JPS62228052A - ２−アルコキシベンゼンスルホンアミドの製法 - Google Patents

２−アルコキシベンゼンスルホンアミドの製法

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JPS62228052A
JPS62228052A JP62049890A JP4989087A JPS62228052A JP S62228052 A JPS62228052 A JP S62228052A JP 62049890 A JP62049890 A JP 62049890A JP 4989087 A JP4989087 A JP 4989087A JP S62228052 A JPS62228052 A JP S62228052A
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    • C07C311/16—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings having the nitrogen atom of at least one of the sulfonamide groups bound to hydrogen atoms or to an acyclic carbon atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は２−アルコキシベンゼンスルホンアミドの新規
製造方法に関するものである。
〔従来の技術〕
新規方法によって製造することができる２−アルコキシ
ベンゼンスルホンアミドは、除草剤ｆある２−アルコキ
シベンセンスルホニル尿素の合成のために有用な中間体
である。この高い効果を有する除草剤の群は、最近、数
多くの特許出願及び公開公報に記載されている。本発明
の方法により製造することができる２−アルコキシベン
ゼンスルホンアミド、その製造及びこのスルホニル尿素
群からの除草剤最終生成物の人造におけるそれらの使用
がヨーロッパ特許出願第２３４２２号、第４４８０７号
及び第４４１３０８号に記載されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
アルコキシベンゼンスルホンアミドの製造のための前記
の方法は、不安定なジアゾニウム塩が中間体として得ら
れ、そしてＣｕ（Ｉｉ　化合物によるサンドマイヤ型の
交換反応が十分な選択性が少しもないか、又は複雑な分
離方法が要求される混合生成物が得られるかのどちらか
であるので、大規模な工業生産の用途には適当ではない
。
したがって、大工業規模で行うことができる、２−アル
コキシベンゼンスルホンアミトノ安価な製造方法に対す
る要望がある。
〔問題点を解決するだめの手段〕
驚くべきことに、本発明の新規製造方法はこれらの要望
を実質的に満たすものである。
本発明によシ、次式Ｉ： （式中、Ｒはクロロメチル基、メトキシメチル基、炭素
原子数１ないし４のアルキル基又はトリフルオロメチル
基を表わす。）で表わされる２−アルコキシベンゼンス
ルホンアミドを次式■： （式中、■・は式Ｉで定義された意味を表わす。）で表
わされる４−アルコキシクロロベンゼンをクロロスルホ
ン酸Ｃ４５Ｏ，Ｈと反応させ、得られた次式璽： （式中、几は式Ｉで定義された意味を表わす。）で表わ
されるスルホクロリドをアンモニアと反応させることに
より次式■： （式中、几は式Ｉで定義された意味を表わす。）で表わ
されるスルホンアミドに変え、そして該スルホンアミド
を水素ガスで貴金属触媒の存在下にて水素化することに
よりＬＩ造することが提案される。
上記定義において、アルキル基はメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第ニ
ブチル基、イソブチル基又は第三ブチル基を表わす。
式ＩＩＩの反応生成物は、適当なピリミジニルカルバメ
ート若しくはトリアジニルカルバメート又は相当するイ
ンシアネートと反応させることによシ公知の方法で、農
業的に有用な活性有効成分である該スルホニル尿素群に
直接変えることができる。この方法の代替として、式Ｉ
の２−アルコキシベンゼンスルホンアミドをまず相当す
るインシアネート又はカルバメートに変え、次いで適当
なピリミジニルアミン又はトリアジニルアミンと反応さ
せて、有効なスルホニル尿素を得る。
式ＩＩの出発物質は公知であり、そして４−クロロフェ
ノールから簡単なエーテル化反応によシ得ることができ
る。
市販品として入手可能なりロロスルホン酸は、本発明の
方法の第１段階（■→■）を行うために用いる。反応を
行うために、式ＩＩの化合物１モルに対してクロロスル
ホン酸を少なくと４３モル用いる。クロロスルホン酸の
大過剰、例えば式ＩＩの化合物１モルに対してクロロス
ルホン酸を少なくとも５モル用いることが有利である。
個々の実施態様において、クロロスルホン酸を同時に反
応物及び溶媒として用いることができる。しかしながら
、一般に、反応（■→璽）は不活性溶媒中で行う。
適当な溶媒は二硫化炭素、トルエン、キシレン、及びヘ
キサン、デカン又はシクロヘキサンのような飽和炭化水
素、及び塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１
．２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、テ
トラクロロエチレン、クロロベンゼン又はジクロロベン
ゼンのような塩素化炭化水素である。好ましい溶媒はシ
クロヘキサン、ｎ−デカン、塩化メチレン、１，２−ジ
クロロエタン及ヒクロロホルムである。反応温度は、通
常、−１００から＋１００℃まで、好ましくは一１０°
から＋８０℃までの範囲である。
第一反応段階（トｌ）の好ましい実施態様は、式ＩＩＩ
の化合物を、相当する式ＩＩの化合物を不活性溶媒中で
一１０°から＋１００℃の範囲の温度で少なくとも３倍
の当量のクロロスルホン酸と反応させることによシ製造
することである。特に好ましい実施態様は、その反応（
■→Ｉ）を−１０°から」−８０℃までの範囲の温度で
、塩化メチレン、１．２−ジクロロエタン又はクロロホ
ルム中で少なくとも５倍の当量のクロロスルホン酸を用
いて行うことからなる。
第一反応段階（■→曹）は、また、当量のクロロスルホ
ン酸を用いて行ってもよく、その場合、もう一つの反応
段階が必要となる。経済的及び生態学的な利点は、当量
のクロロスルホン酸を用いることによシ、処理すべき又
は中和すべき過剰のクロロスルホン酸がないという事実
である。この変法に従って、式ＩＩの化合物を０°から
＋１５０℃まで、好ましくは＋２０°から＋６０℃まで
の範囲の温度で、クロロスルホン酸の当量又はその小過
剰と反応させる。
この場合、後処理するだけでは、弐ＩＩＩのスルホクロ
リドを直接生成しないが、反応混合物を水酸化アルカリ
金属の水溶液によって０°から＋１００℃まで、好まし
くは＋５０℃から＋９０℃までの範囲の温度で中和する
と、相当する次式（式中、Ｒは式■で定義した意見を表
わし、そしてＭはナトリウム原子又はカリウム原子を表
わす。）で表わされるスルホン酸アルカリ金属塩を生成
する。この反応はアルカン又はクロロアルカンのような
不活性溶媒中で有利に行うことができる。好都合な場合
、例えばすべての反応成分が選択した反応温度で液体で
あるなら、溶媒を省くことができ、そして反応を全く反
応物だけで行うことができる。
上記の型の溶媒はペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン、デカン、ドデカン、及び丑だシクロペンタン又は
シクロヘキサン、並びに塩化メチレン、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、トリク「コロエタン又は
テトラクロロエタンである。その中でも、シクロヘキサ
ン及びｎ−デカンが好ましい。
式Ｖの化合物はオキシ塩化リン、塩化チオニル、好壕し
くけホスゲンのような慣用の塩素化剤と反応させること
によす式璽のスルホクロリドに変える。ジメチルホルム
アミド又はジメチルアセトアミドのような触媒を用いる
ことが有利である。遊離の酸又はアルカリ金属塩からの
スルホクロリドの生成（Ｖ→厘）のための反応条件はこ
の型の反応のだめの通常の条件に相当する。水分を除去
すること及び溶媒が中性であることは重要な特徴である
。
このような条件は上記のスルホクロリドの直接構造（ト
１）の記載において示しである。
好ましい反応温度は＋６０°から＋１２０℃までの範囲
である。
弐ＩＩＩのスルホクロリドの式ＩＶの相当するスルホン
アミドへの変換は、公仰のこの反応段階で通常用いられ
る条件で、例えば常圧下、０°から＋１００℃まで、好
ましくは０℃ないし＋３０℃　の範囲の温度で、弐曹の
化合物にアンモニア水溶液を加えることにより、又は不
活性溶媒中で、所望により酸受容体を存在させで、式Ｉ
ＩＩの化合物をアンモニアで処理することにより行う。
溶媒及び酸受容体の例は：炭酸ナトリウム及び炭酸カリ
ウムのような炭酸塩、重炭酸ナトリウム及び重炭酸カリ
ウムのような重炭酸塩、酸化カルシウム及び酸化マグネ
シウムのような酸化物、水酸化す）　ＩＪウム、水酸化
カリウム、水酸化カルシウム及び水酸マグネシウムのよ
うな水酸化物ニジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル及
びジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエー
テル類：アセトン、２−ブタノン、３−ペンタノン及ヒ
シクロヘキサノンのようなケトン：クロロベンゼン、ジ
クロロベンゼン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化
炭素、トリクロロエタン及びテトラクロロエタンのよう
な塩素化炭化水素；２−ブタノール、イソプロパツール
及びシクロヘキサノールのような第ニアルコール；シク
ロヘキザン、ベンゼン、トルエン及びキシレンのような
炭化水素である。この反応は、トルエン又はキシレンの
存在下、アンモニア水溶液によって行うのが好寸しい。
水素ガスによる触媒水素化によυ弐Ｉの化合物を生成す
る式ＩＶの化合物の脱塩素化は、一般に、不活性溶媒中
、酸受容体の存在下で１から５バールまで、好ましくは
１から１５バールまでの範囲の圧力下、」−２００から
＋７０℃までの範囲の温度での温和な条件下で行う。
一般に、用いられる触媒は酸化白金の形の白金又は硫酸
バリウム上に担持したパラジウム、白金黒若しくは白金
又は活性炭上に担持したパラジウム黒若しくはパラジウ
ムのような貴金属触媒である。最も広く用いることがで
きる触媒は、パラジウムを５饅担持した活性炭として、
市販品として入手可能な形の活性炭上に担持したパラジ
ウムである。通常用いられる酸受容体は：水酸化す）　
ＩＪウム及び水酸化カルシウムのような水酸化物；カル
ボン酸の金属塩例えば酢酸ナトリウム；リン酸塩例えば
リン酸二ナトリウム：重炭酸塩；酸化マグネシウム及び
酸化カルシウムのような酸化物；そ１〜て好ましくハト
リメチルアミン、トリエチルアミン、ジアザビシクロＣ
２，２，２〕オクタン、１．８−ジアザビシクロ［：５
．４．０）ウンデセ−７−エン、１，５−ジアザビシク
ロ（４，３，０１ノン−５−エン、ピリジン、キノリン
及びイソキノリンのような第三級アミンである。これら
の塩基は、一定のｐＨ値を維持するために反応混合物に
連続的に加えるか、又は好ましくは水素化を始める前に
必要量を反応容器内に入れておく。好ましい溶媒はニジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサンの
ようなエーテル；アセトン、２−ブタノン又はシクロヘ
キサンのよりなケトン；酢酸エチルのようなエステル；
メタノール、エタノール、ｎ−プロパツール、イソプロ
パツール又はブタノールのようなアルコール：及ヒベン
タン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン
及びキシレンのような炭化水素：及び水である。好まし
い実施態様は、式ＩＶの化合物を、２−ブタノン、塩基
及び水の混合物中でパラジウムを５％担持させた活性炭
触媒の存在下で＋５０°から＋５５℃までの温度範囲で
常圧下、水素ガスによって水素化することである。
式Ｉの化合物の製造のだめの本発明の好捷しい実施態様
は、式■で表わされる化合物を＋２００から＋６０℃ま
での範囲の温度でｎ−デカン中でクロルスルホン酸の当
量と反応させ；反応混合物を＋５０°から＋９０℃まで
の範囲の温度で水酸化アルカリ金属によって中和し；ホ
スゲンを生成物でおる式■で表わされるスルホン酸アル
カリ金属塩にキシレン中で＋６０°から＋１２０℃まで
の範囲の温度で加え；生成物である式ＩＩＩのスルホク
ロリドをアンモニア水溶液ニよってトルエン又はキシレ
ンの存在下で処理し：そして生成物である式ＩＶのスル
ホンアミドをパラジウムを５％担持した活性炭触媒の存
在下で＋２００から＋７０℃までの範囲の温度で、常圧
下、２−ブタノン／水／塩基混合物中にて水素ガスで触
媒水素化により脱塩素化することからなる。
代置、■及びＶの中間体は新規である。それらは本発明
の方法を実行するために特に開発したものであシ、した
がって、本発明の目的を構成するものである。
〔実施例〕
本発明を次の実施例により更に詳説する。実施例Ｐ２は
、実施例Ｐ１の第１及び第２反応段階の代替として理解
されたい。実施例Ｐ３は実施例Ｐ１の最後の反応段階と
置き換えることができる。
ａ）２−（２−クロロエトキシ）−５−クロロベンゼン
スルホン酸ナトリウム塩 激しくかき混ぜながら、クロロスルホン酸１２２＃（１
，０５モル）を＋３５°から＋４０℃までの範囲の温度
でｎ−デカン３００ｍＡ！中に溶かした４−クロロ−（
２１０ロエトキシ）ベンゼン１９１ｇ（１００モル）の
溶液に２時間かけて加える。
塩化水素ガスが発生し、そして沈殿が形成する。
反応溶液を＋８０℃まで加熱し、水５０ｍ１を加え、そ
して混合物を、水酸化ナトリウム３０％溶液１６０１１
（１，２モル）を加えることによりｐＨ７に中和する。
次いで熱い水相を分離し、そしてキシレン７００ｒｒｔ
ｌ　　をそれに加える。その水を、水分分離器で蒸留す
ることによりこの混合物から追い出す。そのとき塩のよ
うな生成物がキシレン溶液から沈殿し、そして懸濁液が
形成する。所望によシろ過し、そして乾燥することによ
り２−　（２−りｏ　ｏエトキシ）−５−クロロベンゼ
ンスルホン酸塩３０２ｇ（理論値の１００＋％）が得ら
れる。
相当するカリウム塩及び２−（２−メトキシエトキシ）
−５−クロロベンゼンスルホン酸及び２−　（２，２，
２−）リフルオロエトキシ）−５−クロロベンゼンスル
ホン酸のナトリウム又はカリウム塩が類似の方法により
得られる。
ｂ）２−（２−クロロエトキシ）−５−クロロベンゼン
スルホン酸ク０１Ｊ　ｌ’ ジメチルホルムアミド１．５＃（０，０２モル）ヲ＋８
５°から＋９０℃までの範囲の温度でキシレン７００ｍ
１中の２−（２−クロロエ）・キシ）−５−クロロベン
ゼンスルホン酸す）　ＩＪ　＋７　ムｆ’ｆｆｉ　３０
：ｌ　ノ〔ステップ（ａｌで得られた〕懸濁液に加える
。続いて気体状ホスゲン１５０．ｆ（ｔｓ１モル）を該
混合物に２時間かけて導入する。過剰のホスゲンは窒素
ガスを３０分間導入することにより追い出す。次いで水
２００ｍＡ！’ｉその混合物に５０℃で加える。有機相
を分離し、そして蒸発させて濃縮すると、９４５〜９５
℃の融点を有する２−（２−クロロエトキシ）−５−ク
ロロベンゼンスルホニルクロリド２ａ７ｙ　（理論値の
９９２％）が得られる。
２−（２−メトキシエトキシ）−５−クロロペンセンス
ルホニルクロリド（油状物トして）及び２−　（２，２
，２−トリフルオロエトキシ）−５−クロロペンセンス
ルホニルクロＩＪ　ト（ｍ点：　７６℃）が類似の方法
で得られる。
Ｃ）２−（２−クロロエトキシ）−５−クロロベンゼン
スルホンアミド アンモニア３０チ溶ｆ１４２ｆ　（２，５モル）を＋５
５°から＋６０℃までの範囲の温度でキシレン７００ｄ
中４７）２−（２−クロロエトキシ）−５−７／ロロベ
ンゼンスルホニルクロ＋Ｊ）”２８７ｆの〔ステップ（
ｂ）で得られた〕溶液に２時間かけて加える。
無色の結晶性沈殿が形成する。そして温度を＋５５℃に
更に２時間保ち、その後０℃に下げる。
結晶性沈殿を分離し、イングロバノールで３回（１５０
ｍｌで１回そして５００ｍ１で２回）洗う。生成物を乾
燥することにより、１４５℃の融点を有する２−（２−
クロロエトキシ）　−５−７０ロベンゼンスルホンアミ
ド２５０？（理論値の９２６％）が得られる。
２−（メトキシエトキシ）−５−１０ロベンゼンスルホ
ンアミド（融点：１２１〜１２３℃）及び２−　（２，
２，２−トリフルオロエトキシ）−５−クロロベンゼン
スルホンアミド（ｍ点：　１４２．５℃）が類似の方法
で得られる。
ｄ）攪拌フラスコ中で、２−（２−クロロエトキシ）−
Ｓ−クロロベンゼンスルホンアミド６７．５１　（０，
２５％＃　）、２−ブタノ７１６５ｆ？、水３６ハパラ
ジウムを５％担持させた活性炭６．４ノ及び酢酸０２２
２からなる混合物を常圧下＋５０°から＋５５℃　まで
の範囲の温度で水素ガスにより水素化し、この水素化反
応の間ｐＨ−／、、水酸化す）　ＩＪウム３０チ溶ｇ３
３．５ｙ（ｏ、２ｓモル）を滴下することによりｐｌ（
１０，５ないし１１０で一定に保つ。混合物が水素ガス
で飽和される−まで必要とされる反応時間は４５分であ
る。生成物は、その混合物をろ過し、そしてろ液を濃縮
することにより得られる。収量は、１１９℃の融点ヲ有
スる２−（２−クロロエトキシ）ペンセンスルホンアミ
ド５ｓ２ｙ（理論値の９９％）である。
２−（２−メトキシエトキシ）ベンゼンスルホンアミド
（融点：１１１℃）及び２−　（２，２，２−トリフル
オロエトキシ）ベンゼンスルホンアミド（融点：１２３
℃）が類似の方法で得られる。
リド かき混ぜながら、４−クロロ−（２−クロロエトキシ）
ベンゼン６４．０　＃（０，３３モル）（！：＋５℃の
温度で１．２−ジクロロエタン１０５＋ｍｌに溶かした
クロロスルホン酸２３３．ｐ（２モル）の溶液に０．５
時間かけて滴下する。反応混合物を２０℃で更に１一時
間かき混ぜ、次いで氷２３０１１、水１７０ｄ及び１，
２−ジクロロエタン６０ｍ１からなる混合物中に取る。
有機相を分離し、水で洗い、そして蒸発させて濃縮する
ことにより２−（２−クロロエトキシ）　−５−クロロ
ベンゼンスルホニルクロリド７７２（理論値の８０％）
が得られる。
２−　ｎ−プロポキシ−５−クロロベンゼンスルホニル
クロリド、２−エトキシ−５−クロロベンゼンスルホニ
ルクロリド、２−（２−メトキシエトキシ）−５−クロ
ロペンセンスルホニルクロリド及び２−（２，２，２−
トリフルオロエトキシ）−５−１’ロロベンゼンスルホ
ニルクロリドが類似の方法で得られる。
來−適例Ｐｊ：２−（２−クロロエトキシ）べくセンス
ルホンアミド 攪拌フラスコ中で２−（２−クロロエトキシ）−５−ク
ロロベンゼンスルホンアミ）”　６Ｂ、２．９　’ｉ２
−ブタノン１８４ｆ中に溶かす。次いで水３４Ｊ。
水酸化ナトリウム３０チ溶液６４３？及びパラジウムを
５％担持させた活性炭触媒３．４２をカロえたのち、該
混合物を常圧下２５°ないし３０℃で水素ガスにより水
素化する。水素化は５０分間続ける。
触媒をろ過によシ除去する。そしてろｇを蒸発させて１
１９℃の融点を有する２−（２−クロロエトキシベンゼ
ンスルホンアミド５８．７１１（理論値の９８チ）を得
る。
２−（２−メトキシエトキシ）ペンセンスルホンアミド
及び２−　（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ベン
ゼンスルホンアミドが類似の方法で得られる。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）次式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒはクロロメチル基、メトキシメチル基、炭素
    原子数１ないし４のアルキル基又はトリフルオロメチル
    基を表わす。）で表わされる２−アルコキシベンゼンス
    ルホンアミドを製造するため、次式II： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒは式 I で定義された意味を表わす。）で表
    わされる４−アルコキシクロロベンゼンをクロロスルホ
    ン酸ＣｌＳＯ＿３Ｈと反応させ、得られた次式III： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒは式 I で定義された意味を表わす。）で表
    わされるスルホクロリドをアンモニアと反応させること
    により次式IV： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒは式 I で定義された意味を表わす）で表わ
    されるスルホンアミドに変え、そして該スルホンアミド
    を水素ガスで貴金属触媒の存在下にて水素化することか
    らなる２−アルコキシベンゼンスルホンアミドの製造方
    法。
  2. （２）式IIIの化合物を生成する式IIの化合物の反応を
    、式IIの化合物をクロロスルホン酸の１当量と反応させ
    、その反応混合物を水酸化アルカリ金属の水溶液で中和
    し、そして得られた次式Ｖ： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （式中、Ｒは式 I で定義された意味を表わし、そして
    Ｍはナトリウム原子又はカリウム原子を表わす。）で表
    わされるスルホン酸アルカリ金属塩を塩素化剤と反応さ
    せて式IIIのスルホクロリドに変えることにより、２段
    階で行うことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
    製造方法。
  3. （３）すべての段階の反応を、−１０℃から＋１００℃
    まで、好ましくは−１０℃から＋８０℃までの温度範囲
    で行うことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の製
    造方法。
  4. （４）個々の反応段階を不活性溶媒中で行うことを特徴
    とする特許請求の範囲第１項記載の製造方法。
  5. （５）式IIIの化合物を生成する式IIの化合物の反応を
    、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン又はクロロホ
    ルム中で行い、式IVの化合物を生成する式IIIの化合物
    の反応を水中にてトルエン又はキシレンの存在下で行い
    、そして式 I の化合物を生成するIVの化合物の反応を
    ２−ブタノンと水の混合物中で行うことを特徴とする特
    許請求の範囲第４項記載の製造方法。
  6. （６）式IIIの化合物を生成する式IIの化合物の反応を
    、式IIの化合物１モルに対してクロロスルホン酸を少な
    くとも３モル用いて不活性溶媒中で−１０°から＋１０
    ０℃までの範囲の温度で行うことを特徴とする特許請求
    の範囲第１項記載の製造方法。
  7. （７）式IIIの化合物を生成する式IIの化合物の反応を
    、式IIの化合物１モルに対してクロロスルホン酸を少な
    くとも５モル用いて−１０°から＋８０℃までの範囲の
    温度で、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン又はク
    ロロホルム中にて行うことを特徴とする特許請求の範囲
    第６項記載の製造方法。
  8. （８）式IVの化合物を生成する式IIIの化合物の反応を
    、アンモニア水溶液中にてトルエン又はキシレンの存在
    下で行うことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の
    製造方法。
  9. （９）式 I の化合物を生成する式IVの化合物の脱塩素
    化反応を２−ブタノン、塩素及び水の混合物中で、パラ
    ジウムを５％担持した活性炭触媒の存在下、＋２０°か
    ら＋７０℃までの範囲の温度で１ないし５バールの圧力
    下にて水素ガスを用いて行うことを特徴とする特許請求
    の範囲第２項記載の製造方法。
  10. （１０）式IIの化合物をシクロヘキサン又はｎ−デカン
    中で＋２００から＋６０℃までの範囲の温度でクロロス
    ルホン酸の１当量と反応させ、その溶液を＋５０°から
    ＋９０℃までの範囲の温度で、水酸化アルカリ金属の水
    溶液で中和し、そして式Ｖのスルホン酸アルカリ金属塩
    を ＋６０°から＋１２０℃までの範囲の温度でホスゲンと
    反応させることにより式IIIのスルホクロリドに変える
    ことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の製造方法
    。
  11. （１１）式IIの化合物を＋２０°から＋６０℃までの範
    囲の温度でｎ−デカン中でクロロスルホン酸の１当量と
    反応させ、その反応混合物を＋５０°から＋９０℃まで
    の範囲の温度で水酸化アルカリ金属で中和し、ホスゲン
    を＋６０°から＋１２０℃までの範囲の温度でキシレン
    中の得られた式Ｖのスルホン酸アルカリ金属塩に加え、
    得られた式IIIのスルホクロリドをトルエン又はキシレ
    ンの存在下でアンモニア水溶液で処理し、そして得られ
    た式IVのスルホンアミドをパラジウムを５％担持した活
    性炭触媒の存在下、＋２０°から＋７０°までの範囲の
    温度で常圧下、２−ブタノール、塩基及び水の混合物中
    にて水素ガスで触媒水素化によって脱塩素化することを
    特徴とする特許請求の範囲第２項記載の製造方法。
  12. （１２）次式III： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒはクロロメチル基、メトキシメチル基、炭素
    原子数１ないし４のアルキル基又はトリフルオロメチル
    基を表わす。）で表わされる２−アルコキシ−５−クロ
    ロベンゼンスルホニルクロリド。
  13. （１３）次式IV： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒはクロロメチル基、メトキシメチル基、炭素
    原子数１ないし４のアルキル基又はトリフルオロメチル
    基を表わす。）で表わされる２−アルコキシ−５−クロ
    ロベンゼンスルホンアミド。
  14. （１４）次式Ｖ： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （式中、Ｒはクロロメチル基、メトキシメチル基、炭素
    原子数１ないし４のアルキル基又はトリフルオロメチル
    基を表わし、そしてＭはナトリウム原子又はカリウム原
    子を表わす。）で表わされる２−アルコキシ−５−クロ
    ロベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩。
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