JP4997045B2 - 電子線応用装置に用いられる試料保持機構 - Google Patents
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図1と図15に本発明の実施の形態である試料保持機の構成を示す。様々な試料サイズ(試料厚さ,大きさ)に対応するため、試料交換作業の効率化のために電極2の位置は試料1に関係なく試料ステージ101からの高さ固定とし、一方で試料保持機の試料台底面部4を上下動させて試料高さを調整可能とし、電極2の高さと試料1の高さとを略平坦化する機構を設け、さらに試料サイズ毎に当該リターディング電界のかかる電極2及び試料台底面部分4を取替え可能な構造とし、電極部分2にはひさし状の形状3を有した構成としてある。また、試料1を搭載する試料台底面部分4と電極部分2及びひさし状部分3は装置ステージ1010との接続台座を介して同電位となるようにしてある。ひさし状部分3は、高さ調整機構ネジ部5によって、その高さが調整可能となっており、試料1縁部を上方から覆い隠すように機能する。
ウェハ試料においてはオリフラ1aやサブオリフラ1b,ノッチオリフラなど円形形状が一様でない試料もあり、この一様でない形状部分による電界乱れもひさし形状により抑えることができる。本変形例では、実施例1に基づいてひさし形状を電極部分に形成した。実施の形態を図5に示す。電極部分2にはウェハオリフラ1aに合わせた形状を加え、試料の回転を抑止して高さ調整に対応できる。電極部分に形成したウェハオリフラ対応部は、高さ調整による試料底面部分4の上下動を制限しない形とする必要性がある。そのため、本変形例ではひさし部分3の下部に厚さ0.2mmでオリフラ形状1aに合わせた段差2bを設けたが、この厚みは観察するウェハ1の厚みが一定の物を観察する場合にはウェハ厚みと同じかそれよりも薄いのであればよく、ウェハ部分の形状に対応している物であるならば、前記厚みに限定するものではない。ひさし部分3は、ウェハ試料におけるオリフラ部分及び外周部でのプロセス影響を隠すため、ひさし3の形状は、開口形状をウェハ試料と相似形で小さくしたものや、ウェハ試料のオリフラ部分を隠せる幅で開口形状を円形としたものであってもよく、プロセスによるリターディング電界への影響を少なくするための形状であれば当該ひさし部分の開口形状を限定するものではない。
実施の形態を図6に示す。試料保持機の試料サイズは、0.5インチ,0.85インチ,1インチ,1.25インチ,1.3インチ,1.5インチ,1.8インチ,1.89インチ,2インチ,2.5インチ,65mm,70mm,3インチ,80mm,3.3インチ,3.5インチ,4インチ,120mm,5インチ,200mm,8インチ等試料中心に穴のある円盤状メディアディスクの様々なサイズに対応することができる。但し試料保持機の試料サイズに関して前記大きさに特に限定するものではない。電極部分2には試料形状と同じ大きさの開口があり、最上層部に前記ひさし形状3を形成してある。外周部分サイズはそれ以上の大きさのもので、観察用試料室に入る大きさであるならばいくらでもよいが、発明者らの実験によれば電極部分の形状が少なくとも5mm以上試料サイズより大きい場合には、試料外周部付近でのリターディング電界の歪みが小さくなることを確認しているが前記サイズに特に限定するものではない。なお、試料台底面形状4の直径は前記大きさに限定するものではなく、試料サイズと同等乃至それ以上の大きさであればいくらでもよい。
図7に実施の形態を示す。10mm角,15mm角,20mm角,25mm角,30mm角,50mm角,75mm角,3インチ角,100mm角,4インチ角,125mm角,5インチ角,150mm角,6インチ角,7インチ角,200mm角,8インチ角、等の角型試料等様々なサイズに対応することができる。但し試料保持機の試料サイズに関して前記大きさに特に限定するものではなく、正方形形状に限らず長方形形状であってもよい。試料台底面4の形状は試料サイズの対角線長さ以上となるように、例えば前記試料サイズに対応するとそれぞれ15mm,22mm,29mm,36mm,43mm,71mm,107mm,4.3インチ,142mm,5.7インチ,177mm,213mm,7.1インチ,8.5インチ,9.9インチ,283mm,11.4インチとし、電極部分2には該試料形状と同じ大きさの開口があり、最上層部に前記ひさし形状3を形成してある。電極部分外周の形状は試料サイズと相似形や円形形状でサイズがそれ以上の大きさのもので、観察用試料室に入る大きさであるならばいくらでもよく、この形状を前記形状に限定するものではない。発明者らの実験によれば電極部分の形状が試料サイズより少なくとも5mm以上大きい場合には、試料外周部付近でのリターディング電界の歪みが小さくなることを確認しているが、前記大きさに限定するものではない。また、電極部分2には角型試料に合わせた形状2bをひさし3下部に設け、試料の回転を抑止して高さ調整に対応できる。電極部分2に形成した角型試料に合わせた形状2bは、高さ調整による試料底面部分4の上下動を制限しない形とする必要性があるため、本変形例ではひさし部分3の下部に厚さ0.2mmで角型試料に合わせた段差2bを設けたが、この厚みは観察するウェハの厚みが一定の物を観察する場合にはウェハ厚みと同じかそれ以下であればよく、前記厚みに限定するものではない。なお、試料台底面円柱4形状の直径は前記大きさに限定するものではなく、試料対角線サイズと同等乃至それ以上の大きさであればいくらでもよい。
実施例1同様のひさしを設けた電極部分2と試料を載せる試料台底面部分4とで構成されているが、図8に示すように試料台底面部分4に棒形状を形成しその部分にネジ5aが切ってある。この棒部分は試料台底面部4と同一構造や、試料台底面部分にねじ込む構造としてあってもよく、高さ調整機構として働く機能を有していればよく形状や接続方法を限定する物ではない。そして、本実施例においてはステージと接続する台座部分を基底部分7として試料台底面部分のネジ5aと合うネジ溝を基底部7に作製して、基底部分7と試料台底面下部の棒部分5aとの間で高さ調節機構を形成したが、基底部分7を電極部分2から延長された部分に形成してあってもよく、高さ調節用のネジ溝が切ってあれば基底部分7の形成された部位を特定するものではない。この場合にも実施例1と同じくリターディング電界の乱れた領域を低減することができ、電極表面と試料表面とを略平坦化しひさしを設けた構造の効果が確認できた。
実施例2同様の構成であるが、図9に示した形態のようにネジきりした部分が棒状部分の全てでなく、ネジ部5aと支え部5bとで構成されていてもよい。この場合にも実施例1と同じくリターディング電界の乱れた領域を低減することができ、電極表面と試料表面とを略平坦化しひさしを設けた構造の効果が確認できた。
実施例2と同様に試料台底面部分4と基底部分7との間を棒状パーツで接続しているが、本実施例の形状は図10に示すように、試料台底面部分4にもネジきりをし、基底部分7とは逆廻しネジの関係にしてある。この構成にすることで、棒状パーツを回転させて高さ調節を実施した場合に、試料台底面部分4が回転することなく高さ調整することができる。試料台は真空中で使用するため、試料台底面側のネジきり部分5cを真空引きするために棒状パーツ中心に貫通穴を開けたり、ネジ切りした部分の一部部分を削り落としたりしてあってもよく、特にネジ部分を真空対応とした加工の有無に限定するものではなく、高さ調節ができる構造であればよい。また、本実施例ではネジ部5aと逆ネジ部5cとの間に支え部5bを設けたが、支え部5bが無い構成としてあってもよく、支え部5bの有無に関して特に限定する物ではない。
実施例1同様の電極部分と試料を載せる試料台底面部分とで構成されているが、試料台底面部分4にネジ溝を切り、ステージと接続する基底部分7に試料台底面部分4のネジと合うネジ切りをした棒状部分5aを作製して、基底部側からの棒部分と試料台底面下部との間で高さ調節機構を形成したが、基底部分に形成したネジ切りをした棒状部分を電極部分から延長されたパーツに形成してあってもよく、高さ調節用のネジ切り部分があれば当該部分の形成された部位を特定するものではない。
実施例5同様の構成であるが、図13に示すようにネジきりした部分が棒状部分の全てでなく、ネジ部5aと支え部5bとで構成されていてもよい。この場合にも実施例1と同じくリターディング電界の乱れた領域を低減することができ、電極表面と試料表面とを略平坦化しひさしを設けた構造の効果が確認できた。
1a 試料オリフラ部
1b 試料サブオリフラ部
2 電極部分
2a メディアディスク用中央電極部
2b 試料回転制限部
2c 電極下層部
2d 電極上層部
3 ひさし部
3a メディアディスク用中央電極ひさし部
4 試料底面部
4a 試料底面ローレット部
5a 高さ調整機構ネジ部
5b 高さ調整機構支え部
5c 高さ調整機構逆ネジ部
6 回転防止用板
7 高さ調節用基底部
10 貫通用足部
11 電極締結用ナット
12 電極固定用平板
13 電極固定用溝
100 試料室
101 試料ステージ
102 対物レンズ
103 偏向器
104 リターディング用電源
105 コンデンサレンズ
106 一次電子ビーム
107 電子銃
110 保持機
111 試料
112 試料上の異物
120 等電位線
Claims (4)
- 電子線応用装置内にて、試料に負電圧を印加して試料を保持する試料保持機構において、
負電圧が印加されると共に前記試料を下部から支持する支持台と、
前記試料の端部上面を覆うひさし部を有し、
当該ひさし部は前記試料の端部に沿って形成され、前記負の電圧が印加されることを特徴とする試料保持機構。 - 請求項1に記載の試料保持機構において、
前記ひさし部は、着脱可能に構成されていることを特徴とする試料保持機構。 - 請求項1に記載の試料保持機構において、
前記ひさし部は板状部を持ち、当該板状部の前記試料に接する個所は、同じ厚さをもって形成されていることを特徴とする試料保持機構。 - 請求項1に記載の試料保持機構において、
前記支持台、或いは前記ひさし部を上下動可能に支持するネジ部を備え、
当該ネジ部は、前記支持台を回転させることなく上下動するように構成されていることを特徴とする試料保持機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007252968A JP4997045B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 電子線応用装置に用いられる試料保持機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007252968A JP4997045B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 電子線応用装置に用いられる試料保持機構 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009087592A JP2009087592A (ja) | 2009-04-23 |
JP4997045B2 true JP4997045B2 (ja) | 2012-08-08 |
Family
ID=40660778
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007252968A Expired - Fee Related JP4997045B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 電子線応用装置に用いられる試料保持機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4997045B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5969336B2 (ja) * | 2012-09-14 | 2016-08-17 | 株式会社荏原製作所 | 検査装置 |
JP7342696B2 (ja) * | 2019-12-26 | 2023-09-12 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム検査装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3186008B2 (ja) * | 1994-03-18 | 2001-07-11 | 株式会社日立製作所 | ウエハ保持装置 |
JPH08325730A (ja) * | 1995-05-29 | 1996-12-10 | Applied Materials Inc | クランプリング |
JPH09251985A (ja) * | 1996-03-18 | 1997-09-22 | Hitachi Ltd | 電 極 |
JP3952997B2 (ja) * | 1998-04-20 | 2007-08-01 | 株式会社日立製作所 | 半導体製造装置、および半導体検査装置 |
JP3463599B2 (ja) * | 1998-04-20 | 2003-11-05 | 株式会社日立製作所 | 試料保持機,半導体製造装置,半導体検査装置,回路パターン検査装置,荷電粒子線応用装置,校正用基板,試料の保持方法,回路パターン検査方法、および、荷電粒子線応用方法 |
JP4218093B2 (ja) * | 1998-11-17 | 2009-02-04 | 株式会社日立製作所 | 試料の保持方法,試料の保持装置、および荷電粒子線装置 |
WO2002045153A1 (en) * | 2000-12-01 | 2002-06-06 | Ebara Corporation | Inspection method and apparatus using electron beam, and device production method using it |
JP2003115274A (ja) * | 2001-10-03 | 2003-04-18 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料保持機と試料の保持方法、並びに、それを用いた半導体製造装置 |
JP2005193910A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-21 | Kyokuhei Glass Kako Kk | ガラス基板搬送用ボックス |
JP2006086230A (ja) * | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置 |
JP4663406B2 (ja) * | 2005-05-30 | 2011-04-06 | 京セラ株式会社 | 試料ホルダとそれを用いた検査装置及び検査方法 |
JP4959372B2 (ja) * | 2007-02-27 | 2012-06-20 | 京セラ株式会社 | 試料ホルダとそれを用いた検査装置および試料処理方法 |
-
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---|---|
JP2009087592A (ja) | 2009-04-23 |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090520 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090520 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111014 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150518 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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