JP2008189732A - セルロースアシレート組成物、セルロースアシレートフィルム、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】面内のレターデーション（Ｒｅ）および厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の値を幅広い範囲で自由に制御でき、面状に優れたセルロースフィルム、並びにそれを用いた光学補償シート、偏光板、及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】セルロースアシレートと多分岐高分子化合物とを含有するセルロースアシレート組成物であって、前記多分岐高分子化合物が、下記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）のいずれかで表される繰返し単位を有するハイパーブランチポリエーテルに、末端基として水素原子又は置換基が結合しており、かつ、該末端基の総数のうち１０〜１００％が芳香族基を含有する置換基である化合物である、セルロースアシレート組成物。

【選択図】なし

Description

本発明は、セルロースアシレート組成物、セルロースアシレートフィルム、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置に関し、さらに詳しくは、面内のレターデーション（Ｒｅ）および厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の値を幅広い範囲で自由に制御でき、面状に優れたセルロースフィルム、並びにそれを用いた光学補償シート、偏光板、及び液晶表示装置を提供する。

近年、液晶表示装置の普及に伴い、表示性能や耐久性に対する要求がより高くなり、応答速度の向上や、表示画像に対して斜め方向から観察した場合のコントラストやカラーバランスといった視野角をより広範囲で補償することが課題となっている。これらの課題を解決すべく、ＶＡ（Vertical Alignment）方式、ＯＣＢ（Optical Compensated Bend）方式、あるいはＩＰＳ（In-Plane Switching）方式の表示素子が開発され、それぞれの液晶方式に応じた、様々なレターデーション発現性を有する光学フィルム材料が要求されている。とりわけ、位相差フィルムは、面内のレターデーション（Ｒｅ）および厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の値を多様な液晶方式それぞれに応じて制御することが求められている。このような要求に応じてレターデーション値を制御した光学フィルムが検討されている。例えば、アセチル基およびプロピオニル基を有する脂肪酸セルロースエステルを用いた光学フィルムが開示されている（例えば、特許文献１を参照）。
しかしながら上記光学フィルムはＲｅの値は３０ｎｍ以下、Ｒｔｈの値は６０〜３００ｎｍの範囲のみであり、多様化した液晶方式に応じた十分なレターデーションの発現にいたっていない。

セルロースアシレートフィルムはその透明性、強靭性および光学的等方性から、液晶表示装置向けの偏光板保護フィルムとして広く利用されている。例えばセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどの脂肪酸セルロースエステルセルロース混合アシレートを製膜して用いる光学フィルムが提案されている（例えば、特許文献２を参照）。これらの脂肪酸セルロースはセルロースアセテートのレターデーション発現性を拡大する可能性を有する優れた素材であるが、脂肪酸セルロースのフィルムでは一枚で位相差フィルムの機能を併せ持つ偏光板の保護フィルムとして十分ではない。

さらに少なくとも２つの芳香環を有する低分子の芳香族化合物を添加し、延伸処理を行うことで、高いレターデーション値を実現するセルローストリアセテートフィルムが提案されている（例えば、特許文献３又は４を参照）。しかし光学補償シートをはじめとする光学フィルムには、その用途に応じた多種多様なレターデーションが要求されるようになっており、光学フィルムに、より幅広いＲｅ、Ｒｔｈの値を発現させることが可能となる添加剤の開発が必要となってきた。

一方、セルロースアセテートに加える添加剤として分岐枝末端に重合性基を結合した多分岐高分子が提案されているが（例えば、特許文献５を参照）、その目的はフィルム強度を増加させることであり、レターデーション値を発現させることはできない。さらに該公開発明のセルロースアシレートフィルムの作成には光照射により、多分岐高分子どうしを架橋させるため、工程が複雑になっている。

特開２００１−１８８１２８号公報 特開２００５−３５２６２０号公報 特開２００６−９６８７５号公報 特開２００６−９６８７６号公報 特開２００５−２９０３４６号公報

ここで、上記特許文献５について、本願発明者らが検討したところ、該特許文献５に具体的に記載されている化合物では、Ｒｅ、Ｒｔｈの値を制御することはできないことが分かった。さらに、フィルムの面状を良好に改良するのには十分ではないことが分かった。
上記問題点に鑑み、本発明は、面内のレターデーション（Ｒｅ）および厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の値を幅広い範囲で自由に制御でき、面状に優れたセルロースフィルム、並びにそれを用いた光学補償シート、偏光板、及び液晶表示装置を提供することを目的とする。

本発明の上記課題は、下記手段により達成された。
［１］セルロースアシレートと多分岐高分子化合物とを含有するセルロースアシレート組成物であって、
前記多分岐高分子化合物が、下記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）のいずれかで表される繰返し単位を有するハイパーブランチポリエーテルに、末端基として水素原子又は置換基が結合しており、かつ、該末端基の総数のうち１０〜１００％が芳香族基を含有する置換基である化合物である
ことを特徴とするセルロースアシレート組成物。

［２］前記セルロースアシレートが、下記式（１）及び（２）を同時に満足することを特徴とする［１］項に記載のセルロースアシレート組成物。
式（１）： ２．３≦ＤＳＡ＋ＤＳＢ≦３．０
式（２）： ０≦ＤＳＡ≦３．０
（式中、ＤＳＡはセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度、ＤＳＢはセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。）
［３］前記の多分岐高分子化合物におけるハイパーブランチポリエーテルと芳香族基を含有する置換基とが、＊＊−Ｏ−または＊＊−ＯＯＣ−（＊＊はハイパーブランチポリエーテルとの結合部を表す。）を介して結合していることを特徴とする［１］又は［２］項に記載のセルロースアシレート組成物。
［４］前記の多分岐高分子化合物におけるハイパーブランチポリエーテルと芳香族基を含有する置換基とが、＊＊−ＯＯＣ−（＊＊はハイパーブランチポリエーテルとの結合部を表す。）を介して結合していることを特徴とする［３］項に記載のセルロースアシレート組成物。
［５］［１］〜［４］のいずれか１項に記載のセルロースアシレート組成物を用いて形成されたことを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
［６］少なくとも１方向に０．１％〜５００％延伸したことを特徴とする［５］項に記載のセルロースアシレートフィルム。
［７］［５］又は［６］項に記載のセルロースアシレートフィルムを用いたことを特徴とする位相差フィルム。
［８］偏光膜と該偏光膜を挟持する２枚の保護フィルムとからなる偏光板であって、２枚の保護フィルムの少なくとも一方が、［５］もしくは［６］項に記載のセルロースアシレートフィルム又は［７］項に記載の位相差フィルムであることを特徴とする偏光板。
［９］［５］もしくは［６］項に記載のセルロースアシレートフィルム又は［７］項に記載の位相差フィルム上に、液晶性化合物を配向させて形成した光学異方性層を有することを特徴とする光学補償シート。
［１０］［５］もしくは［６］項に記載のセルロースアシレートフィルム又は［７］項に記載の位相差フィルム上に、反射防止層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
［１１］［５］もしくは［６］項に記載のセルロースアシレートフィルム、［７］項に記載の位相差フィルム、［８］項に記載の偏光板、［９］項に記載の光学補償シート、および［１０］項に記載の反射防止フィルムからなる群より選択される少なくとも１種を用いることを特徴とする画像表示装置。

本発明のセルロースアシレート組成物は、面内のレターデーション（Ｒｅ）および厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の値を幅広い範囲で制御でき、面状のよいセルロースアシレートフィルムを提供することができる。
また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、例えば、光学補償シート、偏光板、反射防止フィルム、液晶表示装置などに好適に用いることができる。

以下、本発明について詳細に説明する。本発明のセルロースアシレート組成物は、セルロースアシレートと多分岐高分子化合物とを含有する。

＜セルロースアシレート＞
［セルロース］
本発明に用いられるセルロースアシレートの原料のセルロースとしては、綿花リンター、木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）、ケナフなどがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースエステルでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。
本発明においてはセルロースからエステル化してセルロースアシレートが作製されるが、特に好ましい前述のセルロースがそのまま利用できる訳ではなく、リンター、ケナフ、パルプを精製して用いられる。

［セルロースアシレート］
本発明において、セルロースアシレートとは、セルロースの総炭素数２〜２２のカルボン酸エステルのことである。本発明に用いられるセルロースアシレートは、セルロースの水酸基への置換度が下記数式（１）及び（２）を満足するものが好ましい。

数式（１）： ２．０≦ＤＳＡ＋ＤＳＢ≦３．０
数式（２）： ０≦ＤＳＡ≦３．０
（式中、ＤＳＡはセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度、またＤＳＢはセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。なお、ＳＡはセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基を表し、ＳＢはセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基を表す。）

セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部又は全部をアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位及び６位のそれぞれについて、セルロースがエステル化している割合（各位それぞれ１００％のエステル化は置換度１）を意味する。

本発明では、ＤＳＡとＤＳＢの置換度の総和（ＤＳＡ＋ＤＳＢ）は、より好ましくは２．０〜３．０であり、特に好ましくは２．１０〜３．００である。
また、ＤＳＢはより好ましくは０〜１．０であり、特に好ましくは０〜０．９である。
セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来る。

本発明に用いられるセルロースアシレートの炭素数３〜２２のアシル基（ＳＢ）としては、脂肪族基でもアリール基でもよく、特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、シクロアルキルカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいＳＢの例としては、プロピオニル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、シクロヘキサンカルボニル、シクロヘキサンメチルカルボニル、アダマンタンカルボニル、（メタ）アクリロイル、オレオイル、フェニルアセチル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどを挙げることができる。これらの中でも、より好ましいＳＢは、プロピオニル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、シクロヘキサンカルボニル、アダマンタンカルボニル、（メタ）アクリロイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどである。

本発明に用いられるセルロースアシレートは、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。低級脂肪酸の炭素原子数は２、３又は４であることが好ましく、これらの場合セルロースアシレートはそれぞれ、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート又はセルロースブチレートを表す。セルロースエステルとしてはセルロースアセテートが好ましく、その例としては、ジアセチルセルロースおよびトリアセチルセルロースなどが挙げられる。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いることも好ましい。

［セルロースアシレートの重合度］
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になる。重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまう。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、「繊維学会誌」、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。このことは特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。

本発明に用いられるセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）７頁〜１２頁に詳細に記載されている。
本発明に用いられるセルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。

＜多分岐高分子化合物＞
本発明のセルロースアシレート組成物は特定の多分岐高分子化合物を含有する。本発明に用いられる多分岐高分子化合物は、下記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）のいずれかで表される繰返し単位を有するハイパーブランチポリエーテルに、末端基として水素原子又は置換基が結合しており、かつ、該末端基の総数のうち１０〜１００％が芳香族基を含有する置換基である化合物である。当該多分岐高分子化合物の作用により、レターデーションを制御し、かつ面状を良くすることができる。

［多分岐高分子］
多分岐高分子とは、枝分れした構造をもつ高分子の総称であり、具体的には、例えばデンドリマー、ハイパーブランチポリマーおよびスターバーストポリマーが挙げられる。多分岐高分子については、M．Kakimoto et al.，Prog．Polym．Sci.，2001，Vol.26，p.1233-1285、D．Yan et al.，Prog．Polym．Sci.，2004，Vol.29，p.183-275、石津浩二編集「分岐ポリマーのナノテクノロジー」（(株)アイピーシー、2000年刊）等の記載を参照することができる。本発明における多分岐高分子化合物はハイパーブランチポリエーテルを含む構造を有している。

［ハイパーブランチポリマー］
ハイパーブランチポリマーとは、繰返し単位中に枝分れした構造を有し、ランダムに分岐した構造をもつ多分岐高分子のことである。ハイパーブランチポリマーは、デンドリマーのような多段階合成反応により精密に制御された単分子化合物ではなく、分子量や分岐度の異なる分子の混合物というポリマー特有の特徴を有している。ハイパーブランチポリマーは、１分子中に２種類以上の重合性官能基を合計３個以上含むモノマーの単独重合、あるいは複数の重合性官能基をもつ異なるモノマーの共重合によって合成することができる。具体的には、石津浩二編集「分岐ポリマーのナノテクノロジー」（(株)アイピーシー、2000年刊）等で定義されている。Prog．Polym．Sci.，2001，Vol.26，p.1233-1285やProg．Polym．Sci.，2004，Vol.29，p.183-275等の文献において述べられている重合反応によって合成することができる。重合反応としてはアニオン重合、カチオン重合、配位重合、ラジカル重合等のいずれの重合機構をとっても良い。

［ハイパーブランチポリエーテル］
本発明におけるハイパーブランチポリエーテルとはポリエーテル骨格を有するハイパーブランチポリマーを表す。例えばテトラヒドロフラニル基、エポキシ基、オキセタニル基、その他無水物等の開環可能な環状のエーテル、エーテル結合等を形成することで重合可能な水酸基等の重合性官能基をもつモノマーを重合させることによって合成することができるが、これらに特に限定されるものではない。また用いるモノマーによって、縮合重合等の付加重合、開環重合等の逐次重合、環化重合、異性化重合（水素移動重合）、脱離重合およびそれらの重合が複数組み合わさった重合反応によってハイパーブランチポリマーを合成することができる。
本発明におけるハイパーブランチポリエーテルは、重合性の官能基として、好ましくはテトラヒドロフラニル基、エポキシ基またはオキセタニル基を持ち、さらに好ましくはテトラヒドロフラニル基またはエポキシ基を持つ。
ハイパーブランチポリオールは反応性の基として主に水酸基を有するが、環状エーテル、具体的にはテトラヒドロフラニル基、エポキシ基、オキセタニル基も有していても良い。

本発明に用いられるハイパーブランチポリエーテルは、前記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）のいずれかで表される繰返し単位を有する。前記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位を有するハイパーブランチポリエーテルはハイパーブランチポリ（グリシドール）であり、例えばグリシドール（２，３−エポキシ−１−プロパノール）の開環重合及び重縮合の組み合わせにより合成することができる。前記一般式（II）で表される繰返し単位を有するハイパーブランチポリエーテルはハイパーブランチポリ（テトリトール）であり、例えばテトリトール（１，２，３，４−テトラヒドロキシブタン）の重縮合、並びに２，３−アンヒドロテトリトール又は１，４−アンヒドロテトリトールの開環重合及び重縮合の組み合わせにより合成することができる。前記一般式（III）で表される繰返し単位を有するハイパーブランチポリエーテルはハイパーブランチポリ（３−エチル−３−（ヒドロキシメチルオキセタン））であり、例えば３−エチル−３−（ヒドロキシメチルオキセタン）の開環重合及び重縮合の組み合わせにより合成することができる。

多分岐高分子において平均の枝分れの度合いは、１分子当たりの分枝基の数平均率、すなわち「末端基、分枝基および線状基の総数」に対する「末端基＋分枝基」の割合、つまり分岐度（ＤＢ）として文献に定義されている。理想的なデンドロン(dendron)およびデンドリマーについては、分岐度は１であり、理想的な線状ポリマーについては、分岐度は０である。分岐度（枝分れ度）は、ハウカー(Hawker)Ｃ．Ｊ．，；リー(Lee)，Ｒ．；フレチェット(Frechet)，Ｊ．Ｍ．Ｊ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９１，１１３巻，４５８３頁において定義されている。
本発明で使用されるハイパーブランチポリエーテルの分岐度は、０．１以上１未満の範囲であり、好ましくは０．１〜０．８、より好ましくは０．１〜０．７、最も好ましくは０．１〜０．６である。

［芳香族基を含有する置換基を有する多分岐高分子化合物］
本発明に用いられる多分岐高分子化合物は、前記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）のいずれかで表される繰返し単位を有するハイパーブランチポリエーテルに、末端基として水素原子又は置換基が結合しており、かつ、該末端基の総数のうち１０〜１００％が芳香族基を含有する置換基である化合物である。ハイパーブランチポリエーテルは、デンドリマー等の多分岐高分子と比較して、延伸を行った際に、分子が配向されやすく、より光学性能を発現し、また、重合性基が少なく、重合による面状の悪化を生じない。
本発明に用いられる多分岐高分子化合物は、前記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）のいずれかで表される繰返し単位を有するハイパーブランチポリエーテルと、反応性の基を有する芳香族基含有化合物との高分子反応により合成することができる。これらのハイパーブランチポリエーテルに含まれる官能基と芳香族基を含む化合物との反応の組合せは従来公知のものが挙げられ、特に限定されない。具体的には、例えば下記表１に記載されるような反応性基の組合せで芳香族基を含有する置換基をハイパーブランチポリエーテルに導入することができる。例えば、日本化学会編「新実験化学講座１４、有機化合物の合成と反応〔II〕、〔III〕」、丸善(株)、（１９７７年刊）等に詳細に記載された方法を用いて合成することができる。
なお、芳香族基を含まない置換基を分岐枝の末端に導入する方法も同様にして行うことができる。

本発明では、多分岐高分子化合物において、末端基として芳香族基を含有する置換基が必ず結合している。本発明に用いられる多分岐高分子化合物において、芳香族基を含有する置換基は、当該化合物の末端官能基の総数のうちモル比で１０％〜１００％に結合していることが好ましく、２０％〜９０％に結合していることがより好ましい。芳香族基を含む基の置換度は、¹Ｈ ＮＭＲ及び¹³Ｃ ＮＭＲスペクトルにより定量することができる。

「芳香族」は理化学辞典（岩波書店）第４版１２０８頁に芳香族化合物として定義されており、本発明における芳香族基としては、芳香族炭化水素基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。
芳香族炭化水素基としては、炭素原子数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがより好ましく、６〜１０のものが最も好ましい。芳香族炭化水素基の具体例としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、ターフェニル基などが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基が特に好ましい。
芳香族ヘテロ環基としては、酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含むものが好ましい。そのヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環基としては、ピリジル基、トリアジニル基、キノリル基が特に好ましい。

本発明に用いられる多分岐高分子化合物において、ハイパーブランチポリエーテルと芳香族基を含有する置換基とが＊＊−Ｏ−又は＊＊−ＯＯＣ−を介して結合していることが好ましく、＊＊−ＯＯＣ−を介して結合していることが更に好ましい。＊＊はハイパーブランチポリエーテルとの結合部を表す。したがって、芳香族基を含有する置換基は、ハイパーブランチポリエーテルと結合する側の端部が＊＊−Ｏ−又は＊＊−ＯＯＣ−であることが好ましい。芳香族基を含有する置換基は、芳香族基が＊＊−Ｏ−又は＊＊−ＯＯＣ−と直接結合しても、連結基を介して結合してもよい。
ここでいう連結基とはアルキレン基、アルケニレン基あるいはアルキニレン基を表し、連結基は置換基を有していても良い。連結基として好ましくは炭素原子数１以上１０以下のアルキレン基、アルケニレン基またはアルキニレン基、より好ましくは炭素原子数が１以上６以下のアルキレン基またはアルケニレン基、最も好ましくは炭素原子数が１以上４以下のアルキレン基またはアルケニレン基である。

芳香族基を含有する基としては、＊＊−Ｏ−又は＊＊−ＯＯＣ−と芳香族炭化水素基または芳香族ヘテロ環基とを含有する基が好ましく，より好ましくは＊＊−Ｏ−又は＊＊−ＯＯＣ−と芳香族炭化水素基とを含有する基であり、さらに好ましくは＊＊−Ｏ−又は＊＊−ＯＯＣ−とフェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基またはターフェニル基とを含有する基であり、最も好ましくは、＊＊−ＯＯＣ−とフェニル基、ナフチル基またはビフェニル基とを含有する基である。ただし、ここで＊＊は多分岐高分子側の結合を表す。

芳香族基を含有する基は置換基を有しても良く、芳香族基に置換されている置換基および前述の連結基に置換されている置換基としては、例えばアルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、

アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、

アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、

スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、

スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、

シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

本発明に用いられる多分岐高分子化合物において、末端基として芳香族基を含有しない置換基が結合していてもよい。多官能性の多分岐高分子との反応によって結合する芳香族基を含まない基としては、例えばアルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる。最も好ましくはメチル基である。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

芳香族基を含まない基としては、＊＊−Ｏ−又は＊＊−ＯＯＣ−とアルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる。最も好ましくはメチル基である。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、よりより好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）とを含む基が好ましく、より好ましくは＊＊−Ｏ−又は＊＊−ＯＯＣ−とアルキル基とを含む基であり、さらに好ましくは＊＊−Ｏ−又は＊＊−ＯＯＣ−とメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基またはｎ−ブチル基とを含む基であり、最も好ましくは＊＊−ＯＯＣ−とメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基またはｎ−ブチル基とを含む基である。ただし、ここで＊＊は多分岐高分子側の結合を表す。

なお、多分岐高分子化合物中に複数個含まれる芳香族基を含有する基はそれぞれ同じでも違っていても良く、複数個含まれる芳香族基を含有しない基もそれぞれ同じでも違っていても良い。

本発明において、多分岐高分子化合物の末端基として結合しうる芳香族基を含有する置換基の好ましい例としては、ベンゾイル、４−メトキシベンゾイル、４−エトキシベンゾイル、４−プロピオキシベンゾイル、４−ブトキシベンゾイル、４−ヘキシロキシベンゾイル、４−ノニロキシベンゾイル、４−デシロキシベンゾイル、４−ウンデシロキシベンゾイル、４−ドデシロキシベンゾイル、４−メチルベンゾイル、２，４−ジメトキシベンゾイル、２，４，５−トリメトキシベンゾイル、２，４，６−トリメトキシベンゾイル、３，４，５−トリメトキシベンゾイル、２，３，４−トリメトキシベンゾイル、４−ニトロベンゾイル、１−ナフタレンカルボニル、２−ナフタレンカルボニル、２−フェノキシベンゾイル、３−フェノキシベンゾイル、４−フェニルベンゾイル、４’−エチル−４−フェニルベンゾイル、４’−メトキシ−４−フェニルベンゾイル、４’−エトキシ−４−フェニルベンゾイル、４’−プロピオキシ−４−フェニルベンゾイル、４’−ブトキシ−４−フェニルベンゾイル、４’−オクチロキシ−４−フェニルベンゾイル、２−ベンゾイルベンゾイル、３−ベンゾイルベンゾイル、４−ベンゾイルベンゾイル、４−（４’−メトキシフェノキシ）フェニルベンゾイル、４−（２，２−ジシアノビニル）ベンゾイル、４−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイル、２，４，６−トリブロモベンゾイル、フェニルアセチル、フェニルプロピオニル、フェノキシアセチル、フェノキシプロピオニル、ナフトキシアセチル、ナフトキシプロピオニル、ビフェニルアセチル、ビフェニルオキシアセチル、ビフェニルオキシプロピオニル、シンナモイル、ベンジルオキシ、４−フェノキシベンジルオキシ、４−ベンジルオキシベンジルオキシ、３，５−ジベンジルオキシベンジルオキシ、４−メトキシベンジルオキシ、フェニルカルバモイル、ビフェニルカルバモイル、４−フェノキシフェニルカルバモイルなどを挙げることができる。

更に好ましくは、ベンゾイル、４−メトキシベンゾイル、４−エトキシベンゾイル、４−プロピオキシベンゾイル、４−ブトキシベンゾイル、４−ヘキシロキシベンゾイル、４−ノニロキシベンゾイル、４−デシロキシベンゾイル−メチルベンゾイル、２，４−ジメトキシベンゾイル、２，４，５−トリメトキシベンゾイル、２，４，６−トリメトキシベンゾイル、３，４，５−トリメトキシベンゾイル、２，３，４−トリメトキシベンゾイル、４−ニトロベンゾイル、１−ナフタレンカルボニル、２−ナフタレンカルボニル、２−フェノキシベンゾイル、３−フェノキシベンゾイル、４−フェニルベンゾイル、４’−エチル−４−フェニルベンゾイル、４’−メトキシ−４−フェニルベンゾイル、４’−エトキシ−４−フェニルベンゾイル、４’−プロピオキシ−４−フェニルベンゾイル、４’−ブトキシ−４−フェニルベンゾイル、４’−オクチロキシ−４−フェニルベンゾイル、２−ベンゾイルベンゾイル、３−ベンゾイルベンゾイル、４−ベンゾイルベンゾイル、４−（４’−メトキシフェノキシ）フェニルベンゾイル、フェニルアセチル、フェニルプロピオニル、フェノキシアセチル、フェノキシプロピオニル、ナフトキシアセチル、ナフトキシプロピオニル、ビフェニルアセチル、ビフェニルオキシアセチル、ビフェニルオキシプロピオニル、シンナモイル、ベンジルオキシ、４−フェノキシベンジルオキシ、４−ベンジルオキシベンジルオキシ、３，５−ジベンジルオキシベンジルオキシ、４−メトキシベンジルオキシ、フェニルカルバモイル、ビフェニルカルバモイル、４−フェノキシフェニルカルバモイルなどを挙げることができる。

特に好ましくは、ベンゾイル、４−メトキシベンゾイル、４−エトキシベンゾイル、４−プロピオキシベンゾイル、４−ブトキシベンゾイル、４−ヘキシロキシベンゾイル、４−ノニロキシベンゾイル、４−デシロキシベンゾイル−メチルベンゾイル、２，４−ジメトキシベンゾイル、２，４，５−トリメトキシベンゾイル、２，４，６−トリメトキシベンゾイル、３，４，５−トリメトキシベンゾイル、２，３，４−トリメトキシベンゾイル、４−ニトロベンゾイル、１−ナフタレンカルボニル、２−ナフタレンカルボニル、２−フェノキシベンゾイル、３−フェノキシベンゾイル、４−フェニルベンゾイル、４’−エチル−４−フェニルベンゾイル、４’−メトキシ−４−フェニルベンゾイル、４’−エトキシ−４−フェニルベンゾイル、４’−プロピオキシ−４−フェニルベンゾイル、４’−ブトキシ−４−フェニルベンゾイルなどを挙げることができる。

また、多分岐高分子化合物の末端基として結合しうる芳香族基を含有しない置換基の具体例としては、好ましくはアセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、オクタノイルオキシ、シクロヘキサンカルボニルオキシ、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシエトキシ、ヒドロキシプロポキシ、カルボキシメトキシ、フタリルオキシ、メチルカルバモイルオキシ、エチルカルバモイルオキシなどを挙げることができる。

更に好ましくは、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、オクタノイルオキシを挙げることができ、特に好ましくはアセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシを挙げることができる。

本発明に用いられる多分岐高分子化合物の具体例について、芳香族基を含む化合物及び芳香族基を含まない化合物とハイパーブランチポリエーテルとの反応の組み合わせの最も好ましい例を挙げて以下に表２〜４で示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。なお、本発明に用いられる多分岐高分子化合物は、以下のハイパーブランチポリエーテルにおける末端の−ＯＨ基と以下の芳香族基を含む化合物及び芳香族基を含まない化合物における−ＣＯＣｌ基とが反応して得られた化合物である。

なお、表２〜４において用いられているハイパーブランチポリエーテルの分子量および分岐度は以下の通りである。また、上記の例示化合物Ａ−１〜Ａ−２８は、ハイパーブランチポリエーテルの末端官能基の総数のうち３０％程度が芳香族基を含む基で置換されている。

本発明に用いられる多分岐高分子化合物の重量平均分子量は、１０００〜３００００００が好ましく、１５００〜１００００００がより好ましい。

本発明のセルロースアシレート組成物における多分岐高分子化合物の含有量は、セルロースアシレートの質量に対して０．０１〜３０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましい。

＜添加剤＞
本発明の高分子組成物を製造する際に、例えばセルロースアシレート溶液に、上記多分岐高分子化合物のほか、種々の添加剤（例えば、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤等）を加えることができる。また、多分岐高分子化合物および他の添加剤の添加時期は、ドープ作製工程の何れにおいて添加してもよく、また、ドープ調製工程の最後に調製工程としてこれらの添加剤を添加してもよい。

これらの添加剤は、固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば、２０℃以下の紫外線吸収剤と２０℃以上の紫外線吸収剤を混合して用いたり、同様に可塑剤を混合して用いたりすることができる。具体的には、特開２００１−１５１９０１号公報に記載の方法を採用できる。

［紫外線吸収剤］
紫外線吸収剤としては、目的に応じ任意の種類のものを選択することができ、サリチル酸エステル化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、ベンゾエート化合物、シアノアクリレート化合物、ニッケル錯塩等の吸収剤を用いることができ、好ましくはベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、サリチル酸エステル化合物である。

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノン等を挙げることができる。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。

サリチル酸エステル系としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレート等を挙げることができる。

これら例示した紫外線吸収剤の中でも、特に２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールが特に好ましい。

紫外線吸収剤は、吸収波長の異なる複数の吸収剤を複合して用いることが、広い波長範囲で高い遮断効果を得ることができるので好ましい。液晶用紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。特に好ましい紫外線吸収剤は、上述のベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物は、セルロースエステルに対する不用な着色が少ないことから、好ましい。

また、紫外線吸収剤については、特開昭６０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９５０９号、特開２０００−２０４１７３号の各公報に記載の化合物も用いることができる。

紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートに対し０．００１〜５質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。添加量が０．００１質量％以上であれば添加効果が十分に発揮されうるので好ましく、添加量が５質量％以下であればフィルム表面への紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制できるので好ましい。

また紫外線吸収剤は、セルロースアシレート溶解時に同時に添加してもよいし、溶解後のドープに添加してもよい。特にスタティックミキサ等を用い、流延直前にドープに紫外線吸収剤溶液を添加する形態が、分光吸収特性を容易に調整することができるので好ましい。

［劣化防止剤］
前記劣化防止剤は、セルローストリアセテート等が劣化、分解するのを防止するために添加してもよい。劣化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化合物（特開平８−３２５５３７号公報）、グアニジン化合物（特開平５−２７１４７１号公報）、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤（特開平６−２３５８１９号公報）、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤（特開平６−１１８２３３号公報）などの化合物を用いることができる。

［可塑剤］
可塑剤としては、リン酸エステルおよび／またはカルボン酸エステルであることが好ましい。リン酸エステル系可塑剤としては、例えばトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が好ましい。また、カルボン酸エステル系可塑剤としては、例えばジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）、ジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等が好ましい。さらに、前記可塑剤が、（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、グリセロールエステル類、ジグリセロールエステル類であることが好ましい。

［剥離促進剤］
剥離促進剤としては、クエン酸のエチルエステル類が好ましい例として挙げられる。
［赤外吸収剤］
赤外吸収剤としては、例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載のものが好ましい。

［染料］
本発明では、色相調整のための染料を添加してもよい。染料の含有量は、セルロースアシレートに対する質量割合で１０〜１０００ｐｐｍが好ましく、５０〜５００ｐｐｍがさらに好ましい。この様に染料を含有させることにより、セルロースフィルムのライトパイピングが減少でき、黄色味を改良することができる。これらの化合物は、セルロースアシレート溶液の調製の際に、セルロースアシレートや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。またインライン添加する紫外線吸収剤液に添加してもよい。特開平５−３４８５８号公報に記載の染料を用いることができる。

［マット剤微粒子］
本発明のセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えてもよい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は、ケイ素を含むものが濁度が低くなる点でより好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましい。二酸化ケイ素の微粒子は、１次平均粒子サイズが２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子サイズが０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子サイズは０．２μｍ〜１．５μｍが好ましく、０．４μｍ〜１．２μｍがさらに好ましく、０．６μｍ〜１．１μｍが最も好ましい。１次／２次粒子サイズはフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒子サイズとした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子サイズとした。

二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、いずれも商品名、日本アエロジル(株)社製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、いずれも商品名、日本アエロジル(株)社製）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが、１次平均粒子サイズが２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化ケイ素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

本発明において２次平均粒子サイズの小さな粒子を有するセルロースフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作製し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化ケイ素微粒子の分散性がよく、二酸化ケイ素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行い、これを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化ケイ素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化ケイ素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％がより好ましく、１５〜２０質量％がさらに好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ²あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。

使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

［化合物の含有量］
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、分子量が３００００以下の化合物（但し、一般式（Ｉ）〜（III）のいずれかで表される多分岐高分子化合物を除く。）の総量は、セルロースアシレートの質量に対して５〜４５質量％であることが好ましい。より好ましくは１０〜４０質量％であり、さらに好ましくは１５〜３０質量％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などである。これら化合物の総量を５質量％以上とすることにより、セルロースアシレート単体の性質が出にくくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しにくくなる。またこれら化合物の総量を４５質量％以下とすることにより、セルロースフィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムの白濁（フィルムからの泣き出し）が抑止される傾向にあり好ましい。

＜セルロースフィルム＞
［有機溶媒］
本発明のセルロースアシレートフィルムは上述の高分子組成物からなるものであり、ソルベントキャスト法によりセルロースフィルムを製造することが好ましく、例えば、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いて製造されることが好ましい。その主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン、およびエーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン、およびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−、および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。

以上、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としてもよいし、例えば公開技法（公開技報２００１−１７４５、１２頁〜１６頁、２００１年発行、発明協会）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としてもよい。

その他、セルロースアシレート溶液及びフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許文献に開示されているものを、好ましい態様としてあげることができる。
特開２０００−９５８７６号、特開平１２−９５８７７号、特開平１０−３２４７７４号、特開平８−１５２５１４号、特開平１０−３３０５３８号、特開平９−９５５３８号、特開平９−９５５５７号、特開平１０−２３５６６４号、特開平１２−６３５３４号、特開平１１−２１３７９号、特開平１０−１８２８５３号、特開平１０−２７８０５６号、特開平１０−２７９７０２号、特開平１０−３２３８５３号、特開平１０−２３７１８６号、特開平１１−６０８０７号、特開平１１−１５２３４２号、特開平１１−２９２９８８号、特開平１１−６０７５２号、特開平１１−６０７５２号の各公報。
これらの特許文献によると本発明のセルロースアシレートフィルムの製造に好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、それらも好ましい態様として挙げられる。

［セルロースフィルムの製造工程］
（溶解工程）
セルロース化合物（例えば、セルロースアシレート）の溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法または高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。例えば、セルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２２頁〜２５頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。

セルロースアシレート溶液のドープ透明度としては８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。セルロースアシレートドープ溶液に各種の添加剤が十分に溶解していることが好ましい。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（ＵＶ−３１５０、商品名、島津製作所社製）で５５０ｎｍの吸光度を測定する。溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からセルロースアシレート溶液の透明度を算出する。

（流延、乾燥、巻き取り工程）
次に、セルロース化合物（例えば、セルロースアシレート）の溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。セルロースフィルムを製造する方法及び設備は、例えば、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置を広く採用することができる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば、回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。セルロースフィルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜やハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２５頁〜３０頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に詳細に記載されており、流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。

［延伸処理］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、延伸処理によりレターデーション値を調整することが好ましい。特に、セルロースフィルムの面内レターデーション値を高い値とする場合には、積極的に幅方向に延伸する方法、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、特開平４−２８４２１１号、特開平４−２９８３１０号、及び特開平１１−４８２７１号の各公報などに記載されている、製造したフィルムを延伸する方法を用いることができる。

フィルムの延伸は、常温又は加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度以下であることが好ましい。フィルムの延伸は、縦又は横だけの一軸延伸でもよく、同時又は逐次２軸延伸でもよい。フィルムは、１〜５００％の延伸を行うことが好ましく、１〜１００％の延伸を行うことがより好ましく、１〜５０％の延伸を行うことがさらに好ましい。

上記偏光板を斜めから見たときの光漏れを抑制するためには、偏光膜の透過軸とセルロースフィルムの面内の遅相軸を平行に配置する必要がある。連続的に製造されるロールフィルム状の偏光膜の透過軸は、一般的に、ロールフィルムの幅方向に平行であるので、前記ロールフィルム状の偏光膜とロールフィルム状のセルロースフィルムからなる保護膜を連続的に貼り合せるためには、ロールフィルム状の保護膜の面内遅相軸は、フィルムの幅方向に平行であることが必要となる。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。また延伸処理は、製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよい。前者の場合には残留溶媒を含んだ状態で延伸を行ってもよく、残留溶媒量が２〜３０質量％で好ましく延伸することができる。

乾燥後得られる、本発明に好ましく用いられるセルロースフィルムの厚さは、使用目的によって異なり、５〜５００μｍの範囲であることが好ましく、２０〜３００μｍの範囲であることがより好ましく、３０〜１５０μｍの範囲であることがさらに好ましい。また、光学用、特にＶＡ液晶表示装置用としては、４０〜１１０μｍであることが好ましい。フィルム厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。

以上のようにして得られた、セルロースフィルムの幅は０．５〜３ｍが好ましく、より好ましくは０．６〜２．５ｍ、さらに好ましくは０．８〜２．２ｍである。長さは、１ロール当たり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。

［セルロースフィルムの光学特性］
本発明において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は、それぞれ波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ(λ)は“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”（商品名、王子計測機器(株)社製）において、波長λｎｍの光をフィルムの法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ(λ)は、前記Ｒｅ(λ)、面内の遅相軸（“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”により判断される。）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の、合計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”が算出する。

ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”によりｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出することができる。

本発明のセルロースアシレートフィルムのＲｅは、配向フィルム試料でいうと、ＴＤ方向（配向方向）の屈折率からＭＤ方向（ＴＤ方向と直交する方向）の屈折率を差し引いた値に厚さを乗じた値である（すなわち、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）ｄで表される）。したがって、Ｒｅが正であるとき、ＴＤ方向の屈折率（ｎｘ）がＭＤ方向の屈折率（ｎｙ）より大きいことを意味する。

Ｒｔｈは、フィルム面内の縦方向の屈折率と幅方向の屈折率との平均値（後述する配向フィルムでいうと、ＴＤ方向屈折率とＭＤ方向屈折率の平均値）から厚さ方向の屈折率を差し引いた値に厚さを乗じた値である（すなわち、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝ｄで表される）。したがって、Ｒｔｈが正であるとき、面内屈折率の平均値（（ｎｘ＋ｎｙ）／２）が厚さ方向の屈折率（ｎｚ）より大きいことを意味する。

フィルムの幅方向のＲｅ（５９０）値のばらつきは、±５ｎｍであることが好ましく、±３ｎｍであることがより好ましい。また幅方向のＲｔｈ（５９０）値のバラツキは±１０ｎｍが好ましく、±５ｎｍであることがより好ましい。また、長さ方向のＲｅ値、及びＲｔｈ値のバラツキも、幅方向のバラツキの範囲内であることが好ましい。

Ｒｅ(λ)値、Ｒｔｈ(λ)値は、それぞれ、以下の数式（Ｖ）及び（ＶＩ）を満たすことが、液晶表示装置、特にＶＡモード、ＯＣＢモード液晶表示装置の視野角を広くするために好ましい。また特にセルロースアシレートフィルムが、偏光板の液晶セル側の保護膜に用いられる場合に好ましい。
数式（Ｖ）：０ｎｍ≦Ｒｅ（５９０）≦２００ｎｍ
数式（ＶＩ）：０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５９０）≦４００ｎｍ
（式中、Ｒｅ（５９０）、Ｒｔｈ（５９０）は、波長λ＝５９０ｎｍにおける値（単位：ｎｍ）である。）

さらに好ましくは、以下の数式（Ｖ−Ｉ）及び（ＶＩ−Ｉ）を満たす。
数式（Ｖ−Ｉ）：３０ｎｍ≦Ｒｅ（５９０）≦１５０ｎｍ
数式（ＶＩ−Ｉ）：３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５９０）≦３００ｎｍ

本発明のセルロースアシレートフィルムをＶＡモード、ＯＣＢモードに使用する場合、セルの両側に１枚ずつ合計２枚使用する形態（２枚型）と、セルの上下のいずれか一方の側にのみ使用する形態（１枚型）の２通りがある。
２枚型の場合、Ｒｅ（５９０）は２０〜１００ｎｍが好ましく、３０〜７０ｎｍがさらに好ましい。Ｒｔｈ（５９０）については７０〜３００ｎｍが好ましく、１００〜２００ｎｍがさらに好ましい。
１枚型の場合、Ｒｅ（５９０）は３０〜１５０ｎｍが好ましく、４０〜１００ｎｍがさらに好ましい。Ｒｔｈ（５９０）については１００〜３００ｎｍが好ましく、１５０〜２５０ｎｍがさらに好ましい。

［ヘイズ］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、例えば、ヘイズ計（１００１ＤＰ型、商品名、日本電色工業(株)社製）を用いて測定した値が０．１以上０．８以下であることが好ましく、０．１以上０．７以下であることがより好ましく、０．１以上０．６０以下であることが特に好ましい。前記範囲にヘイズを制御することにより、光学補償シートとして液晶表示装置に組み込んだ際に高コントラストの画像が得られる。

（光弾性係数）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、偏光板保護フィルム、または位相差板として使用されることが好ましい。偏光板保護フィルム、または位相差板として使用した場合には、吸湿による伸張、収縮による応力により複屈折（Ｒｅ，Ｒｔｈ）が変化する場合がある。このような応力に伴う複屈折の変化は光弾性係数として測定できるが、その範囲は、５×１０^-7（cm²／kgf）〜３０×１０^-7（cm²／kgf）が好ましく、６×１０^-7（cm²／kgf）〜２５×１０^-7（cm²／kgf）がより好ましく、７×１０^-7（cm²／kgf）〜２０×１０^-7（cm²／kgf）であることが特に好ましい。

（表面処理）
未延伸、または、延伸後のセルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、さらにまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００ｋｅＶ下で２０〜５００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００ｋｅＶ下で２０〜３００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースフィルムの表面処理としては極めて有効である。

アルカリ鹸化処理は、鹸化液に浸漬してもよく、鹸化液を塗布してもよい。浸漬法の場合は、ＮａＯＨやＫＯＨ等のｐＨ１０〜１４の水溶液を２０℃〜８０℃に加温した槽を０．１分〜１０分通過させたあと、中和、水洗、乾燥することで達成できる。

塗布方法の場合、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびＥ型塗布法を用いることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液の透明支持体に対して塗布するために濡れ性が良く、また鹸化液溶媒によって透明支持体表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがより好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒〜５分が好ましく、５秒〜５分がより好ましく、２０秒〜３分が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗または酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。また、塗布式鹸化処理と後述の配向膜解塗設を、連続して行うことができ、工程数を減少できる。これらの鹸化方法は、具体的には、例えば、特開２００２−８２２２６号公報、国際公開第０２／４６８０９号パンフレットに内容の記載が挙げられる。

機能層との接着のため下塗り層を設けることも好ましい。この層は上記表面処理をした後、塗設してもよく、表面処理なしで塗設してもよい。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁に記載されている。
これらの表面処理、下塗り工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。

＜機能層との組み合わせ＞
本発明のセルロースアシレートフィルムに、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁〜４５頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせることが好ましい。中でも好ましいのが、偏光膜の付与（偏光板の形成）、光学補償層の付与（光学補償シート）、反射防止層の付与（反射防止フィルム）である。

［偏光膜］
（偏光膜の素材）
現在、市販の偏光膜は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素または二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素または二色性色素を浸透させることで作製されるのが一般的である。偏光膜は、Optiva Inc．に代表される塗布型偏光膜も利用できる。
偏光膜におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏光性能を発現する。二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素またはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例えば、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。例えば、発明協会公開技法（公技番号２００１−１７４５号、２００１年３月１５日発行、発明協会）５８頁に記載の化合物が挙げられる。

偏光膜のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーまたは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。バインダーには、例えば特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］に記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。

なかでも水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がより好ましい。
ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。

変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号および同９−３１６１２７号の各公報に記載されている。ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールは、２種以上を併用してもよい。
バインダー厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。厚みの上限は、液晶表示装置の光漏れの観点からは、薄ければ薄い程よい。現在市販の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下がより好ましく、２０μｍ以下が特に好ましい。

偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。架橋性の官能基を有するポリマー、モノマーをバインダー中に混合してもよく、バインダーポリマー自身に架橋性官能基を付与してもよい。架橋は、光、熱またはｐＨ変化により行うことができ、架橋構造をもったバインダーを形成することができる。架橋剤については、米国再発行特許第２３２９７号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物（例えば、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。バインダーの架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１〜２０質量％が好ましい。偏光素子の配向性、偏光膜の耐湿熱性が良好となる。

架橋反応が終了後でも、未反応の架橋剤は１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがより好ましい。このようにすることで、耐候性が向上する。

（偏光膜の延伸）
偏光膜は、偏光膜を延伸するか（延伸法）、もしくはラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。
延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がより好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸により実施することができる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸により実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。ここでいう延伸倍率は（延伸後の偏光膜の長さ／延伸前の偏光膜の長さ）を表す。延伸はＭＤ方向に平行に行ってもよく（平行延伸）、斜め方向に行ってもよい（斜め延伸）。これらの延伸は、１回で行っても、数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。より好ましいのが斜め方向に１０度から８０度の傾きを付けて延伸する斜め延伸である。

（イ）平行延伸法
延伸に先立ち、ＰＶＡフィルムを膨潤させる。膨潤度は通常１．２〜２．０倍（膨潤前と膨潤後の質量比）である。この後、ガイドロール等を介して連続搬送しつつ、水系媒体浴内や二色性物質溶解の染色浴内で、通常１５〜５０℃、好ましくは１７〜４０℃の浴温で延伸する。延伸は２対のニップロールで把持し、後段のニップロールの搬送速度を前段のそれより大きくして行うことができる。前記作用効果の点より好ましい延伸倍率（延伸後／初期状態の長さ比：以下同じ）は１．２〜３．５倍、より好ましくは１．５〜３．０倍である。この後、５０℃〜９０℃において乾燥させて偏光膜を得る。

（ロ）斜め延伸法
斜め延伸法は、特開２００２−８６５５４号公報に記載されているように、傾斜め方向に張り出したテンターを用いて延伸することにより実施することができる。この延伸は空気中で行うため、事前に含水させて延伸しやすくすることが必用である。好ましい含水率は５％〜１００％、より好ましくは１０％〜１００％である。
延伸時の温度は４０℃〜９０℃が好ましく、より好ましくは５０℃〜８０℃である。相対湿度は５０％〜１００％が好ましく、より好ましくは７０％〜１００％、特に好ましくは８０％〜１００％である。長手方向の進行速度は、１ｍ／分以上が好ましく、より好ましくは３ｍ／分以上である。

延伸の終了後、好ましくは５０℃〜１００℃、より好ましくは６０℃〜９０℃で、好ましくは０．５分〜１０分、より好ましくは１分〜５分乾燥する。
このようにして得られる偏光膜の吸収軸は１０°〜８０°が好ましく、より好ましくは３０°〜６０°であり、特に好ましくは実質的に４５°（４０°〜５０°）である。

（貼り合せ）
上記鹸化後のセルロースアシレートフィルムと、延伸して調製した偏光膜を貼り合わせ偏光板を調製する。張り合わせる方向は、セルロースアシレートフィルムの流延軸方向と偏光板の延伸軸方向が４５°になるように行うのが好ましい。
貼り合わせの接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層厚みは乾燥後に０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０５〜５μｍが特に好ましい。

このようにして得た偏光板の光線透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがより好ましく、４０〜５０％の範囲にあることが特に好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがより好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが特に好ましい。

さらに、このようにして得た偏光板はλ／４板と積層し、円偏光板を作成することができる。この場合λ／４板の遅相軸と偏光板の吸収軸を４５度になるように積層する。この時、λ／４板は特に限定されないが、より好ましくは低波長ほどレターデーションが小さくなるような波長依存性を有するものがより好ましい。さらには長手方向に対し２０度〜７０度傾いた吸収軸を有する偏光膜、および液晶性化合物からなる光学異方性層からなるλ／４板を用いることが好ましい。

［光学補償層の付与（光学補償シートの作成）］
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するためのものであり、セルロースアシレートフィルムの上に配向膜を形成し、さらに光学異方性層を付与することで形成される。

（配向膜）
上記表面処理したセルロースアシレートフィルム上に配向膜を設ける。この膜は、液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光子上に転写して本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板を作製することも可能である。

配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、またはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与または光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。

配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性分子を配向させる機能のある分子構造を有する。
本発明では、液晶性分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例えば、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、または液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。

配向膜に用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーまたは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］に記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がより好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。

液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶性分子の種類および必要とする配向状態に応じて決定する。

例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。変性基の例としては、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ基、ジアルコキシ基、モノアルコキシ基）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２−６２４２６号公報の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。

架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、または液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。

配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００８０］〜［０１００］に記載のもの等が挙げられる。配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。

架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。２種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００２３］〜［００２４］に記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。

架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がより好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがより好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。が発生することがある。

配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行ってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えば、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがより好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには光学異方性層の層表面の欠陥が著しく減少する。

配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、通常２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、８０℃〜１００℃がより好ましい。乾燥時間は通常１分〜３６時間にすることができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、通常ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。

配向膜は、透明支持体上または上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
前記ラビング処理は、液晶表示装置を製造する際に行う液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムまたはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。

工業的に実施する場合、搬送している偏光膜のついたフィルムに対し、回転するラビングロールを接触させることで達成するが、ラビングロールの真円度、円筒度、振れ（偏芯）はいずれも３０μｍ以下であることが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、０．１〜９０°が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０°以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。フィルムの搬送速度は１〜１００ｍ／ｍｉｎが好ましい。ラビング角は０〜６０°の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、４０〜５０°が好ましい。４５°が特に好ましい。
このようにして得た配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。

（光学異方性層）
次に、配向膜の上に光学異方性層の液晶性分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、または架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させる。
光学異方性層に用いる液晶性分子には、棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子が含まれる。棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。

１）棒状液晶性分子
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。

なお、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性分子として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性分子は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶性分子については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
棒状液晶性分子の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。

棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽基あるいはカチオン重合性基が好ましく、具体的には、例えば特開２００２−６２４２７号公報の段落番号［００６４］〜［００８６］に記載の重合性基、重合性液晶化合物が挙げられる。

２）円盤状液晶性分子
円盤状（ディスコティック）液晶性分子には、C.Destradeらの研究報告、Mol．Cryst．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、C.Destradeらの研究報告、Mol．Cryst．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Physics lett，A，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されている
トルキセン誘導体、B.Kohneらの研究報告、Angew．Chem．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびJ.M.Lehnらの研究報告、J．Chem．Commun.，１７９４頁（１９８５年）、J.Zhangらの研究報告、J．Am．Chem．Soc．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。

円盤状液晶性分子としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。円盤状液晶性分子から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物が円盤状液晶性分子である必要はなく、例えば、低分子の円盤状液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。円盤状液晶性分子の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、円盤状液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載されている。

円盤状液晶性分子を重合により固定するためには、円盤状液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基は、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことができる。例えば、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［０１５１］〜［０１６８］に記載の化合物等が挙げられる。

ハイブリッド配向では、円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）と偏光膜の面との角度が、光学異方性層の深さ方向でかつ偏光膜の面からの距離の増加と共に増加または減少している。角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、または増加および減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度は、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。さらに、角度は連続的に変化することが好ましい。

偏光膜側の円盤状液晶性分子の長軸の平均方向は、一般に円盤状液晶性分子または配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）の円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）方向は、一般に円盤状液晶性分子または円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。

（光学異方性層の他の組成物）
上記の液晶性分子と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上することができる。液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、または配向を阻害しないことが好ましい。

重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基を有する液晶化合物に対して共重合性を示すものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報の段落番号［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１質量％〜５０質量％の範囲にあり、５質量％〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。

界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報の段落番号［００２８］〜［００５６］に記載の化合物が挙げられる。

円盤状液晶性分子とともに使用するポリマーは、円盤状液晶性分子に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。

ポリマーの例としては、セルロースアシレートを挙げることができる。セルロースアシレートの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［０１７８］に記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１質量％〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１質量％〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。

円盤状液晶性分子のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０℃〜１７０℃がより好ましい。

（光学異方性層の形成）
光学異方性層は、液晶性分子および必要に応じて後述の重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがより好ましく、１〜１０μｍであることが特に好ましい。

（液晶性分子の配向状態の固定）
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。

光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２，３６７，６６１号、同２，３６７，６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２，４４８，８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２，７２２，５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３，０４６，１２７号、同２，９５１，７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３，５４９，３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４，２３９，８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４，２１２，９７０号明細書記載）が含まれる。

光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがより好ましい。
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ²の範囲にあることが特に好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。

（偏光膜との組み合わせ）
この光学補償シートと偏光膜を組み合わせることも好ましい。具体的には、上記のような光学異方性層用塗布液を偏光膜の表面に塗布することにより光学異方性層を形成する。その結果、偏光膜と光学異方性層との間にポリマーフィルムを使用することなく、偏光膜の寸度変化にともなう応力（歪み×断面積×弾性率）が小さい薄い偏光板が作成される。本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板を大型の液晶表示装置に取り付けると、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い画像を表示することができる。

偏光膜と光学補償層の傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦または横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。通常の傾斜角度は４５°である。しかし、最近は、透過型、反射型および半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５°でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。

［反射防止層の付与（反射防止フィルムの作製）］
反射防止フィルムは、一般に、防汚性層でもある低屈折率層、および低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）を透明支持体上に設けてなる。
屈折率の異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を積層させた多層膜の形成方法として、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報）して薄膜を形成する方法等が挙げられる。

一方、生産性が高い反射防止フィルムとして、無機粒子をマトリックスに分散した分散物を塗布することにより薄膜を積層した反射防止フィルムも各種提案されている。塗布による反射防止フィルムとして、表面に微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した層を最上層に形成した反射防止フィルムも挙げられる。
本発明のセルロースアシレートフィルムは上記いずれの方式で製造する反射防止フィルムにも適用できるが、塗布による方式（塗布型）で製造する反射防止フィルムに適用することが特に好ましい。

（塗布型反射防止フィルムの層構成）
透明支持体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）を順に形成した層構成からなる反射防止フィルムは、屈折率が以下の関係を満足するように設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と中屈折率層の間には、ハードコート層を設けてもよい。さらには、中屈折率ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層からなるものであってもよい。例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載されているものが挙げられる。

また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等に記載されるもの）等が挙げられる。
反射防止フィルムのヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましい。また、膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることが特に好ましい。

（高屈折率層および中屈折率層）
反射防止フィルムの高い屈折率を有する層は、平均粒子サイズ１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜からなる。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上の無機化合物が挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。

このような超微粒子とするためには、粒子表面を表面処理剤で処理する技術（例えば、特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８号公報に記載されるシランカップリング剤で処理する技術や、特開２００１−３１０４３２号公報等に記載されるアニオン性化合物あるいは有機金属カップリング剤で処理する技術）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とする技術（例えば、特開２００１−１６６１０４等に記載される技術）、特定の分散剤を併用する技術（例えば、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６,２１０,８５８Ｂ１号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等に記載される技術）等を利用することができる。マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。

さらに、ラジカル重合性および／またはカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個以上有する多官能性化合物を含有する組成物、加水分解性基を有する有機金属化合物およびその部分縮合体の組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。これらの組成物に用いる化合物として、例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。
また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載される硬化性膜を挙げることができる。

高屈折率層の屈折率は、一般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがより好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。

（低屈折率層）
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層してなる層である。低屈折率層の屈折率は一般に１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５０である。
低屈折率層は、耐擦傷性や防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させるためには表面に滑り性を付与することが有効であり、具体的には従来公知のシリコーン化合物や含フッ素化合物を導入した薄膜層の形成法を適用することができる。

含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性または重合性の官能基を含む化合物であることが好ましい。

例えば、特開平９−２２２５０３号公報の段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報の段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報の段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
シリコーン化合物はポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基または重合性官能基を有し、膜中で橋かけ構造を形成しているものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例えば、サイラプレーン（チッソ(株)製等）、両末端にシラノール基を有するポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。

架橋または重合性基を有する含フッ素および／またはシロキサンのポリマーの架橋または重合反応は、重合開始剤や増感剤等を含有する最外層形成用の塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。
また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基を有するシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応させて硬化したゾルゲル硬化膜も好ましい。

例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ（パーフルオロアルキルエーテル）基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報に記載の化合物等）等が挙げられる。

低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成してもよい。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがより好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが特に好ましい。

（ハードコート層）
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設けることができる。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光および／または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成することが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基を有する有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物であることが好ましい。
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したものと同様のものが挙げられる。

ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等に記載されるものが挙げられる。
高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層の説明で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
ハードコート層は、平均粒子サイズ０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることが特に好ましい。又、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

（前方散乱層）
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設ける。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。

例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等に記載される技術を用いることができる。

（その他の層）
上記の層以外に、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。

（塗布方法）
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許第２，６８１，２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。

（アンチグレア機能）
反射防止フィルムは、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止フィルムの表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止フィルムがアンチグレア機能を有する場合、反射防止フィルムのヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがより好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。

反射防止フィルムの表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層またはハードコート層）に比較的大きな粒子（粒子サイズ０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、最上層（防汚性層）を塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等が挙げられる。

＜液晶表示装置＞
本発明のセルロースアシレートフィルム、該セルロースフィルムを用いた偏光板、位相差フィルムおよび光学フィルムは、それぞれ液晶表示装置に好ましく組み込むことができる。液晶表示装置としては、ＴＮ（Twisted Nematic）型、ＩＰＳ（In-Plane Switching）型、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）型、ＡＦＬＣ（Anti-ferroelectric Liquid Crystal）型、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）型、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）型、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）型、ＶＡ（Vertically Aligned）型およびＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）型の表示装置が挙げられる。また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても好ましく用いることができる。以下に各液晶モードについて説明する。

（ＴＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報の記載に従って作製することができる。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）の記載に従って作製することができる。

（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報の記載に従って作製することができる。

（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として特に有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートのＲｅ値を０〜１５０ｎｍとし、Ｒｔｈ値を７０〜４００ｎｍとすることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈ値は７０〜２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈ値は１５０〜４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であってもよい。

（ＩＰＳ型液晶表示装置、ＥＣＢ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＩＰＳモードまたはＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置またはＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償シート、または偏光板の保護膜としても好適に用いられる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は色味の改善、視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、液晶セルの上下の前記偏光板の保護膜のうち、液晶セルと偏光板との間に配置された保護膜（セル側の保護膜）に本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板を少なくとも片側一方に用いることが好ましい。更に好ましくは、偏光板の保護膜と液晶セルの間に光学異方性層を配置し、配置された光学異方性層のレターデーション値を、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。

（ＯＣＢ型液晶表示装置、ＨＡＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーション値の絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報の記載に従って作製することができる。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３７）の記載に従って作製することができる。

（反射型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号公報、国際公開ＷＯ９８／４８３２０号パンフレット、特許登録第３０２２４７７号公報の記載に従って作製することができる。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、国際公開ＷＯ００／６５３８４号の記載に従って作製することができる。

（その他の液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ ｅｔ ａｌ．，ＳＩＤ ９８ Ｄｉｇｅｓｔ １０８９（１９９８））の記載に従って作製することができる。

（ＴＮモード液晶表示装置）
カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。

（ＯＣＢモード液晶表示装置）
棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許第４，５８３，８２５号、同５，４１０，４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Optically Compensated Bend）液晶モードとも呼ばれる。

ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。

以下に実施例により本発明についてのさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。

参考例
［多分岐高分子化合物の調製］
多官能性の多分岐高分子と酸クロリドとを反応させ、表６に示す多分岐高分子化合物をそれぞれ得た。以下、各多分岐高分子化合物の製造について詳しく説明する。

（多官能性の多分岐高分子（中間体化合物）の調製）
ハイパーブランチポリ（グリシドール）は、H.Frey et al.，Macromolecules，Vol.32，No.13，p.4240-4246（1999）に記載された方法に従って重合反応によって調製した。得られたハイパーブランチポリ（グリシドール）の分子量は８０００であった。
また、ハイパーブランチポリ（３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン）は、A.Hult et al.，Macromol．Rapid Commn．s，20，p.453-457（1999）に記載された方法に従って重合反応によって調製した。得られたハイパーブランチポリ（３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン）の分子量は６０００であった。
また、ハイパーブランチポリ（テトリトール）は、T.Kakuchi et al.，Macromolecules，Vol.38，No.5，p.1648-1654（2005）に記載された方法に従って重合反応によって調製した。得られたハイパーブランチポリ（テトリトール）の分子量は５００００であった。

参考例１
＜多分岐高分子化合物（例示化合物Ａ−２）の調製＞
（４−ブトキシ−４’−ビフェニルカルボニルクロリド（酸クロリド）の調製）
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた０．５Ｌの三ツ口フラスコに、４−ブトキシ−４’−ビフェニルカルボン酸（東京化成株式会社製）１０ｇ、トルエン２０ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここに塩化チオニル（和光純薬株式会社製）８．８ｇ、ジメチルホルムアミド１ｍｌをゆっくりと滴下し、添加後さらに８０℃にて１時間攪拌した。反応後、トルエンと未反応の塩化チオニルを減圧留去し、残留物にヘキサン５００ｍｌを激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のヘキサンで３回洗浄を行った。得られた白色固体を乾燥することで、目的の４−ブトキシ−４’−ビフェニルカルボニルクロリドを白色粉体として９．４ｇ得た。

（多分岐高分子化合物（例示化合物Ａ−２）の調製）
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた０．３Ｌの三ツ口フラスコにハイパーブランチポリ（グリシドール）２．８ｇ、ピリジン２０ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここに４−ブトキシ−４’−ビフェニルカルボニルクロリド１１ｇをゆっくりと粉体滴下し、添加後さらに５０℃にて８時間攪拌した。反応後、室温に戻るまで放冷し、反応溶液をメタノール０．５Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的の多分岐高分子化合物（例示化合物Ａ−２）を白色粉体として５．７ｇ得た。得られた多分岐高分子化合物の分子量は１８０００であった。¹Ｈ ＮＭＲ及び¹³Ｃ ＮＭＲスペクトルにより定量したところ、ハイパーブランチポリ（グリシドール）の末端基の総数のうち３０％程度が４−ブトキシ−４’−ビフェニルカルボニル基で置換されていることがわかった。

参考例２
＜多分岐高分子化合物（例示化合物Ａ−５）の調製＞
４−ブトキシ−４’−ビフェニルカルボニルクロリドをビフェニルカルボニルクロリド（東京化成製）に変えたこと以外は参考例１と同様にして、目的の多分岐高分子化合物（例示化合物Ａ−５）を白色粉体として５．２ｇ得た。得られた多分岐高分子化合物の分子量は１５０００であった。参考例１と同様にして測定したところ、ハイパーブランチポリ（グリシドール）の末端基の総数のうち３０％程度がビフェニルカルボニル基で置換されていることがわかった。

参考例３
＜多分岐高分子化合物（例示化合物Ａ−１２）の調製＞
ハイパーブランチポリ（グリシドール）をハイパーブランチポリ（３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン）に変えたこと以外は参考例１と同様にして、目的の多分岐高分子化合物（例示化合物Ａ−１２）を白色粉体として５．１ｇ得た。得られた多分岐高分子化合物の分子量は１３０００であった。参考例１と同様にして測定したところ、ハイパーブランチポリ（３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン）の末端基の総数のうち３０％程度が４−ブトキシ−４’−ビフェニルカルボニル基で置換されていることがわかった。

参考例４
＜多分岐高分子化合物（例示化合物Ａ−２１）の調製＞
ハイパーブランチポリ（グリシドール）をハイパーブランチポリ（テトリトール）に変えたこと以外は参考例１と同様にして、目的の多分岐高分子化合物（例示化合物Ａ−２１）を白色粉体として５．２ｇ得た。得られた多分岐高分子化合物の分子量は５４０００であった。参考例１と同様にして測定したところ、ハイパーブランチポリ（テトリトール）の末端基の総数のうち３０％程度が４−ブトキシ−４’−ビフェニルカルボニル基で置換されていることがわかった。

参考例５
＜多分岐高分子化合物（比較化合物Ｂ−１）の調製＞
４−ブトキシ−４’−ビフェニルカルボニルクロリドをアセチルクロリド（和光純薬製）に変えたこと以外は参考例１と同様にして、芳香族基を含まない基としてアセチル基を結合した多分岐高分子化合物（比較化合物Ｂ−１）を白色粉体として４．６ｇ得た。得られた多分岐高分子化合物の分子量は１００００であった。参考例１と同様にして測定したところ、ハイパーブランチポリ（グリシドール）の末端基の総数のうち３０％程度がアセチル基で置換されていることがわかった。

参考例６
＜多分岐高分子化合物（比較化合物Ｂ−２）の調製＞
特開２００５−２９０３４６号公報に記載された方法に従って比較化合物Ｂ−２を調製した。

実施例１
［セルロースアシレート組成物の作製］
下記組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。また、置換度２．８０のセルロースアセテートに代えて置換度２．８６のセルロースアセテートを用いたこと以外は同様にして、セルロースアセテート溶液Ｂを調製した。また、セルロースアセテートに代えて置換度２．７５のセルロースアセテートブチレート（アセチル置換度１．０、ブチリル置換度１．７５）を用いたこと以外は同様にして、セルロースアセテートブチレート溶液を調製した。

＜セルロースアセテート溶液Ａ＞
置換度２．８０のセルロースアセテート ２８５質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） １６００質量部
メタノール（第２溶媒） ３０質量部

別のミキシングタンクに、例示化合物Ａ−２、例示化合物Ａ−５、例示化合物Ａ−１２、例示化合物Ａ−２１、比較化合物Ｂ−１、または比較化合物Ｂ−２のそれぞれ１５質量部と、メチレンクロライド６６質量部と、メタノール４質量部とを投入し、加熱しながら攪拌して、各改質剤溶液を調製した。セルロースアセテート溶液３００質量部に上記調製した改質剤溶液を８５質量部混合し、充分に攪拌してセルロースアシレート組成物（ドープ）を調製した。

実施例２
［セルロースアシレートフィルム試料００１〜００９の作製］
上記で調製したセルロースアシレート組成物溶液５６２質量部を、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が１５質量％のフィルムを、テンターを用いて１５％の延伸倍率で横延伸して、フィルム試料００１〜００９を作製した（フィルム厚さ：８０μｍ）。

（フィルム試料の評価）
上記で得られた各フィルム試料の一部（１２０ｍｍ×１２０ｍｍ）を取り出し、レターデーション値については先に［セルロースフィルムの光学特性］の項で述べた手順により測定した。具体的には、KOBRA 21ADH（商品名、王子計測機器(株)製）を用いて、波長５５０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させてＲｅ及びＲｔｈを測定した。その結果を下記表６に示す。
また、セルロースアシレートフィルムを全幅×流れ方向３０ｃｍに切り出して、該フィルムを白色スクリーンの前に１０ｍｍの間隔を空け平行に設置し、このフィルムの中央部から３２．５度の方向に１ｍ離して設置したスライド投影機（Color Cabin III、商品名、キャビン工業(株)製）から投光し、スクリーンに投影された製膜方向（ＭＤ）に平行なスジ（光の明暗）の内、３ｍｍ幅以下のものの本数を全幅に亘って数え、幅１０ｃｍあたりの本数を求め、以下の基準に従って評価した。
Ａ： スジが０本／１０ｃｍ以下であった。
Ｂ： スジが１本／１０ｃｍ以下であった。
Ｃ： スジが３本／１０ｃｍ以下であった。
Ｄ： スジが３本／１０ｃｍよりも多かった。
その結果を下記表６に示す。

表６の結果から明らかなように、多分岐高分子化合物Ａ−２、Ａ−５、Ａ−１２又はＡ−２１を含む本発明のフィルム試料００１〜００５は、面内方向のレターデーションおよび厚み方向のレターデーションが比較フィルム試料００６〜００９に比べて大きいことが分かった。また、比較フィルム試料００６〜００９の面状が劣るのに対し、本発明のフィルム試料００１〜００５はいずれもスジが全く発生しておらず面状に優れることがわかった。

実施例３
［偏光板保護膜の作製］
実施例２の試料００１〜００９を用いて、特開平１１−３１６３７８号公報の実施例１に記載の方法により、楕円偏光板試料００１〜００９を作製し、評価した。本発明のセルロースアシレートフィルムにより得られた楕円偏光板の光学特性は優れたものであった。

実施例４
［光学異方性層、配向膜、液晶表示装置の作製］
実施例２の試料００１〜００９を用いて、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載のＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載のＯＣＢ型液晶表示装置を作製し、評価した。本発明のセルロースアシレートフィルムを用いて得られた装置では、いずれの場合においても良好な性能が得られた。

Claims (11)

1. セルロースアシレートと多分岐高分子化合物とを含有するセルロースアシレート組成物であって、
   前記多分岐高分子化合物が、下記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）のいずれかで表される繰返し単位を有するハイパーブランチポリエーテルに、末端基として水素原子又は置換基が結合しており、かつ、該末端基の総数のうち１０〜１００％が芳香族基を含有する置換基である化合物である
   ことを特徴とするセルロースアシレート組成物。
   

   
2. 前記セルロースアシレートが、下記式（１）及び（２）を同時に満足することを特徴とする請求項１記載のセルロースアシレート組成物。
   式（１）： ２．３≦ＤＳＡ＋ＤＳＢ≦３．０
   式（２）： ０≦ＤＳＡ≦３．０
   （式中、ＤＳＡはセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度、ＤＳＢはセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。）
3. 前記の多分岐高分子化合物におけるハイパーブランチポリエーテルと芳香族基を含有する置換基とが、＊＊−Ｏ−または＊＊−ＯＯＣ−（＊＊はハイパーブランチポリエーテルとの結合部を表す。）を介して結合していることを特徴とする請求項１又は２に記載のセルロースアシレート組成物。
4. 前記の多分岐高分子化合物におけるハイパーブランチポリエーテルと芳香族基を含有する置換基とが、＊＊−ＯＯＣ−（＊＊はハイパーブランチポリエーテルとの結合部を表す。）を介して結合していることを特徴とする請求項３記載のセルロースアシレート組成物。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載のセルロースアシレート組成物を用いて形成されたことを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
6. 少なくとも１方向に０．１％〜５００％延伸したことを特徴とする請求項５記載のセルロースアシレートフィルム。
7. 請求項５又は６に記載のセルロースアシレートフィルムを用いたことを特徴とする位相差フィルム。
8. 偏光膜と該偏光膜を挟持する２枚の保護フィルムとからなる偏光板であって、２枚の保護フィルムの少なくとも一方が、請求項５もしくは６に記載のセルロースアシレートフィルム又は請求項７に記載の位相差フィルムであることを特徴とする偏光板。
9. 請求項５もしくは６に記載のセルロースアシレートフィルム又は請求項７記載の位相差フィルム上に、液晶性化合物を配向させて形成した光学異方性層を有することを特徴とする光学補償シート。
10. 請求項５もしくは６に記載のセルロースアシレートフィルム又は請求項７記載の位相差フィルム上に、反射防止層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
11. 請求項５もしくは６に記載のセルロースアシレートフィルム、請求項７記載の位相差フィルム、請求項８記載の偏光板、請求項９記載の光学補償シート、および請求項１０記載の反射防止フィルムからなる群より選択される少なくとも１種を用いることを特徴とする画像表示装置。