KR940011529B1 - 2-알콕시벤젠술폰아미드의 제조방법 - Google Patents

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시바-가이기 아게
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내용 없음.

Description

2-알콕시벤젠술폰아미드의 제조방법
본 발명은 2-알콕시벤젠술폰아미드의 새로운 제조방법에 관한 것이다.
이 신규 방법에 의해 제조될 수 있는 2-알콕시벤젠술폰아미드는 제초성 2-알콕시 벤젠술포닐우레아의 합성에 유용한 중간체이다. 이와 같은 매우 유효한 제초제의 부류는 최근에 많은 특허원 및 문헌에 기술되어 있다. 본 발명의 방법에 의해 제조될 수 있는 2-알콕시벤젠술폰아미드, 그의 제조방법 및 술포닐우레아류로부터 최종 제초제 생성물의 합성에 있어서 그의 용도는 유럽 특허원 제23422호, 동 제44807호 및 동 제44808호에 기술되어 있다.
종래에 기술된 알콕시벤젠술폰아미드의 제조방법들은, 불안정한 디아조늄 염이 중간체로서 수득되며 Cu (Ⅰ) 화합물과 센드메이어(Sandmeyer)형 교환반응이 불충분한 선택도를 가지거나 또는 복잡한 분리방법을 요구하는 혼합 생성물이 생성되기 때문에 대규모의 공업적 용도에는 덜 적합하다.
그러므로, 대규모 공업적 방법으로 수행할 수 있고 생산비가 적게 드는 2-알콕시벤젠술폰산아미드의 제조방법이 필요하다.
놀랍게도, 본 발명의 새로운 방법은 이 요구들을 실질적으로 만족시킨다.
본 발명에 따라, 하기 일반식(Ⅱ)의 4-알콕시클로로벤젠을 클로로술폰산 ClSO3H와 반응시켜, 생성되는 하기 일반식(Ⅲ)의 술포닐클로라이드를 암모니아와 반응시킴으로써 하기 일반식(Ⅳ)의 술폰아미드로 전환시키고, 이 술폰아미드를 귀금속 촉매 존재하에서 수소로 수소화시켜 하기 일반식(Ⅰ)의 2-알콕시벤젠술폰아미드를 제조하는 방법을 제공한다.
Figure kpo00001
Figure kpo00002
여기에서, R은 클로로메틸, 메톡시메틸, C1-C4알킬 또는 트리플루오로메틸이다.
상기 정의에서, 알킬은 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 이소부틸, 또는 3급-부틸이다.
일반식(Ⅰ)의 반응생성물은 적당한 피리미디닐카바메이트 또는 트리아지닐카바메이트 또는 상응하는 이소시아네이트와의 반응에 의한 공지된 방법으로 술포닐우레아계의 농업적으로 유용한 활성성분으로 직접 전환될 수 있다. 이 밖의 방법으로서, 일반식(Ⅰ)의 2-알콕시벤젠술폰아미드를 먼저 상응하는 이소시아네이트 또는 카바메이트로 전환시킨 후 적합한 피리미디닐아민 또는 트리아지닐아민과 반응시켜 유효한 술포닐우레아를 생성한다.
일반식(Ⅱ)의 출발물질은 공지되었으며 4-클로로페놀로부터의 간단한 에테르화 반응에 의해서 수득될 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 제 1 단계 (Ⅱ→Ⅲ)를 수행하기 위해 시중에서 구입할 수 있는 클로로술폰산을 사용한다. 이 반응을 수행하기 위해서, 일반식(Ⅱ)의 화합물 1몰당 적어도 3몰의 클로로술폰산을 사용한다. 과량의 클로로술폰산, 예를 들어 일반식(Ⅱ)의 화합물 1몰당 적어도 5몰의 클로로술폰산을 사용하는 것이 유리하다. 각 실시태양에서, 클로로술폰산은 반응물인 동시에 용매로서 사용될 수 있다. 그러나, 일반적으로 이 반응 (Ⅱ→Ⅲ)은 불활성 용매 중에서 수행한다. 적합한 용매는 이황화탄소, 톨루엔, 크실렌, 헥산, 데칸 또는 시클로헥산과 같은 포화 탄화수소 및 염화메틸렌, 클로로포름, 사염화탄소, 1, 2-디클로로에탄, 1, 2-디클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 클로로벤젠 또는 디클로로벤젠과 같은 염소화 탄화수소이다. 바람직한 용매는 시클로헥산, n-데칸, 염화메틸렌, 1, 2-디클로로에탄 및 클로로포름이다. 반응온도는 보통-10℃ 내지 +100℃, 바람직하게는 -10℃ 내지 +80℃의 범위이다.
제 1 단계 반응 (Ⅱ→Ⅲ)의 바람직한 실시태양에서, 일반식(Ⅲ)의 화합물은 -10℃ 내지 +100℃에서 불활성 용매중에 일반식(Ⅱ)의 반응하는 화합물을 적어도 3배의 동몰량 클로로술폰산과 반응시킴으로써 제조된다. 특히 바람직한 실시태양은 -10℃ 내지 +80℃에서 염화메틸렌, 1, 2-디클로로에탄 또는 클로로포름 중에서 동물량의 클로로술폰산의 적어도 5배로 이 반응(Ⅱ→Ⅲ)을 행하는 것으로 이루어진다.
제 1 단계 반응(Ⅱ→Ⅲ)은 동몰량의 클로로술폰산을 사용해서도 또한 수행할 수 있는데, 이 경우에는 부가적인 반응단계가 필요하다. 이 방법의 경제적 및 생태학적 이점은 동몰량의 클로로술폰산을 사용함으로써 처리하거나 중화시켜야 하는 과잉의 클로로술폰산이 없다는 사실에 있다. 이 변형된 방법에 따라, 0℃ 내지 +150℃, 바람직하게는 +20℃ 내지 +60℃범위에서, 동몰량 또는 약간 과량의 클로로술폰산과 일반식(Ⅱ)의 화합물을 반응시킨다. 이 경우에는 반응을 완결시켜도 일반식(Ⅲ)의 술포닐클로라이드는 직접 생성되지 않으며, 0℃ 내지 +100℃, 바람직하게는 +50℃ 내지 +90℃ 범위에서, 이 반응혼합물을 수성 알칼리금속의 수산화물로 중화시켜야 비로소 하기 일반식(Ⅴ)의 상응하는 술폰산 알칼리 금속 염이 생성된다 :
Figure kpo00003
여기에서, R은 일반식(Ⅰ)에서 정의된 바와 같고, M은 나트륨 또는 칼륨 원자이다. 이 반응은 알칸 또는 클로로알칸과 같은 불활성 용매중에서 유리하게 진행된다. 유리한 경우, 예를 들어 만약 그 선택한 반응온도에서 모든 반응성분들이 액체라면, 이 반응은 용매 없이 그 순수한 반응물만으로 수행될 수 있다. 상술한 유형의 용매는 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 데칸, 도데칸 및 시클로펜탄 또는 시클로헥산뿐 아니라, 염화메틸렌, 클로로포름, 사염화탄소, 디클로로에탄, 트리클로로에탄 또는 테트라클로로에탄이다. 시클로헥산 및 n-데칸이 바람직하다.
일반식(Ⅴ)의 화합물은 포스포록시 클로라이드, 티오닐클로라이드 또는 바람직하게는 포스겐과 같은 통상적인 염소화제와의 반응에 의해 일반식(Ⅲ)의 술포닐클로라이드로 전환된다. 디메틸포름아미드 또는 디메틸아세트아미드와 같은 촉매를 사용하는 것이 유리하다. 유리산 또는 알칼리금속 염으로부터 술포닐클로라이드를 생성시키는 반응(Ⅴ→Ⅲ)의 조건은 이와 같은 유형의 반응을 위한 통상적인 조건과 일치한다. 수분의 배제 및 용매의 중성은 필수적인 반응조건이다. 이 조건들은 상기 술포닐클로라이드의 직접적인 제조방법(Ⅱ→Ⅲ)에 대한 기술에서 제시하였다. 바람직한 반응 온도는 +60℃ 내지 +120℃범위이다.
일반식(Ⅲ)의 술포닐클로라이드로부터 일반식(Ⅳ)의 상응하는 술폰아미드로의 전환은 공지된 반응단계에 대한 통상적인 조건하에서, 예를 들어 상압하의 0℃ 내지 +100℃, 바람직하게는 0℃ 내지 +30℃의 온도에서, 일반식(Ⅲ)의 화합물에 암모니아 수용액을 첨가해줌으로써 또는 불활성 용매중에서, 임의로 산 수용체 존재하에 일반식(Ⅲ)의 화합물을 암모니아 처리해줌으로써 달성된다. 용매 및 산 수용체의 예는 다음과 같다 : 탄산나트륨 및 탄산칼륨과 같은 탄산염 ; 탄산수소나트륨 및 탄산수소칼륨과 같은 중탄산염 ; 산화칼슘 및 산화마그네슘과 같은 산화물 ; 또는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 또는 수산화마그네슘과 같은 수산화물 ; 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 또는 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르와 같은 에테르 ; 아세톤, 2-부타논, 3-펜타논 또는 시클로헥사논과 같은 케톤 ; 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 염화메틸렌, 클로로포름, 사염화탄소, 트리클로로에탄 또는 테트라클로로에탄과 같은 염소화 탄화수소 ; 2-부탄올, 이소프로판올 또는 시클로헥산올과 같은 2급 알콜 ; 또는 시클로헥산, 벤젠, 톨루엔 또는 크실렌과 같은 탄화수소, 바람직하게는 톨루엔 또는 크실렌 존재하에서 암모니아의 수용액을 사용하여 이 반응을 실행한다.
수소를 사용한 촉매 수소화 반응에 의해 일반식(Ⅰ)의 화합물을 생성하기 위한 일반식(Ⅳ) 화합물의 탈염소화 반응은 일반적으로 온화한 조건, 즉 +20℃ 내지 +70℃의 온도 및 1 내지 5바아, 바람직하게는 1 내지 1.5바아의 입력하에, 불활성 용매 중에서 산 수용체의 존재하에 진행된다. 일반적으로, 사용되는 촉매는 산화백금 형태의 백금 또는 팔라듐, 백금 흑분, 또는 백금/황산바륨, 팔라듐 혹분 또는 팔리듐/탄소와 같은 귀금속 촉매이다. 가장 광범위하게 사용될 수 있는 촉매는 5% 팔라듐/탄소와 같은 시판되는 형태의 팔라듐/탄소이다. 통상적으로 사용되는 산 수용체는 다음과 같다 : 수산화나트륨 또는 수산화칼륨과 같은 수산화물, 초산나트륨과 같은 카르복시산의 금속 염, 인산이나트륨과 같은 인산의 염, 중탄산염, 산화마그네슘 또는 산화칼슘과 같은 산화물뿐 아니라, 바람직하게는 트리메틸아민, 트리에틸아민, 디아자비시클로[2.2.2]옥탄, 1, 8-디아자비시클로[5, 4, 0]운데크-7-엔, 1, 5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔, 피리딘, 퀴놀린 또는 이소퀴놀린 같은 3급 유기 아민, 이들 염기는 일정한 pH값을 유지하기 위해서 반응혼합물에 연속적으로 첨가되거나 바람직하게는 수소화반응을 시작하기 전에 미리 반응 용기내에 필요한 양을 장입한다. 적합한 용매는 다음과 같다 : 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란 또는 디옥산과 같은 에테르 ; 아세톤, 2-부타논 또는 시클로헥사논과 같은 케톤 ; 에틸 아세테이트와 같은 에스테르 ; 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올 또는 부탄올과 같은 알콜 ; 및 펜탄, 헥산, 시클로헥산, 벤젠, 톨루엔 또는 크실렌과 같은 탄화수소 ; 또는 물. 바람직한 실시태양에서는, 상압하에 +50℃ 내지 +55℃에서 5% 팔라듐/탄소 존재하에 2-부타논, 염기 및 물의 혼합물 중에서 수소로 일반식(IV)의 화합물을 수소화시킨다.
본 발명에 따른 일반식(I) 화합물의 제조방법의 바람직한 실시태양은 +20℃ 내지 +60℃의 온도에서 n-데칸중에서, 일반식(II)의 화합물을 동몰량의 클로로술폰산과 반응시키고 ; +50℃ 내지 +90℃ 범위의 온도에서 반응혼합물을 알칼리금속 수산화물로 중화시키며 ; +60℃ 내지 +120℃ 온도하의 크실렌 중에서, 생성된 일반식(V)의 술폰산 알칼리금속 염에 포스겐을 첨가하고 ; 톨루엔 또는 크실렌 존재하에서 생성된 일반식(III) 화합물의 술포닐클로라이드를 암모니아 수용액으로 처리하며 ; 상압 및 +20℃ 내지 70℃에서 5% 팔라듐/탄소 촉매 존재하에 2-부타논/물/염기 혼합물 중에서 수소로 촉매 수소화 반응시켜, 생성된 일반식(Ⅳ)의 술폰아미드를 탈염소화시키는 것으로 이루어진다.
일반식(Ⅲ), (Ⅳ) 및 (Ⅴ)의 중간체들은 새로운 것들이다. 그것들은 본 발명의 방법을 진행시키기 위해 특별히 개발한 것이며, 따라서 본 발명의 목적을 구성한다.
본 발명은 하기 실시예에 의해 보다 상세하게 설명된다. 실시예 P2는 실시예 P1의 제 1 및 제 2 단계 반응의 또 다른 방법으로서 이해되어야 한다. 실시예 P3은 실시예 P1의 마지막 반응단계를 대신할 수 있다.
제조 실시예 :
[실시예 P1]
2-(2-클로로에톡시) 벤조술폰아미드
a) 2-(2-클로로에톡시)-5-클로로벤젠술폰산 나트륨염
+35℃ 내지 +40℃의 온도에서 강하게 교반하면서, n-데칸 300ml 중에 191g(1.00몰)의 4-클로로-(2-클로로에톡시) 벤젠을 함유하는 용액에 122g(1.05몰)의 클로로술폰산을 2시간에 걸쳐서 첨가한다. 염화수소 가스가 발생하며 침전이 생성된다. 반응 용액을 +80℃로 가열하고, 50ml의 물을 첨가시킨 후 수산화나트륨의 30%(1.20몰) 용액 160g을 첨가하여 혼합물을 pH7로 중화시킨다. 뜨거운 수성 상이 분리되며 거기에 700ml의 크실렌을 첨가한다. 물 분리기로 증류함으로써 이 혼합물로부터 물을 제거시키며 크실렌 용액으로부터 염과 같은 생성물이 침전되어 현탁액을 형성한다. 임의의 여과 및 건조에 의해 302g(이론치의 100%)의 2-(2-클로로에톡시)-5-클로로벤젠 술폰산 나트륨염을 수득한다.
상응하는 칼륨염과 2-(2-메톡시에톡시)-5-클로로벤젠술폰산 및 2-(2, 2, 2-트리플루오에톡시)-5-클로로벤젠술폰산의 나트륨 또는 칼륨염은 유사한 방법에 의해 수득된다.
b) 2-(2-클로로에톡시)-5-클로로벤젠술포닐 클로라이드
+85℃ 내지 +90℃범위의 온도에서, 크실렌 700ml중에 302g의 2-(2-클로로에톡시)-5-클로로벤젠술폰산 나트륨염을 함유하는 현탁액[단계(a)에서 수득한 것]에 1.5g(0.02몰)의 디메틸포름아미드를 첨가한다. 뒤이어 150g(1.51몰)의 포스겐 가스를 2시간에 걸쳐서 이 혼합물에 도입시킨다. 과잉의 포스겐은 질소가스를 30분 동안 도입시켜 제거한다. 50℃에서 200ml의 물을 이 혼합물에 첨가한다. 유기 상을 분리하고 증발에 의해 농축시켜, 융점이 94.5 내지 95℃인 2-(2-클로로에톡시)-5-클로로벤젠술포닐 클로라이드 287g(이론치의 99.2%)을 수득한다.
2-(2-메톡시에톡시)-5-클로로벤젠술포닐 클로라이드(기름상) 및 2-(2, 2, 2-트리플루오로에톡시)-5-클로로벤젠술포닐 클로라이드(융점 : 76℃)는 유사한 방법에 의해 수득된다.
c) 2-(2-클로로에톡시)-5-클로로벤젠술폰아미드
+55℃ 내지 +60℃ 범위의 온도에서, 700ml의 크실렌 중에 2-(2-클로로에톡시)-5-클로로벤젠술포닐 클로라이드 287g을 함유하는 용액[단계(b)에서 수득한 것]에 암모니아의 30%(2.5몰) 용액 142g을 2시간에 걸쳐서 첨가한다. 무색의 결정성 침전이 생성된다. 온도를 2시간동안 더 +55℃로 유지시키고 이어서 0℃로 낮춘다. 그 결정성 침전을 분리하고 이소프로판올로 3회 세척한다(1회는 150ml 분량으로, 2회는 500ml 분량으로). 생성물을 건조시켜 융점이 145℃인 2-(2-클로로에톡시)-5-클로로벤젠술폰아미드 250g(이론치의 92.6%)을 수득한다.
2-(메톡시에톡시)-5-클로로벤젠술폰아미드(융점 : 121 내지 123℃) 및 2-(2, 2, 2-트리플루오로에톡시)-5-클로로벤젠술폰아미드(융점 : 142.5℃)는 유사한 방법에 의해 수득된다.
d) 교반기 플라스크 내에서, +50℃ 내지 +55℃ 범위의 온도 및 상압하에 67.5g(0.25몰)의 2-(2-클로로에톡시)-5-클로로벤젠술폰아미드, 165g의 2-부타논, 36g의 물, 5% 팔라듐/탄소 3.4g 및 0.22g의 초산으로 구성된 혼합물을 수소로 수소화시킨다. 수소화 반응 동안 수산화나트륨의 30%(0.25몰) 용액 33.5g을 적가하여 pH를 10.5 내지 11.0으로 일정하게 유지시킨다. 이 혼합물이 수소로 포화되는데 요구되는 반응시간은 45분이다. 생성물은 그 혼합물을 여과하여 그 여액을 농축시킴으로써 수득된다. 수득량은 융점이 119℃인 2(2-클로로에톡시)벤젠술폰아미드 58.2g(이론치의 99%)이다.
2-(2-메톡시에톡시) 벤젠술폰아미드(융점 : 111℃) 및 2-(2, 2, 2-트리플루오로에톡시) 벤젠술폰아미드(융점 : 123℃)는 유사한 방법으로 수득된다.
[실시예 P2]
2-(2-클로로에톡시)-5-클로로벤젠술포닐 클로라이드
+5℃의 온도에서, 105ml의 1, 2-디클로로에탄중에 233g(2몰)의 클로로술폰산을 함유하는 용액에 64.0g(0.33몰)의 4-클로로-(2-클로로에톡시) 벤젠을 교반하면서 0.5시간에 걸쳐서 적가한다. 반응 혼합물을 20℃에서 1.5시간동안 더 교반시킨 후, 230g의 얼음, 170ml의 물과 60ml의 1, 2-디클로로에탄으로 구성된 혼합물에 장입한다. 유기 상은 분리되며, 물로 세척하고 증발에 의해 농축시켜, 77g(이론치의 80%)의 2-(2-클로로에톡시)-5-클로로벤젠술포닐 클로라이드를 수득한다.
2-n-프로폭시-5-클로로벤젠술포닐 클로라이드, 2-에톡시-5-클로로벤젠술포닐 클로라이드, 2-(2-메톡시에톡시)-5-클로로벤젠술포닐 클로라이드 및 2-(2, 2, 2-트리플루오로에톡시)-5-클로로벤젠술포닐 클로라이드는 유사한 방법에 의해 수득된다.
[실시예 P3]
2-(2-클로로에톡시)벤젠술폰아미드
교반기 플라스크 내에서 68.2g의 2-(2-클로로에톡시)-5-클로로벤젠술폰아미드를 184g의 2-부타논에 용해시킨다. 34.3g 의 물, 34.3g의 30% NaOH 용액 및 5% 팔라듐/탄소 촉매 3.4g을 첨가한 후, 상압하에 25℃ 내지 30℃에서 수소로 그 혼합물을 수소화시킨다. 수소화 반응은 30분동안 지속된다. 촉매는 여과에 의해 제거한다. 여액을 증발시켜, 융점이 119℃인 2-(2-클로로에톡시) 벤젠술폰아미드 58.7g(이론치의 98%)을 수득한다.
2-(2-메톡시에톡시) 벤젠술폰아미드 및 2-(2, 2, 2-트리플루오로에톡시)-벤젠술폰아미드는 유사한 방법에 의해 수득된다.

Claims (11)

  1. 하기 일반식(Ⅱ)의 4-알콕시클로로벤젠을 클로로술폰산 ClSO3H와 반응시키고 생성되는 하기 일반식(Ⅲ)의 술포닐 클로라이드를 암모니아와 반응시켜 하기 일반식(Ⅳ)의 술폰아미드로 전환시킨후, 이 술폰아미드를 귀금속 촉매 존재하에서 수소로 수소화시키는 단계를 포함하는 하기 일반식(Ⅰ)의 2-알콕시벤젠술폰아미드를 제조방법 :
    Figure kpo00004
    여기에서, R은 클로로메틸, 메톡시메틸, C1-C4알킬 또는 트리플루오로메틸이다.
  2. 제 1 항에 있어서, 일반식(Ⅲ)의 화합물을 얻기 위한 일반식(Ⅱ)의 화합물의 반응이, 일반식(Ⅱ)의 화합물을 1당량의 클로로술폰산과 반응시키고 반응 혼합물을 알칼리금속 수산화물의 수용액으로 중화시키고, 생성된 하기 일반식(Ⅴ)의 술폰산 알칼리금속 염을 염소화제와의 반응에 의해 일반식(Ⅲ)의 술포닐 클로라이드로 전환시킴으로써 2단계로 실시되는 방법 :
    Figure kpo00005
    여기에서, R은 일반식(Ⅰ)에서 정의한 바와 같고, M은 나트륨 또는 칼륨 원자이다.
  3. 제 1 항에 있어서, 모든 단계의 반응이 -10℃ 내지 +100℃, 바람직하게는 -10℃ 내지 +80℃ 범위의 온도에서 진행되는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 각 반응단계가 불활성 용매 중에서 진행되는 방법.
  5. 제 4 항에 있어서, 일반식(Ⅲ)의 화합물을 얻기 위한 일반식(Ⅱ)의 화합물의 반응이 염화메틸렌, 1, 2-디클로로에탄 또는 클로로포름 중에서 실시되고 ; 일반식(Ⅳ)의 화합물을 얻기 위한 일반식(Ⅲ) 화합물의 반응이 톨루엔 또는 크실렌 존재하에 물에서 진행되며 ; 일반식(Ⅰ)의 화합물을 얻기 위한 일반식(Ⅳ) 화합물의 반응이 2-부타논과 물의 혼합물 중에서 진행되는 방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 일반식(III)의 화합물을 얻기 위한 일반식(II) 화합물의 반응이 -10℃ 내지 +100℃ 범위의 온도 및 불활성 용매 중에서, 일반식(Ⅱ)의 화합물 1몰당 적어도 3몰의 클로로술폰산으로 진행되는 방법.
  7. 제 6 항에 있어서, 일반식(III)의 화합물을 얻기 위한 일반식(II) 화합물의 반응이 -10℃ 내지 +80℃범위의 온도 및 염화메틸렌, 1, 2-디클로로에탄 또는 클로로포름 중에서 일반식(II)의 화합물 1몰당 적어도 5몰의 클로로술폰산으로 진행되는 방법.
  8. 제 2 항에 있어서, 일반식(IV)의 화합물을 얻기 위한 일반식(III) 화합물의 반응이 톨루엔 또는 크실렌 존재하에 암모니아 수용액 중에서 진행되는 방법.
  9. 제 2 항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 화합물을 얻기 위한 일반식(IV) 화합물의 탈염소화 반응이 1 내지 5바아의 압력과 +20℃ 내지 +70℃의 온도에서, 그리고 5% 팔라듐/탄소 촉매 존재하에 2-부타논, 염기 및 물의 혼합물 중에서 수소에 의해 진행되는 방법.
  10. 제 2 항에 있어서, +20℃ 내지 +60℃ 범위의 온도에서, 일반식(II)의 화합물이 시클로헥산 또는 n-데칸중에서 1당량의 클로로술폰산과 반응되고 ; +50℃ 내지 +90℃의 온도에서, 이 용액을 수성 알칼리금속 수산화물로 중화시키며 ; +60℃ 내지 +120℃의 온도에서, 일반식(V)의 술폰산 알칼리금속 염을 포스겐과 반응시켜 일반식(III)의 술포닐 클로라이드로 전환시키는 방법.
  11. 제 2 항에 있어서, +20℃ 내지 +60℃ 범위의 온도에서, 일반식(II)의 화합물을 n-데칸 중에서 동몰량의 클로로술폰산과 반응시키고 ; +50℃ 내지 +90℃의 온도에서 이 반응 혼합물을 알칼리금속 수산화물로 중화시키며 ; +60℃ 내지 +120℃ 온도하의 크실렌 중에서, 포스겐을 생성된 일반식(V)의 술폰산 알칼리금속 염에 첨가하고 ; 톨루엔 또는 크실렌 존재하에서, 생성된 일반식(III)의 술포닐 클로라이드를 암모니아 수용액으로 처리하며 ; 상압 및 +20℃ 내지 +70℃의 온도에서, 그리고 5% 팔라듐/탄소 촉매 존재하의 2-부탄올, 염기 및 물의 혼합물 중에서 생성된 일반식(IV)의 술폰아미드를 수소화의 촉매 수소화 반응에 의해서 탈염소화시키는 방법.
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