槽にて無張力で５００時間放置（サーモ処理）した。恒温恒湿槽から取り出した後、２５℃・相対湿度６０％で５時間以上調湿後、２０ｃｍ基長のピンゲージを用い測長した（それぞれＭＤ（ｔ）、ＴＤ（ｔ）とする）。下記式でＭＤ、ＴＤ方向の湿熱寸法変化（δＭＤ（ｗ）、δＴＤ（ｗ））を求め、このうち大きい方の値を湿熱寸法変化（δＬ（ｗ））とした。
δＴＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＴＤ（Ｆ）−ＴＤ（ｔ）｜／ＴＤ（Ｆ）
δＭＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＭＤ（Ｆ）−ＭＤ（ｔ）｜／ＭＤ（Ｆ）
（２）乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））
上記湿熱寸法変化のサーモ処理を、８０℃ドライで５００時間に変えた以外は全て同様にして求めた。
上記湿熱寸法変化のサーモ処理を、８０℃ドライで５００時間に変えた以外は全て同様にして求めた。
（３）Ｒｅ、Ｒｔｈ
サンプルフィルムを２５℃・相対湿度６０％にて２４時間調湿後、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ：王子計測機器（株）製）を用いて、２５℃・相対湿度６０％において、フィルム表面に対し垂直方向および遅相軸を回転軸としてフィルム面法線から＋５０°から−５０°まで１０°刻みで傾斜させた方向から波長５９０ｎｍにおける位相差を測定することにより、面内レターデーション値（Ｒｅ）と膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）とを算出させた。
サンプルフィルムを２５℃・相対湿度６０％にて２４時間調湿後、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ：王子計測機器（株）製）を用いて、２５℃・相対湿度６０％において、フィルム表面に対し垂直方向および遅相軸を回転軸としてフィルム面法線から＋５０°から−５０°まで１０°刻みで傾斜させた方向から波長５９０ｎｍにおける位相差を測定することにより、面内レターデーション値（Ｒｅ）と膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）とを算出させた。
（４）Ｒｅ、Ｒｔｈの湿熱変化
サンプルフィルムを２５℃・相対湿度６０％で５時間以上調湿後、上記の方法でＲｅ，Ｒｔｈを測定した（Ｒｅ（Ｆ）、Ｒｔｈ（Ｆ）とする）。これを６０℃・相対湿度９０％の恒温恒湿槽にて無張力で５００時間放置（サーモ処理）した。恒温恒湿槽から取り出した後、２５℃・相対湿度６０％で５時間以上調湿後、上記の方法でＲｅ，Ｒｔｈを測定した（Ｒｅ（ｔ）、Ｒｔｈ（ｔ）とする）。下記式でＲｅ，Ｒｔｈの湿熱変化を求めた。
Ｒｅの湿熱変化（％）＝１００×（Ｒｅ（Ｆ）−Ｒｅ（ｔ））／Ｒｅ（Ｆ）
Ｒｔｈの湿熱変化（％）＝１００×（Ｒｔｈ（Ｆ）−Ｒｔｈ（ｔ））／Ｒｔｈ（Ｆ）
サンプルフィルムを２５℃・相対湿度６０％で５時間以上調湿後、上記の方法でＲｅ，Ｒｔｈを測定した（Ｒｅ（Ｆ）、Ｒｔｈ（Ｆ）とする）。これを６０℃・相対湿度９０％の恒温恒湿槽にて無張力で５００時間放置（サーモ処理）した。恒温恒湿槽から取り出した後、２５℃・相対湿度６０％で５時間以上調湿後、上記の方法でＲｅ，Ｒｔｈを測定した（Ｒｅ（ｔ）、Ｒｔｈ（ｔ）とする）。下記式でＲｅ，Ｒｔｈの湿熱変化を求めた。
Ｒｅの湿熱変化（％）＝１００×（Ｒｅ（Ｆ）−Ｒｅ（ｔ））／Ｒｅ（Ｆ）
Ｒｔｈの湿熱変化（％）＝１００×（Ｒｔｈ（Ｆ）−Ｒｔｈ（ｔ））／Ｒｔｈ（Ｆ）
（５）Ｒｅ、Ｒｔｈの乾熱変化
上記Ｒｅ、Ｒｔｈの湿熱変化のサーモ処理を、８０℃ドライで５００時間に変えた以外は全て同様にして求めた。
上記Ｒｅ、Ｒｔｈの湿熱変化のサーモ処理を、８０℃ドライで５００時間に変えた以外は全て同様にして求めた。
（６）微細レターデーションむら
サンプルフィルムを２５℃・相対湿度６０％に５時間以上調湿後、エリプソメーター（ＵＮＩＯＰＴ（株）製、自動複屈折測定装置ＡＢＲ−１０Ａ−１０ＡＴ）を用い０．１ｍｍずつＭＤ方向にずらしながら１０点のＲｅを測定した。このときの最大値と最小値の差を、１０点の平均値で割った値（ＭＤの微細レターデーションむら）を求めた。ＴＤ方向にも同様に０．１ｍｍずつずらしながら測定し（ＴＤの微細レターデーションむら）を求めた。ＭＤの微細レターデーションむらとＴＤの微細レターデーションむらのうち大きい方を微細レターデーションむらとした。
サンプルフィルムを２５℃・相対湿度６０％に５時間以上調湿後、エリプソメーター（ＵＮＩＯＰＴ（株）製、自動複屈折測定装置ＡＢＲ−１０Ａ−１０ＡＴ）を用い０．１ｍｍずつＭＤ方向にずらしながら１０点のＲｅを測定した。このときの最大値と最小値の差を、１０点の平均値で割った値（ＭＤの微細レターデーションむら）を求めた。ＴＤ方向にも同様に０．１ｍｍずつずらしながら測定し（ＴＤの微細レターデーションむら）を求めた。ＭＤの微細レターデーションむらとＴＤの微細レターデーションむらのうち大きい方を微細レターデーションむらとした。
（７）縦／横比
延伸に用いるニップロールの間隔（Ｌ：２対のニップロールの芯間の距離）を延伸前の飽和ノルボルネンフィルムの幅（Ｗ）で割った値（Ｌ／Ｗ）を計算して求めた。３対以上のニップロールがある場合は、もっとも大きいＬ／Ｗの値を縦横比とした。
延伸に用いるニップロールの間隔（Ｌ：２対のニップロールの芯間の距離）を延伸前の飽和ノルボルネンフィルムの幅（Ｗ）で割った値（Ｌ／Ｗ）を計算して求めた。３対以上のニップロールがある場合は、もっとも大きいＬ／Ｗの値を縦横比とした。
（８）緩和率
緩和する長さを延伸前の寸法で割り百分率で示すことにより求めた。
緩和する長さを延伸前の寸法で割り百分率で示すことにより求めた。
（９）Ｔｇ
ＤＳＣの測定パンにサンプルを２０ｍｇ入れ、これを窒素気流中にて１０℃／分で３０℃から２５０℃まで昇温した後、３０℃まで−１０℃／分で冷却した。その後、再度３０℃から２５０℃まで昇温してベースラインが低温側から偏奇し始める温度をガラス転移温度（Ｔｇ）とした。
ＤＳＣの測定パンにサンプルを２０ｍｇ入れ、これを窒素気流中にて１０℃／分で３０℃から２５０℃まで昇温した後、３０℃まで−１０℃／分で冷却した。その後、再度３０℃から２５０℃まで昇温してベースラインが低温側から偏奇し始める温度をガラス転移温度（Ｔｇ）とした。
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
１．飽和ノルボルネン樹脂
（１−１）飽和ノルボル樹脂−Ａ
６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレンに、重合触媒としてトリエチルアルミニウムの１５％シクロヘキサン溶液１０質量部、トリエチルアミン５質量部、および四塩化チタンの２０％シクロヘキサン溶液１０質量部を添加して、シクロヘキサン中で開環重合し、得られた開環重合体をニッケル触媒で水素添加してポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をイソプロピルアルコール中で凝固させ、乾燥し、粉末状の樹脂を得た。この樹脂の数平均分子量は４０，０００、水素添加率は９９．８％以上、Ｔｇは１３９℃であった。
（１−１）飽和ノルボル樹脂−Ａ
６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレンに、重合触媒としてトリエチルアルミニウムの１５％シクロヘキサン溶液１０質量部、トリエチルアミン５質量部、および四塩化チタンの２０％シクロヘキサン溶液１０質量部を添加して、シクロヘキサン中で開環重合し、得られた開環重合体をニッケル触媒で水素添加してポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をイソプロピルアルコール中で凝固させ、乾燥し、粉末状の樹脂を得た。この樹脂の数平均分子量は４０，０００、水素添加率は９９．８％以上、Ｔｇは１３９℃であった。
（１−２）飽和ノルボル樹脂−Ｂ
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2.5，１7.10］−３−ドデセン（特定単量体Ｂ）１００質量部と、５−（４−ビフェニルカルボニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（特定単量体Ａ）１５０質量部と、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８質量部と、トルエン７５０質量部とを窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を６０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒としてトリエチルアルミニウム（１．５モル／ｌ）のトルエン溶液０．６２質量部と、ｔ−ブタノールおよびメタノールで変性した六塩化タングステン（ｔ−ブタノール：メタノール：タングステン＝０．３５モル：０．３モル：１モル）のトルエン溶液（濃度０．０５モル／ｌ）３．７質量部とを添加し、この系を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であり、得られた開環重合体について、３０℃のクロロホルム中で測定した固有粘度（ηinh ）は０．６５ｄｌ／ｇであった。
このようにして得られた開環重合体溶液４，０００質量部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3］3 ０．４８質量部を添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ2、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱攪拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（特定の環状ポリオレフィン系樹脂）を得た。このようにして得られた水素添加重合体について４００ＭＨｚ、1Ｈ−ＮＭＲを用いてオレフィン性不飽和結合の水素添加率を測定したところ９９．９％であった。このＴｇは１１０℃であり、ＧＰＣ法（溶媒：テトラヒドロフラン）によりポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）および質量平均分子量（Ｍｗ）を測定したところ、数平均分子量（Ｍｎ）は３９，０００、質量平均分子量（Ｍｗ）は１２６，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は３．２３であった。
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2.5，１7.10］−３−ドデセン（特定単量体Ｂ）１００質量部と、５−（４−ビフェニルカルボニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（特定単量体Ａ）１５０質量部と、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８質量部と、トルエン７５０質量部とを窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を６０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒としてトリエチルアルミニウム（１．５モル／ｌ）のトルエン溶液０．６２質量部と、ｔ−ブタノールおよびメタノールで変性した六塩化タングステン（ｔ−ブタノール：メタノール：タングステン＝０．３５モル：０．３モル：１モル）のトルエン溶液（濃度０．０５モル／ｌ）３．７質量部とを添加し、この系を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であり、得られた開環重合体について、３０℃のクロロホルム中で測定した固有粘度（ηinh ）は０．６５ｄｌ／ｇであった。
このようにして得られた開環重合体溶液４，０００質量部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3］3 ０．４８質量部を添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ2、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱攪拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（特定の環状ポリオレフィン系樹脂）を得た。このようにして得られた水素添加重合体について４００ＭＨｚ、1Ｈ−ＮＭＲを用いてオレフィン性不飽和結合の水素添加率を測定したところ９９．９％であった。このＴｇは１１０℃であり、ＧＰＣ法（溶媒：テトラヒドロフラン）によりポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）および質量平均分子量（Ｍｗ）を測定したところ、数平均分子量（Ｍｎ）は３９，０００、質量平均分子量（Ｍｗ）は１２６，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は３．２３であった。
２．製膜
（２−１）溶融製膜
上記飽和ノルボルネン樹脂−Ａに表１記載の二酸化珪素から成る微粒子を添加し、直径３ｍｍ、長さ５ｍｍの円柱状のペレットに成形した。これを１１０℃の真空乾燥機で乾燥し、含水率を０．１％以下とした後、（Ｔｇ−１０℃）になるように調整したホッパーに投入した。なお二酸化珪素の代わりに、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ等を用いた場合も同様の結果を得た。
溶融粘度が５０００Ｐａ・ｓとなるように溶融温度を調整し、この温度で５分間かけて１軸混練機を用い溶融した後、溶融温度より１０℃高く設定したＴ−ダイから（Ｔｇ−５℃）に設定したキャスティングドラム上に流延し固化しフィルムとした。この時、各水準静電印加法（１０ｋＶのワイヤーをメルトのキャスティングドラムへの着地点から１０ｃｍのところに設置）を用いた。固化したメルトを剥ぎ取り、巻き取った。なお、巻き取り直前に両端（全幅の各３％）をトリミングした後、両端に幅１０ｍｍ、高さ５０μｍの厚みだし加工（ナーリング）をつけた。各水準とも、幅は１．５ｍで３０ｍ／分で３０００ｍ巻き取った。
併せて市販の飽和ノルボルネンフィルム（溶融製膜）のゼオノア（日本ゼオン(株)製ＺＦ-１４：表１中にＺと記載）も用いた。なお、このフィルムのＴgは１３６℃であった。
（２−１）溶融製膜
上記飽和ノルボルネン樹脂−Ａに表１記載の二酸化珪素から成る微粒子を添加し、直径３ｍｍ、長さ５ｍｍの円柱状のペレットに成形した。これを１１０℃の真空乾燥機で乾燥し、含水率を０．１％以下とした後、（Ｔｇ−１０℃）になるように調整したホッパーに投入した。なお二酸化珪素の代わりに、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ等を用いた場合も同様の結果を得た。
溶融粘度が５０００Ｐａ・ｓとなるように溶融温度を調整し、この温度で５分間かけて１軸混練機を用い溶融した後、溶融温度より１０℃高く設定したＴ−ダイから（Ｔｇ−５℃）に設定したキャスティングドラム上に流延し固化しフィルムとした。この時、各水準静電印加法（１０ｋＶのワイヤーをメルトのキャスティングドラムへの着地点から１０ｃｍのところに設置）を用いた。固化したメルトを剥ぎ取り、巻き取った。なお、巻き取り直前に両端（全幅の各３％）をトリミングした後、両端に幅１０ｍｍ、高さ５０μｍの厚みだし加工（ナーリング）をつけた。各水準とも、幅は１．５ｍで３０ｍ／分で３０００ｍ巻き取った。
併せて市販の飽和ノルボルネンフィルム（溶融製膜）のゼオノア（日本ゼオン(株)製ＺＦ-１４：表１中にＺと記載）も用いた。なお、このフィルムのＴgは１３６℃であった。
（２−２）溶液製膜
上記飽和ノルボルネン樹脂−Ｂと表１記載の二酸化珪素から成る微粒子を、トルエン中に３０％濃度になるように撹拌しながら投入した。なお二酸化珪素の代わりに、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ等を用いた場合も同様の結果を得た。
投入が終わると撹拌を停止し、２５℃で３時間膨潤させスラリーを作成した。これを再度撹拌し、完全に溶解した（この溶液をドープと呼ぶ）。この溶液の室温での粘度は３０，０００ｍＰａ・ｓであった）。これを、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製、＃６３）でろ過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ポール社製、ＦＨ０２５）にて濾過した。
上述のドープを３５℃に加温し、２５℃に設定したバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体上に流延した。使用したギーサーは、特開平１１−３１４２３３号公報に記載の形態に類似するものを用いた。なお流延スピードは６０ｍ／分でその流延幅は２５０ｃｍとした。
残留溶剤が１００質量％で剥ぎ取った後、１３０℃で乾燥した後、残留溶剤量が０．３質量％以下となったところで巻き取り、飽和ノルボルネンフィルムを得た。得られたフィルムは両端を３ｃｍトリミングした後、両端から２〜１０ｍｍの部分に高さ１００μｍのナーリングを付与し、３０００ｍロール状に巻き取った。
上記飽和ノルボルネン樹脂−Ｂと表１記載の二酸化珪素から成る微粒子を、トルエン中に３０％濃度になるように撹拌しながら投入した。なお二酸化珪素の代わりに、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ等を用いた場合も同様の結果を得た。
投入が終わると撹拌を停止し、２５℃で３時間膨潤させスラリーを作成した。これを再度撹拌し、完全に溶解した（この溶液をドープと呼ぶ）。この溶液の室温での粘度は３０，０００ｍＰａ・ｓであった）。これを、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製、＃６３）でろ過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ポール社製、ＦＨ０２５）にて濾過した。
上述のドープを３５℃に加温し、２５℃に設定したバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体上に流延した。使用したギーサーは、特開平１１−３１４２３３号公報に記載の形態に類似するものを用いた。なお流延スピードは６０ｍ／分でその流延幅は２５０ｃｍとした。
残留溶剤が１００質量％で剥ぎ取った後、１３０℃で乾燥した後、残留溶剤量が０．３質量％以下となったところで巻き取り、飽和ノルボルネンフィルムを得た。得られたフィルムは両端を３ｃｍトリミングした後、両端から２〜１０ｍｍの部分に高さ１００μｍのナーリングを付与し、３０００ｍロール状に巻き取った。
３．延伸
（３−１）縦（ＭＤ）延伸
上記溶融製膜、溶液製膜で得た飽和ノルボルネンフィルムを、２対のニップロールを用い、表１に記載の縦／横比、方式（斜め、平行）、延伸速度で、（Ｔg＋１５℃）で表１記載の倍率に延伸した。縦延伸後に、Ｔｇにおいて表１に記載の緩和率、位置（縦延伸後、横延伸後（表１に「縦後」、「横後」と記載））で縦緩和を行った。縦延伸後の縦緩和は、縦延伸のニップロール直後に配置した搬送ロールの速度を遅くすることで実施した。一方横延伸後の緩和は、テンター直後に熱処理ゾーンを設け、その中でＴｇにおいて低張力で搬送することで実施した。
（３−１）縦（ＭＤ）延伸
上記溶融製膜、溶液製膜で得た飽和ノルボルネンフィルムを、２対のニップロールを用い、表１に記載の縦／横比、方式（斜め、平行）、延伸速度で、（Ｔg＋１５℃）で表１記載の倍率に延伸した。縦延伸後に、Ｔｇにおいて表１に記載の緩和率、位置（縦延伸後、横延伸後（表１に「縦後」、「横後」と記載））で縦緩和を行った。縦延伸後の縦緩和は、縦延伸のニップロール直後に配置した搬送ロールの速度を遅くすることで実施した。一方横延伸後の緩和は、テンター直後に熱処理ゾーンを設け、その中でＴｇにおいて低張力で搬送することで実施した。
（３−２）横（ＴＤ）延伸
縦延伸、縦緩和後にテンターを用いて（Ｔg＋１０℃）で表１に記載の倍率で横方向に延伸した。この後Ｔgで表１に記載しただけ横方向に緩和した。
縦延伸、縦緩和後にテンターを用いて（Ｔg＋１０℃）で表１に記載の倍率で横方向に延伸した。この後Ｔgで表１に記載しただけ横方向に緩和した。
４．延伸フィルムの評価
このようにして得た延伸フィルムの湿熱寸法変化（δＬ(ｗ)）、乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））、湿熱、乾熱処理前（フレッシュ）のＲｅ、Ｒｔｈ、微細レターデーションむら、およびＲｅ、Ｒｔｈの湿熱変化（δＲｅ(ｗ)、δＲｔｈ（ｗ））、Ｒｅ、Ｒｔｈの乾熱変化（δＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｄ））を上記の方法で測定し表１に記載した。本発明を実施したものは良好な性能を示した。一方、本発明の範囲外のものは、光学特性が低下した。特に、特開２００１−４２１３０号公報の実施例１に準じたもの（表１の比較例７）は、特にその低下が著しかった。一方、比較例７に近い条件で本発明を実施した実施例３０は良好な性能を示した。
このようにして得た延伸フィルムの湿熱寸法変化（δＬ(ｗ)）、乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））、湿熱、乾熱処理前（フレッシュ）のＲｅ、Ｒｔｈ、微細レターデーションむら、およびＲｅ、Ｒｔｈの湿熱変化（δＲｅ(ｗ)、δＲｔｈ（ｗ））、Ｒｅ、Ｒｔｈの乾熱変化（δＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｄ））を上記の方法で測定し表１に記載した。本発明を実施したものは良好な性能を示した。一方、本発明の範囲外のものは、光学特性が低下した。特に、特開２００１−４２１３０号公報の実施例１に準じたもの（表１の比較例７）は、特にその低下が著しかった。一方、比較例７に近い条件で本発明を実施した実施例３０は良好な性能を示した。
５．偏光板の作成
（５−１）表面処理
いずれの水準も、水との接触角が４５度になるように、フィルム表面にコロナ処理を行った。
（５−１）表面処理
いずれの水準も、水との接触角が４５度になるように、フィルム表面にコロナ処理を行った。
（５−２）偏光膜の作成
特開平２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸した厚み２０μｍの偏光膜を調製した。なお、特開平２００２−８６５５４号公報の実施例１のように延伸軸が斜め４５度となるように延伸した偏光膜も同様に作成したが、以降の評価結果は上述のものと同様な結果が得られた。
特開平２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸した厚み２０μｍの偏光膜を調製した。なお、特開平２００２−８６５５４号公報の実施例１のように延伸軸が斜め４５度となるように延伸した偏光膜も同様に作成したが、以降の評価結果は上述のものと同様な結果が得られた。
（５−３）貼り合わせ
（５−２）で得た偏光膜を、（５−１）で表面処理した延伸飽和ノルボルネンフィルム（位相差板）と鹸化処理した偏光板保護フィルム（商品名：フジタック）の間に挟み込んだ。この際、位相差板と偏光膜は、エポキシ系接着剤を用いて貼り合せた。またフジタックと偏光膜の間は（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて貼り合わせた。貼り合わせ方向は、偏光軸と位相差板の長手方向が４５度となるようした。
このようにして得た偏光板のフレッシュ品と、ウエットサーモ処理（６０℃・相対湿度９０％で５００時間）、ドライサーモ処理（８０℃ドライ５００時間）後の偏光板を、飽和ノルボルネンフィルムを液晶側になるようにして、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置液晶表示装置に取り付けた。これをフレッシュ品の偏光板を用いたものと、ドライサーモ処理またはウエットサーモ処理を行った偏光板を用いたものを比較し、目視評価し色むらの発生領域の全面積に占める割合を表１に記載した。本発明を実施したものは良好な性能が得られた。
（５−２）で得た偏光膜を、（５−１）で表面処理した延伸飽和ノルボルネンフィルム（位相差板）と鹸化処理した偏光板保護フィルム（商品名：フジタック）の間に挟み込んだ。この際、位相差板と偏光膜は、エポキシ系接着剤を用いて貼り合せた。またフジタックと偏光膜の間は（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて貼り合わせた。貼り合わせ方向は、偏光軸と位相差板の長手方向が４５度となるようした。
このようにして得た偏光板のフレッシュ品と、ウエットサーモ処理（６０℃・相対湿度９０％で５００時間）、ドライサーモ処理（８０℃ドライ５００時間）後の偏光板を、飽和ノルボルネンフィルムを液晶側になるようにして、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置液晶表示装置に取り付けた。これをフレッシュ品の偏光板を用いたものと、ドライサーモ処理またはウエットサーモ処理を行った偏光板を用いたものを比較し、目視評価し色むらの発生領域の全面積に占める割合を表１に記載した。本発明を実施したものは良好な性能が得られた。
６．光学補償フィルムの作成
（６−１）光学補償フィルムの作成
特開平１１−３１６３７８号公報の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムの代わりに、上記本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを使用した。この時、製膜・延伸直後の延伸飽和ノルボルネンフィルム（フレッシュ品）を用いて作成した光学補償フィルムと、ウエットサーモ処理（６０℃・相対湿度９０％で５００時間）またはドライサーモ処理（８０℃ドライ５００時間）を経た延伸飽和ノルボルネンフィルムを用いて作成した光学補償フィルムを比較した。色むらの発生している領域を目視評価したが、本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを用いた光学補償フィルムはいずれも色むらが認められず、良好な光学性能が得られた。
（６−１）光学補償フィルムの作成
特開平１１−３１６３７８号公報の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムの代わりに、上記本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを使用した。この時、製膜・延伸直後の延伸飽和ノルボルネンフィルム（フレッシュ品）を用いて作成した光学補償フィルムと、ウエットサーモ処理（６０℃・相対湿度９０％で５００時間）またはドライサーモ処理（８０℃ドライ５００時間）を経た延伸飽和ノルボルネンフィルムを用いて作成した光学補償フィルムを比較した。色むらの発生している領域を目視評価したが、本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを用いた光学補償フィルムはいずれも色むらが認められず、良好な光学性能が得られた。
（６−２）光学補償フィルターフィルムの作成
特開平７−３３３４３３号公報の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムの代わりに、上記本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを使用して光学補償フィルターフィルムを作製した。上記（６−１）と同様に比較試験を行ったところ、いずれも良好な光学性能が得られた。
特開平７−３３３４３３号公報の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムの代わりに、上記本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを使用して光学補償フィルターフィルムを作製した。上記（６−１）と同様に比較試験を行ったところ、いずれも良好な光学性能が得られた。
７．低反射フィルムの作成
発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の実施例４７に従い、上記本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを用いて低反射フィルムを作成したところ、良好な光学性能が得られた。
発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の実施例４７に従い、上記本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを用いて低反射フィルムを作成したところ、良好な光学性能が得られた。
８．液晶表示素子の作成
上記本発明の偏光板を、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学的異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載の２０インチＯＣＢ型液晶表示装置、特開２００４−１２７３１号公報の図１１に記載のＩＰＳ型液晶表示装置に用いた。さらに、本発明の低反射フィルムをこれらの液晶表示装置の最表層に貼り評価を行った。高温高湿環境下に長時間置いても色むらの発生しない良好な液晶表示素子が得られた。
上記本発明の偏光板を、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学的異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載の２０インチＯＣＢ型液晶表示装置、特開２００４−１２７３１号公報の図１１に記載のＩＰＳ型液晶表示装置に用いた。さらに、本発明の低反射フィルムをこれらの液晶表示装置の最表層に貼り評価を行った。高温高湿環境下に長時間置いても色むらの発生しない良好な液晶表示素子が得られた。
本発明の飽和ノルボルネンフィルムは、液晶表示装置に組み込んで高温高湿下に置いても色むらの発生を抑えることができる。また、本発明の製造方法によれば、そのような性質を有する飽和ノルボルネンフィルムを効率よく製造することができる。さらに、本発明の偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルムおよび液晶表示装置は、高温高湿下においても優れた機能を示すことができる。したがって、本発明は産業上の利用可能性が高い。
１ａ，１ｂ 第一のニップロール
２ａ，２ｂ 第二のニップロール
３ 搬送ロール
Ｌ 延伸間隔
２２ 押出機
３２ シリンダー
４０ 供給口
Ａ 供給部
Ｂ 圧縮部
Ｃ 計量部
２ａ，２ｂ 第二のニップロール
３ 搬送ロール
Ｌ 延伸間隔
２２ 押出機
３２ シリンダー
４０ 供給口
Ａ 供給部
Ｂ 圧縮部
Ｃ 計量部
Claims (19)
- 湿熱寸法変化（δＬ(ｗ)）および乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））がいずれも０％〜０．２％であり、面内のレターデーション（Ｒｅ）の湿熱変化（δＲｅ(ｗ)）および乾熱変化（δＲｅ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であり、かつ厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の湿熱変化（δＲｔｈ（ｗ））および乾熱変化（δＲｔｈ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であることを特徴とする飽和ノルボルネンフィルム。
- 湿熱寸法変化（δＬ(ｗ)）および乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））がいずれも０％〜０．２％であり、面内のレターデーション（Ｒｅ）の湿熱変化（δＲｅ(ｗ)）および乾熱変化（δＲｅ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であり、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の湿熱変化（δＲｔｈ（ｗ））および乾熱変化（δＲｔｈ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であり、かつ残留溶剤量が０．０１質量％以下であることを特徴とする飽和ノルボルネンフィルム。
- 微細レターデーションむらが０％〜１０％であることを特徴とする請求項１または２に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
- Ｒｅが０ｎｍ〜３００ｎｍであって、Ｒｔｈが３０ｎｍ〜５００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
- 飽和ノルボルネン樹脂に対して微粒子を１質量ｐｐｍ〜１０，０００質量ｐｐｍ含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
- 前記微粒子の平均粒子サイズが０．１〜３．０μｍであることを特徴とする請求項５に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
- 質量平均分子量が５，０００〜１，０００，０００である飽和ノルボルネン樹脂を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
- 下記一般式（１）〜（４）のいずれかで表される繰り返し単位を有する飽和ノルボルネン樹脂を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
- 湿熱寸法変化（δＬ(ｗ)）および乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））がいずれも０％〜０．２％であり、面内のレターデーション（Ｒｅ）の湿熱変化（δＲｅ(ｗ)）および乾熱変化（δＲｅ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であり、かつ厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の湿熱変化（δＲｔｈ（ｗ））および乾熱変化（δＲｔｈ（ｄ））がいずれも０％〜１０％である飽和ノルボルネンフィルムの製造方法であって、
飽和ノルボルネンを製膜した後、延伸前のフィルムの幅（Ｗ）と延伸間隔（Ｌ）の比である縦／横比（Ｌ／Ｗ）が０．０１を越え０．３未満の条件下で１％〜３００％に縦延伸し、さらに縦方向に１％〜５０％緩和する工程を有することを特徴とする飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。 - 湿熱寸法変化（δＬ(ｗ)）および乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））がいずれも０％〜０．２％であり、面内のレターデーション（Ｒｅ）の湿熱変化（δＲｅ(ｗ)）および乾熱変化（δＲｅ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であり、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の湿熱変化（δＲｔｈ（ｗ））および乾熱変化（δＲｔｈ（ｄ））がいずれも０％〜１０％であり、かつ残留溶剤量が０．０１質量％以下である飽和ノルボルネンフィルムの製造方法であって、
飽和ノルボルネンを溶融製膜した後、延伸前のフィルムの幅（Ｗ）と延伸間隔（Ｌ）の比である縦／横比（Ｌ／Ｗ）が０．０１を越え０．３未満の条件下で１％〜３００％に縦延伸し、さらに縦方向に１％〜５０％緩和する工程を有することを特徴とする飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。 - 前記縦延伸を、２対のニップロールの間を飽和ノルボルネンフィルムを斜めに通して行うことを特徴とする、請求項９または１０に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
- 前記縦方向の緩和を行った後に横延伸を行うことを特徴とする請求項９〜１１のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
- 前記横延伸をテンターを用いて１％〜２５０％の延伸倍率で行うことを特徴とする請求項１２に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
- 前記横延伸を行った後、横方向に１％〜５０％緩和することを特徴とする請求項１２または１３に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
- 請求項９〜１４のいずれか一項に記載の製造方法により製造される飽和ノルボルネンフィルム。
- 偏光膜に、請求項１〜８および１５のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを少なくとも１層積層したことを特徴とする偏光板。
- 請求項１〜８および１５のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを基材に用いた光学補償フィルム。
- 請求項１〜８および１５のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを基材に用いた反射防止フィルム。
- 請求項１〜８および１５のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを用いた液晶表示装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2005173955A JP5009512B2 (ja) | 2005-06-14 | 2005-06-14 | 飽和ノルボルネンフィルムおよびその製造方法、偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルム、並びに液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JP2006348114A JP2006348114A (ja) | 2006-12-28 |
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ID=37644292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5009512B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5186122B2 (ja) * | 2007-03-05 | 2013-04-17 | 富士フイルム株式会社 | 熱可塑性フイルムの製造方法 |
| JP2008239668A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Nippon Zeon Co Ltd | 環状オレフィン重合体フィルム及びその作成方法 |
| JP5230221B2 (ja) * | 2007-04-20 | 2013-07-10 | 富士フイルム株式会社 | 熱可塑性フィルムおよびその製造方法 |
| JP5383079B2 (ja) * | 2007-05-11 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | 熱可塑性フイルム、熱可塑性フイルムの製造方法、熱可塑性フイルムの製造装置、並びに、偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルム及び液晶表示装置 |
| JP6167479B2 (ja) * | 2012-07-06 | 2017-07-26 | 大日本印刷株式会社 | 偏光板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置 |
| JP5755674B2 (ja) | 2013-03-29 | 2015-07-29 | 日東電工株式会社 | 位相差フィルムの製造方法および円偏光板の製造方法 |
| JP5755675B2 (ja) | 2013-03-29 | 2015-07-29 | 日東電工株式会社 | 位相差フィルムの製造方法および円偏光板の製造方法 |
| JP5755684B2 (ja) | 2013-06-10 | 2015-07-29 | 日東電工株式会社 | 位相差フィルムの製造方法および円偏光板の製造方法 |
| JP2015127830A (ja) * | 2015-03-20 | 2015-07-09 | 日東電工株式会社 | 位相差フィルム |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3407714B2 (ja) * | 1991-06-25 | 2003-05-19 | 日本ゼオン株式会社 | 位相板 |
| JP3935570B2 (ja) * | 1997-09-10 | 2007-06-27 | 富士フイルム株式会社 | 熱可塑性樹脂フイルムの製造方法 |
| JP2002196135A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-07-10 | Nitto Denko Corp | 光学補償フィルムとその製造方法、及び該フィルムを用いた偏光板、液晶表示装置 |
| JP4818531B2 (ja) * | 2001-05-07 | 2011-11-16 | 日東電工株式会社 | 配向フィルムの製造方法、偏光フィルム、偏光板および液晶表示装置 |
| JP2003306557A (ja) * | 2002-04-15 | 2003-10-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 飽和ノルボルネン系樹脂フィルム、それを用いた偏光板、位相差板および画像表示装置、ならびにその製造方法 |
| JP3957700B2 (ja) * | 2003-04-25 | 2007-08-15 | 日東電工株式会社 | 偏光フィルムの製造方法 |
| JP4721655B2 (ja) * | 2004-05-21 | 2011-07-13 | 富士フイルム株式会社 | 飽和ノルボルネンフィルムおよびその製造方法 |
-
2005
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| JP2006348114A (ja) | 2006-12-28 |
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|
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