JP4990521B2 - マグネトロンスパッタ電極及びマグネトロンスパッタ電極を用いたスパッタリング装置 - Google Patents
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Description
(比較例1)
41 ターゲット
5 カソード組立体
51 支持板
52 中央磁石
53 周辺磁石
54 ベース板
55 スペーサ
B ボルト
C 磁石組立体
E 侵食領域
S 処理基板
W ワッシャ
Claims (5)
- ターゲットと、このターゲットのスパッタ面側を上として、このターゲットの下方に設けた磁石組立体とを備え、この磁石組立体を、ターゲットの上方にトンネル状の磁束を形成すべく支持板上に中央磁石と周辺磁石とを配置して構成したマグネトロンスパッタ電極において、
前記中央磁石と周辺磁石とを含む支持板の相互に対向する両側を分割し、この分割した中央部分をベース板上に固定すると共に、分割部分を、中央部分に対し前後方向、左右方向及び上下方向に移動自在とする位置変更手段を介してベース板上に取付け、
前記位置変更手段は、ベース板の下面側からこのベース板に開設した孔を貫通して設けられるボルトを備えることを特徴とするマグネトロンスパッタ電極。
- 前記磁石組立体の分割を、ターゲットに対向配置される処理基板の外端部の下方で行うことを特徴とする請求項1記載のマグネトロンスパッタ電極。
- 前記磁石組立体両側の分割数を、使用する中央磁石及び周辺磁石の磁場強度に応じて変更することを特徴する請求項1または請求項2記載のマグネトロンスパッタ電極。
- 前記磁石組立体に、前記磁束をターゲットに対して平行移動自在とする駆動手段を設けたことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のマグネトロンスパッタ電極。
- 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のマグネトロンスパッタ電極を所定の間隔を置いて複数並設し、各ターゲットに負電位及び接地電位または正電位のいずれか一方を交互に印加する直流電源または交流電源を設けたことを特徴とするスパッタリング装置。
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