JP4990636B2 - 搬送トレーを用いた真空処理装置 - Google Patents
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Description
11 凹部
11b 空間
12a、12b ガス通路
2 シール手段
3 押圧手段
Claims (3)
- 複数枚の被処理基板がセットされた搬送トレーを、当該搬送トレーをその上面で保持するホルダを備えた処理室に搬送し、真空中で各被処理基板に対し所定の処理を実施する真空処理装置であって、
前記搬送トレーは、その基板載置面に各被処理基板の外形に対応した凹部が形成され、この凹部の底面の外周に沿って配置した環状の第1シール手段と、凹部に落とし込むことで設置される被処理基板の外周面を第1シール手段に対して押圧する押圧手段と、各凹部に夫々通じる少なくとも2本のガス通路とが設けられ、第1シール手段で支持されることで被処理基板の裏側に画成された空間に一方のガス通路を介して冷却ガスを供給し、他のガス通路を介して冷却ガスを排出できるようにしたものであり、
前記ホルダに、当該ホルダで搬送トレーを保持したときに、搬送トレーに形成した一方のガス通路に夫々連通する上下方向にのびるガス供給路と、他のガス通路に夫々連通する上下方向にのびるガス排出路とを設けると共に、一方のガス通路とガス供給路との周囲及び他のガス通路とガス排出路との周囲を囲う第2シール手段を更に備えることを特徴とする真空処理装置。 - 前記ホルダに、搬送トレーの加熱を可能とする加熱手段を設けたことを特徴とする請求項1記載の真空処理装置。
- 前記ホルダは、静電気によって搬送トレーを吸着する静電チャック用の電極を有することを特徴とする請求項1又は2記載の真空処理装置。
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