JP4991065B2 - ハロゲン化スルホニルから置換されたフェニルスルホニル尿素の製造方法 - Google Patents
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- 0 CC(C)=*C(N*)=CNC(C)=C Chemical compound CC(C)=*C(N*)=CNC(C)=C 0.000 description 1
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Description
【０００１】
本発明は除草性のフェニルスルホニル尿素及びそれらの中間体の群の化合物を製造する化学的方法の技術分野に関する。
多くの置換されたフェニルスルホニル尿素が除草剤及び植物生長調節剤として報告されている。フェニルスルホニル尿素の群の中で、フェニル環にカルボキシル基又はカルボン酸誘導体の基を有するものの合成は特に興味深い。特に関心を引くのはＥＰ−Ａ−００７６８７又はＷＯ−Ａ−９２／１３８４５に開示された式(Ｉ)の化合物
【化１６】
及びそれらの塩であり、式中
Ｑは酸素、硫黄又は−Ｎ(Ｒ4)−であり、
Ｘ*は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキル又はメトキシ、好ましくは水素又はヨウ素、特にヨウ素であり、
Ｙ、Ｚは互いに独立してＣＨ又はＮであり、この場合Ｙ及びＺは同時にＣＨではない、
【０００２】
Ｒは水素、(Ｃ1〜Ｃ12)−アルキル；(Ｃ2〜Ｃ10)−アルケニル；(Ｃ2〜Ｃ10)−アルキニル；ハロゲン、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルチオ、ＣＮ、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ］カルボニル及び(Ｃ2〜Ｃ6)−アルケニルからなる群より選ばれる基によりモノないしテトラ置換された(Ｃ1〜Ｃ6)−アルキル；又は置換されていないか又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルチオ及びハロゲンからなる群より選ばれる基により置換された(Ｃ3〜Ｃ8)−シクロアルキル；(Ｃ5〜Ｃ8)−シクロアルケニル；フェニル基が置換されていないか又はフェニル基がハロゲン、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ、(Ｃ1〜Ｃ4)−ハロアルキル、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルチオ、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ］カルボニル、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル］カルボニルオキシ、カルボキサミド、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル］−カルボニルアミノ、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル］アミノカルボニル、ジ［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル］−アミノカルボニル及びニトロからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基により置換されたフェニル−(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルであるか；又は式Ａ−１ないしＡ−１０
【０００３】
【化１７】
の基であり、ここで
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ(Ｏ)又はＳＯ2であり、
Ｒ1は水素又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキルであり、
Ｒ2は水素、ハロゲン、(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキル又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルコキシであり、ここで２つの最後に述べた基の各々は置換されていないか又はハロゲン又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルコキシによりモノ又はポリ置換されており、
【０００４】
Ｒ3は水素、ハロゲン、(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキル、(Ｃ1〜Ｃ3)−アルコキシ又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキルチオであり、ここで３つの最後に述べた基の各々は置換されていないか又はハロゲンによりモノ又はポリ置換されているか又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルコキシ又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキルチオによりモノ又はジ置換されており；又は式ＮＲ5Ｒ6の基、(Ｃ3〜Ｃ6)−シクロアルキル、(Ｃ2〜Ｃ4)−アルケニル、(Ｃ2〜Ｃ4)−アルキニル、(Ｃ3〜Ｃ4)−アルケニルオキシ又は(Ｃ3〜Ｃ4)−アルキニルオキシであり、
Ｒ4は水素、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシであり、そして
Ｒ5及びＲ6は互いに独立して水素、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、(Ｃ3〜Ｃ4)−アルケニル、(Ｃ1〜Ｃ4)−ハロアルキル又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシである。
【０００５】
化合物(Ｉ)の塩は好ましくはスルホニル尿素のＳＯ2ＮＨ基の水素原子がカチオン、好ましくは作物防護に使用することができる生理学的に許容し得るカチオン、特にアルカリ金属又はアルカリ土類金属カチオン又は第四級アンモニウムイオンを含む場合により置換されたアンモニウムイオンにより置換された化合物である。カチオンの例はナトリウム、カリウム及びアンモニウムイオンである。
【０００６】
式(Ｉ)の化合物の塩は適当な無機又は有機酸、例えば、ＨＣｌ、ＨＢｒ、Ｈ2ＳＯ4又はＨＮＯ3、又はシュウ酸又はスルホン酸を塩基性基、例えば、アミノ又はアルキルアミノに添加して作ることができる。脱プロトン化形体で存在する適当な置換基、例えば、スルホン酸又はカルボン酸はそれら自身プロトン化されることができる基、例えばアミノ基と内部塩を形成することができる。
【０００７】
適当な官能基、例えば、カルボキシル基の水素を農業上適当なカチオンで置き換えて塩を作ることも可能である。これらの塩は、例えば、金属塩、特にアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩、特にナトリウム及びカリウム塩、さもなくばアンモニウム塩、有機アミンの塩又は第四級アンモニウム塩である。
【０００８】
特に関心を引くのはスルホニル尿素(Ｉ)のスルホニル基に対してオルト位に式−ＣＯ−Ｑ−Ｒの基がある式(Ｉ)の化合物又はそれらの塩である。好ましいのはＱ＝酸素原子、Ｘ*＝水素又はハロゲン、好ましくはヨウ素、Ｒ＝(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、(Ｃ2〜Ｃ4)−アルケニル、(Ｃ2〜Ｃ4)−アルキニル、(Ｃ1〜Ｃ4)−ハロアルキル、又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、好ましくはメチル又はエチル、特にメチルである化合物(Ｉ)又はそれらの塩である。更に好ましいのはスルホニル尿素のスルホニル基に対してオルト位に式−ＣＯ−Ｑ−Ｒの基があり、Ｘ*＝ハロゲン、好ましくはヨウ素であり、そしてＸ*が式−ＣＯ−Ｑ−Ｒの基に対してパラ位である化合物(Ｉ)又はそれらの塩である。
【０００９】
ＷＯ−Ａ−９２／１３８４５により、適当に置換されたフェニルスルホニル イソシアナートから複素環式アミン、例えば２−アミノ−４−メトキシ−６−メチル−１,３,５−トリアジン又は２−アミノ−４,６−ジメトキシピリミジンとの反応により化合物(Ｉ)又はそれらの塩を製造することは公知である。フェニルスルホニルイソシアナートそのものは、例えば、対応するフェニルスルホニルクロリドからアンモノリシスによりスルホンアミドとしそしてこのスルホンアミドを標準的方法によりスルホニルイソシアナートに転化することにより得ることができる。
【００１０】
アンモノリシスは、例えば、スルホニル クロリドを適当な溶媒、例えばテトラヒドロフラン(ＴＨＦ)に溶解しそしてアンモニアガスを導入することにより実行することができる(ＷＯ−Ａ−９２／１３８４５を参照せよ)。
【００１１】
生成するフェニルスルホンアミドから置換されたフェニルスルホニルイソシアナートを製造する適当な標準的方法は、適切には触媒量のピリジンのような塩基の存在下でフェニルスルホンアミドの塩化チオニル及びホスゲンによる連続処理である（ＷＯ−Ａ−９２／１３８４５、実施例１１を参照せよ）。別法として、フェニルスルホンアミドを触媒として立体障害を受けたアミン塩基を使用してアルキルイソシアナートと反応させて対応する置換されたＮ−アルキル−Ｎ′−フェニルスルホニル尿素を得ることもでき、このものは次にホスゲン化されて置換されたフェニルスルホニルイソシアナートとなる（同じくＷＯ−Ａ−９２／１３８４５、実施例１２を参照せよ）。スルホニルイソシアナートの製造のための同等の反応は構造的に異なるフェニル−又はヘテロアリールスルホンアミドについても開示されている(例えば、ＵＳ−Ａ−４,６４７３０３、ＥＰ−Ａ−４６０２９４２、ＥＰ−Ａ−０１８４３８５、ＥＰ−Ａ−０７２７４２３を参照せよ)。
【００１２】
アルキルイソシアナート又はシクロアルキルイソシアナートの存在下におけるそして、適切には、立体障害を受けたアミン塩基の存在下におけるアリール−又はヘテロアリールスルホンアミドのホスゲンとの直接反応も公知である(ＵＳ−Ａ−４,６４７３０３、ＥＰ−Ａ−０５８４０４３、ＥＰ−Ａ−００３０１３８、ＥＰ−Ａ−０１８４３８５)。
【００１３】
ＷＯ−Ａ−９６／Ｏ６８２６はフェニル環にオルト−カルボアルコキシ基を有するものもあるフェニルスルホンアミドをホスゲン化して対応する置換されたフェニルスルホニルイソシアナートを得る方法を開示しており、この方法はブチルイソシアナート及び第三級アミン、例えばＤＡＢＣＯからなる、及び／又は置換されたスルホニルイソシアナートからなる触媒の存在下でホスゲンとの反応による。一つの実施例においては、使用する触媒は共触媒としてそれ以前のバッチからの少量の最終製造物（置換されたスルホニルイソシアナートとして）と組み合わせたｎ−ブチルイソシアナートである。この刊行物の中の好ましい方法では、使用するスルホンアミドに対してホスゲンは常に過剰である。
【００１４】
しかしながら、フェニルスルホンアミド、フェニルスルホニルイソシアナート及び式(Ｉ)の化合物の上述の公知の製造方法は化学的収率、空間／時間収率及び／又は必要な装置の点で不満足である。例えば、フェニル基の２位にカルボアルコキシ基を有するフェニルスルホニル尿素の場合、アンモノリシスの間に対応するサッカリン誘導体のような副生物が形成される。
【００１５】
対応して置換Ｎ−アルキル−Ｎ′−フェニルスルホニル尿素のホスゲン化の場合、かなりの量の置換Ｎ,Ｎ′−ビス（フェニルスルホニル）尿素がしばしば副生物として生ずる。その上、比較的長い反応時間がこのホスゲン化方法に、特にその初期段階（ホスゲン化の開始）において必要である。公知の方法によるＮ−アルキル−Ｎ′−フェニルスルホニル尿素の製造は立体障害を受けたアミン塩基を必要とし、その使用及び除去は技術的及び経済的な出費を伴う。
【００１６】
これまで、フェニル基がＸ*＝ハロゲン、好ましくはヨウ素で置換されており、そして好ましく製造されるフェニルスルホニルイソシアナートについては少数の方法のみ開示されている(ＷＯ−Ａ−９２／１３８４５を参照せよ)。どの方法がそのような化合物の製造を改良することができるかこれまでの所知られていない。特にこれらの化合物の特別な構造的特徴、例えば、置換されたフェニル基における立体障害及び反応性の理由から、構造的に異なるアリール−又はヘテロアリールスルホンアミドに関する方法から類推できることは僅かである。
【００１７】
生成するスルホニルイソシアナートと複素環式アミンから式(Ｉ)の化合物を得る反応は既知の方法により種々の経路で実行することができる。
一般に、フェニルスルホニルイソシアナートとアミノピリジン又はアミノトリアジンとの反応は有機溶媒中で実行することができる。この目的に推奨される溶媒は極性非プロトン性溶媒、例えばＴＨＦ及びアセトニトリルである（例えば、ＥＰ−Ａ−００３０１３８、１４−１５ページを参照せよ)。
【００１８】
ＳＵ １２３３４５６(１９９６)はアミノトリアジンをアリールスルホニルイソシアナートと結合させるため、非プロトン性有機溶媒中でＮ−メチルピロリジン(ＮＭＰ)を使用することを開示している。溶媒キシレン中で１ないし２０％のＮＭＰの比率で、２ないし４時間の反応時間内に約８０ないし８２％の収率が達成される。この収率は工業的規模に適用するには不十分である。
【００１９】
ＵＳ−Ａ−０４６４７３０３及びＵＳ−Ａ−０４６０２９４２においては、ＤＡＢＣＯを結合反応を促進するために使用している。工業的規模での１,４−ジアザビシクロ［２.２.２］オクタン(ＤＡＢＣＯ)の使用は不利益であり、なぜならそれは反応物に加えて使用することそして反応後ある費用をかけて除かなければならないからである。
従って本発明の目的は、既知の方法に比較して一つの見地、好ましくは多くの見地に関して有利に実行することができる代替方法を提供することである。
【００２０】
本発明は上述の式(Ｉ)のフェニルスルホニル尿素及びそれらの塩の製造方法を提供し、この方法は
(ａ) 式(II)の化合物
【化１８】
（式中Ｈａｌはハロゲン原子、好ましくは塩素、臭素又はヨウ素、特に塩素でありそしてＲ、Ｑ及びＸ*は式(Ｉ)で定義した通りである)をアンモニアを使用するアンモノリシスにより式(III)の化合物
【００２１】
【化１９】
（式中Ｒ、Ｑ及びＸ*は式(Ｉ)で定義した通りである)に転化するか、又は好ましくは
(ａ１) 反応を
(１) １つ又はそれ以上の場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素、例えばキシレン、トルエン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン［溶媒(１)］、及び
(２) １つ又はそれ以上の極性非プロトン性溶媒［溶媒(２)］、好ましくはニトリル、例えばアセトニトリル、及びエステル、好ましくは(Ｃ1〜Ｃ6)−アルキル(Ｃ1〜Ｃ2)−アルカンカルボキシラート、例えば酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル及び他の酢酸アミル、及びエーテル、例えばテトラヒドロフラン(ＴＨＦ)又は１,２−ジメトキシエタン(ＤＭＥ)、アミド、例えばジメチルホルムアミド(ＤＭＦ)、ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン又はメチルイソブチルケトン(ＭＩＢＫ)、及び２つ又はそれ以上の極性溶媒の混合物
の２０：１ないし１：１、好ましくは１０：１ないし１.４：１の溶媒(１)：溶媒(２)の重量比でなる有機溶媒混合物中で実行し、特に上述の好ましい反応を化合物(II)の溶媒(１)又は溶媒(１)及び(２)の溶媒混合物中の溶液を溶媒(２)中のアンモニアの濃厚又は飽和溶液に添加することにより実行する段階を行い、
【００２２】
(ｂ) 生成する化合物(III)を中間分離を実行するか又はしないでホスゲンと反応させて式(IV)のフェニルスルホニルイソシアナート
【化２０】
（式中Ｒ、Ｑ及びＸ*は式(Ｉ)で定義した通りである）を得るか、又は好ましくは
(ｂ１) Ｘ*＝ハロゲン、特にＸ*＝ヨウ素の場合、ホスゲンとの前記反応を有機溶媒中で触媒としてＲ1 ´が置換されていない又は置換されたそして好ましくは１ないし２０個の炭素原子、特に１ないし１６個の炭素原子を含む炭化水素基である式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナート、好ましくはＮ−アルキルイソシアナート、Ｎ−シクロアルキルイソシアナート及びＮ−アリールイソシアナートからなる群よりの１つ又はそれ以上のイソシアナート、好ましくはメチルイソシアナート、エチルイソシアナート、ｎ−プロピルイソシアナート、イソプロピルイソシアナート、ｎ−、イソ−、ｓ−又はｔ−ブチルイソシアナート、ペンチルイソシアナート、ヘキシルイソシアナート、ヘプチルイソシアナート、シクロヘキシルイソシアナート及びフェニルイソシアナートからなる群よりのＮ−(Ｃ1〜Ｃ12)アルキルイソシアナート、特にｎ−ブチルイソシアナート又はシクロヘキシルイソシアナート又は触媒として複数のこれらのイソシアナートの混合物の存在下で
共触媒としてアミン塩基又はその他の塩基の添加を伴うか又は好ましくは伴わないで、特に最初にある量の式(IV)のスルホニルイソシアナートを加えることにより開始して実行する段階を行い、
【００２３】
(ｃ) 生成する化合物(IV)を中間分離を実行するか又はしないで有機溶媒中で式(Ｖ)のアミン
【化２１】
（式中Ｒ1、Ｒ2、Ｙ及びＺは式(Ｉ)で定義した通りである)と反応させて式(Ｉ)のスルホニル尿素を得るか、又は好ましくは
(ｃ１) 前記反応を１１０℃より上の沸点を有する場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素及び極性非プロトン性溶媒の溶媒混合物、好ましくはキシレン／酢酸エチル又はキシレン／アセトニトリル中で実行する段階を行うこと
からなり、ここで好ましい部分段階(ａ１)、(ｂ１)及び(ｃ１)の少なくとも一つを前記方法の中で実行する。
【００２４】
本発明は方法の新規な部分段階(ａ１)及び(ｃ１)、並びにＸ*＝ハロゲン、好ましくはヨウ素の場合の部分段階(ｂ１)、そして組み合わせた多段階方法又は対応するワンポット方法も提供するものである。
式(Ｉ)ないし(Ｖ)及びすべての後述の式の定義の中で、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルキルアミノ及びアルキルチオの各基及び対応する不飽和及び／又は置換された基はそれぞれの場合炭素骨格中で直鎖又は枝分かれ鎖であることができる。
【００２５】
特に説明しない限り、低級炭素骨格、例えば１ないし６個の炭素原子、特に１ないし４個の炭素原子を有するもの、又は不飽和基の場合は２ないし６個の炭素原子、特に２ないし４個の炭素原子を有するものが好ましい。アルキル基は、例えばアルコキシ、ハロアルキルなどの複合的意味の場合も含めて、例えば、メチル、エチル、ｎ−又はｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｔ−又は２−ブチル、ペンチル、ヘキシル、例えばｎ−ヘキシル、ｉ−ヘキシル及び１,３−ジメチルブチル、ヘプチル、例えばｎ−ヘプチル、１−メチルヘキシル及び１,４−ジメチルペンチルであり；アルケニル基およびアルキニル基は、アルキル基に対応し、少なくとも１つの二重結合又は三重結合、好ましくは１つの二重結合又は三重結合を含む可能な不飽和の基を意味する。アルケニルは、例えば、アリル、１−メチルプロパ−２−エン−１−イル、２−メチルプロパ−２−エン−１−イル、ブタ−２−エン−１−イル、ブタ−３−エン−１−イル、１−メチルブタ−３−エン−１−イル及び１−メチルブタ−２−エン−１−イルであり；アルキニルは、例えば、プロパルギル、ブタ−２−イン−１−イル、ブタ−３−イン−１−イル、１−メチルブタ−３−イン−１−イルである。
【００２６】
シクロアルキルは好ましくは３〜８個の炭素原子、好ましくは３〜６個の炭素原子を有する炭素環式飽和環系、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル又はシクロヘキシルである。
ハロゲンは、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素である。基の定義において、「ハロゲン」はハロゲン基、すなわちハロゲン原子を表す。ハロアルキル、−アルケニル及び−アルキニルは、それぞれ、ハロゲン、好ましくはフッ素、塩素及び／又は臭素、特にフッ素又は塩素により部分的に又は完全に置換されたアルキル、アルケニル及びアルキニル、例えばモノハロアルキル(＝モノハロゲノ アルキル)、ペルハロアルキル、ＣＦ3、ＣＨＦ2、ＣＨ2Ｆ、ＣＦ3ＣＦ2、ＣＨ2ＦＣＨＣｌ、ＣＣｌ3、ＣＨＣｌ2、ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌであり；ハロアルコキシは、例えば、ＯＣＦ3、ＯＣＨＦ2、ＯＣＨ2Ｆ、ＣＦ3ＣＦ2Ｏ、ＯＣＨ2ＣＦ3及びＯＣＨ2ＣＨ2Ｃｌであり；これはハロアルケニル及びその他のハロゲン置換基に相応じて適用される。
【００２７】
アリールは炭素環式芳香族系、例えば単環、二環又は多環式芳香族系、例えばフェニル、ナフチル、テトラヒドロナフチル、インデニル、インダニル、ペンタレニル、フルオレニルなど、好ましくはフェニルである。
炭化水素基［例えば、段階(ｂ１)のＲ1 ´の定義を参照せよ］はもっぱら炭素原子及び水素原子を含みそして直鎖、枝分かれ鎖又は環状、飽和、不飽和又は芳香族であることができ、又はこれらの上述の同じか又は異なる炭化水素基を組み合わせて含むことができる。「炭化水素基」は、例えば、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルアルキル、シクロアルケニルアルキル、アリール、例えばフェニル又はナフチル、ベンジル、フェネチルなどの基を含む。別記しない限り、炭化水素基は好ましくは、１ないし３０個の炭素原子、特に１ないし２４個の炭素原子を含む。
【００２８】
骨格が基(＝群)として挙げたもの又は総称的に規定された基の群の「１つ又はそれ以上の基により」置換されている場合、それぞれの場合複数の同一の基及び／又は構造的に異なる基による同時置換を含む。
置換された炭化水素基のような置換された基、例えば置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、フェニル又はベンジル基は、例えば、置換されていない骨格から誘導される置換された基であって、置換基は、例えば、ハロゲン、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシル、アミノ、ニトロ、カルボキシル、シアノ、アジド、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニル、ホルミル、カルバモイル、モノ及びジアルキルアミノカルボニル、置換されたアミノ、例えばアシルアミノ、モノ及びジアルキルアミノ、アルキルスルフィニル及びアルキルスルホニル及び、環状基の場合、アルキル、ハロアルキル、アルキルチオアルキル、アルコキシアルキル、場合により置換されたモノ及びジアルキルアミノアルキル及びヒドロキシアルキルも含めてなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の、好ましくは１つ、２つ又は３つの基である。
【００２９】
好ましいのはハロゲン、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシル、アミノ、ニトロ、シアノ、モノ及びジアルキルアミノそして、環状基の場合、アルキル及びハロアルキルも含めてなる群よりの置換基であり；
用語「置換された基」、例えば置換された炭化水素基、例えば置換されたアルキルなどは、置換基として、上述の飽和炭化水素含有基の外に、対応する不飽和脂肪族及び芳香族基、例えば場合により置換されたアルケニル、アルキニル、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、フェニル、フェノキシなどを含む。環に脂肪族部分を有する置換された環状基は二重結合を介して環に結合する置換基を有する環系、例えばアルキリデン基、例えばメチリデン又はエチリデンで置換されたそれを含む。
【００３０】
例として挙げた置換基(「第一の置換基水準」)は、それらが炭化水素含有部分を含む場合、適当なら、更にこれらの部分が置換される(「第二の置換基水準」)ことが可能であり、例えば第一の置換基水準として定義した置換基の一つによってである。更にその先の対応する置換基水準も可能である。用語「置換された基」は好ましくは１つ又は２つの置換基水準のみを包含する。上述の置換基については、それぞれの場合炭化水素部分を有する基にとって好ましいとして上で述べた炭素原子数が好ましい。
【００３１】
式(II)の化合物は公知であるか又は公知の方法により製造することができる。この点に関して、刊行物ＥＰ−Ａ−００７６８７及びＷＯ−Ａ−９２／１３８４５並びにそこに引用された文献が特に参照される。そこに記述された方法手順及び式(Ｉ)の好ましい化合物及びそれらの前駆物質に関して、ＷＯ−Ａ−９２／１３８４５の内容は参照により本明細書及び発明に組み入れるものである。
【００３２】
製造方法にとって特に好ましいのはＱ＝酸素原子、Ｘ*＝水素又はハロゲン、好ましくはヨウ素、Ｒ＝(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル；(Ｃ2〜Ｃ4)−アルケニル；(Ｃ2〜Ｃ4)−アルキニル；(Ｃ1〜Ｃ4)−ハロアルキル、又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、好ましくはメチル又はエチル、特にメチルであり、そしてＨａｌ＝塩素である式(II)の化合物である。
【００３３】
スルホニルクロリド(II)のアンモノリシスはアンモノリシスの通常の方法、例えば、化学の手引書又はＷＯ−Ａ−９２／１３８４５に記述されている方法により実行することができる。通常の方法はアンモニアガスの使用を含み、これを有機溶媒中のスルホニルクロリド（II）の溶液に導入する。適当な有機溶媒は、例えば、極性非プロトン性溶媒、例えばＴＨＦ又はアセトンである。この反応は一般に室温でも進行する。後処理としては、形成される塩化アンモニウムを生成物と分離しなければならないが、これはこの技術分野の熟練者には既知の種々の方法により達成することができる。
【００３４】
ＷＯ−Ａ−９２／１３８４５に記述されたアンモノリシス方法では、ＴＨＦが単一溶媒として使用される。比較的大量そして工業的規模における場合、この方法は満足に実行されない。このため、一般に、収率は理論値の８０％未満に留まり、これは主として副生物、例えば分子間反応によるサッカリン(誘導体)の形成による。
【００３５】
本発明はアンモノリシスの改良された方法、特に上述の好ましい変法(ａ１)による方法を提供する。本発明においては、反応を溶媒(１)：溶媒(２)の重量比が２０：１ないし１：１、好ましくは１０：１ないし１.４：１である溶媒(１)及び溶媒(２)の溶媒混合物中で実行する。これは場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素に５ないし１００重量％、好ましくは１０〜７１重量パーセントの極性溶媒(２)を添加した混合物に相当する。反応を初めに溶媒(１)又は(２)、又は溶媒(１)又は(２)の比率が本発明の重量比の範囲内ではない溶媒混合物を使用して開始し、反応の途中に無極性又は極性溶媒の添加により結果として本発明の比率とする方法も本発明による。
【００３６】
特に好ましい溶媒(１)はキシレンである。好ましい極性溶媒(２)はアセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、［欠文］酸、酢酸ｎ−ブチル、テトラヒドロフラン、１,２−ジメトキシエチレン(ＤＭＥ)、ジメチルホルムアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及び２つ又はそれ以上の極性溶媒の混合物、特にアセトニトリル又は酢酸エチルである。
【００３７】
例えば、初めに化合物(II)を溶媒(１)及び(２)の混合物に加えそしてアンモニアを溶液又はガスとして入れることが可能である。別法として、化合物(II)を初めに溶媒(１)に加えそしてアンモニアを溶媒(２)中の溶液として添加することができる。更に、初めにアンモニアを溶液に加えそして化合物(II)の溶液を添加することが可能である。反応成分の１つを連続添加することも又はバッチ式に添加することも適当である。両反応成分を並行して、連続的に又は少量づつ継続して反応容器に添加することも可能である。
【００３８】
反応は好ましくは溶媒(１)中の又は溶媒(１)及び(２)の溶媒混合物中の化合物(II)の溶液を溶媒(２)中のアンモニアの濃縮又は飽和溶液に添加して実行する。特に好ましいのは、反応の間消費されるアンモニアをアンモニアガスの導入により反応溶液が常にアンモニアで飽和されているか又は高濃度のアンモニアを含有するように補充することである。
【００３９】
アンモノリシスの反応温度は、例えば、−２０℃から当該溶媒又は溶媒混合物の沸点までの範囲、好ましくは０℃から＋８０℃、特に２０℃から６０℃の範囲である。
反応は大気圧のみならず、減圧又は高い圧力の下でも実行することができる。
【００４０】
アンモノリシスの後に得られる化合物(III)(フェニルスルホンアミド)は、中間分離を実行するか又はしないで、ホスゲンにより転化して式(IV)のフェニルスルホニルイソシアナートを得ることができる。この反応に適当な条件はスルホンアミドからスルホニルイソシアナートを製造するための通常の条件であり、例えば最初に述べたそしてＷＯ−Ａ−９２／１３８４５により公知であるフェニルスルホンアミドの塩化チオニル及びホスゲンによる、触媒量の塩基例えばピリジンの存在下における連続処理である。
【００４１】
別法として、公知の方法により、触媒としての立体障害を受けた有機塩基、例えば１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］ウンデク−７−エン(ＤＢＵ)、１,４−ジアザビシクロ［２.２.２］オクタン(ＤＡＢＣＯ)又は１,５−ジアザビシクロ［４.３.０］ノン−５−エン(ＤＢＮ)の存在下でフェニルスルホンアミドをアルキルイソシアナートと反応させてＮ−アルキル−Ｎ′−フェニルスルホニル尿素を得ることができ、ついでこれをホスゲンと反応させて置換されたフェニルスルホニルイソシアナートが得らる(ＷＯ−Ａ−９２／１３８４５、実施例１２を参照)。ワンポット方法による類似の直接反応はＥＰ−Ａ−００３０１３８に記述されている。
【００４２】
しかしながら、Ｘ*＝ハロゲン、好ましくはヨウ素である式(IV)のフェニルスルホニルイソシアナート、好ましくは基−ＣＯ−Ｑ−Ｒがスルホニルイソシアナート基に対してオルト位であるような化合物(IV)そして特に基Ｘ*＝ハロゲンが基−ＣＯ−Ｑ−Ｒに対してパラ位であるようなそれの製造においては、上述の公知の方法の代替法は一般に望ましい収率及び純度を与えない。
【００４３】
本発明により、好ましい化合物(IV)の製造における上述の公知の方法の欠点は式(III)の適当に置換されたフェニルスルホンアミドを好ましい方法(ｂ１)によりホスゲンと有機溶媒中で触媒として上述の式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナートの存在下で共触媒としてアミン塩基又は別の塩基の添加を伴うか又は好ましくは伴わないで反応させて式(IV)の対応するスルホニルイソシアナートを得ることにより回避することができる。
【００４４】
立体障害を受けたアミン塩基の添加のない方法が好ましい。なぜなら添加した場合にはアミン塩基を特別な費用をかけて製造物から除かなければならないからである。
ホスゲン化に適当な有機溶媒は、例えば、反応条件下で不活性である非プロトン性有機溶媒であり、好ましくは
・場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素、例えばトルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、クロロトルエン又はジクロロベンゼン、
・アルキルアルカンカルボキシラートの群からの、好ましくは(Ｃ1〜Ｃ6)−アルキル(Ｃ1〜Ｃ2)−アルカンカルボキシラートの群からの極性非プロトン性溶媒、例えば酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル及び他の酢酸アミル
及び上述の２つ又はそれ以上の溶媒の混合物である。
【００４５】
好ましくは、同じ溶媒又は溶媒混合物を方法の段階(ａ)及び(ｂ)に使用する。
式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナートの式(III)の化合物に対する比率は広い限度内で変化させることができる。使用する式(III)のスルホンアミドに基づいて、５ないし１００モル％、好ましくは１０ないし５０モル％の式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナートが有利である。
【００４６】
一般に、反応は初めは遅れる。驚くべきことに、初期段階における反応速度は当初の添加として、ある量のスルホニルイソシアナート、好ましくは製造するべき式(IV)のスルホニルイソシアナートの触媒量を加えるとかなり高めることができることを発見した。有利な量は予備実験で決定することができる。一般に、反応の遅延する開始を実質的に防ぐために、スルホンアミド(III)の量に基づいて５ないし２０モル％の化合物(IV)が当初の添加として十分である。
【００４７】
ホスゲン化に関しては、例えば、初めに化合物(III)を有機溶媒に式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナートと一緒に加えそしてホスゲンを入れることが可能である。別法として、イソシアナートを初めに有機溶媒に加え、次いでホスゲンを入れそして同時に、連続的又はバッチ式に式(III)のスルホンアミドを添加することができる。最後に述べた方法においては、反応の間スルホンアミドの濃度が比較的低く、従って副生物の量が減る。式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナート及びスルホニルイソシアナート(IV)のいくらかを初めにに有機溶媒に加え、ついでホスゲンを導入する手順が好ましい。
【００４８】
ホスゲン化の反応温度は、例えば、５０℃から当該の溶媒の沸点までの範囲、好ましくは１００℃から当該の溶媒の沸点までの範囲、特に１００ないし１８０℃、より一層特定すると１２０ないし１４０℃である。
反応は大気圧下、加圧下又は減圧下で実行することができる。ホスゲンの分圧は０.２ないし２０バール、好ましくは１ないし６バールが有利である。
【００４９】
化合物(III)の可能な最良の転化を実現するには、ホスゲンは好ましくは式(III)の化合物のモル当たり１ないし４モル、特に１ないし２.５モルの量を使用する。反応の間、過剰のホスゲンが常に存在するのが好ましい。反応混合物中のホスゲンの含量は好ましくは反応混合物中２重量パーセント、特に５重量パーセントを超える。
【００５０】
反応混合物の後処理に関しては、製造物(IV)を通常の方法で単離することができるが、単離することなく、過剰のホスゲン及び式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナートを除いた後、反応混合物を化合物(Ｉ)に転化するため(結合反応)に直接使用することが望ましい。本発明の方法は工業的後処理が簡単であること、すなわち溶媒の一部を、適切には減圧下で、蒸留することにより、同時に過剰のホスゲン及び式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナートを除くことが可能であるという利点を有する。
【００５１】
本発明のホスゲン化(ｂ１)を使用することにより、化合物(IV)の理論値の９０％を超える収率が一般に実現され、驚くべきことに副反応を受けやすい立体的に要求性の基(Ｘ*＝塩素、臭素、ヨウ素)を有する化合物(III)のホスゲン化についてもそうである。化合物(IV)は触媒としてアミン塩基の使用を必要としない好ましい方法により製造することができる。純度は次の工程に必要な高いものとなっている。触媒又は対応する塩の除去及びそれらの後処理は省略することができる。使用した溶媒は工業的に簡単な方法で分離しそしてその後のバッチで再使用することができる。説明したような特徴から本方法は経済的及び環境的な両面から有利である。
【００５２】
本発明によるホスゲン化はＸ*がハロゲン以外の意味を有する式(IV)の化合物の製造にも好ましい方法である。
段階(ｂ)で得られる化合物(IV)は中間分離を実行するか又はしないで有機溶媒中で上述の式(Ｖ)のアミンを使用して式(Ｉ)のスルホニル尿素又はそれらの塩に転化することができる。
【００５３】
一般に、フェニルスルホニルイソシアナートのアミノピリミジン又はアミノトリアジンとの反応は有機溶媒中で実行することができる。推奨される溶媒は、一般に、極性非プロトン性溶媒、例えばＴＨＦ及びアセトニトリルである（例えば、ＥＰ−Ａ−００３０１３８、１４−１５ページを参照せよ)。しかしながら、達成される反応速度、収率及び純度の点で、式(IV)の化合物と式(Ｖ)のアミンとの反応はしばしば不十分である。触媒、例えば立体障害を受けたアミン塩基の添加により収率を増加しそして反応時間を短くすることは可能である。しかしながら、これらの触媒は反応後に分離しなければならない（最初に述べた参考文献を参照せよ)。
【００５４】
本発明においては、上に述べたような欠点は、１１０℃より上の、好ましくは１２０〜２００℃、特に１３０ないし１８０℃の沸点を有する場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素溶媒及び極性非プロトン性溶媒からなり、無極性溶媒の極性溶媒に対する重量比が好ましくは２０：１ないし１：１０、特に１０：１ないし１：５、より一層特定すると５：１ないし１：１の範囲でなる溶媒混合物中で実行することにより回避することが可能である。
【００５５】
適当な比較的無極性の溶媒はトルエン、キシレン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン又はそれらの混合物、好ましくはｏ−、ｍ−又はｐ−キシレン又は通常の工業的純度のキシレン(工業用キシレン混合物)である。
好ましい極性非プロトン性溶媒は方法段階(ａ)で述べた極性溶媒、特に酢酸アルキル又はアセトニトリルである。キシレン／酢酸エチル又はキシレン／アセトニトリルの混合物が好ましい。
【００５６】
反応は好ましくは０ないし１００℃、好ましくは２０ないし８０℃、特に４０ないし７０℃の範囲の温度で実行する。
好ましくは式(IV)のスルホニルイソシアナートのモル当たり式(Ｖ)のアミンの１ないし１.２モル、特に１ないし１.１モル、より特定すると１ないし１.０５モルを使用する。
【００５７】
本発明において好ましい変法(ｃ１)の方法を使用して、当量の又は実質的に当量の化合物(IV)及び(Ｖ)を使用することが可能である。他の溶媒を選択する場合、例えばある溶媒を本発明により使用される溶媒混合物の代わりに使用する場合、転化は一般に不完全であるか、又は比較的大過剰の化合物(Ｖ)を化合物(IV)の転化を達成するために使用しなければならない。その上、一種類のみの溶媒を使用する場合、反応速度はしばしば不満足なまでに遅い。対照的に、本発明の方法は大抵の場合極めて良好な収率及び純度で製造物を与える。
【００５８】
結合反応からの反応混合物の後処理は通常の方法で実行することができ、式(Ｉ)のスルホニル尿素は塩でない形で又は−塩基との反応後には−塩として単離される。
好ましい方法段階(ａ１)、(ｂ１)及び(ｃ１)を組み合わせて実行する方法が特に好ましい。同じ溶媒混合物を使用するなら、ワンポット反応が実行可能である。
下記の実施例において、示した量は他の定義を特に示さない限り重量に基づく。
【００５９】
【実施例】
実施例１ａ
２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル
１８〜２２℃において、全部で９.１ｇのガス状アンモニアを１８９ｇのキシレン及び１５０ｇのアセトニトリル中の７３ｇの２−クロロスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル(９８.７％)の溶液に１時間かけて導入する。撹拌しながら、次に窒素を懸濁液を通して１時間通気する。残存するアンモニアを減圧下で少量の溶媒を溜去することにより除く。混合物を加熱して還流しそして熱い内に濾過し、そして残留物を新しいアセトニトリルと共に無くなるまで分解する。合わせた濾液を蒸溜しながら濃縮しそして冷残留物を濾過する。これにより６６.８ｇの２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチルの白色針状物質が得られる。
【００６０】
実施例１ｂ(比較実施例)
実施例１ａの反応をキシレン／アセトニトリル混合物の代わりに純粋なキシレン中で実行し、６時間の反応時間の後そしてそしてその他は同一条件で純度が僅かに８３.３％である５６.６ｇの収得量の２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチルが得られる（収率は理論値の６９.１％)。
【００６１】
実施例２ａ
２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル
２１７.４ｇのキシレン及び１５０ｇの酢酸エチル中の１４４.２ｇの２−クロロスルホニル−４−ヨード安息香酸メチルの溶液を撹拌しながら、３５ないし３７℃でそして４時間かけて酢酸エチル(１５６.５ｇ)中のアンモニアの飽和溶液中に秤量添加する。同時に、全部で１６.７ｇのアンモニアをその消費の速度で導入する。混合物を更に１時間撹拌し、過剰のアンモニアを減圧下初期蒸溜により除きそして混合物を加熱して還流しそして熱い内に濾過する。フィルターケーキを沸騰酢酸エチルと共に無くなるまで分解する。次いで大部分の酢酸エチルを溜去し、そして残存するキシレン中の製造物の懸濁液を２０℃に冷却する。濾過しそして減圧下で乾燥させて１３２.２ｇの２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル(純度９９.３％)を得る。
【００６２】
実施例２ｂ(比較実施例)
実施例２ａの反応をキシレン／メタノール（４：１）の混合物中で、その他は同一条件の下で実行して、７１％の純度で１１８.８ｇの収得量の２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチルが後処理の後得られる（収率は理論値の６２％)。
【００６３】
実施例３
２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル
実施例２ａを繰り返すが、但し２１７.４ｇのキシレン及び１５０ｇの酢酸エチル中のスルホニル クロリドの溶液の代わりに３００ｇのキシレン及び７５ｇの酢酸エチル中のスルホニルクロリドの溶液を使用する。これにより１３０ｇの２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル(純度９９％)が得られる。
【００６４】
実施例４
２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル
実施例２ａを繰り返すが、但し２１７.４ｇのキシレン及び１５０ｇの酢酸エチル中のスルホニルクロリドの溶液の代わりに３００ｇのキシレン及び７５ｇのアセトニトリル中のスルホニルクロリドの溶液を使用する。これにより１３１ｇの２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル(純度９９％)が得られる。
【００６５】
実施例５ａ
４−ヨード−２−イソシアナトスルホニル安息香酸メチル
窒素保護ガス下で、１５０mlの乾燥キシレン及び６.８４mlのｎ−ブチルイソシアナートを１２６〜１２８℃に加熱する。次いでホスゲン(全部で５０ｇ)を初めに表面を通して加える。ホスゲン気流は反応混合物の温度が１２６〜１２８℃に留まるように調節する。必要により、ホスゲンの導入を減らすか又は中断する。反応混合物から逸出したホスゲンは−２０℃に冷却したコンデンサーを使用して凝縮しそして反応混合物中に戻す。
【００６６】
ホスゲンの導入の間、９０ｇの２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチルを３３６mlのキシレン中の懸濁液として撹拌しながら２０時間に亙って少量づつ継続して添加する。ホスゲン飽和雰囲気下で更に１０時間撹拌した後、３００mlのｎ−ブチルイソシアナート及びキシレンの混合物を同じ反応温度そして減圧下(１００ないし１２０ミリバール、７８ないし８０℃)で溜去し、そして４００mlの乾燥キシレンを蒸留の間３回に分けて添加する。表題化合物の収率は理論値の９２.８％である。
【００６７】
実施例５ｂ(比較実施例)
実施例５ａの方法をアルキルイソシアナート(例えばブチルイソシアナート)を添加しないで繰り返す。しかしながら、添加した２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチルは転化されない。
【００６８】
実施例６ａ
４−ヨード−２−イソシアナトスルホニル安息香酸メチル(当初充填を使用)
窒素保護ガス下で、３.７３mlのｎ−ブチルイソシアナート及び２５０mlの乾燥キシレンを４−ヨード−２−イソシアナトスルホニル安息香酸メチルの溶液(キシレン中１４.８％濃度溶液として１９.７ｇ)に添加する。撹拌しながら、混合物を１２６〜１２８℃に加熱しそしてホスゲンを表面を通して添加する。ホスゲン気流は反応混合物の温度が１２６〜１２８℃に留まるように調節する。必要により、ホスゲンの導入を減らすか又は中断する。反応混合物から逸出したホスゲンは−２０℃に冷却したコンデンサーを使用して凝縮しそして反応混合物中に戻す。同時に９０ｇの２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチルを２１６mlのキシレン中の懸濁液として撹拌しながら１０時間に亙って少量づつ継続して添加する。ホスゲン飽和雰囲気下で同じ反応温度で更に１０時間撹拌した後、ｎ−ブチルイソシアナート及びキシレンの混合物３００mlを減圧下で溜去し、そして４３３mlの乾燥キシレンを蒸留の間添加する。表題化合物の収率は理論値の９４.８％である。
【００６９】
実施例６ｂ(比較実施例)
実施例６ａの方法を対応して繰り返すが、しかしながら４−ヨード−２−イソシアナトスルホニル安息香酸メチルの溶液の追加の添加は行わない。２０時間の反応時間の後、反応はなお完了せず、４−ヨード−２−イソシアナトスルホニル安息香酸メチルの収率は理論値の８６％である。
【００７０】
実施例７ａ(結合反応)
４−ヨード−２−｛Ｎ−［Ｎ−(４−メトキシ−６−メチル−１,３,５−トリアジン−２−イル)アミノカルボニル］アミノスルホニル｝安息香酸メチル
保護ガス下で、キシレン中の４−ヨード−２−イソシアナトスルホニル安息香酸メチルの１４.５％濃度溶液(１４６５ｇ)を４時間に亙って一定の速度で、５０℃で６７０ｇの酢酸エチル中の８４.５ｇの２−アミノ−４−メトキシ−６−メチル−１,３,５−トリアジンの懸濁液に添加する。添加が終わった後、混合物を同じ温度で約４時間撹拌し、そしてその後酢酸エチルを減圧下（８０〜６０ミリバール、Ｔ＝５０℃）で溜去する。残った懸濁液を吸引濾去しそして固体を希塩酸で繰り返し洗浄しそして乾燥させる。適切にはアセトンを塩酸に添加することができる。これにより２９７ｇ(含有＞９８％)の表題化合物が得られ、収率は理論値の９９.２％である。
【００７１】
実施例７ｂ(比較実施例)
実施例７ａの方法を純トルエンを溶媒として使用して対応して繰り返す。２４時間後、反応はなお完了しない。表題化合物は理論値の８１％の収率そして８９％の純度で得られる。
本発明は除草性のフェニルスルホニル尿素及びそれらの中間体の群の化合物を製造する化学的方法の技術分野に関する。
多くの置換されたフェニルスルホニル尿素が除草剤及び植物生長調節剤として報告されている。フェニルスルホニル尿素の群の中で、フェニル環にカルボキシル基又はカルボン酸誘導体の基を有するものの合成は特に興味深い。特に関心を引くのはＥＰ−Ａ−００７６８７又はＷＯ−Ａ−９２／１３８４５に開示された式(Ｉ)の化合物
【化１６】
Ｑは酸素、硫黄又は−Ｎ(Ｒ4)−であり、
Ｘ*は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキル又はメトキシ、好ましくは水素又はヨウ素、特にヨウ素であり、
Ｙ、Ｚは互いに独立してＣＨ又はＮであり、この場合Ｙ及びＺは同時にＣＨではない、
【０００２】
Ｒは水素、(Ｃ1〜Ｃ12)−アルキル；(Ｃ2〜Ｃ10)−アルケニル；(Ｃ2〜Ｃ10)−アルキニル；ハロゲン、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルチオ、ＣＮ、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ］カルボニル及び(Ｃ2〜Ｃ6)−アルケニルからなる群より選ばれる基によりモノないしテトラ置換された(Ｃ1〜Ｃ6)−アルキル；又は置換されていないか又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルチオ及びハロゲンからなる群より選ばれる基により置換された(Ｃ3〜Ｃ8)−シクロアルキル；(Ｃ5〜Ｃ8)−シクロアルケニル；フェニル基が置換されていないか又はフェニル基がハロゲン、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ、(Ｃ1〜Ｃ4)−ハロアルキル、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルチオ、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ］カルボニル、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル］カルボニルオキシ、カルボキサミド、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル］−カルボニルアミノ、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル］アミノカルボニル、ジ［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル］−アミノカルボニル及びニトロからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基により置換されたフェニル−(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルであるか；又は式Ａ−１ないしＡ−１０
【０００３】
【化１７】
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ(Ｏ)又はＳＯ2であり、
Ｒ1は水素又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキルであり、
Ｒ2は水素、ハロゲン、(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキル又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルコキシであり、ここで２つの最後に述べた基の各々は置換されていないか又はハロゲン又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルコキシによりモノ又はポリ置換されており、
【０００４】
Ｒ3は水素、ハロゲン、(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキル、(Ｃ1〜Ｃ3)−アルコキシ又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキルチオであり、ここで３つの最後に述べた基の各々は置換されていないか又はハロゲンによりモノ又はポリ置換されているか又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルコキシ又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキルチオによりモノ又はジ置換されており；又は式ＮＲ5Ｒ6の基、(Ｃ3〜Ｃ6)−シクロアルキル、(Ｃ2〜Ｃ4)−アルケニル、(Ｃ2〜Ｃ4)−アルキニル、(Ｃ3〜Ｃ4)−アルケニルオキシ又は(Ｃ3〜Ｃ4)−アルキニルオキシであり、
Ｒ4は水素、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシであり、そして
Ｒ5及びＲ6は互いに独立して水素、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、(Ｃ3〜Ｃ4)−アルケニル、(Ｃ1〜Ｃ4)−ハロアルキル又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシである。
【０００５】
化合物(Ｉ)の塩は好ましくはスルホニル尿素のＳＯ2ＮＨ基の水素原子がカチオン、好ましくは作物防護に使用することができる生理学的に許容し得るカチオン、特にアルカリ金属又はアルカリ土類金属カチオン又は第四級アンモニウムイオンを含む場合により置換されたアンモニウムイオンにより置換された化合物である。カチオンの例はナトリウム、カリウム及びアンモニウムイオンである。
【０００６】
式(Ｉ)の化合物の塩は適当な無機又は有機酸、例えば、ＨＣｌ、ＨＢｒ、Ｈ2ＳＯ4又はＨＮＯ3、又はシュウ酸又はスルホン酸を塩基性基、例えば、アミノ又はアルキルアミノに添加して作ることができる。脱プロトン化形体で存在する適当な置換基、例えば、スルホン酸又はカルボン酸はそれら自身プロトン化されることができる基、例えばアミノ基と内部塩を形成することができる。
【０００７】
適当な官能基、例えば、カルボキシル基の水素を農業上適当なカチオンで置き換えて塩を作ることも可能である。これらの塩は、例えば、金属塩、特にアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩、特にナトリウム及びカリウム塩、さもなくばアンモニウム塩、有機アミンの塩又は第四級アンモニウム塩である。
【０００８】
特に関心を引くのはスルホニル尿素(Ｉ)のスルホニル基に対してオルト位に式−ＣＯ−Ｑ−Ｒの基がある式(Ｉ)の化合物又はそれらの塩である。好ましいのはＱ＝酸素原子、Ｘ*＝水素又はハロゲン、好ましくはヨウ素、Ｒ＝(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、(Ｃ2〜Ｃ4)−アルケニル、(Ｃ2〜Ｃ4)−アルキニル、(Ｃ1〜Ｃ4)−ハロアルキル、又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、好ましくはメチル又はエチル、特にメチルである化合物(Ｉ)又はそれらの塩である。更に好ましいのはスルホニル尿素のスルホニル基に対してオルト位に式−ＣＯ−Ｑ−Ｒの基があり、Ｘ*＝ハロゲン、好ましくはヨウ素であり、そしてＸ*が式−ＣＯ−Ｑ−Ｒの基に対してパラ位である化合物(Ｉ)又はそれらの塩である。
【０００９】
ＷＯ−Ａ−９２／１３８４５により、適当に置換されたフェニルスルホニル イソシアナートから複素環式アミン、例えば２−アミノ−４−メトキシ−６−メチル−１,３,５−トリアジン又は２−アミノ−４,６−ジメトキシピリミジンとの反応により化合物(Ｉ)又はそれらの塩を製造することは公知である。フェニルスルホニルイソシアナートそのものは、例えば、対応するフェニルスルホニルクロリドからアンモノリシスによりスルホンアミドとしそしてこのスルホンアミドを標準的方法によりスルホニルイソシアナートに転化することにより得ることができる。
【００１０】
アンモノリシスは、例えば、スルホニル クロリドを適当な溶媒、例えばテトラヒドロフラン(ＴＨＦ)に溶解しそしてアンモニアガスを導入することにより実行することができる(ＷＯ−Ａ−９２／１３８４５を参照せよ)。
【００１１】
生成するフェニルスルホンアミドから置換されたフェニルスルホニルイソシアナートを製造する適当な標準的方法は、適切には触媒量のピリジンのような塩基の存在下でフェニルスルホンアミドの塩化チオニル及びホスゲンによる連続処理である（ＷＯ−Ａ−９２／１３８４５、実施例１１を参照せよ）。別法として、フェニルスルホンアミドを触媒として立体障害を受けたアミン塩基を使用してアルキルイソシアナートと反応させて対応する置換されたＮ−アルキル−Ｎ′−フェニルスルホニル尿素を得ることもでき、このものは次にホスゲン化されて置換されたフェニルスルホニルイソシアナートとなる（同じくＷＯ−Ａ−９２／１３８４５、実施例１２を参照せよ）。スルホニルイソシアナートの製造のための同等の反応は構造的に異なるフェニル−又はヘテロアリールスルホンアミドについても開示されている(例えば、ＵＳ−Ａ−４,６４７３０３、ＥＰ−Ａ−４６０２９４２、ＥＰ−Ａ−０１８４３８５、ＥＰ−Ａ−０７２７４２３を参照せよ)。
【００１２】
アルキルイソシアナート又はシクロアルキルイソシアナートの存在下におけるそして、適切には、立体障害を受けたアミン塩基の存在下におけるアリール−又はヘテロアリールスルホンアミドのホスゲンとの直接反応も公知である(ＵＳ−Ａ−４,６４７３０３、ＥＰ−Ａ−０５８４０４３、ＥＰ−Ａ−００３０１３８、ＥＰ−Ａ−０１８４３８５)。
【００１３】
ＷＯ−Ａ−９６／Ｏ６８２６はフェニル環にオルト−カルボアルコキシ基を有するものもあるフェニルスルホンアミドをホスゲン化して対応する置換されたフェニルスルホニルイソシアナートを得る方法を開示しており、この方法はブチルイソシアナート及び第三級アミン、例えばＤＡＢＣＯからなる、及び／又は置換されたスルホニルイソシアナートからなる触媒の存在下でホスゲンとの反応による。一つの実施例においては、使用する触媒は共触媒としてそれ以前のバッチからの少量の最終製造物（置換されたスルホニルイソシアナートとして）と組み合わせたｎ−ブチルイソシアナートである。この刊行物の中の好ましい方法では、使用するスルホンアミドに対してホスゲンは常に過剰である。
【００１４】
しかしながら、フェニルスルホンアミド、フェニルスルホニルイソシアナート及び式(Ｉ)の化合物の上述の公知の製造方法は化学的収率、空間／時間収率及び／又は必要な装置の点で不満足である。例えば、フェニル基の２位にカルボアルコキシ基を有するフェニルスルホニル尿素の場合、アンモノリシスの間に対応するサッカリン誘導体のような副生物が形成される。
【００１５】
対応して置換Ｎ−アルキル−Ｎ′−フェニルスルホニル尿素のホスゲン化の場合、かなりの量の置換Ｎ,Ｎ′−ビス（フェニルスルホニル）尿素がしばしば副生物として生ずる。その上、比較的長い反応時間がこのホスゲン化方法に、特にその初期段階（ホスゲン化の開始）において必要である。公知の方法によるＮ−アルキル−Ｎ′−フェニルスルホニル尿素の製造は立体障害を受けたアミン塩基を必要とし、その使用及び除去は技術的及び経済的な出費を伴う。
【００１６】
これまで、フェニル基がＸ*＝ハロゲン、好ましくはヨウ素で置換されており、そして好ましく製造されるフェニルスルホニルイソシアナートについては少数の方法のみ開示されている(ＷＯ−Ａ−９２／１３８４５を参照せよ)。どの方法がそのような化合物の製造を改良することができるかこれまでの所知られていない。特にこれらの化合物の特別な構造的特徴、例えば、置換されたフェニル基における立体障害及び反応性の理由から、構造的に異なるアリール−又はヘテロアリールスルホンアミドに関する方法から類推できることは僅かである。
【００１７】
生成するスルホニルイソシアナートと複素環式アミンから式(Ｉ)の化合物を得る反応は既知の方法により種々の経路で実行することができる。
一般に、フェニルスルホニルイソシアナートとアミノピリジン又はアミノトリアジンとの反応は有機溶媒中で実行することができる。この目的に推奨される溶媒は極性非プロトン性溶媒、例えばＴＨＦ及びアセトニトリルである（例えば、ＥＰ−Ａ−００３０１３８、１４−１５ページを参照せよ)。
【００１８】
ＳＵ １２３３４５６(１９９６)はアミノトリアジンをアリールスルホニルイソシアナートと結合させるため、非プロトン性有機溶媒中でＮ−メチルピロリジン(ＮＭＰ)を使用することを開示している。溶媒キシレン中で１ないし２０％のＮＭＰの比率で、２ないし４時間の反応時間内に約８０ないし８２％の収率が達成される。この収率は工業的規模に適用するには不十分である。
【００１９】
ＵＳ−Ａ−０４６４７３０３及びＵＳ−Ａ−０４６０２９４２においては、ＤＡＢＣＯを結合反応を促進するために使用している。工業的規模での１,４−ジアザビシクロ［２.２.２］オクタン(ＤＡＢＣＯ)の使用は不利益であり、なぜならそれは反応物に加えて使用することそして反応後ある費用をかけて除かなければならないからである。
従って本発明の目的は、既知の方法に比較して一つの見地、好ましくは多くの見地に関して有利に実行することができる代替方法を提供することである。
【００２０】
本発明は上述の式(Ｉ)のフェニルスルホニル尿素及びそれらの塩の製造方法を提供し、この方法は
(ａ) 式(II)の化合物
【化１８】
【００２１】
【化１９】
(ａ１) 反応を
(１) １つ又はそれ以上の場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素、例えばキシレン、トルエン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン［溶媒(１)］、及び
(２) １つ又はそれ以上の極性非プロトン性溶媒［溶媒(２)］、好ましくはニトリル、例えばアセトニトリル、及びエステル、好ましくは(Ｃ1〜Ｃ6)−アルキル(Ｃ1〜Ｃ2)−アルカンカルボキシラート、例えば酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル及び他の酢酸アミル、及びエーテル、例えばテトラヒドロフラン(ＴＨＦ)又は１,２−ジメトキシエタン(ＤＭＥ)、アミド、例えばジメチルホルムアミド(ＤＭＦ)、ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン又はメチルイソブチルケトン(ＭＩＢＫ)、及び２つ又はそれ以上の極性溶媒の混合物
の２０：１ないし１：１、好ましくは１０：１ないし１.４：１の溶媒(１)：溶媒(２)の重量比でなる有機溶媒混合物中で実行し、特に上述の好ましい反応を化合物(II)の溶媒(１)又は溶媒(１)及び(２)の溶媒混合物中の溶液を溶媒(２)中のアンモニアの濃厚又は飽和溶液に添加することにより実行する段階を行い、
【００２２】
(ｂ) 生成する化合物(III)を中間分離を実行するか又はしないでホスゲンと反応させて式(IV)のフェニルスルホニルイソシアナート
【化２０】
(ｂ１) Ｘ*＝ハロゲン、特にＸ*＝ヨウ素の場合、ホスゲンとの前記反応を有機溶媒中で触媒としてＲ1 ´が置換されていない又は置換されたそして好ましくは１ないし２０個の炭素原子、特に１ないし１６個の炭素原子を含む炭化水素基である式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナート、好ましくはＮ−アルキルイソシアナート、Ｎ−シクロアルキルイソシアナート及びＮ−アリールイソシアナートからなる群よりの１つ又はそれ以上のイソシアナート、好ましくはメチルイソシアナート、エチルイソシアナート、ｎ−プロピルイソシアナート、イソプロピルイソシアナート、ｎ−、イソ−、ｓ−又はｔ−ブチルイソシアナート、ペンチルイソシアナート、ヘキシルイソシアナート、ヘプチルイソシアナート、シクロヘキシルイソシアナート及びフェニルイソシアナートからなる群よりのＮ−(Ｃ1〜Ｃ12)アルキルイソシアナート、特にｎ−ブチルイソシアナート又はシクロヘキシルイソシアナート又は触媒として複数のこれらのイソシアナートの混合物の存在下で
共触媒としてアミン塩基又はその他の塩基の添加を伴うか又は好ましくは伴わないで、特に最初にある量の式(IV)のスルホニルイソシアナートを加えることにより開始して実行する段階を行い、
【００２３】
(ｃ) 生成する化合物(IV)を中間分離を実行するか又はしないで有機溶媒中で式(Ｖ)のアミン
【化２１】
(ｃ１) 前記反応を１１０℃より上の沸点を有する場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素及び極性非プロトン性溶媒の溶媒混合物、好ましくはキシレン／酢酸エチル又はキシレン／アセトニトリル中で実行する段階を行うこと
からなり、ここで好ましい部分段階(ａ１)、(ｂ１)及び(ｃ１)の少なくとも一つを前記方法の中で実行する。
【００２４】
本発明は方法の新規な部分段階(ａ１)及び(ｃ１)、並びにＸ*＝ハロゲン、好ましくはヨウ素の場合の部分段階(ｂ１)、そして組み合わせた多段階方法又は対応するワンポット方法も提供するものである。
式(Ｉ)ないし(Ｖ)及びすべての後述の式の定義の中で、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルキルアミノ及びアルキルチオの各基及び対応する不飽和及び／又は置換された基はそれぞれの場合炭素骨格中で直鎖又は枝分かれ鎖であることができる。
【００２５】
特に説明しない限り、低級炭素骨格、例えば１ないし６個の炭素原子、特に１ないし４個の炭素原子を有するもの、又は不飽和基の場合は２ないし６個の炭素原子、特に２ないし４個の炭素原子を有するものが好ましい。アルキル基は、例えばアルコキシ、ハロアルキルなどの複合的意味の場合も含めて、例えば、メチル、エチル、ｎ−又はｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｔ−又は２−ブチル、ペンチル、ヘキシル、例えばｎ−ヘキシル、ｉ−ヘキシル及び１,３−ジメチルブチル、ヘプチル、例えばｎ−ヘプチル、１−メチルヘキシル及び１,４−ジメチルペンチルであり；アルケニル基およびアルキニル基は、アルキル基に対応し、少なくとも１つの二重結合又は三重結合、好ましくは１つの二重結合又は三重結合を含む可能な不飽和の基を意味する。アルケニルは、例えば、アリル、１−メチルプロパ−２−エン−１−イル、２−メチルプロパ−２−エン−１−イル、ブタ−２−エン−１−イル、ブタ−３−エン−１−イル、１−メチルブタ−３−エン−１−イル及び１−メチルブタ−２−エン−１−イルであり；アルキニルは、例えば、プロパルギル、ブタ−２−イン−１−イル、ブタ−３−イン−１−イル、１−メチルブタ−３−イン−１−イルである。
【００２６】
シクロアルキルは好ましくは３〜８個の炭素原子、好ましくは３〜６個の炭素原子を有する炭素環式飽和環系、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル又はシクロヘキシルである。
ハロゲンは、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素である。基の定義において、「ハロゲン」はハロゲン基、すなわちハロゲン原子を表す。ハロアルキル、−アルケニル及び−アルキニルは、それぞれ、ハロゲン、好ましくはフッ素、塩素及び／又は臭素、特にフッ素又は塩素により部分的に又は完全に置換されたアルキル、アルケニル及びアルキニル、例えばモノハロアルキル(＝モノハロゲノ アルキル)、ペルハロアルキル、ＣＦ3、ＣＨＦ2、ＣＨ2Ｆ、ＣＦ3ＣＦ2、ＣＨ2ＦＣＨＣｌ、ＣＣｌ3、ＣＨＣｌ2、ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌであり；ハロアルコキシは、例えば、ＯＣＦ3、ＯＣＨＦ2、ＯＣＨ2Ｆ、ＣＦ3ＣＦ2Ｏ、ＯＣＨ2ＣＦ3及びＯＣＨ2ＣＨ2Ｃｌであり；これはハロアルケニル及びその他のハロゲン置換基に相応じて適用される。
【００２７】
アリールは炭素環式芳香族系、例えば単環、二環又は多環式芳香族系、例えばフェニル、ナフチル、テトラヒドロナフチル、インデニル、インダニル、ペンタレニル、フルオレニルなど、好ましくはフェニルである。
炭化水素基［例えば、段階(ｂ１)のＲ1 ´の定義を参照せよ］はもっぱら炭素原子及び水素原子を含みそして直鎖、枝分かれ鎖又は環状、飽和、不飽和又は芳香族であることができ、又はこれらの上述の同じか又は異なる炭化水素基を組み合わせて含むことができる。「炭化水素基」は、例えば、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルアルキル、シクロアルケニルアルキル、アリール、例えばフェニル又はナフチル、ベンジル、フェネチルなどの基を含む。別記しない限り、炭化水素基は好ましくは、１ないし３０個の炭素原子、特に１ないし２４個の炭素原子を含む。
【００２８】
骨格が基(＝群)として挙げたもの又は総称的に規定された基の群の「１つ又はそれ以上の基により」置換されている場合、それぞれの場合複数の同一の基及び／又は構造的に異なる基による同時置換を含む。
置換された炭化水素基のような置換された基、例えば置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、フェニル又はベンジル基は、例えば、置換されていない骨格から誘導される置換された基であって、置換基は、例えば、ハロゲン、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシル、アミノ、ニトロ、カルボキシル、シアノ、アジド、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニル、ホルミル、カルバモイル、モノ及びジアルキルアミノカルボニル、置換されたアミノ、例えばアシルアミノ、モノ及びジアルキルアミノ、アルキルスルフィニル及びアルキルスルホニル及び、環状基の場合、アルキル、ハロアルキル、アルキルチオアルキル、アルコキシアルキル、場合により置換されたモノ及びジアルキルアミノアルキル及びヒドロキシアルキルも含めてなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の、好ましくは１つ、２つ又は３つの基である。
【００２９】
好ましいのはハロゲン、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシル、アミノ、ニトロ、シアノ、モノ及びジアルキルアミノそして、環状基の場合、アルキル及びハロアルキルも含めてなる群よりの置換基であり；
用語「置換された基」、例えば置換された炭化水素基、例えば置換されたアルキルなどは、置換基として、上述の飽和炭化水素含有基の外に、対応する不飽和脂肪族及び芳香族基、例えば場合により置換されたアルケニル、アルキニル、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、フェニル、フェノキシなどを含む。環に脂肪族部分を有する置換された環状基は二重結合を介して環に結合する置換基を有する環系、例えばアルキリデン基、例えばメチリデン又はエチリデンで置換されたそれを含む。
【００３０】
例として挙げた置換基(「第一の置換基水準」)は、それらが炭化水素含有部分を含む場合、適当なら、更にこれらの部分が置換される(「第二の置換基水準」)ことが可能であり、例えば第一の置換基水準として定義した置換基の一つによってである。更にその先の対応する置換基水準も可能である。用語「置換された基」は好ましくは１つ又は２つの置換基水準のみを包含する。上述の置換基については、それぞれの場合炭化水素部分を有する基にとって好ましいとして上で述べた炭素原子数が好ましい。
【００３１】
式(II)の化合物は公知であるか又は公知の方法により製造することができる。この点に関して、刊行物ＥＰ−Ａ−００７６８７及びＷＯ−Ａ−９２／１３８４５並びにそこに引用された文献が特に参照される。そこに記述された方法手順及び式(Ｉ)の好ましい化合物及びそれらの前駆物質に関して、ＷＯ−Ａ−９２／１３８４５の内容は参照により本明細書及び発明に組み入れるものである。
【００３２】
製造方法にとって特に好ましいのはＱ＝酸素原子、Ｘ*＝水素又はハロゲン、好ましくはヨウ素、Ｒ＝(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル；(Ｃ2〜Ｃ4)−アルケニル；(Ｃ2〜Ｃ4)−アルキニル；(Ｃ1〜Ｃ4)−ハロアルキル、又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、好ましくはメチル又はエチル、特にメチルであり、そしてＨａｌ＝塩素である式(II)の化合物である。
【００３３】
スルホニルクロリド(II)のアンモノリシスはアンモノリシスの通常の方法、例えば、化学の手引書又はＷＯ−Ａ−９２／１３８４５に記述されている方法により実行することができる。通常の方法はアンモニアガスの使用を含み、これを有機溶媒中のスルホニルクロリド（II）の溶液に導入する。適当な有機溶媒は、例えば、極性非プロトン性溶媒、例えばＴＨＦ又はアセトンである。この反応は一般に室温でも進行する。後処理としては、形成される塩化アンモニウムを生成物と分離しなければならないが、これはこの技術分野の熟練者には既知の種々の方法により達成することができる。
【００３４】
ＷＯ−Ａ−９２／１３８４５に記述されたアンモノリシス方法では、ＴＨＦが単一溶媒として使用される。比較的大量そして工業的規模における場合、この方法は満足に実行されない。このため、一般に、収率は理論値の８０％未満に留まり、これは主として副生物、例えば分子間反応によるサッカリン(誘導体)の形成による。
【００３５】
本発明はアンモノリシスの改良された方法、特に上述の好ましい変法(ａ１)による方法を提供する。本発明においては、反応を溶媒(１)：溶媒(２)の重量比が２０：１ないし１：１、好ましくは１０：１ないし１.４：１である溶媒(１)及び溶媒(２)の溶媒混合物中で実行する。これは場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素に５ないし１００重量％、好ましくは１０〜７１重量パーセントの極性溶媒(２)を添加した混合物に相当する。反応を初めに溶媒(１)又は(２)、又は溶媒(１)又は(２)の比率が本発明の重量比の範囲内ではない溶媒混合物を使用して開始し、反応の途中に無極性又は極性溶媒の添加により結果として本発明の比率とする方法も本発明による。
【００３６】
特に好ましい溶媒(１)はキシレンである。好ましい極性溶媒(２)はアセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、［欠文］酸、酢酸ｎ−ブチル、テトラヒドロフラン、１,２−ジメトキシエチレン(ＤＭＥ)、ジメチルホルムアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及び２つ又はそれ以上の極性溶媒の混合物、特にアセトニトリル又は酢酸エチルである。
【００３７】
例えば、初めに化合物(II)を溶媒(１)及び(２)の混合物に加えそしてアンモニアを溶液又はガスとして入れることが可能である。別法として、化合物(II)を初めに溶媒(１)に加えそしてアンモニアを溶媒(２)中の溶液として添加することができる。更に、初めにアンモニアを溶液に加えそして化合物(II)の溶液を添加することが可能である。反応成分の１つを連続添加することも又はバッチ式に添加することも適当である。両反応成分を並行して、連続的に又は少量づつ継続して反応容器に添加することも可能である。
【００３８】
反応は好ましくは溶媒(１)中の又は溶媒(１)及び(２)の溶媒混合物中の化合物(II)の溶液を溶媒(２)中のアンモニアの濃縮又は飽和溶液に添加して実行する。特に好ましいのは、反応の間消費されるアンモニアをアンモニアガスの導入により反応溶液が常にアンモニアで飽和されているか又は高濃度のアンモニアを含有するように補充することである。
【００３９】
アンモノリシスの反応温度は、例えば、−２０℃から当該溶媒又は溶媒混合物の沸点までの範囲、好ましくは０℃から＋８０℃、特に２０℃から６０℃の範囲である。
反応は大気圧のみならず、減圧又は高い圧力の下でも実行することができる。
【００４０】
アンモノリシスの後に得られる化合物(III)(フェニルスルホンアミド)は、中間分離を実行するか又はしないで、ホスゲンにより転化して式(IV)のフェニルスルホニルイソシアナートを得ることができる。この反応に適当な条件はスルホンアミドからスルホニルイソシアナートを製造するための通常の条件であり、例えば最初に述べたそしてＷＯ−Ａ−９２／１３８４５により公知であるフェニルスルホンアミドの塩化チオニル及びホスゲンによる、触媒量の塩基例えばピリジンの存在下における連続処理である。
【００４１】
別法として、公知の方法により、触媒としての立体障害を受けた有機塩基、例えば１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］ウンデク−７−エン(ＤＢＵ)、１,４−ジアザビシクロ［２.２.２］オクタン(ＤＡＢＣＯ)又は１,５−ジアザビシクロ［４.３.０］ノン−５−エン(ＤＢＮ)の存在下でフェニルスルホンアミドをアルキルイソシアナートと反応させてＮ−アルキル−Ｎ′−フェニルスルホニル尿素を得ることができ、ついでこれをホスゲンと反応させて置換されたフェニルスルホニルイソシアナートが得らる(ＷＯ−Ａ−９２／１３８４５、実施例１２を参照)。ワンポット方法による類似の直接反応はＥＰ−Ａ−００３０１３８に記述されている。
【００４２】
しかしながら、Ｘ*＝ハロゲン、好ましくはヨウ素である式(IV)のフェニルスルホニルイソシアナート、好ましくは基−ＣＯ−Ｑ−Ｒがスルホニルイソシアナート基に対してオルト位であるような化合物(IV)そして特に基Ｘ*＝ハロゲンが基−ＣＯ−Ｑ−Ｒに対してパラ位であるようなそれの製造においては、上述の公知の方法の代替法は一般に望ましい収率及び純度を与えない。
【００４３】
本発明により、好ましい化合物(IV)の製造における上述の公知の方法の欠点は式(III)の適当に置換されたフェニルスルホンアミドを好ましい方法(ｂ１)によりホスゲンと有機溶媒中で触媒として上述の式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナートの存在下で共触媒としてアミン塩基又は別の塩基の添加を伴うか又は好ましくは伴わないで反応させて式(IV)の対応するスルホニルイソシアナートを得ることにより回避することができる。
【００４４】
立体障害を受けたアミン塩基の添加のない方法が好ましい。なぜなら添加した場合にはアミン塩基を特別な費用をかけて製造物から除かなければならないからである。
ホスゲン化に適当な有機溶媒は、例えば、反応条件下で不活性である非プロトン性有機溶媒であり、好ましくは
・場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素、例えばトルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、クロロトルエン又はジクロロベンゼン、
・アルキルアルカンカルボキシラートの群からの、好ましくは(Ｃ1〜Ｃ6)−アルキル(Ｃ1〜Ｃ2)−アルカンカルボキシラートの群からの極性非プロトン性溶媒、例えば酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル及び他の酢酸アミル
及び上述の２つ又はそれ以上の溶媒の混合物である。
【００４５】
好ましくは、同じ溶媒又は溶媒混合物を方法の段階(ａ)及び(ｂ)に使用する。
式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナートの式(III)の化合物に対する比率は広い限度内で変化させることができる。使用する式(III)のスルホンアミドに基づいて、５ないし１００モル％、好ましくは１０ないし５０モル％の式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナートが有利である。
【００４６】
一般に、反応は初めは遅れる。驚くべきことに、初期段階における反応速度は当初の添加として、ある量のスルホニルイソシアナート、好ましくは製造するべき式(IV)のスルホニルイソシアナートの触媒量を加えるとかなり高めることができることを発見した。有利な量は予備実験で決定することができる。一般に、反応の遅延する開始を実質的に防ぐために、スルホンアミド(III)の量に基づいて５ないし２０モル％の化合物(IV)が当初の添加として十分である。
【００４７】
ホスゲン化に関しては、例えば、初めに化合物(III)を有機溶媒に式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナートと一緒に加えそしてホスゲンを入れることが可能である。別法として、イソシアナートを初めに有機溶媒に加え、次いでホスゲンを入れそして同時に、連続的又はバッチ式に式(III)のスルホンアミドを添加することができる。最後に述べた方法においては、反応の間スルホンアミドの濃度が比較的低く、従って副生物の量が減る。式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナート及びスルホニルイソシアナート(IV)のいくらかを初めにに有機溶媒に加え、ついでホスゲンを導入する手順が好ましい。
【００４８】
ホスゲン化の反応温度は、例えば、５０℃から当該の溶媒の沸点までの範囲、好ましくは１００℃から当該の溶媒の沸点までの範囲、特に１００ないし１８０℃、より一層特定すると１２０ないし１４０℃である。
反応は大気圧下、加圧下又は減圧下で実行することができる。ホスゲンの分圧は０.２ないし２０バール、好ましくは１ないし６バールが有利である。
【００４９】
化合物(III)の可能な最良の転化を実現するには、ホスゲンは好ましくは式(III)の化合物のモル当たり１ないし４モル、特に１ないし２.５モルの量を使用する。反応の間、過剰のホスゲンが常に存在するのが好ましい。反応混合物中のホスゲンの含量は好ましくは反応混合物中２重量パーセント、特に５重量パーセントを超える。
【００５０】
反応混合物の後処理に関しては、製造物(IV)を通常の方法で単離することができるが、単離することなく、過剰のホスゲン及び式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナートを除いた後、反応混合物を化合物(Ｉ)に転化するため(結合反応)に直接使用することが望ましい。本発明の方法は工業的後処理が簡単であること、すなわち溶媒の一部を、適切には減圧下で、蒸留することにより、同時に過剰のホスゲン及び式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナートを除くことが可能であるという利点を有する。
【００５１】
本発明のホスゲン化(ｂ１)を使用することにより、化合物(IV)の理論値の９０％を超える収率が一般に実現され、驚くべきことに副反応を受けやすい立体的に要求性の基(Ｘ*＝塩素、臭素、ヨウ素)を有する化合物(III)のホスゲン化についてもそうである。化合物(IV)は触媒としてアミン塩基の使用を必要としない好ましい方法により製造することができる。純度は次の工程に必要な高いものとなっている。触媒又は対応する塩の除去及びそれらの後処理は省略することができる。使用した溶媒は工業的に簡単な方法で分離しそしてその後のバッチで再使用することができる。説明したような特徴から本方法は経済的及び環境的な両面から有利である。
【００５２】
本発明によるホスゲン化はＸ*がハロゲン以外の意味を有する式(IV)の化合物の製造にも好ましい方法である。
段階(ｂ)で得られる化合物(IV)は中間分離を実行するか又はしないで有機溶媒中で上述の式(Ｖ)のアミンを使用して式(Ｉ)のスルホニル尿素又はそれらの塩に転化することができる。
【００５３】
一般に、フェニルスルホニルイソシアナートのアミノピリミジン又はアミノトリアジンとの反応は有機溶媒中で実行することができる。推奨される溶媒は、一般に、極性非プロトン性溶媒、例えばＴＨＦ及びアセトニトリルである（例えば、ＥＰ−Ａ−００３０１３８、１４−１５ページを参照せよ)。しかしながら、達成される反応速度、収率及び純度の点で、式(IV)の化合物と式(Ｖ)のアミンとの反応はしばしば不十分である。触媒、例えば立体障害を受けたアミン塩基の添加により収率を増加しそして反応時間を短くすることは可能である。しかしながら、これらの触媒は反応後に分離しなければならない（最初に述べた参考文献を参照せよ)。
【００５４】
本発明においては、上に述べたような欠点は、１１０℃より上の、好ましくは１２０〜２００℃、特に１３０ないし１８０℃の沸点を有する場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素溶媒及び極性非プロトン性溶媒からなり、無極性溶媒の極性溶媒に対する重量比が好ましくは２０：１ないし１：１０、特に１０：１ないし１：５、より一層特定すると５：１ないし１：１の範囲でなる溶媒混合物中で実行することにより回避することが可能である。
【００５５】
適当な比較的無極性の溶媒はトルエン、キシレン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン又はそれらの混合物、好ましくはｏ−、ｍ−又はｐ−キシレン又は通常の工業的純度のキシレン(工業用キシレン混合物)である。
好ましい極性非プロトン性溶媒は方法段階(ａ)で述べた極性溶媒、特に酢酸アルキル又はアセトニトリルである。キシレン／酢酸エチル又はキシレン／アセトニトリルの混合物が好ましい。
【００５６】
反応は好ましくは０ないし１００℃、好ましくは２０ないし８０℃、特に４０ないし７０℃の範囲の温度で実行する。
好ましくは式(IV)のスルホニルイソシアナートのモル当たり式(Ｖ)のアミンの１ないし１.２モル、特に１ないし１.１モル、より特定すると１ないし１.０５モルを使用する。
【００５７】
本発明において好ましい変法(ｃ１)の方法を使用して、当量の又は実質的に当量の化合物(IV)及び(Ｖ)を使用することが可能である。他の溶媒を選択する場合、例えばある溶媒を本発明により使用される溶媒混合物の代わりに使用する場合、転化は一般に不完全であるか、又は比較的大過剰の化合物(Ｖ)を化合物(IV)の転化を達成するために使用しなければならない。その上、一種類のみの溶媒を使用する場合、反応速度はしばしば不満足なまでに遅い。対照的に、本発明の方法は大抵の場合極めて良好な収率及び純度で製造物を与える。
【００５８】
結合反応からの反応混合物の後処理は通常の方法で実行することができ、式(Ｉ)のスルホニル尿素は塩でない形で又は−塩基との反応後には−塩として単離される。
好ましい方法段階(ａ１)、(ｂ１)及び(ｃ１)を組み合わせて実行する方法が特に好ましい。同じ溶媒混合物を使用するなら、ワンポット反応が実行可能である。
下記の実施例において、示した量は他の定義を特に示さない限り重量に基づく。
【００５９】
【実施例】
実施例１ａ
２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル
１８〜２２℃において、全部で９.１ｇのガス状アンモニアを１８９ｇのキシレン及び１５０ｇのアセトニトリル中の７３ｇの２−クロロスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル(９８.７％)の溶液に１時間かけて導入する。撹拌しながら、次に窒素を懸濁液を通して１時間通気する。残存するアンモニアを減圧下で少量の溶媒を溜去することにより除く。混合物を加熱して還流しそして熱い内に濾過し、そして残留物を新しいアセトニトリルと共に無くなるまで分解する。合わせた濾液を蒸溜しながら濃縮しそして冷残留物を濾過する。これにより６６.８ｇの２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチルの白色針状物質が得られる。
【００６０】
実施例１ｂ(比較実施例)
実施例１ａの反応をキシレン／アセトニトリル混合物の代わりに純粋なキシレン中で実行し、６時間の反応時間の後そしてそしてその他は同一条件で純度が僅かに８３.３％である５６.６ｇの収得量の２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチルが得られる（収率は理論値の６９.１％)。
【００６１】
実施例２ａ
２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル
２１７.４ｇのキシレン及び１５０ｇの酢酸エチル中の１４４.２ｇの２−クロロスルホニル−４−ヨード安息香酸メチルの溶液を撹拌しながら、３５ないし３７℃でそして４時間かけて酢酸エチル(１５６.５ｇ)中のアンモニアの飽和溶液中に秤量添加する。同時に、全部で１６.７ｇのアンモニアをその消費の速度で導入する。混合物を更に１時間撹拌し、過剰のアンモニアを減圧下初期蒸溜により除きそして混合物を加熱して還流しそして熱い内に濾過する。フィルターケーキを沸騰酢酸エチルと共に無くなるまで分解する。次いで大部分の酢酸エチルを溜去し、そして残存するキシレン中の製造物の懸濁液を２０℃に冷却する。濾過しそして減圧下で乾燥させて１３２.２ｇの２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル(純度９９.３％)を得る。
【００６２】
実施例２ｂ(比較実施例)
実施例２ａの反応をキシレン／メタノール（４：１）の混合物中で、その他は同一条件の下で実行して、７１％の純度で１１８.８ｇの収得量の２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチルが後処理の後得られる（収率は理論値の６２％)。
【００６３】
実施例３
２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル
実施例２ａを繰り返すが、但し２１７.４ｇのキシレン及び１５０ｇの酢酸エチル中のスルホニル クロリドの溶液の代わりに３００ｇのキシレン及び７５ｇの酢酸エチル中のスルホニルクロリドの溶液を使用する。これにより１３０ｇの２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル(純度９９％)が得られる。
【００６４】
実施例４
２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル
実施例２ａを繰り返すが、但し２１７.４ｇのキシレン及び１５０ｇの酢酸エチル中のスルホニルクロリドの溶液の代わりに３００ｇのキシレン及び７５ｇのアセトニトリル中のスルホニルクロリドの溶液を使用する。これにより１３１ｇの２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチル(純度９９％)が得られる。
【００６５】
実施例５ａ
４−ヨード−２−イソシアナトスルホニル安息香酸メチル
窒素保護ガス下で、１５０mlの乾燥キシレン及び６.８４mlのｎ−ブチルイソシアナートを１２６〜１２８℃に加熱する。次いでホスゲン(全部で５０ｇ)を初めに表面を通して加える。ホスゲン気流は反応混合物の温度が１２６〜１２８℃に留まるように調節する。必要により、ホスゲンの導入を減らすか又は中断する。反応混合物から逸出したホスゲンは−２０℃に冷却したコンデンサーを使用して凝縮しそして反応混合物中に戻す。
【００６６】
ホスゲンの導入の間、９０ｇの２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチルを３３６mlのキシレン中の懸濁液として撹拌しながら２０時間に亙って少量づつ継続して添加する。ホスゲン飽和雰囲気下で更に１０時間撹拌した後、３００mlのｎ−ブチルイソシアナート及びキシレンの混合物を同じ反応温度そして減圧下(１００ないし１２０ミリバール、７８ないし８０℃)で溜去し、そして４００mlの乾燥キシレンを蒸留の間３回に分けて添加する。表題化合物の収率は理論値の９２.８％である。
【００６７】
実施例５ｂ(比較実施例)
実施例５ａの方法をアルキルイソシアナート(例えばブチルイソシアナート)を添加しないで繰り返す。しかしながら、添加した２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチルは転化されない。
【００６８】
実施例６ａ
４−ヨード−２−イソシアナトスルホニル安息香酸メチル(当初充填を使用)
窒素保護ガス下で、３.７３mlのｎ−ブチルイソシアナート及び２５０mlの乾燥キシレンを４−ヨード−２−イソシアナトスルホニル安息香酸メチルの溶液(キシレン中１４.８％濃度溶液として１９.７ｇ)に添加する。撹拌しながら、混合物を１２６〜１２８℃に加熱しそしてホスゲンを表面を通して添加する。ホスゲン気流は反応混合物の温度が１２６〜１２８℃に留まるように調節する。必要により、ホスゲンの導入を減らすか又は中断する。反応混合物から逸出したホスゲンは−２０℃に冷却したコンデンサーを使用して凝縮しそして反応混合物中に戻す。同時に９０ｇの２−アミドスルホニル−４−ヨード安息香酸メチルを２１６mlのキシレン中の懸濁液として撹拌しながら１０時間に亙って少量づつ継続して添加する。ホスゲン飽和雰囲気下で同じ反応温度で更に１０時間撹拌した後、ｎ−ブチルイソシアナート及びキシレンの混合物３００mlを減圧下で溜去し、そして４３３mlの乾燥キシレンを蒸留の間添加する。表題化合物の収率は理論値の９４.８％である。
【００６９】
実施例６ｂ(比較実施例)
実施例６ａの方法を対応して繰り返すが、しかしながら４−ヨード−２−イソシアナトスルホニル安息香酸メチルの溶液の追加の添加は行わない。２０時間の反応時間の後、反応はなお完了せず、４−ヨード−２−イソシアナトスルホニル安息香酸メチルの収率は理論値の８６％である。
【００７０】
実施例７ａ(結合反応)
４−ヨード−２−｛Ｎ−［Ｎ−(４−メトキシ−６−メチル−１,３,５−トリアジン−２−イル)アミノカルボニル］アミノスルホニル｝安息香酸メチル
保護ガス下で、キシレン中の４−ヨード−２−イソシアナトスルホニル安息香酸メチルの１４.５％濃度溶液(１４６５ｇ)を４時間に亙って一定の速度で、５０℃で６７０ｇの酢酸エチル中の８４.５ｇの２−アミノ−４−メトキシ−６−メチル−１,３,５−トリアジンの懸濁液に添加する。添加が終わった後、混合物を同じ温度で約４時間撹拌し、そしてその後酢酸エチルを減圧下（８０〜６０ミリバール、Ｔ＝５０℃）で溜去する。残った懸濁液を吸引濾去しそして固体を希塩酸で繰り返し洗浄しそして乾燥させる。適切にはアセトンを塩酸に添加することができる。これにより２９７ｇ(含有＞９８％)の表題化合物が得られ、収率は理論値の９９.２％である。
【００７１】
実施例７ｂ(比較実施例)
実施例７ａの方法を純トルエンを溶媒として使用して対応して繰り返す。２４時間後、反応はなお完了しない。表題化合物は理論値の８１％の収率そして８９％の純度で得られる。
Claims (13)
- 式(Ｉ)
Ｑは酸素、硫黄又は−Ｎ(Ｒ4)−であり、
Ｘ*は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキル又はメトキシであり、
Ｙ、Ｚは互いに独立してＣＨ又はＮであり、この場合Ｙ及びＺは同時にＣＨではない、
Ｒは水素、(Ｃ1〜Ｃ12)−アルキル；(Ｃ2〜Ｃ10)−アルケニル；(Ｃ2〜Ｃ10)−アルキニル；ハロゲン、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルチオ、ＣＮ、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ］カルボニル及び(Ｃ2〜Ｃ6)−アルケニルからなる群より選ばれる基によりモノないしテトラ置換された(Ｃ1〜Ｃ6)−アルキル；又は置換されていないか又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルチオ及びハロゲンからなる群より選ばれる基により置換された(Ｃ3〜Ｃ8)−シクロアルキル；(Ｃ5〜Ｃ8)−シクロアルケニル；フェニル基が置換されていないか又はフェニル基がハロゲン、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ、(Ｃ1〜Ｃ4)−ハロアルキル、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルチオ、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ］カルボニル、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル］カルボニルオキシ、カルボキサミド、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル］−カルボニルアミノ、［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル］アミノカルボニル、ジ［(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル］−アミノカルボニル及びニトロからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の基により置換されたフェニル−(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルであるか；又は式Ａ−１ないしＡ−１０の基
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ(Ｏ)又はＳＯ2であり、
Ｒ1は水素又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキルであり、
Ｒ2は水素、ハロゲン、(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキル又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルコキシであり、ここで２つの最後に述べた基の各々は置換されていないか又はハロゲン又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルコキシによりモノ又はポリ置換されており、
Ｒ3は水素、ハロゲン、(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキル、(Ｃ1〜Ｃ3)−アルコキシ又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキルチオであり、ここで３つの最後に述べた基の各々は置換されていないか又はハロゲンによりモノ又はポリ置換されているか又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルコキシ又は(Ｃ1〜Ｃ3)−アルキルチオによりモノ又はジ置換されており；又は式ＮＲ5Ｒ6の基、(Ｃ3〜Ｃ6)−シクロアルキル、(Ｃ2〜Ｃ4)−アルケニル、(Ｃ2〜Ｃ4)−アルキニル、(Ｃ3〜Ｃ4)−アルケニルオキシ又は(Ｃ3〜Ｃ4)−アルキニルオキシであり、
Ｒ4は水素、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシでありそして
Ｒ5及びＲ6は互いに独立して水素、(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、(Ｃ3〜Ｃ4)−アルケニル、(Ｃ1〜Ｃ4)−ハロアルキル又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシである〕
の化合物又はそれらの塩の製造方法であって、
(ａ) 式(II)
(ａ１) 式(III)の化合物を得るため式(II)の化合物をアンモノリシスしそしてこの反応を
(１) １つ又はそれ以上の場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素［溶媒(１)］及び
(２) １つ又はそれ以上の極性非プロトン性溶媒［溶媒(２)］
の２０：１ないし１：１の溶媒(１)：溶媒(２)の重量比でなる有機溶媒混合物中で行い、(ｂ) 生成する化合物(III)を中間分離を実行するか又はしないでホスゲンと反応させて式(IV)
(ｂ１) Ｘ*＝ハロゲンの場合、式(IV)のフェニルスルホニルイソシアナートを得るため、生成する化合物(III)を中間分離を実行するか又はしないでホスゲンと反応させ、そしてホスゲンとの前記反応を有機溶媒中で触媒としてＲ1 ´が置換されていないか又は置換された炭化水素基である式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナート、又は触媒として複数のこれらのイソシアナートの混合物の存在下でアミン塩基の添加を伴わないで行い、
(ｃ) 生成する化合物(IV)を中間分離を実行するか又はしないで有機溶媒中で式(Ｖ)
(ｃ１) 式(Ｉ)の化合物又はその塩を得るため、生成する化合物(IV)を中間分離を実行するか又はしないで有機溶媒中で式(Ｖ)のアミンと反応させ、そして前記反応を１１０℃より上の沸点を有する場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素及び極性非プロトン性溶媒の溶媒混合物中で行なう
ことからなり、ここで部分段階(ａ１)及び(ｃ１)の少なくとも一つを実行する前記方法。 - 式(Ｉ)において、
Ｑは酸素原子であり、
Ｘ*は水素原子又はハロゲン原子であり、
Ｒは(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル、(Ｃ2〜Ｃ4)−アルケニル、(Ｃ2〜Ｃ4)−アルキニル、(Ｃ1〜Ｃ4)−ハロアルキル又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシ(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキルであり、
Ｒ1は水素原子であり、
Ｒ2は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシであり、
Ｒ3は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルキル又は(Ｃ1〜Ｃ4)−アルコキシであり、
Ｙは窒素原子であり、そして
Ｚは窒素原子又は式ＣＨの基である
請求項１に記載の製造方法。 - 式(Ｉ)において、
Ｘ*はヨウ素原子であり、
Ｒはメチル又はエチルであり、
Ｒ2はメトキシであり、
Ｒ3はメチルであり、そして
Ｚは窒素原子である
請求項２に記載の製造方法。 - 段階(ａ１)の反応を、
(１) キシレン、トルエン、クロロベンゼン及びジクロロベンゼンからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素［溶媒(１)］、及び
(２) ニトリル、エステル、エーテル、アミド、ケトン及び２つ又はそれ以上の極性溶媒の混合物からなる群より選ばれる１つ又はそれ以上の極性非プロトン性溶媒［溶媒(２)］
からなる有機溶媒混合物中で実行する請求項１〜３のいずれかに記載の方法。 - 段階(ｂ１)の反応を触媒としてＮ−アルキル イソシアナート、Ｎ−シクロアルキルイソシアナート及びＮ−アリールイソシアナートからなる群より選ばれる１つ又はそれ以上のイソシアナートの存在下で実行する請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
- 段階(ｂ１)の反応を触媒としてｎ−ブチルイソシアナート又はシクロヘキシルイソシアナートの存在下で実行する請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
- 段階(ｃ１)の反応をキシレン／酢酸エチル又はキシレン／アセトニトリルの中で実行する請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
- 段階(ａ１)の反応において、式(III)
の化合物をアンモニアを使用するアンモノリシスにより式(III)の化合物に転化し、そしてこの反応を
(１) １つ又はそれ以上の場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素［溶媒(１)］及び
(２) １つ又はそれ以上の極性非プロトン性溶媒［溶媒(２)］
の１０：１ないし１.４：１の溶媒(１)：溶媒(２)の重量比でなる有機溶媒混合物中で行う請求項１〜３のいずれかに記載の方法。 - 段階(ｂ１)の反応において、式(IV)
- 請求項１〜３のいずれかの項に記載の式(Ｉ)の化合物又はその塩の製造方法において、式(IV)
- 請求項１〜３のいずれかの項に記載の式(Ｉ)の化合物又はその塩の製造方法において、
(ｂ) 式(III)
式(IV)
(ｂ１) Ｘ*＝ハロゲンの場合、式(IV)のフェニルスルホニルイソシアナートを得るため、式(III)の化合物をホスゲンと反応させ、そしてホスゲンとの前記反応を有機溶媒中で触媒としてＲ1 ´が置換されていないか又は置換された炭化水素基である式Ｒ1 ´−ＮＣＯのイソシアナート、又は触媒として複数のこれらのイソシアナートの混合物の存在下でアミン塩基の添加を伴わないで行い、
(ｃ) 生成する化合物(IV)を中間分離を実行するか又はしないで有機溶媒中で式(Ｖ)
(ｃ１) 式(Ｉ)の化合物又はその塩を得るため、生成する化合物(IV)を中間分離を実行するか又はしないで有機溶媒中で式(Ｖ)のアミンと反応させ、そして前記反応を１１０℃より上の沸点を有する場合によりハロゲン化された芳香族炭化水素及び極性非プロトン性溶媒の溶媒混合物中で行う
ことからなり、ここで部分段階(ｃ１)を実行する前記方法。 - フェニル環上で、
基−ＣＯ−Ｑ−Ｒは置換されたスルホニル基に対してオルト位であり、
基Ｘ*は基−ＣＯ−Ｑ−Ｒに対してパラ位であり、
Ｘ*＝ハロゲン
である請求項１〜１１のいずれかに記載の方法。 - フェニル環上で、
Ｘ*はヨウ素
である請求項１〜１２のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19946341.7 | 1999-09-28 | ||
| DE19946341A DE19946341B4 (de) | 1999-09-28 | 1999-09-28 | Verfahren zur Herstellung substituierter Phenylsulfonylharnstoffe aus Sulfohalogeniden |
| PCT/EP2000/009466 WO2001023368A2 (de) | 1999-09-28 | 2000-09-28 | Verfahren zur herstellung substituierter phenylsulfonylharnstoffe aus sulfohalogeniden |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003510312A JP2003510312A (ja) | 2003-03-18 |
| JP4991065B2 true JP4991065B2 (ja) | 2012-08-01 |
Family
ID=7923509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001526521A Expired - Lifetime JP4991065B2 (ja) | 1999-09-28 | 2000-09-28 | ハロゲン化スルホニルから置換されたフェニルスルホニル尿素の製造方法 |
Country Status (20)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7026477B1 (ja) |
| EP (2) | EP1911748B1 (ja) |
| JP (1) | JP4991065B2 (ja) |
| KR (1) | KR100800926B1 (ja) |
| CN (2) | CN100368405C (ja) |
| AT (2) | ATE400561T1 (ja) |
| AU (1) | AU1019901A (ja) |
| BR (1) | BR0014354A (ja) |
| CA (1) | CA2386655A1 (ja) |
| CZ (1) | CZ20021125A3 (ja) |
| DE (3) | DE19946341B4 (ja) |
| HU (1) | HUP0203072A3 (ja) |
| IL (1) | IL148742A0 (ja) |
| MX (1) | MXPA02003315A (ja) |
| PL (1) | PL356121A1 (ja) |
| RU (1) | RU2002111347A (ja) |
| TR (1) | TR200200847T2 (ja) |
| TW (1) | TW473544B (ja) |
| WO (1) | WO2001023368A2 (ja) |
| ZA (1) | ZA200202408B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10218704B4 (de) * | 2002-04-26 | 2006-11-30 | Bayer Cropscience Gmbh | Halosulfonylbenzoesäurehalogenide, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung zur Herstellung von substituierten Phenylsulfonylharnstoffen |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5513266A (en) * | 1978-05-30 | 1980-01-30 | Du Pont | Agricultural sulfonamides and their manufacture |
| JPS62228052A (ja) * | 1986-03-05 | 1987-10-06 | チバ−ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト | ２−アルコキシベンゼンスルホンアミドの製法 |
| US4849010A (en) * | 1985-04-10 | 1989-07-18 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Herbicidal sulfonamides |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2852557A (en) | 1954-04-09 | 1958-09-16 | Schenley Ind Inc | 4-sulfonyl derivatives of salicylic acid |
| DK163123C (da) * | 1978-05-30 | 1992-06-09 | Du Pont | Benzensulfonylurinstoffer til anvendelse som herbicider eller plantevaekstregulatorer, praeparat indeholdende dem samt deres anvendelse |
| US4238621A (en) * | 1979-04-13 | 1980-12-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Intermediates for herbicidal sulfonamides |
| US4647303A (en) | 1978-05-30 | 1987-03-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Agriculture sulfonamides |
| ZA806970B (en) | 1979-11-30 | 1982-06-30 | Du Pont | Agricultural sulfonamides |
| SU1233456A1 (ru) | 1984-02-01 | 1996-03-10 | В.Е. Антипанова | Способ получения замещенных n-[(1,3,5-триазин-2-ил)аминокарбонил]бензолсульфонамидов |
| US4602942A (en) | 1984-03-19 | 1986-07-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Herbicidal sulfonamides |
| US4744814A (en) | 1984-12-06 | 1988-05-17 | Ishihara Sangyo Kaisha | N-[(4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl)aminocarbonyl]-3-trifluoromethylpyridine-2-sulfonamide or salts thereof, herbicidal composition containing the same |
| ZA92970B (en) * | 1991-02-12 | 1992-10-28 | Hoechst Ag | Arylsulfonylureas,processes for their preparation,and their use as herbicides and growth regulators |
| MY110183A (en) | 1992-08-18 | 1998-02-28 | Novartis Ag | Process for the preparation of n, n''-substituted ureas |
| US5480993A (en) | 1993-03-05 | 1996-01-02 | Lucky Ltd. | Process for preparation of sulfonylurea derivatives and intermediates for the process and process for preparing the same |
| AU691951B2 (en) * | 1994-08-29 | 1998-05-28 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Improved process for making sulfonyl isocyanates |
-
1999
- 1999-09-28 DE DE19946341A patent/DE19946341B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-09-28 AT AT00971292T patent/ATE400561T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-09-28 CN CNB008134480A patent/CN100368405C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2000-09-28 BR BR0014354-5A patent/BR0014354A/pt not_active IP Right Cessation
- 2000-09-28 US US10/089,288 patent/US7026477B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-09-28 WO PCT/EP2000/009466 patent/WO2001023368A2/de active IP Right Grant
- 2000-09-28 CN CNA2008100021017A patent/CN101200452A/zh active Pending
- 2000-09-28 HU HU0203072A patent/HUP0203072A3/hu unknown
- 2000-09-28 AU AU10199/01A patent/AU1019901A/en not_active Abandoned
- 2000-09-28 DE DE50015260T patent/DE50015260D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-09-28 EP EP07025075A patent/EP1911748B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-09-28 CZ CZ20021125A patent/CZ20021125A3/cs unknown
- 2000-09-28 AT AT07025075T patent/ATE463487T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-09-28 RU RU2002111347/04A patent/RU2002111347A/ru not_active Application Discontinuation
- 2000-09-28 IL IL14874200A patent/IL148742A0/xx not_active IP Right Cessation
- 2000-09-28 DE DE50015900T patent/DE50015900D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-09-28 MX MXPA02003315A patent/MXPA02003315A/es active IP Right Grant
- 2000-09-28 KR KR1020027003961A patent/KR100800926B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-09-28 JP JP2001526521A patent/JP4991065B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2000-09-28 TR TR2002/00847T patent/TR200200847T2/xx unknown
- 2000-09-28 PL PL00356121A patent/PL356121A1/xx not_active Application Discontinuation
- 2000-09-28 CA CA002386655A patent/CA2386655A1/en not_active Abandoned
- 2000-09-28 EP EP00971292A patent/EP1220846B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-01 TW TW089123008A patent/TW473544B/zh not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-03-26 ZA ZA200202408A patent/ZA200202408B/en unknown
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5513266A (en) * | 1978-05-30 | 1980-01-30 | Du Pont | Agricultural sulfonamides and their manufacture |
| US4849010A (en) * | 1985-04-10 | 1989-07-18 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Herbicidal sulfonamides |
| JPS62228052A (ja) * | 1986-03-05 | 1987-10-06 | チバ−ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト | ２−アルコキシベンゼンスルホンアミドの製法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IL148742A0 (en) | 2002-09-12 |
| EP1220846B1 (de) | 2008-07-09 |
| JP2003510312A (ja) | 2003-03-18 |
| WO2001023368A3 (de) | 2002-03-14 |
| HUP0203072A2 (hu) | 2003-01-28 |
| CN101200452A (zh) | 2008-06-18 |
| ATE400561T1 (de) | 2008-07-15 |
| ATE463487T1 (de) | 2010-04-15 |
| EP1220846A1 (de) | 2002-07-10 |
| KR20020031601A (ko) | 2002-05-02 |
| KR100800926B1 (ko) | 2008-02-04 |
| TW473544B (en) | 2002-01-21 |
| CN1630647A (zh) | 2005-06-22 |
| CZ20021125A3 (cs) | 2002-07-17 |
| PL356121A1 (en) | 2004-06-14 |
| DE19946341A1 (de) | 2001-04-05 |
| EP1911748B1 (de) | 2010-04-07 |
| DE50015900D1 (de) | 2010-05-20 |
| ZA200202408B (en) | 2003-07-30 |
| TR200200847T2 (tr) | 2002-08-21 |
| EP1911748A1 (de) | 2008-04-16 |
| CA2386655A1 (en) | 2001-04-05 |
| MXPA02003315A (es) | 2002-10-04 |
| RU2002111347A (ru) | 2003-11-27 |
| US7026477B1 (en) | 2006-04-11 |
| CN100368405C (zh) | 2008-02-13 |
| BR0014354A (pt) | 2002-06-11 |
| HUP0203072A3 (en) | 2008-03-28 |
| DE50015260D1 (de) | 2008-08-21 |
| DE19946341B4 (de) | 2008-06-05 |
| WO2001023368A2 (de) | 2001-04-05 |
| AU1019901A (en) | 2001-04-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070815 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20071130 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090929 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A601 | Written request for extension of time |
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|
| A602 | Written permission of extension of time |
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|
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A601 | Written request for extension of time |
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|
| A602 | Written permission of extension of time |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120507 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4991065 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150511 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |